DE69429233T2

DE69429233T2 - Verfahren zur Herstellung eines Feingussmodells

Info

Publication number: DE69429233T2
Application number: DE69429233T
Authority: DE
Inventors: Steven M. Penn; Tommy D. Wright
Original assignee: Texas Instruments Inc
Current assignee: Texas Instruments Inc
Priority date: 1993-09-24
Filing date: 1994-09-22
Publication date: 2002-06-27
Anticipated expiration: 2014-09-23
Also published as: US20010032713A1; DE69429233D1; EP0649691A1; EP0649691B1; JPH07195141A

Description

Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Formgußtechniken, und insbesondere auf ein Formmuster, das bei der Herstellung von Gußteilen verwendet wird, und auf ein Verfahren zur Herstellung der Gußteile.

Hintergrund der Erfindung

Die Gußindustrie hat lange Zeit wärmebeständige Vollkörper-Muster bei der Herstellung von Metallobjekten verwendet. Der Prozeß des Formgießens ist historisch bekannt als der "Wachsausschmelz"-Prozeß. Dieser Prozeß wird durchgeführt, indem ein Wachsmuster des zu gießenden Gegenstands hergestellt wird. Ein geometrischer Hohlraum entsteht, nachdem das feste Muster mit Keramik umschlossen worden ist und anschließend entfernt wird durch Herausschmelzen des Wachses des Musters. Der Hohlraum wird mit Metall oder einem anderen Gußmaterial gefüllt, welches anschließend die exakte Form des ursprünglichen Musters annimmt. Andere Mustermaterialien wurden versucht, wie z. B. Holz, Schaum und Kunststoff, jedoch sind diese Typen von Mustermaterialien durch Erwärmung schwieriger zu entfernen als das Wachs. Eine Anforderung an jedes Gießverfahren ist, daß die Keramikumhüllung oder Gießform während des Schmelzens oder Ausbrennens des Musters intakt bleibt, ohne zu zerreißen.
Die Stereolithographie oder die schnelle Herstellung eines Prototyps ermöglicht die Konstruktion von Kunststoffmustern in kurzer Zeitspanne und ohne Bearbeitung. Die Stereolithographiemuster sind aus einem Polymer gefertigt, das an der Außenseite des Musters verfestigt wird durch Abtasten eines UV-Lasers (Ultraviolett-Lasers) entsprechend den dreidimensionalen Daten in einer Computerdatenbank. Das Muster wird mit dem Laser schichtweise erzeugt.
Das Polymer bleibt im Inneren des Musters flüssig, bis das Muster weiter aushärtet, z. B. mittels Aushärtung des Musters in einem UV-Ofen.
Vollkörper-Muster, die auf diese Weise hergestellt worden sind, wurden im Gießprozeß unter großen Schwierigkeiten verwendet, hauptsächlich aufgrund der hohen Ausbrenntemperaturen des Harzes und der hohen Wärmeausdehnung des Musters. Die Keramikhülle reißt oder bricht typischerweise, wenn sich die Stereolithographiemuster während der Ausbrennphase nach außen ausdehnen. Das Reißen oder Brechen ist ein Ergebnis des weichen oder unvollständigen Abschnitts des Musters, das schichtweise erzeugt wird. Dieses Reißen oder Brechen tritt normalerweise an der Position auf, an der zwei Schichten miteinander verbunden sind. Außerdem verbrennt das Polymer nicht sauber oder vollständig, wobei das Endprodukt-Gußteil verunreinigt bleibt oder eine geringe Qualität aufweist aufgrund der Asche des verbrannten Polymers.
WO-A-9001727 offenbart ein Formmuster, wie anfangs erwähnt worden ist. Das Muster ist eine quervernetzte Polymer-Matrix eines strahlungsgehärteten ungesättigten Ethylen-Materials, das in einem thermoplastischen Material mit geringem Molekulargewicht verteilt worden ist, welches in einer Menge vorhanden ist, die ausreicht, um ein Reißen oder Verzerren einer Gießform während des Erwärmungsschrittes durch das Muster zu verhindern. Dieses Dokument beschreibt ferner ein Verfahren zur Ausbildung einer Gießform, das die Schritte des Formens eines Musters in einem hitzebeständigen Material und des Erwärmens des hitzebeständigen Materials und des Musters zum Erzeugen der Gießform umfaßt. In diesem Dokument wird ferner erwähnt, daß das Formen des Musters das Aufbauen eines hitzebeständigen Materials, z. B. eines wässrigen Keramikschlamms, um das Muster umfaßt, und daß das Muster mit aufeinanderfolgenden Schichten des hitzebeständigen Materials beschichtet werden kann, wobei jede Schicht mit feinem Keramiksand beschichtet und getrocknet wird, bevor die nächste Schicht aufgetragen wird.

