DE8507460U1

DE8507460U1 - Meßeinrichtung

Info

Publication number: DE8507460U1
Application number: DE19858507460
Authority: DE
Original assignee: Dr Johannes Heidenhain GmbH
Current assignee: Dr Johannes Heidenhain GmbH
Priority date: 1985-03-14
Filing date: 1985-03-14
Publication date: 1987-10-08

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1.

Derartige Vorrichtungen sind bei inkrementalen Längen- oder Winkelmeßeinrichtungen üblich, damit beispielsweise ein für die Meßeinrichtung definierter Nullpunkt festgelegt und reproduziert werden kann.

In der DE-A-18 14 785 ist der Aufbau einer Referenzmarke zur Erzeugung eines Referenzimpulses beschrieben. Dieser Referenzimpuls entsteht durch das Abtasten eines unregelmäßigen Strichgitters. Die feinsten Striche dieses Strichgitters sind im allgemeinen so breit wie die Gitterkonstante G der Inkrementalteilung, so daß beim Abtasten dieses unregelmäßigen Strichgitters ein analoges Signal, das in der Triggerebene 360 breit ist, entsteht, wobei die Breite von 360 einer Gitterkonstanten G der Inkrementalteilung entspricht.

Ein genügend exakter Referenzimpuls läßt sich je-

doch nur von einer derartigen Referenzmarke ableiten, wenn der Abtastabstand sehr klein ist und dementsprechend engen Toleranzen hinsichtlich der Abstandsschwankungen unterliegt. 5

Der größtmögliche Abtastabstand a zwischen Abtastgitter und Maßstab ist u.a. gegeben durch die Breite G der feinsten Striche des Referenzmarkengitters.

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Näherungsweise gilt a = G /%, wobei /\ die Wellenlänge des zur Beleuchtung verwendeten Lichtes ist. Das ergibt z.B. für G = 20 um und "&lgr;= 0,9 &mgr;&pgr;&igr; einen Abstand a = 444 &mgr;&pgr;&tgr;.

Zur Erhöhung der Betriebssicherheit derartiger Meßeinrichtungen ist auch schon vorgeschlagen worden, mehrere Referenzmarken voneinander beabstandet auf einer Maßverkörperung vorzusehen, und die daraus abgeleiteten Impulse in·der Auswertung elektrisch zusammenzufassen. Beispiele für derartige Lösungen sind in der DE-C-29 52 106 und der DE-A-31 04 972 angegeben.

Hinsichtlich des Abtastabstandes gelten hier jedoch die gleichen Kriterien, wie bei der Meßeinrichtung gemäß der bereits erwähnten DE-A-18 14 785.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der die Toleranzen der Schwankungen des Abtastabstandes vergrößert werden können, bei der ein verhältnismäßig großer Abtastabstand zulässig ist, und bei der anhand von Referenzmarken Referenzimpulse erzeugt werden können.

Diese Aufgabe wird mit einer Vorrichtung gelöst, die die Merkmale des Anspruches 1 aufweist.

Durch Vorrichtungen mit den Merkmalen der Unteransprüche wird die Erfindung in besonders vorteilhafter Weise ausgestaltet.

Die besonderen Vorteile der erfindungsgemäßen Vorrichtung liegen darin, daß der Abtastabstand, d.h. der Abstand von den Referenzmarken zu den Abtastelementen ein Vielfaches des Abtastabstandes dieser Bauteile beim Stand der Technik betragen kann, wodurch auch die Toleranzen für die Einhaltung des Abtastabstandes größer werden.

Mit Hilfe der Zeichnungen soll die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen noch näher erläutert werden.

