DE19625830A1 - Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-InterferometrieInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung nach den Oberbegriffen der
Ansprüche 1 und 6.
Zur Beobachtung von Objektoberflächen für die Dehnungsmessung mittels der Speckle
Pattern Shearing Interferometrie, abgekürzt Shearografie. wird die zu untersuchende
Oberfläche mit kohärentem Licht beleuchtet, das reflektierte Licht mittels einer Shearing-
Optik, die z. B. aus einem einen Strahlteiler und zwei Spiegel aufweisenden Zweistrahl
interferometer besteht, in der Bildebene eines opto-elektronischen Sensors abgebildet und
das Meßergebnis dann mittels eines an den Sensor angeschlossenen Rechners ausgewertet.
Bei der Verformung des Objekts ändert sich die Lage der das Licht reflektierenden Punkte
nicht nur absolut, sondern auch relativ zueinander. Das führt bei der Überlagerung der im
belasteten Zustand erhaltenen Bilder, den sogenannten Belastungs-Shearogrammen, mit
den im unbelasteten Zustand erhaltenen Bildern, den sogenannten Null-Shearogrammen,
zu Interferenzmustern, die im Gegensatz zu holografischen Verformungsmessungen nicht
ein Maß für die Verformung, sondern ein Maß für den Gradienten bzw. die Ableitung der
Verformung in der Shearrichtung, d. h. in derjenigen Richtung sind, in die die Licht
strahlen vom Shearing-Element gebrochen werden. Die erhaltenen Interferenzstreifen sind
damit Linien gleicher Dehnung und nicht Linien gleicher Verformung. Bei einwandfreier
Verformung des Objekts sind die erhaltenen Interferenzmuster i.a. regelmäßig. Weist das
Objekt dagegen Mängel auf, ergeben sich entsprechend unterschiedliche Dehnungen, die
zu deutlich sichtbaren Unregelmäßigkeiten der Interferenzmuster führen.
Shearografische Verfahren und die zu ihrem Verständnis notwendigen mathematischen
Grundlagen sind dem Fachmann allgemein bekannt (DE 28 06 845 C2, DE 40 36 120 A1,
Y.Y. Hung in "Shearography: A Novel and Practical Approach for Nondestructive
Inspection", Journal of Nondestructive Evaluation, Vol. 8, No. 2, 1989, S. 55-67 und
Y.Y. Hung, A.J. Durelli in "Simultaneous Measurement of Three Displacement Derivati
ves Using a Multiple Image-Shearing Interferometric Camera", Journal of Strain Analysis,
Vol. 14, No. 3, 1979, S. 81-88).
Obwohl die shearografischen Verfahren dieser Art wegen ihrer Einfachheit und Un
empfindlichkeit gegen äußere Einflüsse, z. B. mechanische Schwingungen der Meß
apparatur, große Vorteile bieten, weisen sie auch noch Mängel auf. Diese bestehen vor
allem darin, daß nur sogenannte out-of-plane Dehnungen sichtbar gemacht werden können
bzw. auswertbar sind und die zum Sichtbarmachen bzw. Messen von Dehnungen und zum
Auswerten der erhaltenen Bilder verfügbaren Shearing-Elemente vergleichsweise komplexe
Aufbauten der gesamten Meßapparatur zur Folge haben.
Es ist daher auch bereits bekannt geworden, in-plane Dehnungen, die von einem out-of-
plane Anteil überlagert sind, sichtbar zu machen (DE 44 14 287 A1; The European
Symposium on Optics for Productivity in Manufacturing, Europeen Optical Society (EOS)
and SPIE (oral presentation), 20.-24.06.94, Frankfurt/Main zum Thema "Shearography
for direct Measurement of Strains" von W. Steinchen, L.X. Yang, M. Schuth, G. Kupfer;
"Strains measured on plane and curved surfaces by means of the shearographic method"
von W. Steinchen, M. Schuth, L.X. Yang, Journal Strain Aug. u. Nov. 1994; "Messung
der Dehnungslinien auf der Oberfläche von Platten und scheibenförmigen Bauteilen mittels
Shearografie" von W. Steinchen, G. Kupfer, M. Schuth, L.X. Yang, Technisches
Messen, H. 6, 1994 Oberkochen).
Zur Vermeidung von Wiederholungen werden alle genannten Dokumente hiermit aus
drücklich zum Gegenstand der Offenbarung der vorliegenden Anmeldung gemacht.
Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt dem Hauptpatent . . . (Patentanmeldung
P 44 46 887.3) die Aufgabe zugrunde, die verbleibenden geringen out-of-plane Anteile bei
der shearografischen in-plane Dehnungsmessung vollständig zu eliminieren oder beide
Anteile voneinander zu trennen, so daß eine exakte in-plane Dehnungsmessung möglich
wird.
Die zur Lösung dieser Aufgabe im Hauptpatent . . . (Patentanmeldung P 44 46 887.3)
vorgeschlagenen Verfahren und Vorrichtungen bringen den Vorteil mit sich, daß durch
den bloßen Einbau von zusätzlichen optischen Elementen in den Strahlengang der
Beleuchtungs- oder Beobachtungsseite reine in-plane Dehnungen erhalten werden können
und die Shearing-Optik selbst bei der Ermittlung reiner in-plane Dehnungen senkrecht zur
betrachteten Objektoberfläche angeordnet werden kann. Als Nachteil wird jedoch empfun
den, daß zur Ermittlung aller die in-plane und out-of plane Dehnungen betreffenden Werte
zahlreiche Messungen vorgenommen werden müssen, die einerseits mehrfache Belastungs
änderungen des zu untersuchenden Objekts und andererseits mehrfache Lageänderungen
der beteiligten Lichtquellen, Shearing-Elemente od. dgl. erfordern.
Der vorliegenden Zusatzerfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, die im Hauptpatent
. . . (Patent
anmeldung P 44 46 887.3) vorgeschlagenen Verfahren und Vorrichtungen so
weiterzubilden, daß die Zahl der vorzunehmenden Belastungs- und Lageänderungen stark
reduziert werden kann.
Zur Lösung dieser Aufgabe dienen die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1
und 6.