Zusammenfassung der Erfindung

Die hohlen Muster, die mit dieser Erfindung erzeugt werden, sind kompatibel mit den bestehenden Gießtechniken. Während des Ausbrennprozesses wird die Oberfläche des Musters bei einer Temperatur von z. B. 200ºF bis 800ºF evakuiert. Die Polymerhülle kann anschließend in Richtung zum Inneren des Musters kollabieren, wenn die thermischen Beanspruchungen zunehmen. Dieses Kollabieren in Richtung zum Inneren des Musters führt zu einer geringeren Ausdehnung des Musters nach außen, wobei die Keramikhülle unbeschädigt bleibt. Das Ausbrennen des Polymers wird anschließend erfolgreich abgeschlossen (bei z. B. etwa 650ºC), ohne die Keramikgießform zu beschädigen und mit minimaler Restasche.
In der vorliegenden Erfindung wird eine Stereolithographie-Maschine, hergestellt von 3D-Sytems Inc., oder irgendeine andere Laser/Polymer- Schneliprototyp-Maschine verwendet, um ein Muster zu verfestigen, das eine Serie von gestapelten Gittern mit veränderlichem Querschnitt enthält und ein Muster mit einer Außenhaut und einem inneren Labyrinth und einer beliebigen Zahl von Einläufen bildet. Das Labyrinth oder Gitter erlaubt dem unverfestigten Polymer vollständig aus dem Inneren des Musters über die Einläufe abzulaufen, was zu einem Muster führt, das kein Vollkörperpolymer ist. Das resultierende dreidimensionale Muster weist eine lückenlose Oberflächengeometrie auf, die durch ein inneres Stützgerüst angemessen unterstützt wird.
Das Muster wird vervollständigt durch Anbringen der Einläufe des Musters an einem Einlaufverteiler, der an einem zentralen Einlaufkanal angebracht ist. Mehrere dieser Muster werden so über den Einlaufverteiler am zentralen Einlaufkanal angebracht, um eine Mustergruppe zu bilden. Die Mustergruppe wird anschließend in den Keramikschlamm getaucht, wobei die Muster der Mustergruppe vom hitzebeständigen Korn durchdrungen werden, um eine Hüllschicht zu bilden. Diese zwei Schritte werden jedoch wiederholt, um mehrere Hüllschichten auszubilden. Das Gießformmaterial wird getrocknet, woraufhin die Muster aus der Gießform ausgeschmolzen werden; die Gießform wird gekühlt, wobei der Kohlenstoff und Reste, die in der Gießform gefunden werden, falls vorhanden, mit Luft und Wasser ausgespült werden können. Die Gießformen werden erwärmt und mit flüssigem Metall gefüllt, wobei das Füllen entweder durch die Schwerkraft, einen Druck/Unterdruck oder durch eine Fliehkraft unterstützt wird. Die Gießform wird von den Gußteilen weggebrochen, wobei die Gußteile vom Einlaufkanal abgenommen werden und die Einlaufstummel abgeschliffen werden; um ein fertiges Produkt zu erhalten.
Die vorliegende Erfindung kann in Verbindung mit bestehenden Polymerverfahren verwendet werden. Die Herstellung des Hohlmusters wird in der halben Zeitspanne erreicht, die vorher erforderlich war. Die vorliegende Erfindung kann leicht in bestehende Prozesse integriert werden, die von Formgießereien verwendet werden. Die vorliegende Erfindung erzeugt die Mustergießformen mit geringeren Kosten als bei früheren Gießformen.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung von Gußteilen geschaffen, das die in Anspruch 1 definierten Schritte umfaßt.
Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung wird ein Formmuster geschaffen, das die Merkmale des kennzeichnenden Abschnitts des Anspruchs 4 aufweist.
Diese und andere Merkmale der Erfindung werden für Fachleute anhand der folgenden genauen Beschreibung der Erfindung in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlich.

