DE60318600T2 - METHOD FOR PRODUCING A LITHOGRAPHIC PRESSURE PLATE - Google Patents
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Description
TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNGTECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
Die vorliegende Erfindung betrifft eine wärmeempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe, die ein Phenolharz enthält.The The present invention relates to a heat-sensitive lithographic Printing plate precursor containing a phenolic resin.
ALLGEMEINER STAND DER TECHNIKGENERAL PRIOR ART
Bei lithografischem Druck verwendet man in der Regel einen sogenannten Druckmaster wie eine auf eine Trommel einer Rotationsdruckpresse aufgespannte Druckplatte. Die Masteroberfläche trägt ein lithografisches Bild und ein Abzug wird erhalten, indem zunächst Druckfarbe auf das Bild aufgetragen und anschließend die Farbe vom Master auf ein Empfangsmaterial, in der Regel Papier, übertragen wird. Bei herkömmlichem lithografischem Druck werden sowohl Druckfarbe als auch Feuchtwasser auf Wasserbasis auf das lithografische Bild, das aus oleophilen (oder hydrophoben, d. h. farbanziehenden, wasserabstoßenden) Bereichen und hydrophilen (oder oleophoben, d. h. wasseranziehenden, farbabstoßenden) Bereichen aufgebaut ist, angebracht. Bei sogenanntem driografischem Druck besteht das lithografische Bild aus farbanziehenden und farbabweisenden (d. h. farbabstoßenden) Bereichen und wird während des driografischen Drucks nur Druckfarbe auf den Master angebracht.at lithographic printing is usually used a so-called Printing master like one on a drum of a rotary printing press clamped pressure plate. The master surface carries a lithographic image and a print is obtained by first printing ink on the image applied and then Transfer the color from the master to a receiving material, usually paper becomes. In conventional lithographic printing is both ink and fountain solution water-based on the lithographic image, made of oleophilic (or hydrophobic, i.e., ink-receptive, water-repellent) And hydrophilic (or oleophobic, i.e. hydrophilic, ink-repelling) Areas constructed, appropriate. In so-called driographic The lithographic image consists of ink-receptive and ink-repellent prints (ie color repellent) Areas and will be during of driographic printing, just apply printing ink to the master.
Druckmaster werden in der Regel durch bildmäßige Belichtung und Entwicklung eines als Plattenvorstufe bezeichneten bilderzeugenden Materials erhalten. Außer den allgemein bekannten strahlungsempfindlichen, sogenannten vorsensibilisierten Platten, die für eine UV-Kontaktbelichtung durch eine Filmmaske geeignet sind, sind in den späten 90er Jahren auch wärmeempfindliche Druckplattenvorstufen zu einem sehr populären Plattentyp geworden. Solche Thermomaterialien beinhalten den Vorteil ihrer Tageslichtbeständigkeit und sind besonders geeignet zur Verwendung im sogenannten Computer-to-Plate-Verfahren (direkte digitale Druckplattenbebilderung), bei dem die Plattenvorstufe direkt belichtet wird, d. h. ohne Einsatz einer Filmmaske. Das Material wird mit Wärme beaufschlagt oder mit Infrarotlicht belichtet und die dabei erzeugte Wärme löst einen (physikalisch)-chemischen Prozess aus, wie Ablation, Polymerisation, Insolubilisierung durch Vernetzung eines Polymers, eine thermisch induzierte Solubilisierung oder eine Koagulierung der Teilchen eines thermoplastischen polymeren Latex.print Master are usually by imagewise exposure and developing an image-forming apparatus called a plate precursor Materials received. Except the well-known radiation-sensitive, so-called presensitized Plates for a UV contact exposure through a film mask are suitable are in the late 90s also heat sensitive Printing plate precursors have become a very popular type of plate. Such Thermal materials have the advantage of their daylight resistance and are particularly suitable for use in the so-called computer-to-plate process (direct digital plate imaging) where the plate precursor is exposed directly, d. H. without the use of a film mask. The material comes with heat applied or exposed to infrared light and the generated thereby Heat dissolves you (physical) chemical process, such as ablation, polymerization, Insolubilization by crosslinking of a polymer, a thermal induced solubilization or coagulation of the particles of a thermoplastic polymeric latex.
Obgleich
gewisse dieser Thermoprozesse eine Plattenherstellung ohne Nassentwicklung
erlauben, erfolgt die Bilderzeugung bei den populärsten Thermoplatten
dadurch, dass durch Erwärmung
der Platten ein Löslichkeitsunterschied
in alkalischem Entwickler zwischen den erwärmten Bereichen und nicht-erwärmten Bereichen
der Beschichtung hervorgerufen wird. Die Beschichtung enthält in der
Regel ein oleophiles Bindemittel, z. B. ein Phenolharz, dessen Lösungsgeschwindigkeit
im Entwickler durch die bildmäßige Erwärmung entweder
beschränkt
(negativarbeitende Platte) oder gesteigert (positivarbeitende Platte)
wird. Der Löslichkeitsunterschied
sorgt dafür,
dass während
der Entwicklung die Nicht-Bildbereiche (d. h. die nicht-druckenden Bereiche)
der Beschichtung entfernt werden und dabei der hydrophile Träger freigelegt
wird, während
die Bildbereiche (d. h. die druckenden Bereiche) der Beschichtung
intakt auf dem Träger
verbleiben. Typische Beispiele für
solche Platten sind beschrieben in z. B.
Die industrielle Herstellung von Druckplattenvorstufen erfolgt schrittweise, wobei zunächst eine in der Regel aus Aluminium bestehende Trägermaterialbahn von einer Spule abgewickelt und mit einer oder mehreren Schichten beschichtet wird, sodann die Beschichtung getrocknet wird, indem Heißluft über die beschichtete Bahn geblasen wird, und schließlich die beschichtete Bahn wieder auf einen Kern gewickelt oder aber sofort in Bogen zerschnitten und sodann gestapelt und verpackt wird. Bei industrieller Herstellung erfolgen all diese Schritte on-line, d. h. auf einer laufenden Bahn in einem einzelnen Durchlaufprozess ohne Zwischenlagerung.The industrial production of printing plate precursors takes place step by step, being first a usually made of aluminum substrate sheet of a coil unwound and coated with one or more layers, Then the coating is dried by applying hot air over the coated web is blown, and finally the coated web wrapped again on a core or immediately cut into bows and then stacked and packaged. In industrial production all these steps are done on-line, d. H. on a running track in a single pass process without intermediate storage.
Ein
spezifisches Problem bei thermischen Druckplattenvorstufen mit Phenolharzen
ist deren Empfindlichkeit, die sich mit der Zeit dadurch ändert, dass
die Beschichtung allmählich
beständiger
gegen den Entwickler wird, wodurch bei der bildmäßigen Belichtung mehr Wärme benötigt wird,
um den Bilderzeugungsmechanismus auszulösen. In der Regel erhält man eine
hohe Empfindlichkeit, z. B. von weniger als 100 mJ/cm2,
gerade nach Beschichtung und nimmt diese langsam bis zu einem Gleichgewichtswert
von zum Beispiel 250 mJ/cm2 ab. Die zum
Erreichen einer stabilen Empfindlichkeit erforderliche Alterungszeit
kann sich auf mehrere Monate nach der Beschichtung belaufen. Zum
Verringern dieser Alterungsdauer wird in
Andere
Lösungen
für obiges
Problem finden sich in
KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGBRIEF PRESENTATION OF THE PRESENT INVENTION
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist das Bereitstellen eines Online-Verfahrens für die Alterung wärmeempfindlicher, ein Phenolharz enthaltender Druckplattermaterialien. Gelöst wird diese Aufgabe durch das in Anspruch 1 definierte Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die getrocknete Beschichtung einem Online-Abkühlungsschritt unterzogen wird. In der vorliegenden Erfindung werden die langen, aus dem Stand der Technik bekannten und nur offline durchführbaren Abkühlungsprozesse ersetzt durch einen Online-Abkühlungsschritt, in dem die Senkung der Bahntemperatur bei einer über der beim Lagern der Bahn unter Umgebungsbedingungen erreichbaren Geschwindigkeit liegenden mittleren Abkühlgeschwindigkeit erfolgt, ohne aber 30°C/s zu überschreiten.task The present invention is to provide an on-line method for the Aging more sensitive to heat, a phenolic resin-containing printing plate materials. Is solved This object is achieved by the method defined in claim 1, the characterized in that the dried coating is an online cooling step is subjected. In the present invention, the long, known from the prior art and only feasible offline cooling processes replaced by an online cooling step, in which the lowering of the web temperature at one above the while storing the web Reachable under ambient conditions speed average cooling rate done, but without 30 ° C / s To exceed.
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt die Herstellung wärmeempfindlicher Druckplattenvorstufen, die nach deren Herstellung schon nach einigen Wochen anstatt verschiedenen Monaten mit stabiler Empfindlichkeit aufwarten. Zwar ist eine zusätzliche Alterung nicht notwendig, doch selbstverständlich umfasst der Schutzbereich der vorliegenden Erfindung gleichfalls Ausführungsformen, in denen ein erfindungsgemäßer Online-Abkühlungsschritt mit einem zusätzlichen Offline-Abkühlungsschritt kombiniert wird.The inventive method allows the production of heat-sensitive Printing plate precursors, which after their production after a few Weeks instead of different months with stable sensitivity come up. Although there is an additional Aging not necessary, but of course includes the scope the present invention also embodiments in which a Inventive Online Cooling Step with an additional Offline-cooling step combined.
Spezifische Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.specific embodiments The present invention is described in the subclaims.
KURZBESCHREIBUNG DER FIGURENBRIEF DESCRIPTION OF THE FIGURES
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNGDETAILED DESCRIPTION OF THE PRESENT INVENTION
Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe umfasst einen hydrophilen Träger und eine darauf angebrachte, ein Phenolharz enthaltende Beschichtung. Die Beschichtung kann aus einer oder mehreren Schichten, von denen im Nachstehenden Beispiele erörtert werden, zusammengesetzt sein. Das Phenolharz kann in einer oder mehreren Schichten der Beschichtung enthalten sein.The heat-sensitive according to the invention lithographic printing plate precursor comprises a hydrophilic support and an attached phenolic resin-containing coating. The coating may consist of one or more layers, one of which Examples discussed below will be composed. The phenolic resin may be in one or be included in several layers of the coating.