Es zeigt

Figur 1 Eine schematisch dargestellte Längenmeßeinrichtung mit zwei Referenzmarken;

Figur 2 einen Ausschnitt des Maßstabes aus

der Meßeinrichtung gemäß Figur 1; Figur 3 eine Abtastplatte für den Maßstab aus der Figur 2; Figur 4

a Referenzmarken gemäß Figur 2,

stark schematisiert; b Referenzmarkenabtastelemente gemäß Figur 3, stark schematisiert; c die schematisierten Referenzsignalverläufe, die sich durch Abtastung der Referenzmarken gemäß Figur 4a mit den Referenzmarkenabtastelementen gemäß Figur 4b ergeben;

d die -retriggerten Referenzsignale als Referenz impulse;

Figur S

a die zeitlich überlagerten Referenzsignale gemäß Figur 4c; b die zeitlich überlagerten Referenzimpulse gemäß Figur 4d; c einen resultierenden Referenzimpuls

gemäß der Erfindung;

Figur 6a eine Maßverkörperung mit Referenzmarken in variierter Anordnung Figur 6b eine Variante einer Abtastplatte für Referenzmarken gemäß Figur 6a.

Eine in Figur 1 schematisch dargestellte Mefleinrich~- tung 1 arbeitet nach dem photoelektrischen Prinzip. Eine Maßverkörperung M in Form eines Maßstabes ist an einem nicht dargestellten Maschinen-Bauteil, beispielsweise einem Maschinenschlitten befestigt und mit diesem in Meßrichtung X verschiebbar.

Eine Abtasteinrichtung A weist die üblichen Bauelemente wie Beleuchtung L1, L2, Kondensoren K1, K2, Photoelemente P1, P2, eine Auswerteeinrichtung U sowie eine Abtastplatte AP auf, und ist ortsfest an einem ebenfalls nicht dargestellten Maschinen-Bauteil, beispielsweise einem Maschinenbett befestigt. An die Auswerteeinrichtung U ist ein Vorwärts-ZRückwärtszähler VRZ angeschlossen, an dem die Meßwerte in digitaler Form abgelesen werden können.

Bs versteht sich, daß der konstruktive Aufbau von der gezeigten Form abweichen kann, so ist im allgemeinen eine Lampe und ein Kondensor ausreichend, um die Abtaststelle zu beleuchten. Ferner muß die Anzeige des Meßwertes nicht in Form von Ziffern im Vorwärts-/Rückwärtszähler vorgenommen werden, sondem der Meßwert kann unmittelbar einer numerischen Steuerung zur Vieiterverarbeitung zugeführt werden

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und ist gegebenenfalls auf einem Bildschirm dargestellt. Des weiteren ist die Erfindung nieht auf lichtelektrische Meßeinrichtungen beschränkt, sondern es können bei entsprechender Umgestaltung der Bauelemente auch magnetische, induktive, kapazitive und/oder elektromechanisehe Abtastprinzipien zur Anwendung kommen.

Im folgenden soll jedoch die Erfindung anhand der photoelektrischen Längenmeßeinrichtung 1 gemäß Figur 1 weiter beschrieben werden.

Wie aus Figur 2 ersichtlich ist, weist die Maßverkörperung M eine Gitterteilung T mit einer Gitterkonstanten G auf. Parallel zur Gitterteilung T sind auf der MaßVerkörperung M Referenzmarken R1 und R2 aufgebracht, die in Meßrichtung X im Abstand D hintereinander angeordnet sind. Die Referenzmarken R1 und R2 sind als Gitter ausgebildet, die aus einer unregelmäßigen Folge von Gitterstrichen bestehen. Im Gegensatz zu Referenzmarken nach dem Stand der Technik (die Breite des feinsten Referenzmarken-Gitterstriches entspricht dort der Gitterkonstanten G der Gitterteilung T), beträgt bei den erfindungsgemäßen Referenzmarken R1 und R2 die Breite des feinsten Referenzmarken-Gitterstriches ein Vielfaches der Gitterkonstanten G, also &eegr; · G (&eegr;= beliebige positive Zahl).

in Figur 3 ist die Abtastplatte AP aus der Abtasteinrichtung A gemäß der Figur 1 schematisch dargestellt. Die Abtastplatte AP weist in herkömmlicher Weise Abtastelemente AT zur Abtastung der Gitterteilung T der Maßverkörperung M auf. Auf die Ausgestaltung dieser Abtastelemente AT zur Erkennung der Bewegungsrichtung der Maßverkörperung M