Beschreibung der Zeichnungen

Fig. 1 ist eine Darstellung, die Gitterformen zeigt, die gestapelt werden, um ein Muster zu schaffen;
Fig. 2 ist eine isometrische Zeichnung, die ein typisches Muster darstellt, das aus den Stapeln von Gittern resultiert, wie z. B. aus denjenigen, die in Fig. 1 gezeigt sind;
Fig. 3a und 3b zeigen verschiedene Schritte des Prozesses zur Herstellung einer Form der vorliegenden Erfindung; und
Fig. 4a-4h zeigen verschiedene Schritte im Prozeß zur Herstellung eines Gußteils der vorliegenden Erfindung.

Genaue Beschreibung der Erfindung

Die vorliegende Erfindung verwendet eine Stereolithegraphie-Maschine, die von 3D-Systems Inc. hergestellt wird, oder eine andere Laser/Polymer- Schnellprototyp-Maschine, um ein Muster auszubilden, das eine Serie von gestapelten A-Gittern mit einem ersten vorgegebenen Querschnitt 8 und B-Gittern 10 mit einem zweiten vorgegebenen Querschnitt umfaßt, wie z. B. diejenigen, die in Fig. 1 gezeigt sind. Wenn die Gitter 8 und 10 aufeinander gestapelt werden, um ein Muster ii zu bilden, welches eine Kombination aus dem ersten und dem zweiten vorgegebeneh Querschnitt ist, ergibt sich ein Labyrinth, wie in Fig. 1 gezeigt ist. Jedes der Gitter A und B weist Elemente auf, die die Seiten der Gitter verbinden. Das Element des A-Gitters und ein Element des B-Gitters bilden z. B. im wesentlichen einen 45º-Winkel oder irgendeinen anderen Winkel, der ausreichende Ergebnisse liefert. Fig. 2 zeigt ein Muster 11 mit einer Außenhaut I4 und einem inneren Labyrinth (siehe Fig. I) und einem Einlauf 16, so daß die Außenhaut I4 eine A-Außenhaut 14a und eine B-Außenhaut 14b enthält. Das Labyrinth 12 erlaubt einem unverfestigten Polymer, vollständig aus dem Inneren des Musters 11 durch den Einlauf 16 abzulaufen. Der Einlauf 16 dient ferner als Belüftungsöffnung für den Füllprozeß. In der bevorzugten Ausführungsform werden einer oder mehrere Abläufe und eine oder mehrere Belüftungsöffnungen empfohlen. Die bevorzugte Ausführungsform ist zur Vereinfachung mit einem Einlauf gezeigt, jedoch können eine beliebige Anzahl von Einläufen, Abläufen und Belüftungsöffnungen vorgesehen sein. Das resultierende Muster 11 in drei Dimensionen bietet eine im wesentlichen lückenlose Oberflächengeometrie, die durch ein inneres Stützgerüst angemessen unterstützt wird.
In den Fig. 3a und 3b sind die verschiedenen Schritte des Prozesses der vorliegenden Erfindung dargestellt. In Fig. 3a wird die Form 30 abgeschlossen durch Aushärten der X-Y-Querschnitte des Polymers unter Verwendung einer Ultraviolett-Lichtquelle. Die Schichten des A-Gitters und des B-Gitters werden in sequentieller Weise konstruiert, während die Plattform 34 in das Gefäß 32 abgesenkt wird. Die Form 30 wird abgeschlossen durch Plazieren derselben innerhalb des Gefäßes 32 unter Verwendung der Absenkungsplattform 34. Das Gefäß 32 ist mit einer durch ultraviolette Strahlung aushärtbaren Flüssigkeit 36 gefüllt. Die Form 30 wird ausgebildet mittels der ultravioletten Lichtquelle 38, die in X-Y-Richtungen beweglich ist, wodurch die mit ultravioletter Strahlung aushärtbare Flüssigkeit 36 ausgehärtet wird. Dieser Prozeß kann mit irgendeinem Verfahren bewerkstelligt werden, das im Stand der Technik bekannt ist, wie z. B. der Stereolithographie.