Jeder Verweis auf die Temperatur der Vorstufe ist in dieser Erfindung als Verweis auf sowohl die Temperatur des Trägers als die Temperatur der Beschichtung zu betrachten. In der Regel ist die Beschichtung sehr dünn, d. h. 1 μm oder einige μm groß, der Träger dagegen weist in der Regel eine Starke zwischen 0,1 mm und 0,5 mm auf. Deswegen fungiert der Träger, vorzugsweise ein Metallträger, als großer Kühlkörper für die Beschichtung und ist die Temperatur der Beschichtung gleich der Trägertemperatur oder liegt dieser sehr nahe, in der Unabhängigkeit davon, ob in den hierin besprochenen Erhitzungs- und Abkühlungsschritten nur die beschichtete Seite der Vorstufe, nur die Rückseite der Vorstufe oder aber beide Seiten erwärmt oder abgekühlt werden. Für die Aufzeichnung der hierin erwähnten Temperaturwerte wurde in der Praxis an der Rückseite der Bahn eine fernauslesbare Thermoelementvorrichtung befestigt, welche die Temperatur der Bahn misst, während diese alle Bereiche der Beschichtungsanlage durchläuft. Solche Methode sichert eine präzise Aufzeichnung des Temperaturprofils während aller Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens. Wenn nicht spezifisch anders vermerkt, handelt es sich bei allen hierin erwähnten Temperaturen um aus dem Thermoelement ausgelesene Bahntemperaturen. Aufgrund der obigen Betrachtungen ist Fachleuten klar, dass der Bahntemperaturwert wesentlich gleich der Temperatur der auf die Bahn angebrachten trockenen Beschichtung ist.Any reference to the temperature of the precursor is to be considered in this invention as a reference to both the temperature of the carrier and the temperature of the coating. In general, the coating is very thin, ie 1 micron or a few microns in size, the carrier, however, usually has a strength between 0.1 mm and 0.5 mm. Therefore, the support, preferably a metal support, functions as a large heat sink for the coating and the temperature of the coating is close to or very close to the support temperature, regardless of whether only the coated side of the precursor is in the heating and cooling steps discussed herein , only the back of the precursor or both sides warmed or cooled become. For recording the temperature values mentioned herein, in practice a remotely readable thermocouple device has been attached to the back of the web which measures the temperature of the web as it traverses all areas of the coater. Such a method ensures a precise recording of the temperature profile during all steps of the method according to the invention. Unless specifically stated otherwise, all temperatures mentioned herein are track temperatures read from the thermocouple. It will be apparent to those skilled in the art from the above considerations that the web temperature value is substantially equal to the temperature of the dry coating applied to the web.
Zum Auftrag einer oder mehrerer Gießlösungen auf die hydrophile Oberfläche des Trägers kann eine beliebige Beschichtungstechnik angewandt werden. Im Falle einer mehrschichtigen Beschichtung kann entweder jede Schicht gesondert nacheinander aufgetragen und getrocknet oder können verschiedene Gießlösungen gleichzeitig aufgetragen werden. Die Trocknung erfolgt in der Regel dadurch, dass man Heißluft, in der Regel mit einer Temperatur von zumindest 70°C, vorzugsweise 80–150°C und besonders bevorzugt 90–140°C, über die Beschichtung bläst. Für die Trocknung kommen noch andere geeignete Wärmequellen in Frage, z. B. Infrarotlampen oder Mikrowellenstrahlung. Die Trocknungszeit kann in der Regel zwischen 15 und 600 Sekunden liegen. Allerdings muss aber nicht unbedingt die Gesamtmenge Lösungsmittel während des Trocknungsschritts entfernt werden (manchmal ist dies sogar nicht einmal möglich). Der Restgehalt an Lösungsmittel kann ja als zusätzliche Zusammensetzungsvariable betrachtet werden, durch die die Beschichtungszusammensetzung optimiert werden kann. Deshalb wird der Trocknungsschritt in der vorliegenden Erfindung dann als beendet betrachtet, wenn eine selbsttragende und sich trocken anfühlende Beschichtung erhalten ist.To the Order one or more casting solutions the hydrophilic surface of the carrier Any coating technique can be used. In the event of a multilayer coating can either separate each layer applied sequentially and dried or can different casting solutions simultaneously be applied. Drying is usually done by that you have hot air, usually with a temperature of at least 70 ° C, preferably 80-150 ° C and especially preferably 90-140 ° C, over the Coating blows. For the Drying are other suitable heat sources in question, for. B. Infrared lamps or microwave radiation. The drying time can usually between 15 and 600 seconds. However, must but not necessarily the total amount of solvent during the drying step be removed (sometimes this is not even possible). The residual content of solvent can yes as additional Composition variable are considered by the coating composition can be optimized. Therefore, the drying step in the considered to be finished when a self-supporting and feel dry Coating is obtained.
Nach beendetem Trocknungsschritt wird die Vorstufe vorzugsweise einem kurzen, zusätzlichen Online-Erhitzungsschritt unterzogen. Ebenfalls möglich ist, dass man zunächst die Vorstufe zwischen dem Trocknungsschritt und dem Erhitzungsschritt abkühlen lässt, notwendig aber ist solcher Zwischenschritt allerdings nicht. Während des zusätzlichen Erhitzungsschritts wird die trockene Beschichtung solchermaßen erwärmt, dass die Beschichtungstemperatur auf einem Wert oberhalb der Temperatur, die bei einer Lagerung der Vorstufe unter Umgebungsbedingungen herrschen würde, gehalten wird (die Temperatur von Umgebungsluft wird in der vorliegenden Erfindung definitionsgemäß auf 20°C gesetzt). Die Temperatur der Vorstufe während des Erhitzungsschritts kann also niedriger sein als am Ende des Trocknungsschritts. Besonders bevorzugt wird die Beschichtungstemperatur während des Erhitzungsschritts auf einem oberhalb der am Ende des Trocknungsschritts gemessenen Temperatur der Beschichtung liegenden Wert gehalten. In einer alternativen Methode für die Wärmebehandlung der getrockneten Beschichtung wird eine längere Trocknungsanlage eingesetzt, die es erlaubt, zusätzliche Trocknungsluft über die Beschichtung zu blasen, nachdem diese einmal trocken ist. In dieser Ausführungsform kann die Temperatur der Beschichtung während der Wärmebehandlung gleich der Temperatur am Ende des Trocknungsschritts sein.To completed drying step, the precursor is preferably a short, additional Subjected to online heating step. Also possible is that you first the Precursor between the drying step and the heating step cooling down leaves, However, such an intermediate step is not necessary. During the additional Heating step, the dry coating is heated so that the coating temperature at a value above the temperature, which prevail during storage of the precursor under ambient conditions would, is maintained (the temperature of ambient air is present in the Invention set by definition to 20 ° C). The temperature of the precursor during of the heating step may therefore be lower than at the end of the Drying step. Particularly preferred is the coating temperature while of the heating step at one above that at the end of the drying step measured temperature of the coating lying value. In an alternative method for the heat treatment the dried coating uses a longer drying plant, which allows additional Drying air over to blow the coating once it is dry. In this embodiment The temperature of the coating during the heat treatment can be equal to the temperature be at the end of the drying step.
Während des Erhitzungsschritts wird die Bahntemperatur der Vorstufe vorzugsweise auf einen Wert oberhalb des Tg-Werts, d. h. des Einfrierpunkts, des Phenolharzes gesteigert. Unter "Tg" ist in der vorliegenden Erfindung der Einfrierpunkt des Phenolharzes in der aufgetragenen, getrockneten und erhitzten Zusammensetzung, d. h. der Einfrierpunkt der das Phenolharz enthaltenden Beschichtung, zu verstehen. Der Tg-Wert kann nach den bekannten kalorimetrischen Messverfahren zügig gemessen werden. Dadurch, dass die Dauer der Wärmebehandlung genügend kurz ist, z. B. zwischen 0,1 und 60 s, besonders bevorzugt zwischen 1 und 30 s liegt, kann die Wärmebehandlung on-line durchgeführt werden. Vorzugsweise wird die Bahntemperatur während des Erhitzungsschritts auf zumindest 150°C, vorzugsweise zumindest 170°C, erhöht. Die obere Bahntemperaturgrenze während des Erhitzungsschritts richtet sich nach der Temperaturschwelle, oberhalb derer der Bilderzeugungsmechanismus der Beschichtung ausgelöst wird. Diese obere Grenze ist deswegen abhängig von der jeweiligen Zusammensetzung der Beschichtung, beträgt aber in der Regel etwa 200°C oder besonders bevorzugt etwa 250°C. Eine Erhitzung auf noch höhere Temperaturen kann irreversible chemische oder physikalische Änderungen in der Beschichtung hervorrufen, wodurch man die Vorstufe nicht mehr bebildern könnte.During the Heating step, the web temperature of the precursor is preferably to a value above the Tg value, d. H. the freezing point, of the phenolic resin increased. Under "Tg" is in the present invention, the freezing point of the phenolic resin in the applied, dried and heated composition, d. H. the freezing point of the coating containing the phenolic resin, to understand. The Tg value can be determined by the known calorimetric Measuring procedure fast be measured. In that the duration of the heat treatment is sufficiently short is, for. B. between 0.1 and 60 s, more preferably between 1 and 30 s, the heat treatment can be carried out on-line become. Preferably, the web temperature during the heating step to at least 150 ° C, preferably at least 170 ° C, elevated. The upper web temperature limit during the heating step depends on the temperature threshold, above which the imaging mechanism of the coating is triggered. This upper limit is therefore dependent on the particular composition the coating is but usually about 200 ° C or most preferably about 250 ° C. A heating to even higher Temperatures can be irreversible chemical or physical changes in the coating, which does not cause the precursor could illustrate more.