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braucht hier nicht näher Bezug genommen werden, da dies hinlänglich bekannter Stand der Technik ist. Außer den genannten Abtastelementen AT sind noch voneinander in Meßrichtung X beabstandete Abtastelemente AR1 und AR2 zur Abtastung der Referenzmarken R1 und R2 vorgesehen. Im Gegensatz zum Stand der Technik wie z.B. DE-C-29 52 106 ist jedoch der Abstand AD der beiden Abtas~telemente AR1 und AR2 nicht identisch mit dem Abstand D der Referenzmarken R1 und R2 auf der Maßverkörperung M, sondern er weicht geringfügig von ihm ab. Der gegenseitige Abstand AD der Abtastelemente AR1 und AR2 kann in Meßrichtung X geringfügig kleiner oder größer als der Abstand D zwischen den Referenzmarken R1 und R2 sein.

Hinsichtlich der durch die Referenzmarken-Abtastung gewonnenen Signale ergibt sich dadurch eine Verschiebung, die anhand der Figuren 4a bis 4d erläutert wird. In Figur 4a wird ein Ausschnitt aus der MaßVerkörperung M dargestellt, wie sie in Figur 2 gezeigt ist. Die Referenzmarken R1 und R2, im Abstand D hintereinander angeordnet, sind nochmals vereinfacht gezeigt, um die Signalverläufe zeichnerisch gut darstellen zu können.

Die zugehörigen Abtastelenente AR1 und AR2 sind im Abstand AD hintereinander auf der Abtastplatte AP angeordnet, wie aus Figur 4b ersichtlich ist. Diese Darstellung entspricht der Abtastplatte AP aus Figur 3. In den Figuren 4a und 4b sind sowohl die Gitterteilung T als auch die Abtastelemente AT für die Gitterteilung T aus Gründen der Übersichtlichkeit nicht gezeigt.

Wird nun die Maßverkörperung M gegenüber der Ab-

• · a a · ·

tastplatte AP in der durch den Pfeil X4 angegebenen Richtung von links nach rechts verschoben, so entsteht durch Abtasten der Referenzmarke R1 mit dem Abtastelement AR1 ein Referenzsignal S1, wie es in dem linken Teil der Figur 4 c gezeigt ist. Die überhöhung des Referenzsignales S1 - in das der Triggerpegel TP1 eingezeichnet ist - tritt auf, wenn das Abtastelement AR1 deckungsgleich mit der Referenzmarke R1 ist, wie dies aus dem 'IO Stand der Technik ja bereits bekannt ist.

Wird nun die MaßVerkörperung M weiter in Richtung des Pfeiles X4 verfahren, so tritt das Referenzsignal S2 auf, wie es im rechten Teil von Figur 4c gezeigt ist. Die zeitliche Verzögerung des Auftretens de*5 Referenzsignals S2 gegenüber dem Referenzsignal S1 ist aufgrund des räumlichen Versatzes des Abtastelementes AR2 entstanden, wie bereits beschrieben wurde. Auch beim Referenzsignal S2 wurde der Triggerpegel TP2 eingezeichnet.

In Figur 4d sind lagerichtig unter den Referenzsignalen S1 und S2 (s. Figur 4c) die getriggerten Referenzimpulse Ri1 und Ri2 gezeigt. Die Breite der jeweiligen Referenzimpulse Ri1 und Ri2 entspricht der Breite der Referenzsignale S1 und S2 an ihren jeweiligen Triggerpegeln TP1 und TP2.

In Figur 5a sind die Referenzsignale S1 und S2 zeitlich überlagert dargestellt und in Figur 5b ist diese zeitliche überlagerung an den getriggerten Referenzimpulsen Ri1 und Ri2 gezeigt.

In Figur 5c ist schließlich der resultierende Referenzimpuls Ri gezeichnet, der sich in dieser Breite bzw. in dieser Impulsdauer ergibt, wenn die

> * II« ft rri / /

getriggerten Referenzimpulse Ri1 und Ri2 entsprechand verknüpft werden, beispielsweise durch ein logisches UND-Glied.