In Fig. 3B wird die Form 30 auf einer Plattform 50 plaziert, die für eine maximale Ableitung des restlichen Kunstharzes 52 der mit ultravioletter Strahlung aushärtbaren Flüssigkeit 36 aus der Form 30 ausgerichtet ist. Die Ableitung des restlichen Kunstharzes 52 wird durch das Labyrinth 12 erleichtert. Mehrere Ausrichtungen der Form 30 können erforderlich sein, in Abhängigkeit von der Plazierung eines Ansatzes oder Einlaufes 16. Die Form 30 kann innerhalb einer (nicht gezeigten) erwärmten Kammer entleert werden, um die erhöhte Temperatur auszunützen. Die Verwendung von Kunstharzen mit niedriger Viskosität als die mittels ultravioletter Strahlung aushärtbare Flüssigkeit 52 wird bevorzugt, ist jedoch nicht erforderlich. Die Form 30 kann ausgiebig gespült werden, z. B. in IPA, was sicherstellt, daß keine zurückgebliebene, mittels ultravioletter Strahlung aushärtbare Flüssigkeit 52 in Ecken oder Taschen innerhalb der Form 30 gefangen ist. Die Form 30 kann bei Bedarf z. B. für mehrere Stunden in reinem IPA gespült werden. Die Form 30 sollte vorzugsweise nicht mehr als zehn Minuten der Ultraschallreinigung ausgesetzt werden. Jede mittels ultravioletter Strahlung aushärtbare Flüssigkeit 36 auf der Außenseite sollte von der Außenseite entfernt werden, z. B. durch Abwischen der Außenseite der Form 30. Anschließend kann in der bevorzugten Ausführungsform die Form 30 z. B. etwa eine Stunde trocknen und erneut abgewischt werden. Die Form 30 wird nach dem letzten Trocknungszyklus vorzugsweise nicht in Alkohol gespült, da ansonsten die Außenhaut beim Entnehmen gedehnt werden kann oder splittern kann. Nach dem Trocknen wird die Form 30 in einem (nicht gezeigten) Ultraviolettofen für eineinhalb Minuten bei voller Leistung gehärtet. Die kurze Nachhärtung des Ofens stellt eine nicht poröse Außenhaut ohne Verzug sicher. Die Form 30 wird erneut abgewischt, wenn irgendwelche mittels ultravioletter Strahlung aushärtbare Flüssigkeit 36 auf der Außenseite der Form 30 zurückbleibt.
Wie in Fig. 4a gezeigt, werden die Formen 30 mit dem Einlauf 16 am Einlaufverteiler 60 montiert, der mit dem zentralen Einlaufkanal 62 verbunden ist. Mehrere ähnliche Formen 30 werden an weiteren Einlaufverteilern 60 montiert, die alle mit dem zentralen Einlaufkanal 62 verbunden sind.
Wie in Fig. 4b gezeigt, wird der keramische Schlamm 64 im Tank 66 vorbereitet Die Formen 30 werden in den Keramikschlamm 64 eingetaucht oder untergetaucht, so daß alle Formen 30 vollständig mit dem Keramikschlamm 64 bedeckt sind. Obwohl das Eintauchen der Formen 30 mit verschiedenen Verfahren bewerkstelligt werden kann, z. B. durch eine automatische Maschine, zeigt Fig. 4b, daß die Formen 30 von Hand von einer Bedienungsperson eingetaucht werden. Die Formen 30 können durch Drehen und Anheben der Formen 30 bewegt werden, um somit die Formen 30 vollständig mit dem Keramikschlamm 64 zu bedecken.
Wie in Fig. 4c gezeigt, werden die Formen 30 mit dem hitzebeständigen Korn 72 siebgewaschen, um eine Schicht des hitzebeständigen Korns 72 auf der Außenoberfläche der mit dem Keramikschlamm beschichteten Formen 30 zu erzeugen. Der zentrale Einlaufkanal 60 wird für das Siebwaschen mit dem hitzebeständigen Korn 72 z. B. von Hand positioniert, um eine gleichmäßige Beschichtung mit dem hitzebeständigen Korn 72 zu erreichen. Der zentrale Einlaufkanal 60 kann gedreht werden, um sicherzustellen, daß das hitzebeständige Korn 72 gleichmäßig auf die Form 30 aufgetragen wird.
Mehrere Schichten des hitzebeständigen Korns 72 sind erwünscht, um eine vollständige und relativ dicke Beschichtung sicherzustellen und werden erreicht durch Wiederholen des obenbeschriebenen Eintauchschritts, der in Fig. 4b gezeigt ist, und anschließend durch Siebwaschen der Formen 30 im hitzebeständigen Korn 72. In der bevorzugten Ausführungsform werden wenigstens neun Hüllschichten erhalten durch Wiederholen der Tauch- und Siebwaschschritte, die in den Fig. 4b bzw. 4c gezeigt sind. Es können jedoch zusätzliche Schichten in ähnlicher Weise ausgebildet werden.
