DE4311726A1 - Anordnung und Verfahren zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen - Google Patents
Anordnung und Verfahren zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-MikroskopenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung und ein Verfahren zur
Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Die Erfindung dient der Erweiterung des Meßbereichs von Nomarski-
Differential-Interferenz-Kontrast-Mikroskopen und findet Anwendung
bei der quantitativen Bildauswertung und der Oberflächenprofilermittlung.
Sie wird bei Untersuchungen in der Optik,
Elektronik, Biologie, Medizin, Kriminalistik, Mineralogie, Chemie
und in anderen Wissenschaftsbereichen, sowie in der
Qualitätssicherung angewendet.
Shear-Verfahren werden bei der Oberflächeninspektion bevorzugt,
weil sie eine Kontrastierung der Oberflächenstrukturen erzeugen.
Der Beobachter erhält eine reliefartige, äußerst anschauliche
Darstellung der Oberfläche, die mit anderen Verfahren so nicht
möglich ist. Neben der subjektiven Beobachtung der Oberfläche sind
verschiedene Inspektionsverfahren bekannt, welche mit einer
entsprechenden Empfängertechnik eine Grauwertdarstellung der
beobachteten Oberfläche aufnehmen und diese zur Darstellung des
Oberflächenprofils in Shear-Richtung verarbeiten. (Dabei ist die
Shear-Richtung eine Richtung in der Ebene senkrecht zur optischen
Achse (x-y-Ebene), die durch die laterale Bildaufspaltung des
Nomarski-Verfahrens entsteht).
Fairlie, Ackermamm und Timsit (M. J. Fairlie, J. G. Ackermam,
R. S. Timsit: Surface roughness evalution by image analysis in
Nomarski DIC microscopy. SPIE Vol. 749 Metrology: Figure and Finish
(1987)) ermitteln entlang der Shear-Richtung durch
Grauwertauswertung und einen speziellen Berechnungsalgorithmus
einen Profilschnitt der Oberfläche. Bei dieser Technik werden mit
einem Bildaufnehmer zwei Differential-Interferenz-Kontrast-Bilder
(DIC-Bilder) eines ausgewählten Oberflächensegments unter
verschiedenen Phasenkontrastbedingungen aufgenommen. In erster
Näherung ist der Kontrast des ermittelten Bildes direkt
proportional der Oberflächenneigung entlang der Shear-Richtung.
Hartmann, Gordon und Lessor (J. S. Hartman, R. L. Gordon, D. L. Lessor:
Quantitative surface topography determination by Nomarsky
reflection microscopy. 2: Microscope modification, calibration and
planar sample experiments. Applied Optics, Vol. 19, No. 17, 1.
September 1980) und (J. S. Hartman, R. L. Gordon, D. L. Lessor:
Quantitative surface topography determination by Nomarsky
reflection microscopy. Theorie. J. OPt. Soc. Am., Vol. 69, No. 2,
Februar 1979) schlagen in ihren Arbeiten ein Verfahren vor, in dem
durch zwei flächenhafte Bildaufnahmen eines Oberflächenstücks und
mit einem speziellen Berechnungsalgorithmus die Lage jedes
detektierten Flächenelements im Raum durch 2 Winkel eindeutig
bestimmt werden kann. Dabei muß die Probe nach der ersten
Bildaufnahme genau um 90 Grad gedreht und ein zweites Bild
aufgenommen werden.
Der Meßbereich ist auf kleine Oberflächenneigungen beschränkt,
beispielsweise von -75 nm bis +75 nm (-Ψmin=-7,25°; +Ψmin=+7,25°)
mit einer Genauigkeit von 1 nm (bei einer lateralen Auflösung von
0,6 µm, was dem Pixelabstand auf der Probenoberfläche und dem
Shear-Abstand auf der Probenoberfläche entspricht).
Nur optisch glatte Oberflächen können damit quantitativ erfaßt
werden. Dabei werden im Empfänger bei justierter Anordnung
Intensitäten (Graustufen) in Abhängigkeit der Neigung der
Oberfläche in Shear-Richtung und im Shear-Abstand erzeugt. Durch
das Auflösungsvermögen des optischen Systems und die Charakteristik
des Empfängers entstehen Oberflächensegmente, gerade noch
detektierbare Oberflächenstücke, deren Größe gegeben ist und deren
durchschnittliche Neigungen gemessen werden, welche das Profil des
Oberflächenausschnitts ergeben.
Es soll das Problem gelöst werden, bei einem konventionellen
Nomarski-Differential-Interferenz-Kontrast-Mikroskop den
auswertbaren Neigungswinkel-Meßbereich für die Shear-Bildauswertung
und damit den Bereich der meßbaren Höhenunterschiede zu erweitern.