Erhitzt wird die Vorstufe zum Beispiel, indem Heißluft und/oder heißer Dampf über die lithografische Druckplattenvorstufe geblasen, die Vorstufe mit Infrarotlicht oder Mikrowellen bestrahlt oder die Vorstufe mit einer beheizten Walze in Berührung gebracht wird. Kombinationen dieser Verfahren kommen auch in Frage. Die Temperatur der Heißluft und/oder des heißen Dampfes beträgt vorzugsweise mehr als 150°C, beträgt besonders bevorzugt zumindest 170°C. Mit dem Infrarotlicht kann entweder die beschichtete Seite oder die Rückseite des Trägers oder aber beide Seiten bestrahlt werden. Wird mit dem Infrarotlicht nur die Beschichtung bestrahlt, ist (sind) die Wellenlänge und/oder die Intensität so zu wählen, dass der Bilderzeugungsmechanismus der Beschichtung nicht ausgelöst wird. In gleicher Weise kann auch die beheizte und vorzugsweise thermostatisch gesteuerte Walze nur mit der Beschichtung, nur mit der Rückseite des Trägers oder aber mit beidem in Berührung gebracht werden, bevorzugt aber wird, dass die Walze nur mit der Trägerrückseite in Berührung gebracht wird. Die Walze ist vorzugsweise eine Metallwalze.For example, the precursor is heated by blowing hot air and / or hot steam over the lithographic printing plate precursor, irradiating the precursor with infrared light or microwaves, or contacting the precursor with a heated roller. Combinations of these methods are also possible. The temperature of the hot air and / or the hot steam is preferably more than 150 ° C, more preferably at least 170 ° C. With the infrared light, either the coated side or the back of the carrier or both sides can be irradiated. If only the coating is irradiated with the infrared light, the wavelength and / or the intensity should be selected so that the imaging mechanism of the coating is not triggered. In the same way, the heated and preferably thermo statically controlled roller are brought into contact only with the coating, only with the back of the carrier or with both, but is preferred that the roller is brought into contact only with the carrier back. The roller is preferably a metal roller.
Nach dem Erhitzungsschritt wird die Vorstufe abgekühlt, ehe auf einen Kern gewickelt oder in einzelne Bogen zerschnitten zu werden. Der Abkühlungsschritt ist ein schneller, "aktiver" Abkühlungsschritt, d. h. ein Schritt, in dem die Temperatur der Beschichtung schneller gesenkt wird, als wenn man die Vorstufe unter Umgebungsbedingungen lagern würde. Der erfindungsgemäße Abkühlungsschritt wird also definiert als der Schritt zwischen Beginn und Ende der aktiven Abkühlung. In bevorzugten, im Nachstehenden näher beschriebenen Ausführungsformen ist der Abkühlungsschritt ein mehrstufiger Prozess, in dem die aktive Abkühlung durch eine "passive" Abkühlungsphase unterbrochen werden kann, in der Regel im Übergangsbereich des Temperaturintervalls rund den Tg-Wert. Unter "passive" Abkühlung versteht sich ein Abkühlungsschritt, in dem die Bahn bei einer mittleren Abkühlgeschwindigkeit abgekühlt wird, die höchstens der bei Lagerung der Vorstufe unter Umgebungsbedingungen erreichbaren Abkühlgeschwindigkeit entspricht. Der Abkühlungsschritt im erfindungsgemäßen Verfahren kann also eine Folge einer oder mehrerer aktiver und passiver Abkühlungsphasen umfassen. Bei solchen Mehrphasen-Abkühlungsprozessen wird der aktive Abkühlungsschritt definiert als der Prozess zwischen dem Beginn der ersten aktiven Abkühlungsphase und dem Ende der letzten aktiven Abkühlungsphase.To In the heating step, the precursor is cooled before being wound on a core or to be cut into single sheets. The cooling step is a fast, "active" cooling step, d. H. a step in which the temperature of the coating is faster is lowered than taking the precursor under ambient conditions would camp. The cooling step according to the invention is defined as the step between the beginning and the end of the active cooling. In preferred embodiments described in more detail below is the cooling step a multi-stage process in which the active cooling by a "passive" cooling phase can be interrupted, usually in the transition region of the temperature interval around the Tg value. Under "passive" cooling understands a cooling step, in which the web is cooled at an average cooling rate, the maximum the achievable in storage of the precursor under ambient conditions cooling equivalent. The cooling step in the process according to the invention can therefore be a consequence of one or more active and passive cooling phases include. In such multi-phase cooling processes, the active cooling step defined as the process between the beginning of the first active cooling phase and the end of the last active cooling phase.
Die mittlere Abkühlgeschwindigkeit während des Abkühlungsschritts oder während einer Abkühlungsphase wird definiert als das Verhältnis des Temperaturunterschieds zwischen Beginn und Ende des Abkühlungsschritts oder der Abkühlungsphase zur Dauer des Abkühlungsschritts oder der Abkühlungsphase.The average cooling rate while of the cooling step or while a cooling phase is defined as the ratio the temperature difference between the beginning and the end of the cooling step or the cooling phase for the duration of the cooling step or the cooling phase.
Für die aktive Abkühlung kommen verschiedene Mittel in Frage, z. B. eine oder mehrere Walzen, bevorzugt eine oder mehrere Metallwalzen, die mit der Vorstufe in Berührung gebracht wird bzw. werden und dabei die Wärme von der Vorstufe übernimmt bzw. übernehmen. Selbstverständlich bestehen noch andere geeignete Abkühlungsweisen, z. B. ein Verfahren, in dem Luft über die Oberfläche der Vorstufe geblasen wird. Bevorzugt allerdings wird der Einsatz einer Metallkühlwalze und zwar weil die enge Berührung zwischen Kühlwalze und Vorstufe eine schnellere Abkühlung der Vorstufe auslöst, als wenn man die Vorstufe unter Umgebungsbedingungen, d. h. ohne Kontakt mit einer Kühlwalze, lagern würde, und dies sogar, wenn die Temperatur der Kühlwalze auf einem oberhalb der Temperatur der Umgebungsluft liegenden Wert gehalten wird. Für eine aktive Abkühlung eignet sich also ein Verfahren, in dem die Vorstufe gerade nach dem Erhitzungsschritt mit einer Metallkühlwalze mit einer Temperatur von z. B. 50°C bis 120°C in Berührung gebracht wird. Ebenfalls in Frage kommen Kühlwalzen aus anderen Materialien, z. B. Materialien mit niedrigerer Wärmeleistung oder Wärmeleitfähigkeit. Die Kühlwalze kann mit der Rückseite der Bahn, der beschichteten Seite der Bahn oder beidem in Berührung gebracht werden. Es ist ziemlich offensichtlich, dass mit zunehmendem Temperaturunterschied zwischen Kühlwalze und Vorstufe die Abkühlung umso schneller erfolgt. Bevorzugt beträgt die mittlere Abkühlgeschwindigkeit mindestens 0,5°C/s, besonders bevorzugt mindestens 1°C/s, noch besser wäre mindestens 3°C/s.For the active Cooling Different means come into question, eg. B. one or more rollers, prefers one or more metal rolls to those with the precursor in contact is brought and / or become while the heat from the precursor takes over or take over. Of course There are other suitable cooling, z. A method, in the air over the surface the pre-stage is blown. However, the use is preferred a metal chill roll because of the close contact between chill roll and pre-stage a faster cooling the precursor triggers as if the precursor was run under ambient conditions, i. H. without Contact with a chill roll, store, and even if the temperature of the chill roll is on an above the temperature of the ambient air is maintained. For an active Cooling Thus, a method is suitable in which the precursor just after the heating step with a metal cooling roll at a temperature from Z. B. 50 ° C up to 120 ° C in touch is brought. Also suitable are chill rolls made of other materials, z. B. materials with lower heat output or thermal conductivity. The chill roll can with the back the web, the coated side of the web or both become. It's pretty obvious that with increasing temperature difference between chill roll and precursor the cooling off the faster. Preferably, the mean cooling rate at least 0.5 ° C / s, more preferably at least 1 ° C / s, At least it would be even better 3 ° C / s.
Die Erfinder haben festgestellt, dass das Alterungsverhalten durch Beschränkung der mittleren Abkühlgeschwindigkeit auf höchstens 30°C/s, besonders bevorzugt höchstens 20°C/s und ganz besonders bevorzugt höchstens 10°C/s verbessert werden kann. Der Grund dafür liegt wahrscheinlich darin, dass das Phenolharz bei schneller Abkühlung auf einen Wert unter seinem Tg einen starken amorphen Zustand erhält. Enthält die Beschichtung einen hohen Gehalt an Phenolharz in amorphem Zustand, wird die unvermeidliche Relaxation in den Tagen oder Wochen nach der Beschichtung der Vorstufe das Phenolharz in einen kristallineren Zustand überführen, was eine Erklärung dafür sein könnte, dass während der Alterung des Materials eine Verringerung der Empfindlichkeit auftreten kann.The Inventors have found that the aging behavior by limiting the average cooling rate at most 30 ° C / s, most preferably at most 20 ° C / s and most preferably at most 10 ° C / s improved can be. The reason for this probably lies in the fact that the phenolic resin on rapid cooling on a value under its Tg gets a strong amorphous state. Contains the coating a high content of phenolic resin in amorphous state, becomes the inevitable Relaxation in the days or weeks after coating the precursor convert the phenolic resin to a more crystalline state, which could explain why while the aging of the material reduces the sensitivity can occur.
Bevorzugt wird aber ein kürzerer, schnellerer Abkühlungsschritt und zwar wegen der hohen Geschwindigkeit, bei der die Bahn moderne Beschichtungsanlagen durchläuft. Im Falle eines länger dauernden Abkühlungsschritts würde man ja die Beschichtungsanlage zwangsläufig verlängern müssen. Der beste Kompromiss zwischen diesen scheinbar widersprüchlichen Anforderungen lässt sich durch einen wie folgt zusammengesetzten dreiphasigen Abkühlungsschritt erzielen:
- • Abkühlungsphase 1: schnelle Abkühlung, wobei die Temperatur der Vorstufe auf einen Wert T1, der über dem Tg des Phenolharzes liegt, gesenkt wird.
- • Abkühlungsphase 2: langsamere Abkühlung, wobei die Temperatur der Vorstufe auf einen Wert T2 unter dem Tg des Phenolharzes gesenkt wird.
- • Abkühlungsphase 3: erneut eine schnelle Abkühlung, um die Temperatur auf Zimmertemperatur zu bringen.