Auf diese Weise erhält man einen Referenzimpuls Ri mit der geforderten geringen Impulsdauer aus zwei verhältnismäßig breiten Referenzsignalen S1 und S2.

Zurückkommend auf die eingangs geschilderte Bedingung für ctie Größe des Abtastabstandes a ergibt sich folgende Situation: Da bei den erfindungsgemäßen Referenzmarken R1 und R2 die feinste Strichbreite nicht mehr G, sondern &eegr; · G ist,

beträgt der zulässige Abtastabstand a = (&eegr;-G) /&Lgr;.

und ist für n=4 beispielsweise 16 mal so groß wie bisher. Trotzdem wird, wie aus der Beschreibung ersichtlich ist, ein Referenzimpuls von genügend geringer Impulsdauer erzeugt.

Aus den Figuren 6a und 6b ist ersichtlich, daß die Anordnungen der Referenzmarken R16, R26 und der zugehörigen Abtastelemente AR16, AR26 nicht zwangsläufig in Meßrichtung X hintereinander erfolgen muß. Lediglich muß in Meßrichtung X eine Abstandsdifferenz AD6 vorhanden sein. Im gezeigten Sonderfall ist in Meßrichtung X der gegenseitige Abstand D6 der Referenzmarken R16 und R26 gleich Null.

Claims

• M * · DR. JOHANNES HEIDENHAIN GmbH 6. Februar 1985 Ansprüche

1. Vorrichtung zum Erzeugen von elektrischen Signalen bei Meßeinrichtungen zum Messen der Lage zweier relativ zueinander beweglicher Objekte - insbesondere zum photoelektrischen Erzeugen von Referenzimpulsen - mit wenigstens zwei voneinander beabstandeten Referenzmarken an einem der Objekte, die durch voneinander beabstandete Abtastelemente am anderen Objekt abtastbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß sich der gegenseitige Zustand ( D ) der Referenzmarken(R1 ,R2) vom gegenseitigen Abstand (AD ) der Abtastelemente (AR1 , AR2) derart unterscheidet, daß sich die durch Abtastung der Referenzmarken (R1,R2) erzeugten Referenzsignals (S1,S2) überlappen.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Referenzmarken in Form unregelmäßiger Gitter auf einer Maßverkörperung einer inkrementalen, photoelektrischen Positionsmeßeinrichtung angeordnet sind, und bei der die Abtastung der Referenzmarken durch eine Abtasteinrichtung erfolgt, die Abtastelemente mit unregelmäßigen Gittern aufweist, die mit den Gittern der Referenzmarken korrespondieren, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzmarken (Ri,R2)in Meßrichtung X im Abstand ( D ) hintereinander auf der Maßverkörperung (M) angeordnet sind und daß die Abtastelemente (AR1,AR2) mit einem vom Abstand (D) der Referenzmarken (R1/R2)abweichenden Abstand (AD ) hinter-

einander in dar Abtasteinrichtung (A) angeordnet sind.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Ref erenzmarken in Form unregelmäßiger Gitter auf einer Maßverkörperung einer inkrementalen, photoelektrischen Positionsmeßeinrichtung angeordnet sind, und bei der die Abtastung der Referenzmarken durch eine Abtasteinrichtung erfolgt, die Abtastelemente mit unregelmäßigen Gittern aufweist, die mit den Gittern der Referenzmarken korrespondieren, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzmarken (R16,R26) parallel zueinander - in Meßrichtung X im Abstand (D6) - auf der Maßverkörperung (M6) angeordnet sind und daß die Abtastelemente (AR16,AR26)- mit einem in Meßrichtung X vom Abstand (D6) der Referenzmarken (R16,R26) abweichenden Abstand (AD6) - parallel zueinander in der Abtasteinrichtung (A) angeordnet sind.

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4. Vorrichtung nach Anspruch 1, mit einer Auswerteeinrichtung für die durch Abtastung der Referenzmarken erzeugten Referenzsignale, dadurch gekennzeichnet, daß mittels der Auswerteeinrichtung (U) ein resultierender Referenzimpuls (Ri) gebildet wird, dessen Breite der überlappungslänge der Referenzsignale (S1,S2) entspricht.