Das Problem wird erfindungsgemäß durch das Verfahren mit den
kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 und durch die Anordnung
mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 5 gelöst.
Das Verfahren zur Meßbereichserweiterung benutzt polarisiertes
Beleuchtungslicht, bevorzugt monochromatisches Licht. Durch ein von
Nomarski modifiziertes Wollastonprisma wird dieses Licht in zwei
Wellenfronten aufgeteilt. Die Wellenfronten werden durch ein
abbildendes Element so geführt, daß Beleuchtungslicht auf eine
Probenoberfläche trifft und von dort reflektiert wird.
Das reflektierte Licht durchläuft das obengenannte Nomarskiprisma.
Dabei werden die beiden reflektierten Wellenfronten überlagert und
durch einen Analysator zur Interferenz gebracht.
Die erfindungsgemäße Anordnung besitzt einen kippbaren Tisch für
die Probe.
Der Tisch ist bezüglich der x-y-Ebene (die x-Achse liefert die
Koordinaten in Shear-Richtung) um die y-Achse kippbar (die y-Achse
schneidet die optische Achse des Mikroskop-Strahlenganges). Dabei
ist die das Koordinatensystem bildende z-Achse die optische Achse
des Systems.
Die x-y-Ebene ist um mindestens einen Winkelbetrag Δ,Ψ kippbar. Vor
und nach der Kippung wird je eine Messung in den unterschiedlichen
Winkelstellungen durchgeführt.
Der Tisch mit der Probe ist vorzugsweise weiterhin um die z-Achse
drehbar. Auch vor und nach einer Verdrehung um die z-Achse um einen
Winkelbetrag werden Messungen durchgeführt.
Zwischen der Gesamtphase χ und der durch sie erzeugten Intensität I
im DIC-Bild gilt folgende Beziehung:
I(x,y) = Imin + ½(Imax-Imin) * (1-Cos(χ(x,y))) (1)
Dabei ist die Gesamtphase aus einzelnen Phasenanteilen
zusammengesetzt:
χ(x,y) = α(x,y)+β (2)
wobei
α(x,y) = -½f(mPrisma) * Tan(2Ψ(x,y)) (3)
ist.
Die Begrenzung des Neigungswinkelbereichs ergibt sich bei einer
festen Mikroskopanordnung aus der Größe der durch die Neigung des
Oberflächensegments produzierten Phasenänderung α(x,y).
Aufgrund der erforderlichen Eineindeutigkeit der Zuordnung einer
Intensität (Graustufe) I(x,y) im DIC-Bild zu einer bestimmten
Phasenänderung α(x,y) und damit zu einer bestimmten
Oberflächenneigung Ψ(x,y) darf der Betrag dieser Phasenänderung
|α(x,y)| bisher nicht größer als π/2 werden. Dies entspricht einer
Intensitätsänderung von der maximal möglichen Intensität im DIC-Bild
Imax zu der minimal möglichen Intensität im DIC-Bild Imin, so
daß in diesem Bereich alle verfügbaren Intensitäten (Graustufen)
I(x,y) eindeutig einer Phasendifferenz α(x,y) zwischen -π/4 und
+π/4 und damit einer Oberflächenneigung von Ψ(x,y) im Bereich von
(-Ψmin . . . +Ψmin) (Fig. 4) zugeordnet sind. Das Neigungsintervall
von -Ψmin bis +Ψmin entspricht dabei dem Intervall um den
Koordinatenursprung ("innerstes Intervall"), im folgenden
"Intervall 0-ter Ordnung" genannt. Ein Intervall soll hier durch
einen Abschnitt der Kurve der Funktion I(x,y)=f(Ψ(x,y))
(Gleichungen 1 bis 3), begrenzt durch zwei benachbarte Intensitäts-Extremwerte
definiert sein; die Ordnungen der weiteren Intervalle
sollen in dem Bereich positiver Neigungen ansteigen und in dem
Bereich negativer Neigungen abfallen.
Die Erfindung löst das Problem, über den Meßbereich des 0-ten
Intervalls hinaus den im DIC-Bild entstehenden Intensitäten I(x,y)
ihre Neigungswinkel Ψ(x,y) eineindeutig zuzuordnen.
Bei obiger Festlegung der Begriffe "Intervall" und "Ordnung eines
Intervalls" und unter Verwendung obiger Gleichungen läßt sich die
Umkehrfunktion Ψ(x,y)=f(I(x,y)) für jedes Intervall n-ter Ordnung
wie folgend aufschreiben:
Für n=(2k+1) (ungerade n; k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .) gilt:
Für n=(2k+1) (ungerade n; k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .) gilt:
und für n=(2k) (gerade n) gilt:
Die Intervalle werden in Richtung positiver Neigungen und in
Richtung negativer Neigungen immer kürzer. Deshalb wird in den
Punkten einer bestimmten festen Intensität der Betrag des Anstiegs
der Kurve um so größer, je weiter das Intervall vom Intervall 0-ter
Ordnung entfernt ist.
Damit ergibt sich die Möglichkeit, die Ordnung des Intervalls einer
im DIC-Bild aufgenommenen Intensität I(x,y) zu bestimmen, indem der
Intensitätszuwachs ΔI(x,y) beobachtet wird, wenn dem
Oberflächensegment eine zusätzliche definierte Neigung ΔΨ (in
Shear-Richtung) zugeführt wird.
Es werden im folgenden die Intervalle i betrachtet; diese besitzen
verschiedene Ordnungen ni.
Praktisch ist nur die Betrachtung der Anzahl von Intervallen nötig,
deren Neigungswinkel tatsächlich beim vorhandenen optischen System
an der Entstehung des DIC-Bildes teilnehmen (ausgewählter
Neigungswinkelbereich, die Intervallanzahl i ist endlich).
Gemäß der Erfindung wird die Probe bezüglich der x-y-Ebene in
Shear-Richtung und im Schnittpunkt der optischen Achse mit der x-y-Ebene
um mindestens einen Winkelbetrag von ΔΨ um die y-Achse
gekippt. Vor und nach der Kippung wird je eine Messung in den
unterschiedlichen Winkelstellungen durchgeführt. Lichtanteile
werden jeweils durch den Empfänger registriert und in elektrische
Signale umgewandelt. Mit Hilfe der Bildauswerteeinheit werden aus
den Signalen die Oberflächenneigungen über dem ausgewählten
Neigungswinkelbereich bestimmt.
Die zwei Messungen erfolgen bei den Winkelstellungen Ψ₁ und Ψ₂.
Deren Winkelbetrag hat einen Abstand von vorzugsweise 0,5 Grad bis
5 Grad. Es werden zwei Intensitätsmeßwerte jedes
Oberflächensegments erhalten:
I₁(x,y) und I₂(x,y).
Die Meßwerte werden gemäß folgender Berechnung verarbeitet:
I₁(x,y) = f(Ψ(x,y)) erster aufgenommener Meßwert
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ) zweiter aufgenommener Meßwert ΔΨ ist bekannt.
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ) zweiter aufgenommener Meßwert ΔΨ ist bekannt.
Die Intensitätsdifferenz der Messung berechnet sich zu:
ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y) (6)
Mit I₁(x,y) wird die Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) mit
den Gleichungen (4 und 5) bestimmt. Dabei werden durch Einsetzen
der betreffenden Ordnung n für jedes der i ausgewählten Intervalle
die dort gültige Gleichung für Ψi(x,y) bestimmt und Ψi(x,y)
errechnet.
Für alle Intervalle der Ordnung ni=(2k+1) gilt:
und für ni=(2k) gilt:
Mit der Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) werden die
möglichen Intensitätsdifferenzen ΔIi(x,y) mit den Gleichungen
(1 bis 3) unter Einsetzen des zusätzlich eingeführten
Neigungswinkels ΔΨ bestimmt (I2i(x,y) ist dabei die Menge der
möglichen in der zweiten Messung aufnehmbaren Intensitäten eines
Oberflächensegments im DIC-Bild):
I2i(x,y) = Imin+½(Imax-Imin)(1-Cos(β-½f(mPrisma)Tan(2(Ψi(x,y)+ΔΨ)))) (7)
ΔIi(x,y) = I2i(x,y) - I₁(x,y) (8)
Durch Vergleich und Zuordnung der i errechneten möglichen
Intensitätsdifferenz ΔIi(x,y) eines Oberflächensegments mit der
anfangs gemessenen Intensitätsdifferenz des Oberflächensegments
ΔI(x,y) wird das Intervall, das heißt dessen Ordnung ni bestimmt.
Wenn ΔI(x,y) gleich ΔIi(x,y) ist (Mathematisch sind diese
Intensitäten exakt gleich groß, aber durch Rundungs- und Meßfehler
treten geringste Abweichungen auf, die bei der rechnerischen
Auswertung und Interpretation beachtet werden müssen), so ist das
dazugehörige ni die Ordnung des Intervalls, in dem Ψ(x,y) liegt.
Somit ergibt sich der Neigungswinkel des Oberflächenelements
Ψ(x,y) = f(I₁(x,y),ni)
durch Einsetzen des gefundenen ni in die Gleichungen (4) oder (5)
(ni gerade → Gleichung (5) oder ni ungerade → Gleichung (4)).
