DEP0046765DA

DEP0046765DA - Asymmetrical electrostatic deflector for corpuscular beams

Info

Publication number: DEP0046765DA
Authority: DE
Inventors: Hermann Dr. phil. habil. Marloffstein über Erlangen Hinderer
Original assignee: Siemens and Halske AG
Current assignee: Siemens and Halske AG
Publication date: 1951-04-26

Description

Siemens u*d Halake München,den Siemens and Halake Munich, the

Aktiengesellschaft Dienerstxasse 15/16Aktiengesellschaft Dienerstxasse 15/16

PA 9/530/13I PA 9/530 / 13I

angemeldet zum. : Patent und GMHregistered for. : Patent and GMH

Elektrostatisebe Ablenkvorrichtung für KorpuskularstrahljaShiren_e Electrostatic deflection device for corpuscular beamjaShiren _e

Die Erfndung betrifft eine unsymmetrische elektrostatische Ablenkvorrichtung für Kerpuskularstrahlen und hat insbesondere Bedeutung für Elektronenstrahlröhren.Fernsehröhren und dergleichen. Es besteht dabei die Aufgabe, in einer Strahlanordnung zwei Ablenkungen in zueinander senkrechten Richtungen vorzunehmen und dabei die beiden Ablenkfelder so zusammenzusetzen,dass den Spannungen proportionale Ablenkungen entsprechen«The invention relates to an asymmetrical electrostatic deflector for cerpuscular rays and is particularly important for cathode ray tubes, television tubes and the like. The task here is to make two deflections in a beam arrangement in mutually perpendicular directions and to combine the two deflection fields in such a way that the voltages correspond to deflections «

Ee ist bei Ablenksystemen für die genannten Zwecke günstig,wenn die beiden Ablenkelemente für die aufeinander senkrecht stehenden AbleBkrieatungen sich an ein- und derselben Stelle befinden, z.B. sich räumlich durChdringen _eAuf diese Weise gelingt es,die Ableakempfindllchkeiten genau gleich und die Ablenkungen in beiden Richtungen auch hinalohtlich der Auslenkschärfen voneinander unabhängig zu mach en. Man hat dann bei räumlicher Durchdringung beider Afe^ lenkelemente nur noch den Ausgangspunkt des ElektronenstrahlbAndels imd den Ort der scheinbaren Abknickung des Bündels zu berücksichtigen,wenn man die Abbildung verfolgt. Bei den üblichen Anordnungen mit hintereinanderliegenden Ablenkeinrichtungen für die beiden zueinander senkrechten Ablenkungen müssen drei verschiedene Punkte beobachtet werden« Es ist daher schon versucht worden,von der üblichen Bauart der hintereinanderliegenden Ablenksysteme abzugehen und die Ablenkungen in den beiden Richtungen an derselben Stelle vorzunehmen, zumal dadurch noch der Vorteil entsteht, dass die Bau— länge der Elektronenstrahlröhre kürzer gehalten werden kann. Es ergkben sich aber bei einer solchen Anordnung Schwierigkeiten. Die dabei auftretenden Bildverzerrungen waren so gross,dass nur ganz geringe Auslenkungen des Elektronenstrahles ausnutzbar waren. Diese Nachteile werden durch die Erfindung beseitigt.Ee is low in deflection systems for these purposes, when the two deflection elements for the mutually perpendicular AbleBkrieatungen be located at one and the same point, for example spatially dur Chdringen _e In this way, it is possible that Ableak empfindllchkeiten exactly equal and the deflections in both directions also hinalohtlich the Auslenkschärfen from each inde gig to mach s. If the two deflecting elements are spatially penetrated , then only the starting point of the electron beam bundle and the location of the apparent bending of the bundle have to be taken into account when following the image. In the conventional arrangements with rear inander lying deflectors for the two mutually perpendicular distractions three different points must be observed "It has therefore been tried to depart from the conventional design, the rear inanderliegenden deflection systems and to make the deflections in the two directions at the same location , especially since this also has the advantage that the length of the cathode ray tube can be kept shorter. However, he gkben located in such an arrangement difficulties. The resulting image distortions were so great that only very small deflections of the electron beam could be used. These disadvantages are eliminated by the invention.