- • Cooling phase 1: rapid cooling, whereby the temperature of the precursor is lowered to a value T1, which is above the Tg of the phenolic resin.
- • Cooling phase 2: slower cooling, whereby the temperature of the precursor is lowered to a value T2 below the Tg of the phenolic resin.
- • Cooling phase 3: again a rapid cooling to bring the temperature to room temperature.
Die erste schnelle Abkühlungsphase kann bei sehr hoher mittlerer Abkühlgeschwindigkeit erfolgen, z. B. bei einer Geschwindigkeit von mindestens 10°C/s, besonders bevorzugt zwischen 10°C und 20°C/s oder sogar mehr als 20°C/s. In der zweiten Abkühlungsphase findet der Übergang im Temperaturintervall rund den Tg-Wert bei niedriger mittlerer Abkühlgeschwindigkeit statt, d. h. die Senkung der Bahntemperatur der Vorstufe von T1 auf T2 erfolgt bei einer niedrigeren mittleren Abkühlgeschwindigkeit als in Phase 1, z. B. bei einer mittleren Geschwindigkeit unter 10°C/s. Bevorzugte Werte für T1 und T2 sind Tg + 20°C bzw. Tg – 20°C, besonders bevorzugt Tg + 10°C bzw. Tg – 10°C. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform dauert die schnelle Abkühlung in Phase 1 solange, bis die Temperatur der Vorstufe gerade über dem Tg-Wert des Phenolharzes zu liegen kommt. Anschließend wird dieser gerade über dem Tg-Wert liegende Wert durch langsame Abkühlung auf einen gerade unter dem Tg liegenden Wert gesenkt, wonach schließlich noch eine weitere schnelle Abkühlungsphase, die allerdings keinen erheblichen Effekt auf das Alterungsverhalten bewirkt, vorgenommen werden kann. Der in der vorliegenden Erfindung benutzte Bereich zwischen "gerade über" und "gerade unter" dem Tg-Wert liegt z. B. zwischen Tg + 5°C und Tg – 5°C, besonders bevorzugt zwischen Tg + 2°C und Tg – 2°C.The first fast cooling phase can be done at very high average cooling rate, z. B. at a speed of at least 10 ° C / s, especially preferably between 10 ° C and 20 ° C / s or even more than 20 ° C / s. In the second cooling phase finds the transition in the temperature interval around the Tg value at low mean cooling instead of, d. H. the lowering of the precursor temperature of T1 T2 occurs at a lower average cooling rate than in phase 1, z. B. at a medium speed below 10 ° C / s. Preferred values for T1 and T2 are Tg + 20 ° C or Tg - 20 ° C, especially preferably Tg + 10 ° C or Tg - 10 ° C. In a very particularly preferred embodiment takes the fast cooling off in phase 1 until the temperature of the precursor just above the Tg value of the phenolic resin comes to rest. Subsequently, will this one just over Tg value by slowly cooling down to just below lowered the Tg value, after which finally another fast Cooling phase, however, they have no significant effect on the aging behavior causes can be made. The in the present invention range between "just over" and "just below" the Tg value z. Between Tg + 5 ° C and Tg - 5 ° C, especially preferably between Tg + 2 ° C and Tg - 2 ° C.
Die mittlere Abkühlgeschwindigkeit in der zweiten Abkühlungsphase kann über oder unter der Abkühlgeschwindigkeit unter Umgebungsbedingungen, wobei keine Kühlmittel wie eine Kühlwalze verwendet werden, liegen. Die mittlere Abkühlgeschwindigkeit in der zweiten Abkühlungsphase liegt vorzugsweise zwischen 0,1°C/s und 5°C/s, besonders bevorzugt zwischen 0,2°C/s und 3°C/s. Mit Werten zwischen 1°C/s und 2°C/s werden hervorragende Ergebnisse erzielt. Ist einmal die Bahntemperatur auf diese Art und Weise bis unter den Tg-Wert gesenkt, kann in der dritten Abkühlungsphase erneut eine schnelle Abkühlung vorgenommen werden, z. B. bei einer mittleren Abkühlgeschwindigkeit von zumindest 10°C/s, besonders bevorzugt zwischen 10°C/s und 20°C/s oder sogar mehr als 20°C/s.The average cooling rate in the second cooling phase can over or below the cooling rate under ambient conditions, with no coolant such as a chill roll are used, lie. The average cooling rate in the second cooling phase is preferably between 0.1 ° C / s and 5 ° C / s, more preferably between 0.2 ° C / s and 3 ° C / s. With values between 1 ° C / s and 2 ° C / s achieved excellent results. Once the web temperature in this way can be lowered to below the Tg value, in the third cooling phase again a quick cooling be made, for. B. at a medium cooling rate of at least 10 ° C / s, more preferably between 10 ° C / s and 20 ° C / s or even more than 20 ° C / s.
Phenolharze,
wie die handelsüblichen
Novolakharze, weisen in der Regel einen Tg-Wert zwischen 75°C und 95° auf, ein
ganz typischer Tg-Wert liegt zwischen 80°C und 90°C. Ein typisches Beispiel für ein erfindungsgemäßes bevorzugtes
Bahntemperaturprofil ist in
Die obenbeschriebenen Erhitzungs- und Abkühlungsschritte ergeben ein Material, das nach einer Alterungszeit, die erheblich kürzer ist, als wenn man das Material nicht diesen Schritten unterziehen würde, z. B. schon nach einigen Wochen gegenüber mehreren Monaten, mit einer stabilen Empfindlichkeit aufwartet. Außer diesem verbesserten Alterungsverhalten bewirkt obiger Prozess ebenfalls eine wesentliche Verbesserung der Beständigkeit gegen mechanische Beschädigung der Beschichtung erfindungsgemäßer Materialien. Im Besonderen wird durch obigen Abkühlungsprozess, in dem der Temperaturübergang rund den Tg-Wert langsam erfolgt, eine wesentliche Verbesserung der Scheuerfestigkeit erzielt.The Heating and cooling steps described above result Material that is significantly shorter after an aging period, as if one did not subject the material to these steps, e.g. B. after several weeks compared to several months, with a stable sensitivity. Except this improved aging behavior also causes a significant improvement in the above process resistance against mechanical damage the coating of materials according to the invention. In particular, by the above cooling process, in which the temperature transition The Tg value is slow, a significant improvement the scuff resistance achieved.
Für die Durchführung der
erfindungsgemäßen Verfahren
kann eine Beschichtungsanlage, für
die ein typisches Beispiel in
Der Erzeugung des lithografischen Bildes auf der erfindungsgemäßen Druckplattenvorstufe liegt ein thermisch induzierter Löslichkeitsunterschied zwischen einer oder mehreren Schichten der Beschichtung während der Entwicklung im Entwickler zugrunde. In der Regel ruft die Belichtung eine Änderung der Löslichkeit der das Phenolharz enthaltenden Schicht im Entwickler hervor. Eine oder mehrere zusätzliche Schichten können eine aktive Rolle im Bilderzeugungsprozess spielen. In gewissen Ausführungsformen kann die Beschichtung ferner eine oder mehrere Schichten umfassen, die für den Bilderzeugungsmechanismus nicht von Bedeutung ist bzw. sind, z. B. eine Schicht, deren Löslichkeit im Entwickler nicht in wesentlichem Maße durch die Belichtung geändert wird. Ein Beispiel für eine solche Schicht ist eine auf die Beschichtung angebrachte Schutzschicht, die sich sowohl in den belichteten als nicht-belichteten Bereichen im Entwickler lösen kann. Auch Schichten, die zwischen dem Träger und den bilderzeugenden Schichten angebracht sind, spielen in der Regel keine Rolle im Bilderzeugungsprozess.The formation of the lithographic image on the printing plate precursor of the invention is based on a thermally induced difference in solubility between one or more layers of the coating during development in the developer. In general, the exposure causes a change in the solubility of the phenol resin-containing layer in the developer. One or more additional layers may play an active role in the imaging process. In certain embodiments, the coating may further comprise one or more layers that are not important to the imaging mechanism, e.g. For example, a layer whose solubility in the developer is not significantly changed by the exposure. An example of such a layer is one attached to the coating Protective layer that can dissolve in both the exposed and unexposed areas in the developer. Also, layers attached between the support and the image-forming layers usually do not play a role in the imaging process.
Der Löslichkeitsunterschied zwischen Bildbereichen (d. h. druckenden, oleophilen Bereichen) und Nicht-Bildbereichen (d. h. nicht-druckenden, hydrophilen Bereichen) des lithografischen Bildes wird vielmehr durch einen kinetischen als einen thermodynamischen Effekt gekennzeichnet, d. h. die Nicht-Bildbereiche lösen sich schneller im Entwickler als die Bildbereiche. In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform lösen sich zunächst die Nicht-Bildbereiche völlig im Entwickler, ehe der Entwickler auch die Bildbereiche zu lösen beginnt. Deswegen sind die Bildbereiche durch scharfe Kanten und ein hohes Farbanziehungsvermögen gekennzeichnet. Der Zeitunterschied zwischen dem Ende der Lösung der Nicht-Bildbereiche und dem Anfang der Lösung der Bildbereiche ist vorzugsweise länger als 10 Sekunden, besonders bevorzugt länger als 20 Sekunden und ganz besonders bevorzugt länger als 60 Sekunden, was bedeutet, dass ein weiter Entwicklungsspielraum erhalten wird.Of the solubility between image areas (i.e., printing, oleophilic areas) and non-image areas (i.e., non-printing, hydrophilic areas) the lithographic image is rather by a kinetic characterized as a thermodynamic effect, d. H. the non-image areas dissolve faster in the developer than the image areas. In a very special preferred embodiment are solved first the non-image areas completely in the developer, before the developer begins to solve the image areas. Therefore, the image areas are sharp edges and a high Color attraction marked. The time difference between the end of the solution of non-image areas and the beginning of the solution the image areas is preferably longer than 10 seconds, especially preferably longer than 20 seconds, and most preferably longer than 60 seconds, which means that a further development latitude is obtained.
