DEP0036769DA - Arrangement containing a semiconductor - Google Patents
Arrangement containing a semiconductorInfo
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Description
Einen Halbleiter enthaltende Anordnung.Arrangement containing a semiconductor.
In letzter: Zeit sind unter dem Namen "Transistor" Anordnungen bekc,n;:itgev':.:;den.. die die Eigenart der Gberf laechensclricht von Halbleiter.:.i;, wie z.3. Gerauiä/am^ fuer Yörstaerkungszweelce ausnützen. Lately, under the name of "transistor" arrangements have been used to describe the peculiarity of semiconductors.:. i; , such as 3. Use noise / am ^ for reinforcement purposes.
Ein Prinnip-5ehalt.-iiu einer Halbleiter-V erstaerkeranordnung zeigt die FIg0 1. An ei^ie kleine Gei'Jianiumscheibe I1 ist ausatmen mit einer Gleic^stroüivorspannung (Spannungsquelle S) eine ßignalspannung (ij.isnalsp&mmn&squoile Z) gelegt und zwar so, dass der positive Pol der Vorspannungsquelle 2 usber eine Kontaktspitse 4;, die z.B. durali ein feines V/ol-fraiafaedchen gebildet an die Geiraräuaiooerflaeche goi'uehrt ist. Dor Ausgangskreis,, enthaJ-tard el;.i<.; Yorspannungsquelle,^ und dan Verbraucher 65 ist in der gleichen Vvüise an die GermaSiumscheibe angeschaltet; bei ihm liegt' jodcch dor negative pol ueber eine Kontaktspitze 7 an der German!L^iüberriaeche, Der Anstand der beiden Kontaktspitzen, ist sehr gering und liegt in der Groessenordnung von ot\?a 0,005 cm. Hit« einer derartigen Anordnung lassen sich Verstaerkerwirklingen er sielen ^ die etwa denen einer ..Vers taerkerroehre entsprechen,'.A prinnip-5ehalt.-iiu of a semiconductor amplifier arrangement is shown in FIG. 0 1. Exhale on a small Gei'Jianium disc I 1 with a constant bias voltage (voltage source S), a signal voltage (ij.isnalsp & mmn & squoile Z) is applied , namely so that the positive pole of the bias voltage source 2 via a contact tip 4; which, for example, has a fine V / ol-fraia thread formed on the Geiraräuaiooerflaeche. The starting circle ,, enthaJ-tard el; .i <.; Yorspannungsquelle, ^ and dan consumer 6 5 is connected to the GermaSiumscheibe in the same Vvüise; with him there is a jodcch dor negative pole over a contact tip 7 on the German! L ^ iüberriaeche, The distance between the two contact tips is very small and is in the order of magnitude of ot \? a 0.005 cm. With such an arrangement, amplifier blades can be achieved which roughly correspond to those of a "booster tube".
Die Wirlvun^sweise dor skizzierten Halbleiter -Vers taerker anordnung hat iaan in folgender Weise zu erklaeren versucht- Durch den positiven Spitaenkontakt wird die Bildung von Stoerstellen in der Oberflaechenschicht des Halbleiters angeregt. Diese breiten sich von der Spitze weg laengs der Oberflaeche nach allen Seiten an:.; und werden von dem negativen Spitzenkonta&t angezogen. Sie ve^-> jrn den Strom iia Ausgangslsreis.The manner of operation of the outlined semiconductor-intensifier arrangement has tried to explain in the following way- by the positive one Spite contact stimulates the formation of flaws in the surface layer of the semiconductor. These are spreading from the tip along the surface to all sides:.; and are attracted to the negative tip contact. You ve ^ -> jrn the current iia output rice.
2.3.49
Kch/Sg.2.3.49
Kch / Sg.
ΡΛ 9/430/118bΡΛ 9/430 / 118b
Der Ein;vir;:u:igsberelch der positiven Kentaktspitze ist relr,v.;. Mein und j&schrcienkt sich auf die naoehste Umgebung der Ζοά tart spit ze .:.us dieseiü Grunde ordnet uan dia negative EontcutspitSG in unuiitGl-^rer iiäbCie der positiven Kontaktspitzo an, Andererseits ist der Abstand der Kontakt spitzen voneinander auch von Einfluss auf die uebertra&bare Fracuenz. Bei einem Abstain der Aontaktspitsen von 0,005 c-i ist die Anordnung unter Verwendung veh Germanium beispielsweise bis etwa 10 MHs verwendbar. "" The one; vir;: u: igsberelch of the positive Kentakt tip is relr, v.;. Mein und J & is in the closest vicinity of the Ζοά tart tip.:. Us this reason assigns uan the negative EontcutspitSG in unuiitGl- ^ rer iiäbCie the positive contact tip, on the other hand, the distance of the contact tips from each other also has an influence on the transferable woman . With a distance of the contact pits of 0.005 ci, the arrangement using veh germanium can be used, for example, up to about 10 MHs. ""
Die Erfindung gibt weitere Aiß?endun£s.iioeglichkeiten der eingangs skizzierten Halbleiter-Anordnung*The invention provides further options for the semiconductor arrangement outlined at the beginning.
IΛ " te i., r.t.''cniiie noiJi ji1j.io.cstens eine v/eiter^^poe-i^iv vorge-" * "χ~ — J"· I"~~J 1^"" ι einem· entsproch^a^Mn Abstand .von der I Λ " te i., Rt''cniiie noiJi ji1j.io.cstens a v / pus ^^ poe-i ^ iv pre-" * " χ ~ - J " · I "~~ J 1 ^""ι a · Corresponded to ^ a ^ Mn distance .from the
r ,einzelnen Kontalctspitaen voneinanen seinj ' dass eine selektive Verstaor-r, individual contact points from each otherj 'that a selective storage
g il positiv vorgespannten Kontaktspitzeng il positively biased contact tips
angelegtjji^.fechseispannungen erfolgt. Die Beaiessungen koennen '■aba,^,^ft€6fi derart sein, dass im Ausgang eine modulierte Spannungapplied jji ^ .fechseisspannungen takes place. The inputs can be such that there is a modulated voltage in the output
Iiin "Prinzipbild einer Anordnung gesnoss der Erfindung zeigt die JJ1Ig. C. Gegenuebor der Anordnung nccli Fig. 1 ist noch wenigstens ein v/eiterer .'^r eis mit einer Vor spannung s quelle B3 einer Si^vlquclle 0 'und der positiv vergespannten Kontalrtspitze 10 g&troten., Fuer alle iCraise si:ixi getrennte Vorspanniingsquellen vorgesehen, IIIn "principle of an arrangement gesnoss the invention, the JJ shows 1 Ig. C. Gegenuebor the arrangement nccli Fig. 1 is still at least one v / Eiterer. '^ R ice with an on voltage s source B 3 a Si ^ vlquclle 0' and the positively tensioned Kontalrtspitze 10 g & troten., For all iCraise si: ixi separate pre-tensioning sources provided,
Die- Erfindung sieht weiter vor, die EingangskreiSG. und den h gaagskreis fuer 2±ψ: koaxial aufzubauen und den Halbleiter^ i»3,The invention also provides, the input circleSG. and the h gaag circle for 2 ± ψ: build up coaxially and the semiconductor ^ i »3,
cheibe zwischen den au^eineru koaxial en" Systemdisk between the au ^ oneu coaxial system
in Fora einer S ^in fora a S ^
vereinigten EinganRsK^eis und de:.u koaxial ausgebildeten auso;e:,i^skreis anzuordnen ulC 'feit dem gemeinsamen Kuockleiter leitend M^ verbinden. Es wird so ein; induktive u::id kapazitive kopplung . der Kreise weitgehevid ve'riüieöGn und die Anordnung in koaxiale· Ereise 'eins2b.altbar, Damit sirci cucü die Moeglichkeit ge-seliafferi, die'Hai vielter-Anordnung bis z\i sehr hohen Frequenzen su . verwenden.combined input and de: .u coaxially formed from o; e :, i ^ s circle to arrange ulC 'feit to connect the common Kuock conductor conductive M ^ . It will be like that; inductive u :: id capacitive coupling. the circles are widely varied and the arrangement in coaxial journeys can be changed, so that there is also the possibility of changing the arrangement up to z \ i very high frequencies, see below. use.