Weitere vorteilhafte Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Die Erfindung wird nachfolgend in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung an
Ausführungsbeispielen näher erläutert, wobei die Fig. 1 bis 8 Vorrichtungen nach dem
Hauptpatent . . . (Patentanmeldung P 44 46 887.3) und damit hergestellte Interferenzmuster
und die Fig. 9 bis 12 Vorrichtungen nach der vorliegenden Zusatzanmeldung betreffen. Es
zeigen:
Fig. 1 schematisch eine Vorrichtung zur wahlweisen Ermittlung der Ableitungen von
out-of-plane und in-plane Verformungen;
Fig. 2a bis 2d bei Anwendung der Vorrichtung nach Fig. 1 jeweils im Vergleich an einer
Kreisscheibe mit shearografischen Mitteln erhaltene in-plane Interferenzmuster und Fig. 2e
bis 2g mit rechnerischen Lösungen erhaltene Aufnahmen für den zweiachsigen Spannungs
zustand, wobei die Streifenmuster der Fig. 2c und 2d bei Überlagerung die in Fig. 2g
dargestellte Gleitung ergeben;
Fig. 3 schematisch eine zweite Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
zur wahlweisen Ermittlung der Ableitungen von out-of-plane und in-plane Verformungen
mit der Möglichkeit der Separierung beider Anteile;
Fig. 4a und 4b mit der Vorrichtung nach Fig. 3 erhaltene, überlagerte in-plane und
out-of-plane Dehnungsanteile bei in-plane Belastung eines gekröpften Zugstabs;
Fig. 4c und 4d die reinen in-plane bzw. out-of-plane Dehnungsanteile, errechnet aus den
Dehnungsanteilen nach Fig. 4a und 4b;
Fig. 5a bis 5c den Fig. 4a bis 4c entsprechende Dehnungsanteile bei in-plane Belastung
eines Zugstabs mit Außenkerben;
Fig. 6a bis 6d reine in-plane Terme bei in-plane Belastung eines Zugstabs mit Außen
kerben;
Fig. 7a bis 7d den Fig. 6a bis 6d entsprechende Terme bei in-plane Belastung eines
Zugstabs mit Mittelbohrung;
Fig. 8 eine Einrichtung zur Herstellung von Beleuchtungsstrahlen für die Vorrichtung
nach Fig. 3;
Fig. 9 eine erste Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit vier Beleuch
tungsstrahlen;
Fig. 10 eine zweite Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit drei
Beleuchtungsstrahlen und einer verschiebbaren, aus zwei Shearing-Spiegeln gebildeten
Baueinheit; und
Fig. 11 und 12 je eine dritte und vierte Ausführungsform der erfindungsgemäßen
Vorrichtung mit je zwei Shearing-Einheiten.
Die Vorrichtung nach Fig. 1 dient zunächst in an sich bekannter Weise zur Ermittlung der
Ableitungen von in-plane Verformungen sowie der Ermittlung der out-of-plane Terme.
Hierzu weist die Vorrichtung eine kohärentes Licht ausstrahlende Lichtquelle 1, vorzugs
weise einen Laser, eine nicht näher dargestellte Halterung für ein zu untersuchendes
Objekt 2, eine Shearing-Anordnung 3, z. B. ein Zweistrahlinterferometer mit einem
Strahlteiler 7 und zwei Spiegeln 4 und 5, und eine Bildebene 6 auf, in der ein Bildauf
nehmer, z. B. ein fotografischer Film, ein optoelektronischer Bildaufnehmer auf CCD-Basis
oder irgendein anderer Aufzeichnungsträger zur Aufnahme und Speicherung eines
fotografischen Bildes angeordnet ist. Im Ausführungsbeispiel ist ein optoelektronischer
Sensor 6a in Form einer üblichen CCD-Kamera vorgesehen. Das vom optoelektronischen
Sensor 6a registrierte Bild der Objektoberfläche wird als erstes Phasenbild bei im
undeformierten Zustand befindlichen Objekt 2 z. B. in einem Frame-Grabber (Bildspeicher)
8 gespeichert. Das vom optoelektronischen Sensor 6a registrierte Bild des zweiten
Phasenbilds bei im deformierten Zustand befindlichen Objekt 2 wird davon subtrahiert
bzw. addiert. Das Ergebnis der Subtraktion bzw. Addition wird auf dem Bildschirm 10
eines Rechners dargestellt. Speicherung, Subtraktion bzw. Addition und Darstellung
erfolgen jeweils pixelweise für jeden Punkt des Objekts 2. Das Bild des deformierten
Objektzustands 2 wird von dem im Bildspeicher gespeicherten Bild subtrahiert bzw.
addiert und auf dem Bildschirm 10 dargestellt.
Das bekannte Verfahren der Shearografie besteht darin, daß das Objekt 2 bzw. seine zu
untersuchende Oberfläche zunächst im unbelasteten Zustand mit kohärentem Licht
beleuchtet bzw. bestrahlt und das von dieser Oberfläche diffus reflektierte Licht in der
Bildebene 6 abgebildet wird. Dabei bewirkt eine Shearing-Einheit in Form des Spiegels 5,
daß ein Teil des von irgendeinem Punkt P₁ der Objektoberfläche kommenden Lichts in
einem Punkt P₁₁ und der restliche Teil des vom Punkt P₁ kommenden Lichts in einem
Punkt P₁₂ der Bildebene 6 gesammelt werden, wobei der Abstand der Punkte P₁₁ und P₁₂
üblicherweise als Shearabstand bezeichnet wird. Die Richtung der Verschiebung der
beiden Punkte P₁₁ und P₁₂, d. h. die Shearrichtung, hängt von der Lage, d. h. von der
Verkippung des Shearing-Spiegels 5 ab. Eine Vershearung der Objektoberfläche in y-Rich
tung ergibt sich infolge Kippen des Spiegels 5 um die in Fig. 1 schematisch angedeu
tete z-Achse eines kartesischen Koordinatensystems, und analog wird die Vershearung der
Objektoberfläche in x-Richtung infolge Kippen des Spiegels 5 um die y-Achse beobachtet.
Die xy-Ebene des Koordinatensystems liegt dabei in der zu betrachtenden Oberfläche des
Objekts 2. Der Shearabstand läßt sich durch die Größe des jeweiligen Kippwinkels des
Planspiegels 5 einstellen. Als Shearing-Einheit kann wahlweise auch der Spiegel 4
verwendet werden.
Zur Vershearung der Objektoberfläche um einen hinsichtlich Größe und Richtung
einstellbaren Kippwinkel sind vorzugsweise verstellbare Feinineßschrauben vorgesehen, so
daß Shearrichtung und Shearabstand eingestellt werden können.
Für das Null-Shearogramm werden mittels eines am Spiegel 4 befestigten Piezokristalls,
der über einen mit dem Rechner 10 verbundenen D/A-Wandler 9 gesteuert wird, mehrere,
definiert phasenverschobene Bilder registriert. Daraus wird für jedes Pixel die Phase
bestimmt. Dieses Verfahren wird dann für den deformierten Objektzustand wiederholt.
Damit ist die rechnerunterstützte Auswertung der Dehnungen aus Shearogrammen
möglich.