Nach
einer Ausführungsform
ist die Druckplattenvorstufe negativarbeitend, d. h. die Bildbereiche
entsprechen den belichteten Bereichen. Eine geeignete negativarbeitende
Beschichtung enthält
ein Phenolharz und eine latente Brönsted-Säure, die bei Erwärmung oder
IR-Bestrahlung eine Säure
bildet. Diese Säuren
katalysieren die Vernetzung der Beschichtung in einem an den Belichtungs-
bzw. Erwärmungsschritt
anschließenden
Erwärmungsschritt
und somit die Aushärtung
der belichteten bzw. erwärmten
Bereiche. Demgemäß können die
nicht-belichteten bzw. nicht-erwärmten
Bereiche durch einen Entwickler weggewaschen werden und kommt das
darunter liegende hydrophile Substrat freizuliegen. Für eine genauere
Beschreibung einer solchen negativarbeitenden Druckplattenvorstufe
sei auf
Nach einer anderen Ausführungsform ist die Druckplattenvorstufe positivarbeitend. In solcher Ausführungsform kann bzw. können eine oder mehrere Schichten der Beschichtung durch Einwirkung von Wärme löslich gemacht werden, d. h. in nicht-erwärmtem bzw. nicht-belichtetem Zustand sind sie beständig gegen den Entwickler und farbanziehend, bei Erwärmung oder Bestrahlung mit Infrarotlicht jedoch werden sie solchermaßen löslich im Entwickler gemacht, dass die hydrophile Oberfläche des Trägers dabei freizuliegen kommt. Nach Belichtung und Entwicklung sind also die belichteten Bereiche vom Träger entfernt und bilden hydrophile (nicht-druckende) Nicht-Bildbereiche, während die unbelichteten Bereiche nicht vom Träger entfernt worden sind und einen oleophilen (druckenden) Bildbereich bilden.To another embodiment the printing plate precursor is positive working. In such embodiment can or can one or more layers of the coating by the action of Heat solubilized be, d. H. in non-heated or non-exposed Condition they are stable against the developer and color attracting, when heated or irradiated with Infrared light, however, they are made soluble in the developer so that the hydrophilic surface of the carrier to be released. After exposure and development are so the illuminated areas of the vehicle removed and form hydrophilic (non-printing) non-image areas, while the unexposed areas have not been removed from the vehicle and form an oleophilic (printing) image area.
Der Träger der lithografischen Druckplattenvorstufe weist eine hydrophile Oberfläche auf oder ist mit einer hydrophilen Schicht versehen. Der Träger kann ein blattartiges Material, wie eine Platte, sein oder aber ein zylindrisches Element, wie eine hülsenförmige Platte, die um eine Drucktrommel einer Druckpresse geschoben werden kann. Der Träger ist vorzugsweise ein Metallträger, wie ein Aluminiumträger oder ein Träger aus rostfreiem Stahl. Der Metallträger kann ebenfalls ein Laminat sein, das aus einer Aluminiumfolie und einer Kunststoffschicht, z. B. einer Polyesterfolie, besteht.Of the carrier The lithographic printing plate precursor has a hydrophilic surface or is provided with a hydrophilic layer. The carrier can a sheet-like material, such as a plate, or be a cylindrical Element, like a sleeve-shaped plate, which can be pushed around a printing drum of a printing press. The carrier is preferably a metal carrier, like an aluminum carrier or a carrier stainless steel. The metal carrier may also be a laminate made of an aluminum foil and a plastic layer, for. B. a polyester film exists.
Ein
besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch
angerauter und anodisierter Aluminiumträger. Das Anrauen und Anodisieren
von Aluminium ist ein den Fachleuten allgemein bekannter Vorgang.
Der anodisierte Aluminiumträger
kann einer Verarbeitung zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften
der Trägeroberfläche unterzogen
werden. So kann der Aluminiumträger
zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei
erhöhter
Temperatur, z. B. 95°C,
silikatiert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung
vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit
einer wahlweise ferner ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet
wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder
Citratlösung
gespült
werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht
erhöhter
Temperatur zwischen etwa 30°C
und 50°C
erfolgen. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der
Aluminiumoxidoberfläche
mit einer Bicarbonatlösung.
Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, Polyvinylmethylphosphonsäure, Phosphorsäureestern
von Polyvinylalkohol, Polyvinylsulfonsäure, Polyvinylbenzolsulfonsäure, Schwefelsäureestern
von Polyvinylalkohol und Acetalen von Polyvinylalkoholen, die durch
Reaktion mit einem sulfonierten alifatischen Aldehyd gebildet sind,
verarbeitet werden. Ferner liegt es nahe, dass eine oder mehrere dieser
Nachbehandlungen separat oder kombiniert vorgenommen werden können. Genauere
Beschreibungen dieser Behandlungen finden sich in
Nach
einer weiteren Ausführungsform
kann der Träger
ebenfalls ein biegsamer Träger
sein, der mit einer hydrophilen Schicht, im Folgenden als „Grundierschicht" bezeichnet, überzogen
ist. Der biegsame Träger ist
z. B. Papier, eine Kunststofffolie, ein dünner Aluminiumträger oder
ein Laminat aus diesen Materialien. Bevorzugte Beispiele für Kunststofffolien
sind eine Folie aus Polyethylenterephthalat, Polyethylennaphthalat,
Celluloseacetat, Polystyrol, Polycarbonat usw. Der Kunststofffolienträger kann
lichtundurchlässig
oder lichtdurchlässig
sein. Die Grundierschicht ist vorzugsweise eine vernetzte hydrophile
Schicht, die aus einem hydrophilen, mit einem Härter wie Formaldehyd, Glyoxal,
Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten
Bindemittel erhalten ist. Besondere Beispiele für geeignete hydrophile Grundierschichten
zum Einsatz in der vorliegenden Erfindung sind offenbart in
Das Phenolharz ist vorzugsweise ein Bindemittel mit Säuregruppen, deren pKa-Wert bei weniger als 13 liegt. Dadurch ist gewährleistet, dass es löslich oder zumindest quellbar in wässrigalkalischen Entwicklern ist. Zweckmäßigerweise ist das Bindemittel ein Polymerisat oder Polykondensat mit freien phenolischen Hydroxylgruppen, wie sie beispielsweise durch Umsetzung von Phenol, Resorcin, einem Kresol, einem Xylenol oder einem Trimethylphenol mit Aldehyden, insbesondere Formaldehyd, oder Ketonen erhalten werden. Die Polymere können zusätzlich Einheiten anderer Monomere ohne Säuregruppen enthalten. Als solche Einheiten sind Vinylaromaten, Methyl(meth)acrylat, Phenyl(meth)acrylat, Benzyl(meth)acrylat, Methacrylamid oder Acrylnitril zu nennen. In einer bevorzugten Ausführungsform ist das Phenolharz ein Novolak, Resol oder Polyvinylphenol. Das Novolak ist vorzugsweise ein Kresol/Formaldehyd-Novolak oder ein Kresol/Xylenol/Formaldehyd-Novolak, wobei die Novolakmenge zweckmäßigerweise zumindest 50 Gew.-vorzugsweise zumindest 80 Gew.-% beträgt, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht aller Bindemittel. Die Menge Phenolharz liegt zweckmäßigerweise zwischen 40 und 99,8 Gew.-%, vorzugsweise zwischen 70 und 99,4 Gew.-% besonders bevorzugt zwischen 80 und 99 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nicht-flüchtigen Bestandteile der Beschichtung.The Phenol resin is preferably a binder with acid groups, their pKa is less than 13. This ensures that that it is soluble or at least swellable in aqueous alkaline Developers is. Conveniently, the binder is a polymer or polycondensate with free phenolic hydroxyl groups, such as by reaction of phenol, resorcinol, a cresol, a xylenol or a trimethylphenol with aldehydes, in particular formaldehyde, or ketones are obtained. The polymers can additionally Contain units of other monomers without acid groups. As such Units are vinylaromatics, methyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, Benzyl (meth) acrylate, methacrylamide or acrylonitrile. In a preferred embodiment the phenolic resin is a novolac, resol or polyvinyl phenol. The Novolac is preferably a cresol / formaldehyde novolak or a Cresol / xylenol / formaldehyde novolac, the amount of novolac expediently at least 50% by weight, preferably at least 80% by weight, in each case based on the total weight of all binders. The amount Phenol resin is suitably between 40 and 99.8% by weight, preferably between 70 and 99.4% by weight particularly preferably between 80 and 99 wt .-%, each based on the total weight of non-volatile Components of the coating.
Das Lösungsverhalten des Phenolharzes im Entwickler kann durch optionale löslichkeitsregelnde Substanzen fein eingestellt werden. Dazu kommen insbesondere Entwicklungsbeschleuniger und Entwicklungshemmer in Frage. Diese Inhaltsstoffe können der das Phenolharz enthaltenden Schicht und/oder einer oder mehreren anderen Schichten der Beschichtung zugesetzt werden.The solution behavior of the phenolic resin in the developer may be due to optional solubility regulating substances be fine adjusted. In addition there are development accelerators and development inhibitors in question. These ingredients can be the the phenol resin-containing layer and / or one or more be added to other layers of the coating.
Bei
Entwicklungsbeschleunigern handelt es sich um Verbindungen, die
die Lösung
deshalb fördern, weil
sie die Lösungsgeschwindigkeit
des Phenolharzes zu steigern vermögen. Beispielhaft können zum
Verbessern der Entwickelbarkeit in wässrigen Medien cyclische Säureanhydride,
Phenole oder organische Säuren
verwendet werden. Zu Beispielen für cyclische Säureanhydride
zählen
Phthalsäureanhydrid,
Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Hexahydrophthalsäureanhydrid,
3,6-Endoxy-4-tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Tetrachlorphthalsäureanhydrid,
Maleinsäureanhydrid,
Chlormaleinsäureanhydrid, α-Phenyl maleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid
und Pyromellitsäureanhydrid,
wie beschrieben in
In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die Beschichtung ebenfalls Entwicklerbeständigkeitsmittel, auch als Entwicklungshemmer bezeichnet, d. h. einen oder mehrere Inhaltsstoffe, der bzw. die das Lösen der nicht-belichteten Bereiche während der Entwicklung zu verzögern vermag bzw. vermögen. Die lösungshemmende Wirkung wird vorzugsweise durch die Erwärmung abgeschwächt, so dass die Lösung der belichteten Bereiche nicht verzögert wird und dabei ein großer Lösungsunterschied zwischen belichteten und nicht-belichteten Bereichen erhältlich wird. Solche Entwicklerbeständigkeitsmittel können einer das Phenolharz enthaltenden Schicht oder einer anderen Schicht des Materials zugesetzt werden.In a preferred embodiment contains the coating also developer resistance agent, also as a development inhibitor denotes, d. H. one or more ingredients, the or the the release the non-exposed areas during to delay development can or can. The solution-inhibiting Effect is preferably mitigated by the heating, so that the solution the exposed areas is not delayed and thereby a large difference in solution between exposed and non-exposed areas. Such developer resistance agents can a layer containing phenolic resin or another layer of the material are added.