PA £/4SG/il8bPA £ / 4SG / il8b
Cq Γί Piguron 3 cjxi -~ sir*! A usfuehrungsformen gezeigt., bei c.enen die Halbleiterscheibe1 so irischen den Eingangskreisen und do;: Ausgan&ski'cis angeordnet ist,, dass die Kontalctspitzan 4, 7 uiiQ 10 auf £ er gleichen Oberfläccbenseite des Halbleiters angr u:lf en. Die Zuführungen zu den Rontakt spitzen 4 "und 10 sind koaxial ausgebildet und zwar «xrd die eine Zufuehrung durch den Innen! ei tor 11 ιιηα die andere Zufuehrung durch ein ihn umgebendes konaontrische;-} Rohr-Iß .^obildet. Die Zufuehrung dos Ausgangskreises bildet ύοη Imc ,!.leiter 15 des zweiten koaxialen Syει.ι·ms, Gas .ic-ixialQ Ein^a2\;B£?ystem_ und das koaxiale AusgangssyF/com Ijabon einen gornuinsaa^/i Rueckieiter -14. Die Halbleiter-. scnüibü 1 r it st bt.i dor .!.usfuehrringsf orm nach Fig, 3 konzentrisch in einer pie TaIt rleni geraelnsaüien Kueckleiter 14 konzentrisch' ver;iindcnd-.i'':i ScheiTi^; .15. oiü weist eine Bohrung auf., durch die die licintiiubspi Ize. a.D. des ;,;u3 gangs kreises hindurcligefuenrt· ist, Südnss clLo Ao_Lai:tspitscn auf der gleichen Seite des Halbleiters ί*ηζ5υ·.ί··.'3η. 36.1 der ,.usruehrungsform nach Fig.4 sitzt <i.or Halbleiter- so auf der Scheibe 1? auf., dass seine Oberflaeehe fuor saömtliche '.Xontaktspitzen i;ugaenglich ist. Cq Γί Piguron 3 cjxi - ~ sir *! Embodiments shown., In c.enen the semiconductor wafer 1 so irish the input circles and do ;: Ausgan &ski'cis is arranged, that the contact points 4, 7 and 10 abut on the same surface side of the semiconductor. The feeds to the contact tips 4 ″ and 10 are designed coaxially, namely with one feed through the inner gate 11 and the other feed through a conical tube surrounding it forms ύοη Imc,!. head 15 of the second coaxial Syει.ι · ms, gas .ic-ixialQ A ^ a2 \; B £? ystem_ and the coaxial output syF / com Ijabon a gornuinsaa ^ / i Rückieiter -14. The semiconductors -. scnüibü 1 r it st bt.i dor.!. usfuehrringf orm according to Fig, 3 concentric in a pie TaIt rleni geraelnsaüien Kueckleiter 14 concentric 'ver; i indcnd-.i'': i ScheiTi ^; .15. oiü points a bore through which the licintiiubspi Ize of aD;; u3 is gangs circle hindurcligefuenrt ·, Südnss clLo Ao_Lai.:. tspitscn on the same side of the semiconductor ί * ηζ5υ · ·· .ί .'3η 36.1 of.. The embodiment according to FIG. 4 sits on the disk 1 in such a way that its surface is accessible to all of the contact tips.
Eine voellig :.-.oaxialo Anordnung ist in der Fig. 5 dargestellt,. Bei dieser Anorinun^ sitzeα die positiv vorgespannten Kontaktspitzen und di-j negativ vorgaspamitö Xontaktspitze auf verschiedenen Seiten der Hallleitorsüheibe auf. DiG Halbleiterseheibe ist wenigstens an. dieser Stelle so dnienn gehalten, dass sich, rlie negativ ν orgespannte Kontaktspibse .noch innerhalb des Eiiwir·- kujigsbereichs der positiv vorgespannten Kontakt spitzen boilix- ü. Diss kann dadurch erreicht werden, dass sich die'Halbleiterscheibe· nach der Mitte" zu. stetig verjuengt oder z.B. auch dadurchj, dass der \Lattl-ere Toil der 'Halbleiterscheibe durch eine sehr ducnne Platte und der aeussere Teil dui'ch einen "wesentlich staerkeren Ringteil gebildet ist. Eine sehr duenne Schichtdicke kann man beispielsweise dadurch erhalten, dass man den mittleren duennen Toil der Halbleiterscheibe1* auf einen aeusseren ringfoermigen Teil ausdampft,; l6auTsprit2t oder in aebnlicher Weise aufbringt.A completely: oaxial arrangement is shown in FIG. With this anorinun ^ the positively biased contact tips and di-j negative pre-gaspamitö Xontaktspitze on different sides of the Hallleitorsüheibe. DiG semiconductor disk is at least on. This point is kept so thin that the negatively tensioned contact points are still within the effective area of the positively tensioned contact points. Diss can be reached, die'Halbleiterscheibe · that "too. Steadily tapers or eg dadurchj that the \ Lattl-ere dui'ch a Toil of the 'semiconductor wafer by a very ducnne plate and the outer part" according to the center substantially stronger ring part is formed. A very thin layer thickness can be obtained, for example, by evaporating the middle thin toilet of the semiconductor wafer 1 * onto an outer ring-shaped part; l6 injects or applies in a similar manner.
Aussei- den in den Ausfuehrungsbeispielen dargestellten einfachen Anordnungen sind, auch Hintereinanderschaltungen verschiedener SystüiHG und z.B. auch Gegentaktanordnungen moCs1Jlich·. Dann ist -aber durch "£inachf?.l'tung vcn Kondensatoren in die Innen- und/oder Aus·- 3e:"ileitt.r fuer .eine gleichstrommaessigü Trennung Sorge zu tragen. In die Gleichstromkreise koennen zv/ogkiaaessigervveise noch Hochfrequenadrossclh cinr;öschaltüt s ein.Aussei- to the Ausfuehrungsbeispielen shown simple arrangements are also series connections of different SystüiHG and also eg push-pull arrangements MOCs 1 Jlich ·. Then -but by refilling the capacitors in the inside and / or out · - 3e: "care must be taken for a direct current separation. High-frequency adrossors can also be used in the direct current circuits.
Anlagen, β Patcntanspruücha
5 FigvcenAttachments, β patent claims
5 Figvcen
Claims (1)
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