Mit dem beschriebenen Verfahren und der Anordnung ist es möglich,
den vertikalen Meßbereich bei einem konventionellen Nomarski-
Differential-Interferenz-Kontrast-Mikroskop zu erweitern. Es lassen
sich größere Neigungen und damit größere Höhenunterschiede der
Oberfläche vermessen. Meßwerte von stärkeren Neigungen, die vom
Mikroskop optisch noch erfaßt wurden, aber außerhalb des Intervalls
0-ter Ordnung lagen, waren bisher aufgrund von Mehrdeutigkeiten in
den Grauwerten des DIC-Bildes nicht eindeutig auswertbar. Die
Erfindung ermöglicht eine eineindeutige Zuordnung von Meßwerten des
DIC-Bildes zu einer Höhenangabe über den gesamten vom Mikroskop
optisch erfaßbaren Bereich, auch wenn dieser den Bereich des 0-ten
Intervalls überschreitet.
Es wird der bestimmbare Phasenraum des Nomarksi-Mikroskops
erweitert und es wird die Möglichkeit geschaffen, auch größere
Neigungen, die vom optischen System noch erfaßt werden,
auszuwerten. Grenzen werden nur durch das optische System gesetzt.
Die Erfindung soll anhand von Figuren erläutert werden.
Es zeigt
Fig. 1 Nomarski-Bildauswertung mit kipparer Probe
Fig. 2 Winkelbeziehungen und Lage der zu kippenden Probe
Fig. 3 Winkelbeziehungen und Lage eines Oberflächensegments
Fig. 4 Verhalten der Intensität im DIC-Bild bei Neigung
der Probenoberfläche; Funktion: I(x,y)=f(Ψ(x,y));
I(x,y) in Grauwerten (0 . . . 200);
Ψ(x,y) in Grad (-45° . . . +45°).
Fig. 1 stellt den prinzipellen Aufbau eines Nomarski-Mikroskops
dar. Licht aus einer Mikroskopbeleuchtung 9 gelangt durch einen
Polarisator 8. Ein Strahlteiler 3 lenkt das polarisierte
Beleuchtungslicht durch ein Nomarski-Prisma 4, welches im
bildseitigen Brennpunkt eines Objektivs seine Aufspaltungsebene 5
hat. Das aufgespaltene Beleuchtungslicht fällt auf die Oberfläche
der Probe 7. Das Objektiv hat eine Hauptebene 6. Von der Oberfläche
der Probe 7 wird das Licht reflektiert und gelangt durch das
Objektiv, das Nomarski-Prisma 4 und durch den Strahlteiler 3 zu
einem Analysator 2. Das den Analysator 2 durchdringende Licht wird
von einem Empfänger 1 registriert und in elektrische Signale
umgewandelt.
Eine Bildauswerteeinheit 10 errechnet aus den elektrischen Signalen
Bilder. Der Tisch der Probe 7 ist in der x-y-Ebene um die y-Achse
drehbar so gelagert, daß der Tisch eine Kippbewegung ausführen kann
(die y-Achse schneidet die optische Achse des Mikroskops).
Gleichzeitig ist der Tisch der Probe um die z-Achse drehbar
gelagert.
Bei verschiedenen Tischstellungen und damit Einstellungen der Probe
werden Messungen durchgeführt, die in der Bildauswerteeinheit 10
ausgewertet werden.
Gemäß Fig. 1 wird ein Bild der Probe 7 in einer 0-Stellung
aufgenommen. Dann wird die Probe 7 um einen definierten Winkel Ψ
(z. B. um 1°) in der x-y-Ebene um die y-Achse gedreht und ein zweites
Bild wird aufgenommen.
Die durch die Empfängerelemente des Matrixempfängers 1 ermittelten
Intensitäten der Flächenelemente der Probenoberfläche 12 werden mit
Hilfe eines Berechnungsalgorithmus in der Bildauswerteeinheit 10
verarbeitet. Im Ergebnis bestimmt der Neigungswinkel der Oberfläche
in Shear-Richtung Ψ für jedes Oberflächensegment 12 dessen Kippung
in Shear-Richtung eineindeutig. Durch die Verknüpfung der
Oberflächensegmente 12 in Shear-Richtung wird ein Oberflächenprofil
erhalten.
Der Berechnungsalgorithmus gründet sich auf die trigonometrischen
Beziehungen zwischen einer im DIC-Bild entstehenden Intensität und
einer Neigung der Probenoberfläche in Shear-Richtung bei einem
Nomarski-Mikroskop.