Die
in zum Beispiel
Weitere
geeignete Inhibitoren verbessern die Beständigkeit gegen den Entwickler
durch Verzögerung der
Durchdringung des wässrig-alkalischen
Entwicklers in die das Phenolharz enthaltende Schicht. Solche Verbindungen
können
in der das Phenolharz enthaltenden Schicht selber enthalten sein,
wie beschrieben in z. B.
Bevorzugte Beispiele für Hemmer des letztgenannten Typs sind u. a. wasserabstoßende Polymere, wie ein Polymer mit Siloxaneinheiten und/oder Perfluoralkyleinheiten. In einer typischen Ausführungsform umfasst die Vorstufe eine Sperrschicht, die ein wasserabstoßendes Polymer in einer geeigneten Menge zwischen 0,5 und 25 mg/m2, vorzugsweise zwischen 0,5 und 15 mg/m2 und ganz besonders bevorzugt zwischen 0,5 und 10 mg/m2 enthält. Je nach hydrophobem/oleophobem Grad der Verbindung kommen auch höhere oder niedrigere Mengen in Frage. Ist das wasserabstoßende Polymer auch farbabstoßend, z. B. bei Verwendung von Polysiloxanen, kann der Einsatz von Mengen über 25 mg/m2 zu einer schwachen Farbanziehung der nicht-belichteten Bereiche führen. Eine Menge unter 0,5 mg/m2 dagegen kann zu einer unbefriedigenden Beständigkeit gegen den Entwickler führen. Das Polysiloxan kann ein lineares, cyclisches oder komplexes vernetztes Polymer oder Copolymer sein. Der Begriff „Polysiloxanverbindung" umfasst jegliche Verbindung, die mehr als eine Siloxangruppe -Si(R,R')-O-, in der R und R' eine gegebenenfalls substituierte Alkyl- oder Arylgruppe bedeuten, enthält. Bevorzugte Siloxane sind Phenylalkylsiloxane und Dialkylsiloxane. Die Anzahl der Siloxangruppen im (Co)polymer beträgt zumindest 2, vorzugsweise zumindest 10, besonders bevorzugt zumindest 20. Sie kann unter 100, vorzugsweise unter 60 liegen. In einer anderen Ausführungsform ist das wasserabstoßende Polymer ein Blockcopolymer oder Pfropfcopolymer eines Poly(alkylenoxids) und eines Polymers mit Siloxan- und/oder Perfluoralkyleinheiten. Ein geeignetes Copolymer enthält etwa 15 bis 25 Siloxaneinheiten und 50 bis 70 Alkylenoxidgruppen. Zu bevorzugten Beispielen zählen Copolymere mit Phenylmethylsiloxan und/oder Dimethylsiloxan sowie Ethylenoxid und/oder Propylenoxid, wie Tego Glide 410, Tego Wet 265, Tego Protect 5001 oder Silikophen P50/X, die alle durch Tego Chemie, Essen, Deutschland, vertrieben werden. Infolge seiner bifunktionellen Struktur wirkt ein solches Copolymer während der Beschichtung als Tensid, das dazu neigt, sich selbst an der Grenzfläche zwischen der Beschichtung und der Luft zu positionieren und so eine separate Deckschicht zu bilden, sogar wenn es als Inhaltsstoff der gleichen Beschichtungslösung wie das Phenolharz aufgetragen wird. Zugleich wirken solche Tenside als Spreitungsmittel, das die Beschichtungsqualität verbessert. Das wasserabstoßende Polymer kann allerdings ebenfalls aus einer zweiten Lösung auf die das Phenolharz enthaltende Schicht angebracht werden. In dieser Ausführungsform kann es von Vorteil sein, in der zweiten Beschichtungslösung ein Lösungsmittel zu verwenden, das nicht in der Lage ist, die in der ersten Schicht enthaltenen Inhaltsstoffe zu lösen, wodurch auf dem Material eine stark konzentrierte wasserabstoßende Phase erhalten wird.Preferred examples of inhibitors of the latter type include water-repellent polymers such as a polymer having siloxane units and / or perfluoroalkyl units. In a typical embodiment, the precursor comprises a barrier layer comprising a water repellent polymer in a suitable amount between 0.5 and 25 mg / m 2 , preferably between 0.5 and 15 mg / m 2, and most preferably between 0.5 and 10 contains mg / m 2 . Depending on the hydrophobic / oleophobic degree of the compound, higher or lower amounts are also suitable. Is the water-repellent polymer also color repellent, z. Example, when using polysiloxanes, the use of amounts exceeding 25 mg / m 2 can lead to a weak color attraction of the unexposed areas. On the other hand, an amount less than 0.5 mg / m 2 may result in unsatisfactory developer resistance. The polysiloxane may be a linear, cyclic or complex crosslinked polymer or copolymer. The term "polysiloxane compound" includes any compound containing more than one siloxane group -Si (R, R ') - O- in which R and R' represent an optionally substituted alkyl or aryl group Preferred siloxanes are phenylalkylsiloxanes and dialkylsiloxanes. The number of siloxane groups in the (co) polymer is at least 2, preferably at least 10, more preferably at least 20. It can be below 100, preferably below 60. In another embodiment, the water-repellent polymer is a block copolymer or graft copolymer of a poly (alkylene oxide) and A suitable copolymer contains about 15 to 25 siloxane units and 50 to 70 alkylene oxide groups Preferred examples include copolymers with phenylmethylsiloxane and / or dimethylsiloxane and ethylene oxide and / or propylene oxide such as Tego Glide 410, Tego Wet 265, Tego Protect 5001 or Silikophen P50 / X, all by Tego Chemie, Essen, German land, be distributed. As a result of its bifunctional structure, such a copolymer acts as a surfactant during coating, tending to position itself at the interface between the coating and the air to form a separate topcoat even as an ingredient of the same coating solution as the phenolic resin is applied. At the same time, such surfactants act as spreading agents, which improves the coating quality. However, the water repellent polymer may also be applied from a second solution to the phenol resin-containing layer. In this embodiment, it may be advantageous to use in the second coating solution a solvent which is incapable of dissolving the ingredients contained in the first layer, whereby a highly concentrated water-repellent phase is obtained on the material.
Die
Beschichtung enthält
vorzugsweise ebenfalls eine Verbindung, die Infrarotlicht absorbiert
und die absorbierte Energie in Wärme
umsetzt. Die Infrarotlicht absorbierende Verbindung kann in die
gleiche Schicht wie das Phenolharz, in die eventuelle, oben besprochene
Sperrschicht oder in eine andere optionale Schicht eingebettet werden.
Nach einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform ist der Farbstoff
oder das Pigment in oder in der Nähe der Sperrschicht konzentriert,
z. B. in einer Zwischenschicht zwischen der oleophilen Schicht und
der Sperrschicht. Gemäß dieser
Ausführungsform
liegt die Menge der IR-absorbierenden Verbindung in der Zwischenschicht
oberhalb der Menge der IR-absorbierenden Verbindung in der oleophilen
Schicht oder in der Sperrschicht. Das Verhältnis der IR-absorbierenden
Verbindung in der Beschichtung liegt in der Regel zwischen 0,25
Gew.-% und 10,0 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 0,5 Gew.-%
und 7,5 Gew.-%. Bevorzugte Infrarotlicht absorbierende Verbindungen
sind Farbstoffe, wie Cyaninfarbstoffe und Merocyaninfarbstoffe,
oder Pigmente, wie Russ. Beispiele für geeignete IR-Absorber sind
beschrieben in z. B.
Wahlweise kann ferner eine Schutzschicht angebracht werden, um die Oberfläche der Beschichtung zu schützen, insbesondere vor mechanischer Beschädigung. Die Schutzschicht enthält in der Regel zumindest ein wasserlösliches polymeres Bindemittel, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, teilweise hydrolysierte Polyvinylacetate, Gelatine, Kohlenhydrate oder Hydroxyethylcellulose, und kann nach einer beliebigen bekannten Technik hergestellt werden, wie aus einer wässrigen Lösung oder Dispersion, die nötigenfalls geringe Mengen organischer Lösungsmittel enthalten kann, d. h. Mengen unter 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der für die Schutzschicht verwendeten Beschichtungslösungsmittel. Die Stärke der Schutzschicht kann beliebig gewählt werden, beträgt zweckmäßigerweise bis 5,0 μm und liegt vorzugsweise zwischen 0,1 μm und 3,0 μm, besonders bevorzugt zwischen 0,15 μm und 1,0 μm.Optional Furthermore, a protective layer can be attached to the surface of the Protect coating especially against mechanical damage. The protective layer contains in the Usually at least one water-soluble polymeric binder, such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, partially hydrolyzed polyvinyl acetates, gelatin, carbohydrates or hydroxyethyl cellulose, and may be any known Technique can be made, such as from an aqueous solution or dispersion, if necessary small amounts of organic solvents may contain, d. H. Amounts below 5 wt .-%, based on the total weight the for the protective layer used coating solvents. The strength of Protective layer can be chosen arbitrarily be, is expediently to 5.0 μm and is preferably between 0.1 .mu.m and 3.0 .mu.m, more preferably between 0.15 μm and 1.0 μm.