Bei den bisher üblichen shearografischen Verfahren wird das Objekt 2, hier eine plan
parallele Platte, in der Regel in z-Richtung mit einer Kraft ± Fz belastet, so daß sich eine
der Bildebene 6 zugewandte Oberfläche in z-Richtung konvex oder konkav wölbt und eine
sogenannte out-of-plane Verformung erhalten wird. Die Erzielung brauchbarer Inter
ferenzmuster setzt hierbei voraus, daß die von der Lichtquelle 1 ausgehenden Lichtstrahlen
und die senkrecht zur xy-Ebene verlaufende und z. B. in diesem Bereich mit der z-Achse
zusammenfallende optische Achse des Systems im wesentlichen beide in der xz-Ebene
oder einer dazu parallelen Ebene liegen und einen Winkel θxz bilden, der möglichst klein
ist. Die hierbei erhaltenen Interferenzstreifen lassen sich bei Vershearung in x-Richtung
als Streifen gleicher Dehnung in x-Richtung deuten. Wird der Verformungs-Vektor mit
V = u (x,y,z) + v (x,y,z) + w (x,y,z) bezeichnet, würden daher die Streifen ein Maß für
die Größe ∂w/∂x sein. Entsprechend würde das Interferenzmuster ein Maß für die Größe
∂w/∂y liefern, wenn das Shearing-Element 5 um 90° verdreht gekippt und daher ein
Bildversatz in y-Richtung herbeigeführt würde.
Dieselben Beträge für die Größen ∂ w/∂x und ∂w/∂y lassen sich bei der Anwendung einer
Lichtquelle erhalten, deren Achse mit der z-Achse bzw. der optischen Achse einen
möglichst kleinen Winkel θyz bildet und in der yz-Ebene liegt.
Demgegenüber müssen für eine in-plane Beleuchtung und in-plane Beobachtung mit der
Apparatur nach Fig. 1 zumindest zwei Voraussetzungen erfüllt sein. Die erste Voraus
setzung ist, daß die Winkel θxz bzw. θyz ungleich Null sein müssen und möglichst nahe bei
90°, vorzugsweise zwischen 80° und 90° liegen sollten, was mit der Vorrichtung nach
Fig. 1 durch entsprechende Schwenkung der Lichtquelle 1 leicht realisierbar ist. Die
zweite Voraussetzung ist dagegen, daß die auf das Objekt 2 wirkenden Kräfte so gewählt
werden, daß die daraus in z-Richtung resultierenden Verformungen sehr kleine Ableitun
gen ∂w/∂x und ∂w/∂y aufweisen und die Verformung daher hauptsächlich in der xy-Ebene,
d. h. "in-plane" erfolgt. Unter diesen Voraussetzungen ergeben die mit der sonst
gleichen Vorrichtung erhaltenen Interferenzmuster je nach entsprechender Kippung einer
Shearing-Einheit, z. B. des Spiegels 5 der Shearing-Anordnung 3, ein Maß für ∂u/∂x und
∂u/∂y, wenn die Strahlachse und die z-Achse in der xz-Ebene liegen, bzw. ein Maß für
die Werte ∂v/∂x und ∂v/∂y, wenn die Strahlachse und die z-Achse in der yz-Ebene liegen.
Dabei ist in Fig. 1 angenommen, daß zur Messung oder Sichtbarmachung der Ableitungen
der in-plane Verformungen z. B. mittels der Kraft ± Fx eine Dehnung (oder Stauchung) des
Objekts 2 in x-Richtung herbeigeführt wird. Alternativ wäre es möglich, aufgrund einer
Kraft ± Fy eine Dehnung (oder Stauchung) in y-Richtung oder irgendeiner anderen
Richtung innerhalb der xy-Ebene herbeizuführen.
Noch genauere Messungen der in-plane Dehnungen lassen sich erhalten, wenn berücksich
tigt wird, daß der als Winkelhalbierende zwischen Beleuchtungs- und Beobachtungsstrahl
definierte Sensitivitätsvektor möglichst in x- oder y-Richtung erstreckt sein sollte. In
praktischen Anwendungsfällen ist eine solche Lage zwar nicht erreichbar, doch ist es
möglich, den Sensitivitätsvektor unter einem Winkel von z. B. ca. 20-30° zur x- oder y-Achse
und damit unter einem Winkel von ca. 70-60° zur z-Achse anzuordnen. Für diese
Fälle zeigt die Rechnung, daß in den relativen Phasenverschiebungen die Terme ∂u/∂x,
∂u/∂y und entsprechend ∂v/∂x und ∂v/∂y eine erheblich größere Gewichtung als die ent
sprechenden Terme ∂w/∂x und ∂w/∂y erhalten, so daß die überlagerten out-of-plane
Anteile vergleichsweise klein werden.
Verfahren und Vorrichtungen der beschriebenen Art sind dem Fachmann grundsätzlich
bekannt (z. B. DE 44 14 287 A1) und brauchen daher nicht näher erläutert werden.
Beispiele für mit einer Vorrichtung nach Fig. 1 erhaltene Interferenzmuster sind in Fig. 2
gezeigt. Dabei zeigen die Fig. 2a bis 2d die durch Messung erhaltenen Interferenzmuster
einer diametral gedrückten Kreisscheibe, in der ein zweiachsiger Spannungszustand
hervorgerufen wird. Der Vergleich mit den auf rechnerischem Wege ermittelten Deh
nungszuständen nach Fig. 2e bis 2g zeigt gute Übereinstimmung.
Das Hauptpatent . . . (Patentanmeldung P 44 46 887.3) bezweckt die geringen out-of-plane
Anteile bei der shearografischen in-plane Dehnungsmessung vollständig zu eliminieren
bzw. beide Anteile zu separieren, damit auch eine exakte in-plane Dehnungsmessung
möglich wird. Erreicht wird dies entweder durch den bloßen Einbau von optischen
Elementen z. B. Polarisatoren 11 bzw. 12 (Fig. 1) in den Strahlengang der Beleuchtungs- und
Beobachtungsrichtung oder rechnerisch bei Anwendung der Vorrichtung nach Fig. 3.
Bei der Vorrichtung nach Fig. 3 wird von dem Gedanken ausgegangen, das Objekt 2
vorzugsweise spiegelsymmetrisch aus zwei Richtungen mit zwei Beleuchtungsstrahlen 15
und 16 zu beleuchten und in diesen Strahlen jeweils einen Verschluß 17 bzw. 18 anzuord
nen. Dadurch ist es auf einfache Weise möglich, die Objektoberfläche durch Öffnen bzw.
Schließen der Verschlüsse 17, 18 von verschiedenen Seiten her im Grund- oder Belastungs
zustand zu beleuchten und dann mit der Zweistrahlinterferometer-Anordnung 3 wie bei
Fig. 1 phasenverschobene Shearogramme aufzunehmen. Im Unterschied zu Fig. 1 werden
dabei die Shearogramme verschiedenen arithmetischen Operationen unterworfen, um die
in-plane und out-of-plane Anteile durch rechnerische Methoden voneinander zu trennen.
Außerdem können durch Variation der Beleuchtungseinrichtungen und der Shearrichtungen
die Gradienten der in-plane Verformungen in verschiedene Richtungen gebildet und
zahlenmäßig dargestellt werden.