Die Intensität ergibt sich in einem Oberflächensegment zu
I(x,y) = Imin+½(Imax-Imax) * (1-Cos(χ(x,y))) (1)
Die durch das Nomarski-Prisma und das Oberflächensegment der Probe
eingeführte Gesamtphase ist
χ(x,y) = α(x,y)+β (2)
Der durch die Oberflächenneigung in Shear-Richtung in jedem
Oberflächensegment eingeführte Phasenwinkel ist
α(x,y) = -½f(mPrisma) * Tan(2Ψ(x,y)) (3)
Die Umkehrfunktion Ψ(x,y)=f(I(x,y)) für jedes Intervall n-ter
Ordnung läßt sich aufschreiben:
für n=(2k+1) (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .):
für n=(2k+1) (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .):
und für n=(2k):
Beispielsweise ergeben sich, angewendet auf die Bereiche der
Ordnungen (Fig. 4)
n = ni; mit
ni = (-4, -3, -2, -1, 0, +1, +2, +3, +4);
ni = (-4, -3, -2, -1, 0, +1, +2, +3, +4);
neun Formeln, je eine Formel für ein Intervall:
n=-4:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=-3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=-2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=-1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=0:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=1:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=2:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=3:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
n=4:
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Mit der Vorgabe der Anzahl und der Nummer der verwendeten
Intervalle und der Kenntnis der zugehörigen geltenden Formeln
werden Messeungen durchgeführt.
Mit je einer Messung bei der Winkelstellung Ψ₁ mit den Neigungen
Ψ(x,y) und bei der Winkelstellung Ψ₂ mit den Neigungen Ψ(x,y)+ΔΨ
werden die Intensitäten:
I₁(x,y) = f(Ψ(x,y)) (erster aufgenommener Meßwert)
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ); (zweiter aufgenommener Meßwert ΔΨ ist bekannt)
I₂(x,y) = f(Ψ(x,y)+ΔΨ); (zweiter aufgenommener Meßwert ΔΨ ist bekannt)
ermittelt.
Weiterhin wird die Intensitätsdifferenz bestimmt:
ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y)
Mit I₁(x,y) wird die Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) mit
den Gleichungen (4 und 5) bestimmt. Für alle Intervalle der Ordnung
ni gilt:
Für ni=(2k+1); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1); ni=(-3, -1, 1, 3):
Für ni=(2k+1); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1); ni=(-3, -1, 1, 3):
und für ni=(2k); (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der
Ganzen Zahlen); k=(-2, -1, 0, 1, 2); ni=(-4, -2, 0, 2, 4):
Damit ergeben sich für die Ψi folgende Werte:
ni=-4:
Ψ-4(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ-4(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=-3:
Ψ-3(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ-3(x,y) = ½(ArcTan[(4π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=-2:
Ψ-2(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ-2(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=-1:
Ψ-1(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ-1(x,y) = ½(ArcTan[(2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=0:
Ψ₀(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ₀(x,y) = ½(ArcTan[( -β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=1:
Ψ₁(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ₁(x,y) = ½(ArcTan[( -β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=2:
Ψ₂(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ₂(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=3:
Ψ₃(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ₃(x,y) = ½(ArcTan[(-2π-β-ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
ni=4:
Ψ₄(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Ψ₄(x,y) = ½(ArcTan[(-4π-β+ArcCos[(-2(I₁(x,y)-Imin)/(Imax-Imin)+1])/(-½f mPrisma)]
Mit der Menge der möglichen Neigungswinkel Ψi(x,y) werden gemäß der
Gleichung (7) unter Einsetzen des zusätzlich eingeführten
Kippwinkels ΔΨ die möglichen Intensitäten
I2i(x,y) = Imin + ½(Imax-Imin)(1-Cos(β-½f(mPrisma)Tan(2(Ψi(x,y) + ΔΨ))))
errechnet. Damit ergeben sich für I2i(x,y) folgende Werte:
Mit der Menge der möglichen Intensitäten I2i(x,y) werden die
möglichen Intensitätsdifferenzen
ΔIi(x,y) = I2i(x,y) - I₁(x,y) (8)
bestimmt.
Damit ergeben sich für ΔIi(x,y) folgende Werte:
Jetzt wird ΔI(x,y) mit den ΔIi(x,y) verglichen. Dort, wo
ΔI(x,y)=ΔIi(x,y) ist (genau in einem Intervall), befindet sich
das Intervall in welchem Ψ(x,y) liegt. Die gefundene
Intervallordnung (z. B. ni=-2) wird in die Gleichungen (3) oder
(4) (z. B. bei ni=-2 in Gleichung (4)) eingesetzt und Ψ(x,y)
bestimmt.
Mit dieser Intervallbestimmung ist die Aufgabe gelöst.