Wahlweise
können
die Beschichtung und insbesondere die das Phenolharz enthaltende(n) Schicht(en)
ferner zusätzliche Inhaltsstoffe
enthalten. Bevorzugt werden z. B. zusätzliche Bindemittel, insbesondere
sulfonamidhaltige und phthalimidhaltige Polymere, durch die die
Auflagenbeständigkeit
und chemische Beständigkeit
der Platte verbessert werden. Beispiele für solche Polymere sind die
in
Zur Herstellung der lithografischen Druckplattenvorstufe kann eine beliebige bekannte Technik angewandt werden. Beispielhaft können die obengenannten Bestandteile in einem Lösungsmittelgemisch, das nicht irreversibel mit den Inhaltsstoffen reagiert und vorzugsweise auf das vorgesehene Beschichtungsverfahren, die Schichtstärke, die Zusammensetzung der Schicht sowie die Trocknungsbedingungen abgestimmt wird, gelöst werden. Zu geeigneten Lösungsmitteln zählen Ketone, wie Methylethylketon (Butanon), sowie chlorierte Kohlenwasserstoffe, wie Trichlorethylen oder 1,1,1-Trichlorethan, Alkohole, wie Methanol, Ethanol oder Propanol, Ether, wie Tetrahydrofuran, Glycolmonoalkylether, wie Ethylenglycolmonoalkylether, z. B. 2-Methoxy-1-propanol, oder Propylenglycolmonoalkylether und -ester, wie Butylacetat oder Propylenglycolmonoalkyletheracetat. Es kann auch ein Gemisch verwendet werden, das für spezielle Zwecke zusätzlich Lösungsmittel wie Acetonitril, Dioxan, Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid oder Wasser enthalten kann.to Production of the lithographic printing plate precursor may be any known technique are applied. By way of example, the above ingredients in a solvent mixture that is not irreversible reacts with the ingredients and preferably to the intended Coating process, the layer thickness, the composition of the Layer as well as the drying conditions is tuned to be solved. To suitable solvents counting Ketones, such as methyl ethyl ketone (butanone), and chlorinated hydrocarbons, such as trichlorethylene or 1,1,1-trichloroethane, alcohols, such as methanol, Ethanol or propanol, ethers, such as tetrahydrofuran, glycol monoalkyl ethers, such as ethylene glycol monoalkyl ethers, e.g. 2-methoxy-1-propanol, or propylene glycol monoalkyl ether and esters, such as butyl acetate or propylene glycol monoalkyl ether acetate. It can also be used a mixture, which for special purposes additionally solvents like Acetonitrile, dioxane, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide or water may contain.
Der Endbenutzer kann die bildmäßige Belichtung der lithografischen Druckplattenvorstufe entweder direkt durch Erwärmung vornehmen, z. B. mittels eines Thermokopfes, oder aber indirekt mit Infrarotlicht, vorzugsweise nahem Infrarotlicht. Das Infrarotlicht wird vorzugsweise durch eine wie oben erörterte Infrarotlicht absorbierende Verbindung in Wärme umgewandelt. Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplattenvorstufe ist vorzugsweise unempfindlich gegenüber sichtbarem Licht, d. h. eine Aussetzung an sichtbarem Licht bewirkt keinen wesentlichen Effekt auf die Lösungsgeschwindigkeit der Beschichtung im Entwickler. Ganz besonders bevorzugt ist die Beschichtung bei einer Lichtstärke und Belichtungszeit, die den unter normalen Arbeitsbedingungen angewandten Werten entsprechen, unempfindlich gegenüber Umgebungstageslicht, d. h. sichtbarem Licht (400–750 nm) und nahem Ultraviolettlicht (300–400 nm), so dass das Material für seine Handhabung keine Dunkelkammer erfordert. Unter "unempfindlich" gegenüber Tageslicht ist zu verstehen, dass eine Aussetzung an Umgebungstageslicht keine merkliche Änderung der Lösungsgeschwindigkeit der Beschichtung im Entwickler hervorruft. In einer bevorzugten, gegenüber Tageslicht beständigen Ausführungsform enthält die Beschichtung keine strahlungsempfindlichen Bestandteile, wie Diazid-, Chinondiazid-, Diazo- oder Diazoniumverbindungen, Fotosäuren, Fotoinitiatoren, Sensibilisatoren usw., die das in Sonnenlicht oder Bürolicht enthaltene nahe Ultraviolettlicht und/oder sichtbare Licht absorbieren und dabei die Löslichkeit der Beschichtung in den belichteten Bereichen ändern.The end user can perform the imagewise exposure of the lithographic printing plate precursor either directly by heating, e.g. B. by means of a thermal head, or indirectly with infrared light, preferably near infrared light. The infrared light is preferably converted to heat by an infrared-absorbing compound as discussed above. The heat-sensitive lithographic printing plate precursor of the present invention is preferably insensitive to visible light, that is, exposure to visible light does not significantly affect the rate of dissolution of the coating in the developer. Most preferably, the coating is insensitive to ambient daylight, ie visible light (400-750 nm) and near ultraviolet light (300-400 nm), at a light intensity and exposure time corresponding to those used under normal operating conditions Handling no darkroom required. By "insensitive" to daylight is meant that exposure to ambient daylight does not cause a noticeable change in dissolution rate of the coating in the developer. In a preferred daylight resistant embodiment, the coating does not contain radiation sensitive components such as diazide, quinone diazide, diazo or diazonium compounds, photoacids, photoinitiators, sensitizers, etc., which are described in Son absorb near ultraviolet light and / or visible light contained therein, thereby changing the solubility of the coating in the exposed areas.
Die erfindungsgemäße Druckplattenvorstufe kann mittels z. B. einer LED oder eines Laser mit Infrarotlicht belichtet werden. Ganz besonders bevorzugt für die Belichtung wird ein nahes Infrarotlicht mit einer Wellenlänge zwischen etwa 750 und etwa 1.500 nm emittierender Laser, wie eine Halbleiterlaserdiode, ein Nd:YAG-Laser oder ein Nd:YLF-Laser. Die benötigte Laserleistung ist abhängig von der Empfindlichkeit der Bildaufzeichnungsschicht, der Pixelverweilzeit des Laserstrahls, die durch die Strahlbreite bestimmt wird (ein typischer Wert bei 1/e2 der Höchstintensität liegt bei modernen Plattenbelichtern zwischen 10 und 25 μm), der Ab tastgeschwindigkeit und der Auflösung des Gelichters (d. h. der Anzahl adressierbarer Pixel pro Längeneinheit, oft ausgedrückt in Punkten pro Zoll oder dpi/typische Werte liegen zwischen 1.000 und 4.000 dpi).The printing plate precursor according to the invention can by means of z. B. an LED or a laser can be exposed to infrared light. Very particularly preferred for the exposure is a near infrared light having a wavelength between about 750 and about 1500 nm emitting laser, such as a semiconductor laser diode, a Nd: YAG laser or a Nd: YLF laser. The laser power required depends on the sensitivity of the imaging layer, the pixel dwell time of the laser beam as determined by the beamwidth (a typical value at 1 / e 2 maximum intensity is between 10 and 25 microns for modern platesetters), scanning speed and resolution of the opacity (ie the number of addressable pixels per unit length, often expressed in dots per inch or dpi / typical values are between 1,000 and 4,000 dpi).
Es gibt zwei Typen üblicher Laserbelichter, d. h. ein Innentrommelplattenbelichter (ITD-Plattenbelichter) und ein Außentrommelplattenbelichter (XTD-Plattenbelichter). ITD-Plattenbelichter für Thermoplatten kennzeichnen sich in der Regel durch sehr hohe Abtastgeschwindigkeiten bis 500 m/s und benötigen manchmal eine Laserleistung von mehreren Watt. XTD-Plattenbelichter für Thermoplatten arbeiten bei einer niedrigeren Abtastgeschwindigkeit, z. B. zwischen 0,1 m/s und 10 m/s, und einer typischen Laserleistung zwischen etwa 200 mW und etwa 1 W.It are two types more common Laser imager, d. H. an inner drum plate setter (ITD platesetter) and an outer drum plate setter (XTD) plate-. ITD plate-setters for thermal plates usually by very high scanning speeds up to 500 m / s and sometimes need a laser power of several watts. XTD platesetter for thermal plates operate at a lower scanning speed, e.g. B. between 0.1 m / s and 10 m / s, and a typical laser power between about 200 mW and about 1 W.
Die
bekannten Plattenbelichter eignen sich zur Verwendung als Off-Press-Gelichter,
was den Vorteil bietet, dass dadurch die Druckmaschinenstillstandzeit
verringert wird. XTD-Plattenbelichterkonfigurationen sind
ebenfalls geeignet für
On-Press-Belichtung,
was den Vorteil einer sofortigen registerhaltigen Einpassung der
Platte in eine Mehrfarbenpresse beinhaltet. Genauere technische
Angaben über
On-Press-Gelichter sind z. B. in
Im Entwicklungsschritt werden die Nicht-Bildbereiche der Beschichtung durch Eintauchen in einen herkömmlichen wässrigalkalischen Entwickler entfernt, gegebenenfalls in Kombination mit mechanischem Wischen, z. B. mittels einer Bürstenwalze. Während der Entwicklung wird ebenfalls jegliche eventuelle wasserlösliche Schutzschicht entfernt. Zum Vermeiden von Beschädigung der (eventuellen) Tonerdeschicht des Substrats werden Entwickler auf Silikatbasis mit einem Verhältnis von Siliciumdioxid zu Alkalimetalloxid von zumindest 1 bevorzugt. Zu bevorzugten Alkalimetalloxiden zählen Na2O und K2O sowie Gemische derselben.In the development step, the non-image areas of the coating are removed by immersion in a conventional aqueous alkaline developer, optionally in combination with mechanical wiping, e.g. B. by means of a brush roller. During development any possible water-soluble protective layer is also removed. To avoid damaging the (possible) toner layer of the substrate, preferred are silicate-based developers having a silica to alkali metal oxide ratio of at least 1. Preferred alkali metal oxides include Na 2 O and K 2 O and mixtures thereof.