Die Erfindung besteht darin.dass ein zusammengesetztes Ablenkfeld mit einer für die beiden Ablenkspannungen gemeinsamen,vorzugsweise auf Hull-PotentIal liegenden Ablenkelektrode vorgesehen ^indⁱ, die aus zwe!,einen Winkel von etwa 90 Grad bildenden Flächen besteht, welche zum Ablenkraum und dem durch die beiden Ablenkspannungen gebildeten Feld hin einen Winkel von etwa 270 Grad bilden.The invention consists darin.dass a composite deflection field with a common for the two deflection voltages, preferably to Hull Potent Ial lying deflection electrode provided ^ ind ⁱ consisting of zwe!, An angle forming of about 90 degrees surfaces which for deflecting and by the two deflection voltages ge formed field to form an angle of about 270 degrees.

Als Abschlussebene kann eine Widerstandsflache vorgesehen sein, an deren Aussenkanten die beiden Ablenkspannungen angelegt sind» Von den Endkanten der Widerstandsfläche aus können vorzugsweise ebene Ablenkelektroden parallel zu den für die beiden Ablenkspannungen gemeinsamen Ablenkelektroden angeordnet Sein _eAnstelle eines Abschlusses durch eine Widerstandsfläche kann der Ablenkraum auch so gestaltet sein, dass zwei tob den beiden Ablenfeg_il spannungeVTpo tent ial—bedingte- Ab lenkplatten vorgesehen, sind Möbel ausserhalb des Ablenkraumes-diese Platten parallel oder auch gegeneinander bezw.auseinander-gekrümmt ausgebildet sein können.As a termination plane a resistor surface may be provided at the outer edges of the two deflection voltages are applied "From the end edges of the resistive surface from preferably planar deflection electrodes may be parallel to the common for the two deflection voltages deflection electrodes disposed His _e Instead of a termination by a resistive surface, the deflection space and be designed so that two tob the two Ablenfeg _il tensionungeVTpo tent ial-conditional- deflection plates are provided, furniture outside the deflection space - these plates can be designed parallel or against each other or curved apart.

Weitere Einzelheiten der Erfindung sollen anhand der Zeichnung näher erläutert werden« Die Zeichnung zeigt Ausfuhrungsbeispiele fur die Erfindung in schematischer Darstellung der für die Erfindung wesentlichen Teile. Figur 1 zeigt eine perspektivische Ansicht,bei der das für beide Ablenkspannungen gemeinsame Potential geerdet ist, und mit den Ahlenkblechen 1 und 2 in Verbindung Steht_e Die Blech© 1 und 2 sind als ebene Flächen ausgebildet, die im reohten Winkel zueinander stehen« Der Ablenkraum ist durch die Widerstandsfläche 3 abgeschlossen, an deren Aussenkanten 4 und 5 die beiden Ablenkspannungen über die Anschlüsse 6 und 7 angelegt werden» An den Kanten 4 und 5 sind die aus gut-leitendem Material bestehenden ebenen Flächen 8 und 9 angelegt,die parallel zu den Platten 1 und 2 verlaufen.Further details of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. The drawing shows exemplary embodiments of the invention in a schematic representation of the parts essential for the invention. Figure 1 shows a perspective view in which the common potential for both deflection voltages is grounded, and is connected to the Ahlenkbleche 1 and 2 in connection _e The plates © 1 and 2 are designed as flat surfaces that are at right angles to each other is closed by the resistance surface 3, on the outer edges 4 and 5 of which the two deflection voltages are applied via the connections 6 and 7. The flat surfaces 8 and 9, which are made of highly conductive material and parallel to the Plates 1 and 2 run.