Bei der Vorrichtung nach Fig. 3 werden die beiden Beleuchtungsstrahlen 15 und 16 der
Einfachheit halber durch zwei verschiedene Lichtquellen 1 und 19, insbesondere Laser,
erzeugt. Im Hinblick auf Kohärenz und gleiche Wellenlänge erfolgt die Erzeugung beider
Strahlen 15, 16 jedoch vorzugsweise mit Hilfe derselben Lichtquelle 1, indem z. B. in den
Beleuchtungsstrahl 15 ein zusätzlicher, den Strahl 16 bildender Strahlteiler eingebracht
wird. Wahlweise kann auch eine einzige Lichtquelle entsprechend den vorgegebenen
Positionen geschwenkt werden. Als eigentliche Lichtquellen sind daher diejenigen Bauteile
(Laser, Strahlteiler od. dgl.) zu verstehen, von denen die auf das Objekt 2 treffenden
Lichtstrahlen bzw. -bündel 15, 16 ausgehen.
Wie Fig. 3 zeigt, liegen die beiden Beleuchtungsstrahlen 15 und 16 auf beiden Seiten der
yz-Ebene einander gegenüber, wobei die maßgeblichen Winkel mit +θxz und -θxz bezeich
net sind. Die Zweistrahlinterferometer-Anordnung 3 ist so ausgerichtet, daß sie das vom
Objekt 2 reflektierte Licht beider Strahlen 15 und 16 empfängt. Die Vershearung und
Phasenverschiebung erfolgen auch bei dieser Ausführungsform in bekannter Weise. Dabei
wird z. B. zuerst der Verschluß 18 geschlossen und der Verschluß 17 geöffnet und das
Objekt 2 im Grundzustand unter dem Beleuchtungswinkel +θxz beleuchtet. Das Speckle-
Interferenzbild, das diese erste Beleuchtung erzeugt, wird vom Rechner 10 mittels des
Bildaufnehmers 6a, z. B. einer CCD-Kamera, gespeichert. Die Intensitätsverteilungen
werden wie üblich von mehreren, um einen vorher festgelegten Winkel phasenverschobe
nen Shearogrammen mit der bekannten Phasenschiebetechnik gemessen, und die Phasen-
Werte θ+1 werden für jeden Punkt des Speckle-Interferenzfeldes berechnet. Dann wird der
Verschluß 17 geschlossen und der Verschluß 18 geöffnet. Damit wird das Objekt durch
den weiteren Beleuchtungsstrahl 16 unter dem Beleuchtungswinkel -θxz illuminiert und
analog die Phasenverteilung θ-1 des durch den Beleuchtungsstrahl 16 erzeugten Speckle-
Interferenzfeldes im Rechner 10 bestimmt.
Nachdem das Objekt 2 belastet ist, verändert sich das Speckle-Interferenzfeld entspre
chend. Es werden wiederum die Phasenverteilung θ+2 für den Beleuchtungsstrahl 15 unter
dem Winkel +θxz bei geschlossenem Verschluß 18 und bei offenem Verschluß 17 und
weiterhin die Phasenverteilung θ-2 für den Beleuchtungsstrahl 16 unter dem Winkel
-θxz bei geöffnetem Verschluß 18 und bei geschlossenem Verschluß 17 ermittelt und aus
den gemessenen Intensitätsverteilungen der phasenverschobenen Shearogramme bestimmt.
Durch digitale Subtraktion der Phasenverteilungen im unbelasteten bzw. belasteten
Zustand des Objekts 2 mittels des Rechners 10 können die relativen Phasenänderungswerte
Δ+ θ für den Beleuchtungsstrahl 15 unter dem Winkel +θxz der Lichtquelle 1 ermittelt
werden. Ähnlich wie Δ+ θ können die relativen Phasenänderungswerte Δ- θ für den Beleuch
tungsstrahl 16 unter dem Winkel -θxz der Lichtquelle 19 berechnet werden.
Bei der oben anhand der Vorrichtung nach Fig. 3 erläuterten Verfahrensweise können die
Öffnungs- und Schließzeiten der Verschlüsse 17 und 18 so schnell gesteuert werden, daß
deren halbe, einfache oder doppelte Frequenz mit der Anregungsfrequenz eines zu
Schwingungen angeregten Objekts übereinstimmt, wodurch die in-plane Dehnungen mit
dem optoelektronischen Sensor 6a aufgezeichnet werden können. Dazu sind die Ver
schlüsse 17 und 18 durch akusto- oder elektrooptische Modulatoren an gleicher Stelle im
Strahlengang 15 und 16 zu ersetzen. Die schnelle Steuerung der Öffnungs- und Schließzei
ten der Verschlüsse 17 und 18 führt zur Echtzeit-Registrierung von reinen in-plane und
out-of-plane Dehnungen.
Eine weitere Variante bei der Vorrichtung nach Fig. 3 könnte darin bestehen, vor der
Shearing-Anordnung 3 eine aus einem Objektiv und einer nachgeschalteten Linse bestehen
de Abbildungsoptik 20 derart anzuordnen, daß zwischen dem Objektiv und der Linse eine
Zwischenabbildung 21 entsteht und dadurch bedingt hinter der Linse parallele Licht
strahlen des abzubildenden Objekts erzeugt werden, die die Shearing-Anordnung 3 und
anschließend eine weitere Linse vor dem Sensor 6a durchlaufen.
Grundlage für eine exakte Messung sind jeweils zwei Shearogramme mit zwei ver
schiedenen Beleuchtungswinkeln θ₁ und θ₂ in derselben Ebene xz oder yz. Unter dieser
Voraussetzung ergeben sich die zwei folgenden Grundgleichungen der Shearografie mit
sin(-θ) = -sinθ für die Vershearung in x-Richtung:
Für die hellen Interferenzstreifen gilt für die relative Phasenverschiebung Δ = 2πn mit n
als Streifenordnung. Durch Subtrahieren der Gleichung (1) von der Gleichung (2) ergibt
sich die folgende Auswertegleichung mit λ als Wellenlänge des Laserlichts:
Diese Gleichung ist unabhängig von dem out-of-plane Term ∂w/∂x. Wenn die Beleuch
tungswinkel die Werte θ₁ = θ und θ₂ = -θ annehmen, so ergibt sich für die Interferenz
streifen folgendes:
Darin sind δx der Shearabstand auf der Objektoberfläche in x-Richtung, n₁ die Streifen
ordnung für +θ und n₂ die Streifenordnung für -θ.
Analoges gilt für die y-Richtung als Shearrichtung.
Aus den oben genannten Grundgleichungen der Shearografie können die relativen
Phasenänderungen Δ+ θ (entspricht dem Beleuchtungswinkel +θxz) und Δ- θ (entspricht dem
Beleuchtungswinkel -θxz) wie folgt ausgedrückt werden:
Weil die relativen Phasenänderungen Δ+ θ und Δ- θ berechnet worden sind, kann direkt aus
dem digitalen Subtrahieren Δ- r von Δ+ θ ein Streifenmuster, das die reine in-plane Dehnung
∂u/∂x darstellt, für die x,z-Beleuchtungsebene in x-Richtung als Shearrichtung geliefert
werden:
Für verschiedene Shearrichtungen und Beleuchtungsebenen ergeben sich unterschiedliche
Streifenmuster, die den verschiedenen in-plane Komponenten des Dehnungstenors entsprechen:
für die xz-Beleuchtungsebene und die y-Shearrichtung,
für die yz-Beleuchtungsebene und die x-Shearrichtung, sowie
für die yz-Beleuchtungsebene und die y-Shearrichtung.