Wie in Fig. 4b gezeigt, wird das aus den Hüllschichten gebildete Gießformmaterial gehärtet und getrocknet. Anschließend wird die Gießform und die Form 30 mit Wärme beaufschlagt, um die Form von der Gießform abzuschmelzen. Wie in Fig. 4e gezeigt, werden z. B. die Gießformen 68 gestürzt, wobei ein Wasserzulauf und ein Luftzulauf unabhängig mit dem zentralen Einlaufkanal 62 verbunden werden, so daß das Wasser und die Luft in den zentralen Einlaufkanal 62, die Einlaufverteiler 60 und das Innere der jeweiligen Gießformen 68 eindringen können, um die Gießformen 68 zu spülen und Kohlenstoff und andere Rückstände zu beseitigen. Der Spülschritt kann weggelassen werden, wenn Kohlenstoff und andere Rückstände nicht vorhanden sind. Der Wasserzulauf und der Luftzulauf werden vom zentralen Einlaufkanal 62 abgenommen und die Gießformen 68 werden aufrecht positioniert, um sie für die Aufnahme vom erhitzten Metall vorzubereiten.
Wie in Fig. 4f gezeigt, werden die Gießformen 68 erhitzt und die heißen Gießformen 68 werden durch den zentralen Einlaufkanal 62 und den Einlaufverteiler 60 mit heißem Metall gefüllt. Ein Einfüllen des heißen Metalls wird z. B. durch Gravitation, Druck/Unterdruck oder Zentrifugalkraft erleichtert, um irgendwelche gefangenen Blasen zu beseitigen, wodurch ein genaues Gußteil von der Gießform 68 erhalten wird. Das Material der Gießform 68 wird vom Gußteil weggebrochen, wie in Fig. 4g gezeigt ist. Anschließend werden die Formteile vom zentralen Einlaufkanal 62 abgenommen. Wie in Fig. 4h gezeigt ist, wird das verfestigte Metall, das dem Einlauf 16 der Form entspricht, z. B. durch Schleifen entfernt.
Eine einzigartige Qualität der Hohlformen 30 besteht darin, daß die Ausdehnung der Formen 30 während der Erwärmung der Form nicht die Gießform 68 zerbricht, da die Hohlformen 30 sich sowohl nach innen als auch nach außen ausdehnen, was die Außenausdehnung der Form 30 reduziert.
Im folgenden wird die Operation der vorliegenden Form beschrieben:
Die ultraviolette Lichtquelle 38 bildet die Form 30 auf der Plattform 35 aus, die im Gefäß 32 positioniert ist, durch Reagieren mit der ultraviolett-härtbaren Flüssigkeit 36. Die Form 30 wird von der restlichen ultraviolett-härtbaren Flüssigkeit 36 befreit. Die Form 30 wird getrocknet und in einem Ultraviolettofen gehärtet.
Die Form 30 wird am Einlaufverteiler 60 montiert, der mit dem zentralen Einlaufkanal 62 verbunden ist. Der zentrale Einlaufkanal 62, der die Formen 30 enthält, wird in einen Keramikschlamm getaucht. Die mit Keramikschlamm beschichteten Form 30 werden mit hitzebeständigen Körnern siebgewaschen, um mehrere Schichten auszubilden. Die Formen 30 werden erwärmt, während sie an den Einlaufverteilern 60 angebracht sind, wobei die Formen 30 herausgeschmolzen werden und eine Gießform ausgebildet wird. Ein Luftzulauf und ein Wasserzulauf werden mit dem zentralen Einlaufkanal 62 verbunden, um das Innere der Gießform mit Luft und Wasser zu beaufschlagen, um Kohlenstoff und andere Rückstände zu beseitigen und das Innere der Gießformen zu reinigen. Die Gießformen werden erwärmt und heißes Metall wird in die Gießformen gefüllt. Ein genaues Gußteil wird erhalten mittels Gravitation, Druck/Unterdruck oder Zentrifugalkraft. Das Gießformmaterial wird von den Formteilen weggebrochen und die Einlaufstummel, die den Einläufen 16 entsprechen, werden z. B. durch Schleifen von den Gußteilen entfernt.
Die Form ist computer- und maschinenerzeugt, was die Handarbeit und die Zykluszeit für die Herstellung der Gußteile deutlich reduziert und einen hohen Grad an Teilgenauigkeit bietet. Die Hohlform 30 ist stabil, während sie ein konsistentes Ausbrennen und einen geringen Aschegehalt ermöglicht. Die Hülle und das Labyrinth ermöglichen ferner die Verwendung verschiedener Polymerformeln, die andere Vorteile bieten können, wie z. B. Kosten, Umweltvorteile und Sicherheit.
Dieser Prozeß erzeugt Gußteile oder Gießformmuster mit hochgenauen, inneren und äußeren Einzelheiten im Vergleich zu anderen Wachsbeschichtungstechniken. Dies ist ein Ergebnis der mit CAD definierten äußeren und hohlen Polymerform. Dieser neue Prozeß erzeugt Muster, die mit in der Industrie angenommenen Gießprozessen und Anlagen kompatibel sind.

Claims

1. Verfahren zum Herstellen von Gußteilen, das die folgenden Schritte umfaßt:

Bilden eines Formmusters (11, 30), das eine Außenhaut (14), eine Befüllungssteigleitung (16) und ein inneres Labyrinth (12) besitzt, durch Positionieren eines ersten Gitters (8), um einen ersten Abschnitt des Musters (11, 30) zu bilden, wobei das Gitter (8) einen ersten Querschnitt besitzt;

Positionieren eines zweiten Gitters (10), um einen zweiten Abschnitt des Musters (11, 30) zu bilden, wobei das Gitter (10) einen zweiten Querschnitt besitzt;

Anordnen des ersten und des zweiten Gitters (8, 10) in der Weise, daß der zweite Querschnitt nicht auf den ersten Querschnitt ausgerichtet ist;

Entleeren des inneren Labyrinths (12) von durch UV-Strahlung härtbarem Material; und

Härten des Formmusters (11, 30) in einem UV-Strahlungsofen;

Positionieren des Formmusters (11, 30) auf einem Träger (62);

Beschichten des Formmusters (11, 30) in einer Beschichtungslösung (64);

Siebwaschen des beschichteten Formmusters (11, 30) mit einem feuerfesten Medium (72), um eine Gießform (68) zu bilden;

Entnehmen des Formmusters (11, 30);

Befüllen der Gießform (68) mit Gießwerkstoff, um ein Gußteil zu bilden; und

Abnehmen der Gießform (68), um das Gußteil freizugeben

2. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner den Schritt des Spülens der Gießform (68) umfaßt.

3. Verfahren nach Anspruch 2, das ferner das Spülen der Gießform (68) mit Luft und Wasser umfaßt.

4. Formmuster, das so beschaffen ist, daß es bei der Herstellung von Gußteilen verwendet wird, wobei das Formmuster (11, 30) gekennzeichnet ist durch

ein erstes Gitter (8), das einen Abschnitt des Formmusters (11, 30) bildet und einen ersten Querschnitt besitzt;

ein zweites Gitter (10), das einen Abschnitt des Formmusters (11, 30) bildet und einen zweiten Querschnitt besitzt;

einen Einlauf (16), um das Formmuster (11, 30), das erste Gitter (8) und das zweite Gitter (10), die nebeneinander angeordnet sind, zu entleeren, derart, daß die flüssige, ultravioletthärtbare Lösung durch den Einlauf (16) fließt.

5. Formmuster nach Anspruch 4, bei dem jedes der Gitter (8, 10) wenigstens zwei Elemente umfaßt, die wenigstens zwei Seiten jedes der Gitter miteinander koppeln.

6. Formmuster nach Anspruch 5, bei dem jedes der wenigstens zwei Elemente zu dem anderen der wenigstens zwei Elemente im wesentlichen senkrecht verläuft.

7. Formmuster nach Anspruch 6, bei dem ein erstes Element des ersten Gitters (8) und ein zweites Element des zweiten Gitters (10) einen Winkel von im wesentlichen 45º bilden.