Der Kathodenstrahl, der durch die Pfeile 10 angedeutet ist,gelangt ▼or dem Durchpassieren durch die eigentliche Ablenkvorrichtung durch eine Blende 11, die zweckmässig auf einem mittleren Potential der Strahleintrittsstelle in die Ablenkvorrichtung liegt.Dieses Potential kann durch Abgriff an dem Spannungsteiler 12 erzeugt werden. Es ist aber auch möglich, die Widerstandsfläche 3 unmittelbar als Spannungsteiler zu verwenden»The cathode ray, which is indicated by the arrows 10, passes through the actual deflection device before passing through a diaphragm 11, which is expediently at a medium potential of the beam entry point into the deflection device. This potential can be generated by tapping on the voltage divider 12. But it is also possible to use the resistance surface 3 directly as a voltage divider »

Jm Gegensatz zu demAusfuhrungsbeispiel nach Figur l,bei dem als Abschlussebene eine Widerstandsfläche vorgesehen ist,sind in den folgenden Ausfuhrungsbeispielen die Hess-Spannungen nur kapazitiv verbundene Jn den Figuren 2 bis 5 sind wiederum die Ablenkplatten 1 und 2 3m rechten Winkel zueinander angeordnet und bilden mit ihren Flächen zum Feld hin einen Winkel von 270 Grad« Die Flächen 8 und 9 sind in Figur 2 bis auf einen gewissen. Abstand zueinander geführt ,während bei Figur 3 zwei parallele ebehe Flächen 13 und 14 angewinkelt sind. Bei dem Ausführungsbeispiel nach Figur 4 kommen hier zwei auseinander» gebogene Flächen 15 und 16 und bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig_e5 zwei zusammengebogene Flächen 17 und 18 zur Verwendung.In contrast to the exemplary embodiment according to FIG. 1, in which a resistance surface is provided as the terminating plane, in the following exemplary embodiments the Hess voltages are only capacitively connected. In FIGS their surfaces to the field an angle of 270 degrees. The surfaces 8 and 9 are in Figure 2 up to a certain extent. Distance from one another, while in Figure 3 two parallel flat surfaces 13 and 14 are angled. In the embodiment according to figure 4 apart here two "bent surfaces 15 and 16 and in the embodiment according to Figure 5 _e together two curved surfaces 17 and 18 come to use.

5 Fig.5 Fig.

9 PA_e 9 PA _e

Claims

I _e asymmetrical electrostatic deflection device for corpuscular beams, especially for cathode ray tubes ^, with beam deflection occurring at the same point in two mutually perpendicular directions, characterized in that a composite deflection field is provided with a deflection electrode common to the two deflection voltages, preferably at zero potential which consists of two surfaces forming an angle of about 90 degrees, which form an angle of about 270 degrees towards the deflection space and the field formed by the two deflection voltages «

2. Deflection device according to claim 1, characterized in that a resistance surface is provided as the end plane of the deflection space, on the outer edges of which the two ab «. Steering voltages are applied »

3, deflection device according to claim 1 or 2, characterized in that a screen is arranged in front of the deflection device, at which a potential formed by voltage setting from the two deflection voltages is located.

4 «deflection device according to claim 2 or 3, characterized in that the potential for the diaphragm on the resistance surface is tapped.

5. deflection device according to claim 1 to 4, characterized in that preferably plane at the end edges of the resistance surface Deflection electrodes are arranged parallel to the deflection electrodes common to the two deflection voltages,

6. deflection device according to claim 1, characterized in that

the deflection space is formed by ^ two ^ deflection plates caused by the two deflection voltages, po " , Jpntiel ^,"

7. Deflection device according to claim 6, characterized in that the deflection plates are parallel to the for the two deflection chips * common deflection electrodes are arranged »

8 »Deflection device according to claim 7, characterized in that the two deflection plates outside the deflection space are parallel get lost,

9. Deflection device according to claim 7, characterized in that “let the two deflection plates be concave outside the discharge space or are convexly curved,