Aus den Gleichungen (7) bis (10) folgt, daß in ihnen die Terme ∂w/∂x usw. nicht mehr
enthalten sind und damit ausschließlich für die in-plane Verformungen charakteristische
Größen erhalten werden.
Außer zur reinen in-plane Dehnungsmessung kann diese Technik aber auch zur Messung
der out-of-plane Dehnungsanteile ∂w/∂x und ∂w/∂y unter einem beliebigen Beleuchtungs
winkel θ der Beleuchtungsquellen 1 und 19 durch digitales Addieren von Δ- θ und Δ+ θ
dienen.
Aus den oben angegebenen Gleichungen folgt:
Für die y-Shearrichtung ergibt sich:
Aus den beiden zuletzt genannten Gleichungen können die Werte ∂w/∂x und ∂w/∂y
erhalten werden.
Rein rechnerisch erfolgt die Auswertung dabei jeweils so, daß zunächst die Ergebnisse im
belasteten und unbelasteten Zustand bei den Winkeln +θxz und -θxz einschließlich der
erforderlichen Phasenverschiebungen gespeichert werden. Hierdurch werden die Werte
Δ+ θ und Δ- θ erhalten, die in den Fig. 4a und 5a (für Δ+ θ) und in Fig. 4b und 5b (für Δ- θ)
als sogenannte Zwischenbilder dargestellt sind. Aus diesen Ergebnissen werden dann
durch Bildung der Differenzen (oben z. B. ΔS1) die reinen in-plane Terme errechnet, die in
Fig. 4c und 5c dargestellt sind, oder durch Bildung der Summen (z. B. oben ΔA1) die
reinen out-of-plane Terme errechnet, die in Fig. 4d dargestellt sind. Unregelmäßigkeiten
in den Interferenzmustern, die nach Fig. 4a, 4b, 5a und 5b durch kombinierte in-plane
und out-of-plane Verformungen des Objekts 2 erhalten werden, müssen daher nicht mehr
wie bisher in Kauf genommen werden. Derartige Interferenzmuster können vielmehr
entsprechend Fig. 4c und 5c in reine in-plane Streifenmuster oder entsprechend Fig. 4d in
reine out-of-plane Streifenmuster zerlegt werden.
Beispiele für die aus den obigen Gleichungen ΔS1 bis ΔS4 errechenbaren Werten von ∂u/∂x,
∂u/∂y, ∂v/∂x und ∂v/∂y sind in Fig. 6a bis 6d und 7a bis 7d dargestellt, und zwar jeweils
für einen Zugstab mit Außenkerben bzw. mit einem Mittelloch bei einer Belastung von
150 N. Die Streifenmuster sind über der Mittelachse symmetrisch, und der Kontrast der
Streifen ist sehr gut.
Bei der Vorrichtung nach Fig. 3 können die beiden Beleuchtungsstrahlen 15 und 16 auch
mit der Einrichtung nach Fig. 8 erzeugt werden. Hier ist vor einer einzigen Lichtquelle 1
ein Spiegel 22 derart angeordnet, daß das Licht entweder in einem direkten Strahl 15 oder
nach Reflexion am Spiegel 22 in einem indirekten Strahl 16 auf das Objekt 2 auftreffen
kann. Mittels eines unmittelbar vor der Lichtquelle 1 angeordneten Verschlusses 23 kann
das Objekt 2 somit wahlweise direkt oder über den Spiegel 22 indirekt illuminiert werden.
Die Gleichungen (7) bis (12) zeigen, daß es zur Ermittlung der sechs Terme ∂u/∂x, ∂v/∂x,
∂w/∂x und ∂u/∂y, ∂v/∂y, ∂w/∂y mit Hilfe der Vorrichtung nach Fig. 3 erforderlich ist,
unterschiedliche Einstellungen vorzunehmen. Dabei muß außerdem die Belastung des
Objekts 2 mehrfach geändert werden. So können z. B. die Terme ∂u/∂x und ∂w/∂x
dadurch erhalten werden, daß die Lichtquellen 1, 19 in der xz-Ebene angeordnet werden
und die Shearung in x-Richtung vorgenommen wird (Gleichungen (7) und (11)). Sollen
dagegen z. B. die Terme ∂v/∂y und ∂w/∂y erhalten werden, müßte entsprechend die
Lichtquelle in der yz-Ebene angeordnet und die Shearung in y-Richtung durchgeführt
werden. Diese unterschiedlichen Einstellungen bringen jedoch erhebliche meßtechnische
Probleme mit sich, weil alle Einstellungen sowohl für das Null-Shearogramm als auch für
die Belastungs-Shearogramme jeweils im wesentlichen identisch sein müssen. Dies ist
durch Verschwenkung der Lichtquellen 1 bzw. 19 oder Verkippen des Spiegels 5 praktisch
unmöglich, da eine Genauigkeit für die auf die Bildebene 6 fallenden Lichtstrahlen im µ-Be
reich erforderlich wäre. Abgesehen davon ist auch eine mehrmalige identische Be
lastungsänderung des Objekts 2 kaum realisierbar. Zwar wäre es denkbar, an sich
bekannte Shearing-Elemente zu verwenden, die das Licht gleichzeitig in x- und y-Rich
tung ablenken können (DE 44 14 287 A1), doch sind derartige Elemente nur in
Verbindung mit Bildaufnehmern in Form von fotografischen Filmen, nicht aber in
Verbindung mit Bildaufnehmern in Form von optoelektronischen Sensoren auf CCD-Basis
oder dergleichen brauchbar, deren Anwendung wegen der leichteren Auswertung der Meß
ergebnisse bevorzugt wird.
Ein erstes Ausführungsbeispiel der Zusatzerfindung (Fig. 9), bei dem gleiche Teile mit
den selben Bezugszeichen wie in Fig. 1 bis 8 versehen sind, enthält analog zu Fig. 3 die
Zweistrahl-Interferometer-Anordnung 3 mit dem Shearing-Spiegel 5 und dem weiteren
Spiegel 4 zur Herstellung der Phasenschiebungen. Das vom Objekt 2 kommende Licht
wird auf einen optoelektronischen Sensor 6a, vorzugsweise eine CCD-Kamera, gelenkt
und wie in Fig. 3 weiterverarbeitet.
Zur Beleuchtung des Objekts 2 dienen in Fig. 9 vier Lichtquellen 1a, 1b, 1c und 1d,
wobei die Achsen der beiden Lichtquellen 1a und 1b in der xz-Ebene und die Achsen der
beiden Lichtquellen 1c und 1d in der yz-Ebene angeordnet sind und mit der Betrachtungs
richtung (z-Achse) jeweils die Winkel +θxz, -θxz und +θyz, -θyz bilden. Für die Beleuch
tungsebene xz und die Shearung mittels des Spiegels 5 in x-Richtung ergibt sich analog zu
den obigen Gleichungen
Dagegen werden analog für die Beleuchtungsebene yz und die Shearing in y-Richtung die
folgenden Gleichungen erhalten:
Durch Subtraktion der Gleichung (14) von der Gleichung (13) ergibt sich analog zur
Gleichung (7):
während die Addition von (13) und (14) analog zu Gleichung (11) zu
führt.
Schließlich wird durch Subtraktion der Gleichung (16) von der Gleichung (15) analog zur
Gleichung (9) der Ausdruck
erhalten.
Durch Beleuchtung in den xz- und yz-Ebenen und Shearung in x-Richtung lassen sich
daher die Terme ∂u/∂x, ∂v/∂x und ∂w/∂x erhalten, ohne daß die Lagen der Lichtquellen
verändert werden müssen. Der Spiegel 5 braucht nur einmal in x-Richtung gekippt
werden. Die Bewegungen des Spiegels 4 und die Steuerung eventuell vorhandener
Verschlüsse oder dergleichen werden entsprechend dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3
durchgeführt.
Durch Änderung der Shearrichtung des Spiegels 5 in y-Richtung und analoge Anwendung
der Gleichungen (13) bis (19) können die Terme ∂u/∂y, ∂v/∂y und ∂w/∂y erhalten
werden. Alle sechs Terme ergeben sich daher durch zwei Meßreihen anstatt durch vier
Meßreihen (Fig. 3).
Bei der Ausführungsform nach Fig. 10 sind drei Lichtquellen 1e, 1f und 1g vorgesehen,
wobei die Lichtquellen 1e, 1f z. B. in der xz-Ebene (+θxz, -θxz) angeordnet sind, wohinge
gen die Lichtquelle 1g in der yz-Ebene liegt (z. B. +θyz. Bei im übrigen gleicher Aus
bildung einer Zweistrahl-Interferometer-Anordnung 3a wie in Fig. 9 können die Gleichun
gen (13), (14) und (15) kombiniert werden, wodurch sich wie im obigen Beispiel die Glei
chungen (17) und (18) ergeben. Wird θxz = θyz gewählt, die Gleichung (15) mit dem
Faktor 2 multipliziert und die Gleichung (18) vom Ergebnis davon abgezogen, dann ergibt
sich
Auch in diesem Fall können somit mittels einer einzigen Meßreihe die Terme ∂u/∂x,
∂v/∂x, ∂w/∂x erhalten werden. Dasselbe gilt für die drei übrigen Terme bei entsprechender
Anwendung der obigen Gleichungen.
Die Vorrichtung nach Fig. 10 kann dadurch erweitert werden, daß anstelle des Shearing-
Spiegels 5 zwei Shearing-Spiegel 5a und 5b vorgesehen werden, die auf einer linearen
Gleitführung 26 oder dergleichen derart verschiebbar gelagert sind, daß sie wahlweise dem
Strahlteiler 7 so zugeordnet werden können, wie anhand der Fig. 1 und 3 für den Spiegel 5
beschrieben ist. Dabei ist z. B. der Spiegel 5a um eine zur z-Achse parallele Achse
schwenkbar und für die Vershearung in y-Richtung eingerichtet, wohingegen der Spiegel
5b um eine zur y-Achse parallele Achse schwenkbar und für die Vershearung in x-Rich
tung eingerichtet ist. Die Verschiebung der Spiegel 5a, 5b in z-Richtung kann z. B.
manuell oder motorisch erfolgen.
Die Arbeitsweise bei der Anwendung der beiden Kippspiegel 5a, 5b ist z. B. wie folgt. Es
werden zunächst mit Hilfe des Spiegels 5b und der Lichtquellen 1e, 1f und 1g nachein
ander drei Null-Shearogramme für die Shearung in x-Richtung aufgenommen und im
Rechner 10 gespeichert. Anschließend wird durch Verschiebung der zweckmäßig zu einer
Baueinheit zusammengefaßten Spiegel 5a, 5b der Spiegel 5a für die y-Shearrichtung in
Position gebracht und die Aufnahme der drei Null-Shearogramme für die y-Richtung und
die drei Lichtquellen 1e, 1f und 1g wiederholt. Danach wird das Objekt 2 durch eine
Kraft, durch Erwärmung, durch Aufprägung einer Schwingung oder dergleichen belastet,
und danach werden je drei Belastungs-Shearogramme für die x- bzw. y-Shearrichtung
aufgenommen, wobei die Reihenfolge, in der die Spiegel 5a, 5b verwendet werden,
beliebig ist. Die drei Belastungsshearogramme werden ebenfalls im Rechner gespeichert.
In allen Fällen kann mit dem Spiegel 4 die gewünschte Phasenschiebung durchgeführt
werden.
Für die Auswertung stehen, soweit es die x-Shearrichtung betrifft, die obigen Gleichungen
(13), (14) und (15) zur Verfügung. Dagegen ergeben sich für die y-Shearrichtung die
folgenden Gleichungen:
Die Gleichungen (13), (14) und (15) werden entsprechend den Gleichungen (17), (18) und
(20) weiterbehandelt, woraus sich die Terme ∂u/∂x, ∂v/∂x und ∂w/∂x berechnen lassen,
während die Gleichungen (21), (22) und (23) bei einer zu den Gleichungen (17), (18) und
(20) analogen Behandlung zu den Termen ∂u/∂y, ∂v/∂y und ∂w/∂y führen. Dadurch
können mittels einer einzigen Belastungsänderung des Objekts 2 alle sechs gesuchten
Terme digital erfaßt werden, was die Genauigkeit der Messung wesentlich vergrößert.
Bei Anwendung der beiden Kippspiegel 5a, 5b und der vier Lichtquellen 1a bis 1d im
Sinne der Fig. 9 können in ähnlicher Weise acht Gleichungen erhalten werden, die dann
nach den Gleichungen (17), (18) und (19) zur Berechnung der sechs Terme benutzt
werden können.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 11 werden wie in Fig. 10 drei Lichtquellen 1e, 1f und
1g in Kombination mit zwei kippbaren Shearing-Spiegeln 5c, 5d angewendet. Die beiden
Spiegel 5c und 5d sind z. B. in y-Richtung übereinander angeordnet, wobei der Spiegel 5c
um eine zur z-Achse parallele Achse und der Spiegel 5d um eine zur y-Achse parallele
Achse schwenkbar ist, so daß der Spiegel 5c für Vershearungen in y-Richtung und der
Spiegel 5d für Vershearungen in x-Richtung zuständig ist. Im Gegensatz zur Fig. 9 sind
außerdem zwei z. B. in y-Richtung übereinander angeordnete Strahlteiler 7a und 7b
vorgesehen, denen je einer der beiden Shearing-Spiegel 5c, 5d und je ein optoelektroni
scher Sensor 6a, 6b fest zugeordnet ist. Eine einzige Phasenschiebungseinheit enthält einen
über beide Strahlteiler 7a, 7b erstreckten Spiegel 4a, so daß durch dessen Verschiebung
exakt gleiche Phasenschiebungen für beide Shearrichtungen erzeugt werden können. Die
bei Bedarf benötigten Verschlüsse und sonstigen optischen Einrichtungen sind der
Einfachheit halber in Fig. 11 weggelassen. Die Strahlteiler 7a, 7b und die Spiegel 5c und
5d bilden zusammen mit dem zugehörigen Teil des Spiegels 4 je eine komplette Shearing-
Einheit.
Bei Anwendung der Vorrichtung nach Fig. 11 können analog zur obigen Beschreibung
durch Subtraktion und Addition der erhaltenen Shearogramme mit einer einzigen Bela
stungsänderung des Objekts 2 alle sechs gesuchten Terme ∂u/∂x bis ∂w/∂y erhalten
werden, wobei die Auswertung in x- und y-Richtung wegen des Vorhandenseins der zwei
getrennten Sensoren 6a und 6b gleichzeitig und unabhängig voneinander erfolgen kann.
Außerdem versteht sich, daß in Fig. 11 wie in Fig. 9 wahlweise auch vier Lichtquellen
vorgesehen werden können.
Die in Fig. 11 gezeigte Vorrichtung kann bei größeren Objekten 2 dadurch zu Problemen
führen, daß vom Objekt 2 reflektierte und auf die Strahlteiler 7a, 7b treffenden Licht
bündel 27, 28 einen Winkel miteinander bilden und daher die Betrachtungsrichtungen nicht
genau senkrecht zur Objektoberfläche verlaufen. Zur Vermeidung dieses Problems ist bei
der Vorrichtung nach Fig. 12 vorgesehen, ein vom Objekt 2 reflektiertes Lichtbündel 29
zunächst auf einen Strahlteiler 7c treffen zu lassen und dadurch in zwei Lichtbündel 30
und 31 zu teilen, die z. B. senkrecht zueinander stehen. Jedem dieser Lichtbündel 30, 31
ist je eine komplette Shearing-Einheit 3b, 3c entsprechend Fig. 9 zugeordnet, wobei z. B.
die Anordnung 3b für die x-Shearrichtung und die Anordnung 3c für die y-Shearrichtung
eingerichtet ist. Dadurch ist sichergestellt, daß die Betrachtungsrichtung für beide
Anordnungen 3b, 3c durch das Lichtbündel 29 definiert und senkrecht zur Objektober
fläche angeordnet ist. Im übrigen ist die Vorrichtung nach Fig. 12 analog zur Vorrichtung
nach Fig. 11 aufgebaut, so daß mit einer einzigen Belastungsänderung des Objekts 2
wiederum alle sechs gesuchten Terme ∂u/∂x bis ∂w/∂y erhalten werden können. Dabei
bringen die Vorrichtungen nach Fig. 11 und 12 den besonderen Vorteil mit sich, daß zur
Ermittlung aller sechs Terme im Vergleich zur Fig. 10 nur eine Verkippung der Shearing-
Spiegel erforderlich ist, d. h. die Shearing-Spiegel brauchen auch nicht linear verschoben
werden.
Die Erfindung ist nicht auf die beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt, die sich
auf vielfache Weise abwandeln lassen. Insbesondere können die beschriebenen Merkmale
einzeln oder gesamt in anderen als den dargestellten und beschriebenen Kombinationen
verwendet werden. Dabei ist vor allem auch zu beachten, daß die Shearing-Anordnungen
in Fig. 3 nur beispielsweise als Zweistrahlinterferometer 3 dargestellt wurden, weil sich
mit ihm die Shearung und Phasenschiebung in besonders einfacher Weise durchführen
lassen. Alternativ können bei entsprechender Ergänzung der übrigen Komponenten im
Sinne der vorliegenden Erfindung aber auch andere Shearing-Anordnungen (z. B.
DE 44 14 287 A1) verwendet werden.
Claims (12)
1. Verfahren zur shearografischen Ermittlung von Ableitungen der in-plane und out-of-
plane Verformungen einer Oberfläche eines Objekts (2) in wenigstens eine ausgewählte
Richtung, bei dem die Objektoberfläche mit kohärentem Licht einer Lichtquelle (1a bis
1g) bestrahlt, das von dieser diffus reflektierte Licht mittels eines eine Shearing-Anord
nung (3, 3a bis 3c) und eine optische Achse (z) aufweisenden optischen Systems in einer
Bildebene (6) abgebildet und von der Objektoberfläche wengistens ein Null-Shearogramm
und ein Belastungs-Shearogramm aufgenommen wird, wobei zur Ermittlung reiner in-
plane oder out-of-plane Dehnungen die Objektoberfläche aus unterschiedlichen Richtungen
(+θxz, -θxz bzw. +θyz, -θyz) nacheinander (sequentiell) bestrahlt wird und die reinen in-
plane oder out-of-plane Anteile durch Kombination der dadurch erhaltenen Shearogramme
ermittelt werden, nach Hauptpatent (Patentanmeldung P 44 46 887.3), dadurch gekenn
zeichnet, daß die Bestrahlung aus wenigstens drei unterschiedlichen Richtungen erfolgt,
wobei die Bestrahlung aus zwei Richtungen (+θxy, -θxy) vorzugsweise spiegelsymmetrisch zu
einer gemeinsamen, die optische Achse (z) einschließenden ersten Ebene (xz) erfolgt,
während die Bestrahlung aus der dritten Richtung (+θyz) in einer senkrecht zur ersten
Ebene liegenden, die optische Achse (z) einschließenden zweiten Ebene (yz) erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung aus vier
Richtungen erfolgt, wobei die Bestrahlung aus der vierten Richtung (-θyz) in der zweiten
Ebene (yz) stattfindet.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Winkel, unter
denen die Bestrahlungen aus drei Richtungen erfolgen, gleich sind, und daß die Winkel
(± θxz bzw. ± θyz), unter denen die Bestrahlungen aus vier Richtungen erfolgen, in jeder
Ebene (xz bzw. yz) jeweils untereinander gleich sind.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Kombination der Shearogramme durch Addition oder Subtraktion relativer Phasenänderun
gen erfolgt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die aus den
drei oder vier unterschiedlichen Richtungen erfolgende Bestrahlung der Objektoberfläche
mit den erforderlichen Phasenschiebungen erfolgt, für jede Richtung die im unbelasteten
und belasteten Zustand des Objekts (2) erhaltenen Abbildungen digital gespeichert werden
und die daraus abgeleiteten relativen Phasenänderungen addiert oder subtrahiert werden.
6. Vorrichtung zur shearografischen Ermittlung von Ableitungen der Verformungen an
einer Oberfläche eines Objekts (2) in ausgewählte Shearrichtungen, enthaltend:
kohärentes Licht erzeugende Mittel (1a bis 1g) zur Bestrahlung der Objektoberfläche aus unterschiedlichen Richtungen (+θxz, -θxz bzw. +θyz, -θyz), eine Bildebene (6), ein eine optische Achse (z) und wenigstens eine Shearing-Anordnung (3, 3a, 3b, 3c) aufweisendes optisches System zur Abbildung der Objektoberfläche in der Bildebene (6) und Mittel zur Ermittlung reiner in-plane und/oder out-of-plane Dehnungen, nach Hauptpatent (Patentan meldung P 44 46 887.3), dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bestrahlung des Objekts (2) aus wenigstens drei Richtungen (+θxz, -θxz, +θyz) eingerichtet sind, wobei die Bestrahlung aus zwei Richtungen (+θxz, -θxz vorzugsweise spiegelsymmetrisch zu einer gemeinsamen, die optische Achse (z) einschließenden ersten Ebene (xz) erfolgt, während die Bestrahlung aus den anderen Richtungen (+θyz, -θyz) in einer senkrecht zur ersten Ebene liegenden, die optische Achse (z) einschließenden zweiten Ebene (yz) erfolgt.
kohärentes Licht erzeugende Mittel (1a bis 1g) zur Bestrahlung der Objektoberfläche aus unterschiedlichen Richtungen (+θxz, -θxz bzw. +θyz, -θyz), eine Bildebene (6), ein eine optische Achse (z) und wenigstens eine Shearing-Anordnung (3, 3a, 3b, 3c) aufweisendes optisches System zur Abbildung der Objektoberfläche in der Bildebene (6) und Mittel zur Ermittlung reiner in-plane und/oder out-of-plane Dehnungen, nach Hauptpatent (Patentan meldung P 44 46 887.3), dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bestrahlung des Objekts (2) aus wenigstens drei Richtungen (+θxz, -θxz, +θyz) eingerichtet sind, wobei die Bestrahlung aus zwei Richtungen (+θxz, -θxz vorzugsweise spiegelsymmetrisch zu einer gemeinsamen, die optische Achse (z) einschließenden ersten Ebene (xz) erfolgt, während die Bestrahlung aus den anderen Richtungen (+θyz, -θyz) in einer senkrecht zur ersten Ebene liegenden, die optische Achse (z) einschließenden zweiten Ebene (yz) erfolgt.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel drei oder vier
Lichtquellen (1e, 1f, 1g bzw. 1a, 1b, 1c, 1d) aufweisen, von denen zwei zur Bestrahlung
des Objekts (2) in der ersten Ebene (xz) und die anderen zur Bestrahlung des Objekts (2)
in der zweiten Ebene (yz) bestimmt sind.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Shearing-Anordnung
(3) zwei parallel zur optischen Achse (z) verschiebbare, zur Vershearung in zueinander
senkrechte Richtungen eingerichtete Shearing-Elemente (5a, 5b) aufweist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Shearing-Anordnung
(3) zwei Shearing-Einheiten (5c, 7a, 4a, bzw. 5d, 7b, 4a; 3b, 3c) aufweist, die mit je
einem Shearing-Element (5c, 5d) versehen sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß den Shearing-Einheiten
ein gemeinsames Phasenschiebeelement (4a) zugeordnet ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Shearing-Anordnung
(3bg, 3c) einen Strahlteiler (7c), der die vom Objekt (2) kommenden Lichtstrahlen (29) in
zwei Lichtbündel (30, 31) aufteilt, und zwei je einem dieser Lichtbündel (30, 31) zugeord
nete Shearing-Einheiten (3b, 3c) aufweist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede
Shearing-Einheit mit je einem separaten Mittel (6a, 6b) zur Ermittlung der Dehnungen
verbunden ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19625830A DE19625830A1 (de) | 1994-12-28 | 1996-06-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944446887 DE4446887A1 (de) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
DE19625830A DE19625830A1 (de) | 1994-12-28 | 1996-06-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=6537315
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944446887 Withdrawn DE4446887A1 (de) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
DE19625830A Ceased DE19625830A1 (de) | 1994-12-28 | 1996-06-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19944446887 Withdrawn DE4446887A1 (de) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | Verfahren und Vorrichtung für die Shearing-Speckle-Interferometrie |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE4446887A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1014036A2 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-28 | Stefan Dengler | Vorrichtung und Verfahren zur Objektuntersuchung |
DE19902783A1 (de) * | 1999-01-25 | 2000-08-10 | Ettemeyer Gmbh & Co Mes Und Pr | Meßeinheit |
WO2001027558A1 (de) * | 1999-10-09 | 2001-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische messvorrichtung zur formvermessung |
CN112815863A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-05-18 | 中煤航测遥感集团有限公司 | 形变监测系统、形变监测方法、形变计算设备及存储介质 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103048268B (zh) * | 2013-01-10 | 2015-05-27 | 南京中迅微传感技术有限公司 | 基于微偏振片阵列的数字电子剪切散斑干涉仪 |
-
1994
- 1994-12-28 DE DE19944446887 patent/DE4446887A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-06-28 DE DE19625830A patent/DE19625830A1/de not_active Ceased
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1014036A2 (de) * | 1998-12-23 | 2000-06-28 | Stefan Dengler | Vorrichtung und Verfahren zur Objektuntersuchung |
DE19859725A1 (de) * | 1998-12-23 | 2000-07-06 | Stefan Dengler | Vorrichtung und Verfahren zur Objektuntersuchung |
DE19859725C2 (de) * | 1998-12-23 | 2001-02-22 | Stefan Dengler | Vorrichtung zur Ermittlung von Verformungen an einer Objektoberfläche, insbesondere einer diffus streuenden Objektoberfläche und Verwendung der Vorichtung |
EP1014036A3 (de) * | 1998-12-23 | 2002-05-02 | Stefan Dengler | Vorrichtung und Verfahren zur Objektuntersuchung |
US6417916B1 (en) | 1998-12-23 | 2002-07-09 | Stefan Dengler | Method and apparatus for examining test pieces |
DE19902783A1 (de) * | 1999-01-25 | 2000-08-10 | Ettemeyer Gmbh & Co Mes Und Pr | Meßeinheit |
DE19902783C2 (de) * | 1999-01-25 | 2002-11-07 | Ettemeyer Ag | Meßeinheit |
WO2001027558A1 (de) * | 1999-10-09 | 2001-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische messvorrichtung zur formvermessung |
US6813029B1 (en) | 1999-10-09 | 2004-11-02 | Robert Bosch Gmbh | Interferometric measuring device for form measurement |
CN112815863A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-05-18 | 中煤航测遥感集团有限公司 | 形变监测系统、形变监测方法、形变计算设备及存储介质 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE4446887A1 (de) | 1996-07-04 |
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