Neigungswinkel auch in einem größeren Bereich, als im Intervall 0-ter
Ordnung, bestimmen zu können. Das entspricht einer Erweiterung
des Meßbereichs. Bei den gleichen Werten, die in der Darlegung des
Standes der Technik verwendet wurden, werden bei einer Vorgabe von
9 Intervallen Höhenunterschiede von -375 nm bis +375 nm (im
Abstand von 2 Pixeln auf der Probenoberfläche, also im Abstand von
0,6 µm) gemessen (gegenüber der bekannten Lösung von -75 nm bis +75
nm).
Dieser Algorithmus zur Meßbereichserweiterung läßt sich mit einem
Berechnungsalgorithmus für die 3-D-Shear-Bildauswertung, bei
welchem die absolute Neigung und deren Lage bezüglich der
Shearrichtung durch Drehung um die z-Achse bestimmt wird, anwenden
(DE-Patentanmeldung 42 42 883.1).
Die Probe (7) wird zusätzlich zur Kippung um die y-Achse um einen
Winkelbetrag um die optische Achse (z-Achse) gedreht. In jeder
Kippwinkelstellung und in jeder Drehwinkelstellung werden Meßwerte
aufgenommen.
Bezugszeichen
1 Matrixempfänger
2 Analysator
3 Strahlteiler
4 Nomarski-Prisma
5 Aufspaltungsebene des Nomarski-Prismas und bildseitiger Brennebene des Objektivs
6 Hauptebene des Objektivs
7 Probe
8 Polarisator
9 Mikroskopbeleuchtung
10 Bildauswerteeinheit
11 Optische Achse (z-Achse)
12 Oberflächensegment der Probe
2 Analysator
3 Strahlteiler
4 Nomarski-Prisma
5 Aufspaltungsebene des Nomarski-Prismas und bildseitiger Brennebene des Objektivs
6 Hauptebene des Objektivs
7 Probe
8 Polarisator
9 Mikroskopbeleuchtung
10 Bildauswerteeinheit
11 Optische Achse (z-Achse)
12 Oberflächensegment der Probe
Formelzeichen
x-y-z Koordinatensystem
x,y Koordinaten eines Oberflächensegments im DIC-Bild
x Koordinate in Shear-Richtung
z Koordinate in Richtung der optischen Achse
I(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild
Imin minimal mögliche Intensität im DIC-Bild
Imax maximal mögliche Intensität im DIC-Bild
I₁(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der ersten Messung
I₂(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der zweiten Messung
ΔI(x,y) Intensitätsdifferenz eines Oberflächensegments im DIC-Bild
I2i(x,y) Intensitäten eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
ΔIi(x,y) Intensitätsdifferenzen eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
χ(x,y) Gesamtphase eines Oberflächensegments im DIC-Bild
α(x,y) Phasendifferenz
β Phasendifferenz des Nomarskiprismas (konstant β=½π)
ΔΨ Winkelbetrag der Kippung der Probenoberfläche um die y-Achse aus der Null-Stellung
Ψ₁ Winkelstellung (Null-Stellung der Probe)
Ψ₂ Winkelstellung (gekippte Stellung der Probe)
Ψ(x,y) Neigungswinkel eines Oberflächensegments im DIC-Bild in Shear-Richtung
Ψi(x,y) Neigungswinkel der Oberflächensegmente der ausgesuchten Intervalle im DIC-Bild in Shear-Richtung
-Ψmin, +Ψmax Neigungswinkel die das Intervall 0-ter Ordnung begrenzen
k Zähler (Ganze Zahl)
f Brennweite der Objektivlinse
mPrisma Prismenanstieg (Änderung der Phasendifferenz β entlang der x-Koordinate des Prismas)
n Ordnung des Intervalls
i Bezeichner für die ausgesuchten Intervalle
ni Ordnungen der ausgesuchten Intervalle
x,y Koordinaten eines Oberflächensegments im DIC-Bild
x Koordinate in Shear-Richtung
z Koordinate in Richtung der optischen Achse
I(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild
Imin minimal mögliche Intensität im DIC-Bild
Imax maximal mögliche Intensität im DIC-Bild
I₁(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der ersten Messung
I₂(x,y) Intensität eines Oberflächensegments im DIC-Bild bei der zweiten Messung
ΔI(x,y) Intensitätsdifferenz eines Oberflächensegments im DIC-Bild
I2i(x,y) Intensitäten eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
