DE69916782D1 - Verfahren zur Herstellung mechanischer, elektromechanischer und opto-elektromechanischer Mikrostrukturen mit aufgehängten Regionen welche während des Zusammenbaus mechanischen Spannungen ausgesetzt sind - Google Patents

Verfahren zur Herstellung mechanischer, elektromechanischer und opto-elektromechanischer Mikrostrukturen mit aufgehängten Regionen welche während des Zusammenbaus mechanischen Spannungen ausgesetzt sind

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Benedetto Vigna
Ubaldo Mastromatteo
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STMicroelectronics SRL
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    • B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
    • B81C1/00865—Multistep processes for the separation of wafers into individual elements
    • B81C1/00896—Temporary protection during separation into individual elements
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6458513B1 (en) * 1999-07-13 2002-10-01 Input/Output, Inc. Temporary bridge for micro machined structures
US7096466B2 (en) * 2001-03-26 2006-08-22 Sun Microsystems, Inc. Loading attribute for partial loading of class files into virtual machines
US6525613B2 (en) * 2001-05-25 2003-02-25 Infineon Technologies Ag Efficient current feedback buffer
US7117489B2 (en) * 2001-06-20 2006-10-03 Sun Microsystems, Inc. Optional attribute generator for customized Java programming environments
US6451654B1 (en) * 2001-12-18 2002-09-17 Nanya Technology Corporation Process for fabricating self-aligned split gate flash memory
JP4651476B2 (ja) * 2005-07-29 2011-03-16 株式会社リコー 光走査装置の組立方法および光走査装置ならびに画像形成装置
EP1967317A1 (de) * 2007-03-07 2008-09-10 Fujitsu Limited Verfahren zur Trennung eines Werkstücks und Laserbearbeitungsvorrichtung
JP5470767B2 (ja) * 2008-07-28 2014-04-16 富士通株式会社 マイクロ可動素子製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5060039A (en) * 1988-01-13 1991-10-22 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Permanent magnet force rebalance micro accelerometer
US5258325A (en) * 1990-12-31 1993-11-02 Kopin Corporation Method for manufacturing a semiconductor device using a circuit transfer film
DE4230784A1 (de) * 1992-09-15 1994-03-17 Beiersdorf Ag Durch Strahlung partiell entklebendes Selbstklebeband (Dicing Tape)
US5258097A (en) * 1992-11-12 1993-11-02 Ford Motor Company Dry-release method for sacrificial layer microstructure fabrication
US5332469A (en) * 1992-11-12 1994-07-26 Ford Motor Company Capacitive surface micromachined differential pressure sensor
US5415726A (en) * 1993-12-21 1995-05-16 Delco Electronics Corporation Method of making a bridge-supported accelerometer structure
DE4414970C2 (de) * 1994-04-28 1996-02-22 Siemens Ag Mikromechanisches Bauteil mit einem Schaltelement als beweglicher Struktur, Mikrosystem und Herstellverfahren
FR2736934B1 (fr) * 1995-07-21 1997-08-22 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication d'une structure avec une couche utile maintenue a distance d'un substrat par des butees, et de desolidarisation d'une telle couche
JP3301334B2 (ja) * 1997-01-31 2002-07-15 三菱電機株式会社 センサ素子及びその製造方法
DE69734280D1 (de) * 1997-07-10 2006-02-09 St Microelectronics Srl Verfahren zur Herstellung von hochempfindlichen, kapazitiven und resonierenden integrierten Sensoren, insbesondere Beschleunigungsmesser und Kreisel, und damit hergestellte Sensoren

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