Außer Alkalimetallsilikaten
kann der Entwickler, wie Fachleuten allgemein bekannt, ferner weitere
Bestandteile enthalten, wie Puffersubstanzen, Komplexbildner, Entschäumungsmittel,
organische Lösungsmittel in
geringen Mengen, Korrosionshemmer, Farbstoffe, Tenside und/oder
hydrotrope Mittel. Die Entwicklung erfolgt vorzugsweise bei einer
Temperatur zwischen 20°C
und 40°C
in einem üblichen,
Fachleuten bekannten Entwicklungsautomaten. Geeignete Lösungen für die Regeneration
sind Alkalimetallsilikatlösungen
mit einem Alkalimetallgehalt zwischen 0,6 und 2,0 Mol/l. Diese Lösungen können das
gleiche Kieselsäure/Alkalimetalloxid-Verhältnis aufweisen
wie der Entwickler (in der Regel jedoch liegt es niedriger) und
wahlweise weitere Zutaten enthalten. Die erforderlichen Mengen regenerierten
Materials sind auf die eingesetzten Entwicklungsgeräte, den
Tagesplattendurchsatz, die Bildbereiche usw. abzustimmen und liegen
in der Regel zwischen 1 und 50 ml pro Quadratmeter Aufzeichnungsmaterial.
Die Zugabe kann gesteuert werden, beispielhaft durch Messung der
Leitfähigkeit,
wie beschrieben in
Die
erfindungsgemäße Druckplattenvorstufe
kann anschließend
nötigenfalls,
wie den Fachleuten bekannt, mit einem geeigneten Korrekturmittel
oder Konservierungsmittel nachbehandelt werden. Zur Erhöhung der
Beständigkeit
der fertigen Druckplatte und damit zur Steigerung der erreichbaren
Druckauflage kann die Schicht kurzzeitig auf hohe Temperaturen erwärmt werden
("Einbrennen"). Dieser Einbrennschritt
steigert die Beständigkeit
der Druckplatte gegen Auswaschmittel, Korrekturmittel und UV-härtende Druckfarben.
Eine solche thermische Nachbehandlung ist u. a. beschrieben in
Außer der oben erwähnten Nachbehandlung kann die Entwicklung der Druckplattenvorstufe ferner ebenfalls einen Spülschritt, einen Trocknungsschritt und/oder einen Gummierschritt umfassen.Except the mentioned above Aftertreatment may also further the development of the printing plate precursor a rinsing step, a drying step and / or a gumming step.
Die
so erhaltene Druckplatte eignet sich für herkömmlichen, sogenannten Nassoffsetdruck,
bei dem Druckfarbe und Feuchtwasser auf die Platte aufgebracht werden.
Bei einem weiteren geeigneten Druckverfahren wird sogenannte Single-Fluid-Druckfarbe
ohne Feuchtwasser verwendet. Zur Verwendung im erfindungsgemäßen Verfahren
geeignete Single-Fluid-Druckfarben sind beschrieben in
BEISPIELEEXAMPLES
Die
folgende Zusammensetzung wird in einer Nassschichtstärke von
26 μm und
bei einer Geschwindigkeit von 16 m/Min. auf eine herkömmliche,
aus angerautem und anodisiertem Aluminium bestehende Trägerbahn
aufgetragen:
Die Beschichtung wird mit auf 135°C erhitzter Luft getrocknet und anschließend einem optionalen Erhitzungsschritt und einem Abkühlungsschritt unterzogen. Im Erhitzungsschritt wird Luft mit der in Tabelle 1 angegebenen Temperatur 1,2 s lang auf die Beschichtung geblasen. In den Beispielen 1 und 2 werden die Heißluftdüsen ausgeschaltet. Sofort danach wird die Rückseite der Bahn mit einer Metallkühlwalze mit der in Tabelle 1 angegebenen Temperatur in Berührung gebracht. Eine Kühlwalze mit einer Temperatur von 57°C senkt die Temperatur der erhitzten Beschichtung sehr schnell (> 30°C/s) auf einen Wert unter Tg. Bei Verwendung einer Kühlwalze mit einer Temperatur von 75°C wird das Temperaturintervall rund den Tg-Wert bei viel niedriger mittlerer Abkühlgeschwindigkeit überbrückt.The Coating is at 135 ° C dried air and then an optional heating step and a cooling step subjected. In the heating step, air with the in Table 1 temperature for 1.2 s on the coating. In Examples 1 and 2, the hot air nozzles are turned off. Right after will the back the web with a metal chill roll brought into contact with the temperature given in Table 1. A chill roll with a temperature of 57 ° C lowers the temperature of the heated coating very quickly (> 30 ° C / s) to a value below Tg. When using a chill roll with a temperature of 75 ° C The temperature interval around the Tg value is bridged at much lower mean cooling rate.
Anschließend werden
die Materialien bei unterschiedlichen Energiedichtewerten auf einem
Creo Trendsetter 3244 (830 nm) belichtet. Die belichteten Platten
werden bei einer Geschwindigkeit von 0,84 m/Min. unter Verwendung
von Agfa Ozasol EP26-Entwickler bei 25°C in einem Agfa Autolith PN85-Entwicklungsgerät entwickelt
und schließlich
mit Agfa Ozasol RC795 gummiert. Die IR-Empfindlichkeit wird definiert
als die minimale Energiedichteeinstellung, die benötigt wird,
um in Bereichen, die mit einer Flächendeckung eines 50er Rasters
(@200 lpi) belichtet worden sind, eine 50%ige Lichtabsorption zu
erzielen, wobei die Messung auf der entwickelten Platte bei der
maximalen Wellenlänge
des Farbstoffes erfolgt. Die Empfindlichkeit wird sowohl auf frischem
Material als auf unter Umgebungsbedingungen während der in Tabelle 1 angegebenen
Anzahl von Tagen gealtertem Material gemessen. Tabelle 1
Aus den Daten in Tabelle 1 ist ersichtlich, dass die erfindungsgemäß abgekühlten Materialien ab 25 Tagen nach ihrer Beschichtung eine stabile Empfindlichkeit erreichen, während die Empfindlichkeit des vergleichenden Materials in Beispiel 1 sogar nach 25 Tagen noch veränderlich war und sich erst zwei Monate nach Beschichtung auf einen Wert von 165 mJ/cm2 stabilisierte.From the data in Table 1 it can be seen that the materials cooled according to the invention reach a stable sensitivity from 25 days after their coating, while the sensitivity of the comparative material in Example 1 was still variable even after 25 days and only two months after coating on a Stabilized value of 165 mJ / cm 2 .
Das
verbesserte Alterungsverhalten lässt
sich auch nachweisen, indem man die gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren
behandelten Materialien einer Offline-Wärmebehandlung unterzieht. Hergestellt werden
die Beispiele 4, 5 und 6, indem man die gleiche Zusammensetzung
nach der gleichen, wie für
die vorigen Beispiele beschriebenen Methode aufträgt und trocknet.
Anschließend
werden die getrockneten Materialien einem Wärmebehandlungsschritt unterzogen,
in dem mittels eines zusätzlichen
Trockners Luft mit einer Temperatur von 135°C auf die trockene Beschichtung
geblasen wird. Zwischen dieser Wärmebehandlung
und dort, wo die Bahn die Kühlwalze
erreicht, kühlt
sich die Bahn unter Umgebungsbedingungen dermaßen ab, dass die Bahn gerade
vor dem Erreichen der Kühlwalze
eine Temperatur von 118°C
aufweist. Dann folgt eine erste schnelle Abkühlung mit einer Metallwalze
mit einer in Tabelle 2 angegebenen konstanten Temperatur. Der Kontakt
zwischen dem Material und der Kühlwalze
dauert 2,41 s. Ist einmal die Bahn an der Metallkühlwalze
vorbeigefördert,
wird sofort in einer zweiten, langsameren Abkühlungsphase 32 s lang Luft
mit einer Temperatur von 50°C
auf die Beschichtung geblasen. Tabelle 2
- * AG: Abkühlgeschwindigkeit
- * AG: cooling rate
Die
Messung der Empfindlichkeit erfolgt sowohl auf frischem Material
als auf Material, das einer 7-tägigen
künstlichen
Offline-Alterung
bei der in Tabelle 3 angegebenen Temperatur unterzogen worden ist.
Aus den Daten in Tabelle 3 ist ersichtlich, dass die langsamer,
d. h. mit einer Kühlwalze
mit höherer
Temperatur, abgekühlten
Materialien mit einem stabileren Alterungsverhalten aufwarten. Beispiel
6 wird im Temperaturintervall rund den Tg-Wert bei sehr niedriger
Abkühlgeschwindigkeit
abgekühlt
und ergibt das beste Alterungsverhalten, wie sich aus dem geringen
Effekt der zusätzlichen
Offline-Wärmebehandlung
ergibt. Tabelle 3
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Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4732108B2 (en) * | 2005-10-06 | 2011-07-27 | 富士フイルム株式会社 | Planographic printing plate manufacturing method |
EP1884372B1 (en) | 2006-08-03 | 2009-10-21 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate support |
DE602007006822D1 (en) | 2007-11-30 | 2010-07-08 | Agfa Graphics Nv | Process for treating a lithographic printing plate |
ES2430562T3 (en) | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Method for manufacturing a support of a lithographic printing plate |
ES2365885T3 (en) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | A METHOD TO TREAT A LITHOGRAPHIC PRINT IRON. |
ES2381535T3 (en) | 2009-06-18 | 2012-05-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor of lithographic printing plate |
JP2011073211A (en) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | Method of manufacturing original planographic printing plate |
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US20130298792A1 (en) | 2011-01-25 | 2013-11-14 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor |
ES2427137T3 (en) | 2011-02-18 | 2013-10-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor of lithographic printing plate |
EP2941349B1 (en) | 2013-01-01 | 2017-07-19 | AGFA Graphics NV | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2944657B1 (en) | 2014-05-15 | 2017-01-11 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, Vinyl Acetal) Copolymers and Their Use In Lithographic Printing Plate Precursors |
EP2955198B8 (en) | 2014-06-13 | 2018-01-03 | Agfa Nv | Ethylene/vinyl acetal-copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
EP3032334B1 (en) | 2014-12-08 | 2017-10-18 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
EP3157310A1 (en) | 2015-10-12 | 2017-04-19 | Agfa Graphics Nv | An entry sheet for perforating electric boards such as printed circuit boards |
EP3170662B1 (en) | 2015-11-20 | 2019-08-14 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
EP3430474A1 (en) | 2016-03-16 | 2019-01-23 | Agfa Nv | Method and apparatus for processing a lithographic printing plate |
EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9722861D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
US6251559B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
US6706466B1 (en) * | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8381 | Inventor (new situation) |
Inventor name: VERSCHUEREN, ERIC, 2640 MORTSEL, BE |
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8364 | No opposition during term of opposition |