ΔIi(x,y) Intensitätsdifferenzen eines Oberflächensegments im DIC-Bild in ausgesuchten Intervallen
χ(x,y) Gesamtphase eines Oberflächensegments im DIC-Bild
α(x,y) Phasendifferenz
β Phasendifferenz des Nomarskiprismas (konstant β=½π)
ΔΨ Winkelbetrag der Kippung der Probenoberfläche um die y-Achse aus der Null-Stellung
Ψ₁ Winkelstellung (Null-Stellung der Probe)
Ψ₂ Winkelstellung (gekippte Stellung der Probe)
Ψ(x,y) Neigungswinkel eines Oberflächensegments im DIC-Bild in Shear-Richtung
Ψi(x,y) Neigungswinkel der Oberflächensegmente der ausgesuchten Intervalle im DIC-Bild in Shear-Richtung
-Ψmin, +Ψmax Neigungswinkel die das Intervall 0-ter Ordnung begrenzen
k Zähler (Ganze Zahl)
f Brennweite der Objektivlinse
mPrisma Prismenanstieg (Änderung der Phasendifferenz β entlang der x-Koordinate des Prismas)
n Ordnung des Intervalls
i Bezeichner für die ausgesuchten Intervalle
ni Ordnungen der ausgesuchten Intervalle
Claims (6)
1. Verfahren zur Erweiterung des Meßbereiches bei Nomarski-Mikroskopen,
bei dem polarisiertes Beleuchtungslicht durch ein
Nomarski-Prisma (4) in zwei Wellenfronten aufgeteilt wird, dann
die Wellenfronten durch ein abbildendes optisches Element so
geführt werden, daß Beleuchtungslicht auf die Probe (7) trifft,
von dort reflektiert wird, das abbildende optische Element und das
Nomarski-Prisma durchlaufen, dabei die beiden reflektierten
Wellenfronten überlagert und durch einen Analysator (2) zur
Interferenz gebracht werden, dadurch gekennzeichnet, daß
durch Drehung der Probe (7) in einer x-y-Ebene um eine y-Achse um
einen Winkelbetrag ΔΨ und Durchführung je einer Messung in den
unterschiedlichen Winkelstellungen Ψ₁ und Ψ₂ Licht (Intensitäten
I₁, I₂) durch einen Empfänger (Matrixempfänger 1) registriert, aus
den Signalen die Neigungswinkel Ψ(x,y) der Oberflächenelemente
über dem erweiterten Neigungswinkelbereich (n-4, . . . n₀, . . . n+4)
bestimmt werden.
2. Verfahren Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
je eine Messung bei der Winkelstellung Ψ₁ und Ψ₂ erfolgt, deren
Winkelbetrag ΔΨ einen Abstand vorzugsweise von 0,5 Grad bis 5 Grad
hat und die Meßergebnisse I₁ und I₂ gemäß der nachfolgenden
Berechnung verarbeitet werden:
Bei der Winkelstellung Ψ₁ wird I₁(x,y)=f(Ψ(x,y)) gemessen und
bei der Winkelstellung Ψ₂ wird I₂(x,y)=f(Ψ(x,y)+ΔΨ) gemessen,
wobei ΔΨ bekannt ist, daraus wird die Intensitätsdifferenz zu ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y) (6)bestimmt und
Bei der Winkelstellung Ψ₁ wird I₁(x,y)=f(Ψ(x,y)) gemessen und
bei der Winkelstellung Ψ₂ wird I₂(x,y)=f(Ψ(x,y)+ΔΨ) gemessen,
wobei ΔΨ bekannt ist, daraus wird die Intensitätsdifferenz zu ΔI(x,y) = I₂(x,y) - I₁(x,y) (6)bestimmt und
- a) für eine Zahl i von Intervallen der Ordnung ni wird Ψi(x,y)
aus I₁(x,y) berechnet:
- aa) für ni=(2k+1) gilt (k ist ein Element von G; G ist der Bereich der Ganzen Zahlen; k: . . . -2, -1, 0, 1, 2, . . .):
- ab) und für ni=(2k) gilt:
- b) für alle Intervalle i der Ordnung ni wird I2i(x,y) aus Ψi(x,y) und ΔΨ berechnet I2i(x,y) = Imin+½(Imax-Imin) * (1-Cos(β-½f(mPrisma)Tan(2(Ψi(x,y)+ΔΨ)))) (7)
- c) für alle Intervalle i der Ordnung ni wird ΔIi(x,y) aus I₁(x,y) und I2i(x,y) ΔIi(x,y) = I2i(x,y) - I₁(x,y) (8)berechnet,
- d) durch Vergleich und Zuordnung der i errechneten möglichen Intensitätsdifferenzen ΔIi(x,y) eines Oberflächensegments mit der anfangs gemessenen Intensitätsdifferenz des Oberflächensegments ΔI(x,y) wird das Intervall i (dessen Ordnung ni) dadurch bestimmt, daß verglichen wird wo ΔI(x,y) gleich ΔIi(x,y) ist und daraus das Intervall i (die zugehörige Ordnung ni) bestimmt wird, dort der Neigungswinkel des Oberflächenelements Ψ(x,y) liegt, der sich durch Einsetzen der gefundenen Ordnung ni und als Funktion von I₁(x,y) ergibt (Gleichung 4 oder 5).
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
als Empfänger ein Matrix-Empfänger (1) eingesetzt wird, wobei
jedem Empfängerpixel (Element des Matrixempfängers 1) ein
Flächenelement der Probenoberfläche (12) zugeordnet wird und mit
Hilfe einer Bildauswerteeinheit (10) Meßwerte als Bilder
dargestellt werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Probe - zusätzlich zur Kippung um die y-Achse um den
Winkelbetrag ΔΨ - um einen Winkelbetrag um die z-Achse gedreht
wird, und in jeder Stellung der Probe Messungen aufgenommen und
Bilder ausgewertet werden.
5. Anordnung zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen,
dadurch gekennzeichnet, daß
ein Tisch der Probe in einer x-y-Ebene um die y-Achse kippbar ist,
wobei die x-Achse eine Parallele zur Shear-Richtung ist.
6. Anordnung Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
die z-Achse des x-y-z-Koordinatensystems die optische Achse des
optischen Systems ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934311726 DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934311726 DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4311726A1 true DE4311726A1 (de) | 1995-01-05 |
DE4311726C2 DE4311726C2 (de) | 1996-02-08 |
Family
ID=6485153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19934311726 Expired - Fee Related DE4311726C2 (de) | 1993-04-08 | 1993-04-08 | Verfahren und Vorrichtun zur Erweiterung des Meßbereichs bei Nomarski-Mikroskopen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4311726C2 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19626261A1 (de) * | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Nikon Corp | Beobachtungsvorrichtung |
FR2818376A1 (fr) * | 2000-12-18 | 2002-06-21 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif de visualisation bidimensionnelle ellipsometrique d'un echantillon, procede de visualisation et procede de mesure ellipsometrique avec resolution spatiale |
WO2003100403A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Honeywell International Inc. | Method and apparatus for determining a surface quality of a substrate sample using a differential interference contrast microscope |
CN110235044A (zh) * | 2017-01-31 | 2019-09-13 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于提高激光扫描显微镜的分辨率的设备 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2194115A (en) * | 1986-07-18 | 1988-02-24 | Nat Res Dev | Microscopy |
DE4242883A1 (de) * | 1992-12-18 | 1994-06-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur 3-D-Shear-Bildauswertung |
-
1993
- 1993-04-08 DE DE19934311726 patent/DE4311726C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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GB2194115A (en) * | 1986-07-18 | 1988-02-24 | Nat Res Dev | Microscopy |
DE4242883A1 (de) * | 1992-12-18 | 1994-06-30 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur 3-D-Shear-Bildauswertung |
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Cited By (11)
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DE19626261A1 (de) * | 1995-06-30 | 1997-01-02 | Nikon Corp | Beobachtungsvorrichtung |
US5764363A (en) * | 1995-06-30 | 1998-06-09 | Nikon Corporation | Apparatus for observing a surface using polarized light |
FR2818376A1 (fr) * | 2000-12-18 | 2002-06-21 | Centre Nat Rech Scient | Dispositif de visualisation bidimensionnelle ellipsometrique d'un echantillon, procede de visualisation et procede de mesure ellipsometrique avec resolution spatiale |
WO2002050513A1 (fr) * | 2000-12-18 | 2002-06-27 | Centre National De La Recherche Scientifique | Dispositif de visualisation bidimensionnelle ellipsometrique d'un echantillon, procede de visualisation et procede de mesure ellipsometrique avec resolution spatiale |
US7209232B2 (en) | 2000-12-18 | 2007-04-24 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Device for ellipsometric two-dimensional display of a sample, display method and ellipsometric measurement method with spatial resolution |
US7307726B2 (en) | 2000-12-18 | 2007-12-11 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Device for ellipsometric two-dimensional display of a sample, display method and ellipsometric measurement method with spatial resolution |
JP2008122394A (ja) * | 2000-12-18 | 2008-05-29 | Centre National De La Recherche Scientifique | 偏光解析測定方法および装置 |
WO2003100403A1 (en) * | 2002-05-24 | 2003-12-04 | Honeywell International Inc. | Method and apparatus for determining a surface quality of a substrate sample using a differential interference contrast microscope |
US6995847B2 (en) | 2002-05-24 | 2006-02-07 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for substrate surface evaluation |
US7312866B2 (en) | 2002-05-24 | 2007-12-25 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for substrate surface evaluation |
CN110235044A (zh) * | 2017-01-31 | 2019-09-13 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于提高激光扫描显微镜的分辨率的设备 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE4311726C2 (de) | 1996-02-08 |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licenses declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |