DE3766783D1 - Verfahren zur pruefung der elektrisch aktiven unreinheiten von halbleitermaterial oder strukturen sowie messanordnung dazu. - Google Patents

Verfahren zur pruefung der elektrisch aktiven unreinheiten von halbleitermaterial oder strukturen sowie messanordnung dazu.

Info

Publication number
DE3766783D1
DE3766783D1 DE8787905917T DE3766783T DE3766783D1 DE 3766783 D1 DE3766783 D1 DE 3766783D1 DE 8787905917 T DE8787905917 T DE 8787905917T DE 3766783 T DE3766783 T DE 3766783T DE 3766783 D1 DE3766783 D1 DE 3766783D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
testing
structures
semiconductor material
measuring arrangement
electrically active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE8787905917T
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Jantsch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Magyar Tudomanyos Akademia
Original Assignee
Magyar Tudomanyos Akademia
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from HU861096A external-priority patent/HU196262B/hu
Application filed by Magyar Tudomanyos Akademia filed Critical Magyar Tudomanyos Akademia
Application granted granted Critical
Publication of DE3766783D1 publication Critical patent/DE3766783D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

DE8787905917T 1986-03-17 1987-03-17 Verfahren zur pruefung der elektrisch aktiven unreinheiten von halbleitermaterial oder strukturen sowie messanordnung dazu. Expired - Fee Related DE3766783D1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
HU861096A HU196262B (en) 1986-03-17 1986-03-17 Method for testing electrically active impuritles in semiconductor materials and structures and measuring arrangement for implementing method
PCT/HU1987/000016 WO1987005701A1 (en) 1986-03-17 1987-03-17 Method for the examination of electrically active impurities of semiconductor materials or structures and measuring arrangement for carrying out the method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3766783D1 true DE3766783D1 (de) 1991-01-31

Family

ID=26317319

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8787905917T Expired - Fee Related DE3766783D1 (de) 1986-03-17 1987-03-17 Verfahren zur pruefung der elektrisch aktiven unreinheiten von halbleitermaterial oder strukturen sowie messanordnung dazu.

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3766783D1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3689619D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der konzentration von asphalten.
ATE16820T1 (de) Testelement zur bestimmung von glukose in hoher konzentration.
DE3588190T2 (de) Vorrichtung zur transdermalen Applikation von Medikamenten
DE3689735D1 (de) Verfahren und Gerät zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen.
DE3382359D1 (de) Verfahren zur kultivierung und isolierung von zellen.
DE3650406D1 (de) Anlage zur Vorbereitung der Vermahlung von Weizen sowie Verfahren und Anlage zur Weizenvermahlung.
DE3854644D1 (de) Verfahren und Vorrichtungen zur Zellenbestimmung.
IT8423751A0 (it) Metodo ed apparecchiatura per la misura di parametri di coagulazione.
DE3869490D1 (de) Verfahren zur elektrochemischen behandlung von stoffen.
DE3770784D1 (de) Verfahren und einrichtung zur detektion von korrosion oder dergleichen.
ATE45106T1 (de) Verfahren zur einkapselung von teilchen oder von tropfen.
DE3673527D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur bestimmung von parametern gasfoermiger substanzen.
IT8722659A0 (it) Dispositivo semiconduttore e metodo di fabbricazione dello stesso.
DE3486081D1 (de) Verfahren und testzusammensetzung zur bestimmung von wasserstoffperoxid.
DE3669591D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur ermittlung der adhaesion von zellen.
DE3587927D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Untersuchung von Tabletten.
KR880701620A (ko) 분극물질 및 이의 제조방법
DE3674076D1 (de) Geraet und verfahren zur abbildung der durch elektronenbeschuss induzierten verteilung von elektron-loch-paaren.
KR860005412A (ko) 스위치 웨이퍼의 제법 및 그 웨이퍼
DE3783773D1 (de) Vorrichtung zur feststellung der lebensfaehigkeit von nematoden und verfahren zu ihrer verwendung.
DE3579947D1 (de) Verfahren und geraet zur sehfeldbestimmung.
AT350193B (de) Verfahren und mittel zur bestimmung von antithrombin iii
DE3578219D1 (de) Zerstoerungsfreie werkstoffpruefung von ferromagnetika.
DE3678621D1 (de) Verfahren und testzusammensetzung zur bestimmung von wasserstoffperoxyd.
DE3766783D1 (de) Verfahren zur pruefung der elektrisch aktiven unreinheiten von halbleitermaterial oder strukturen sowie messanordnung dazu.

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee