DE3720916A1 - Massverkoerperung - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Maßverkörperung gemäß
dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Eine solche Maßverkörperung findet insbesondere bei
Längen- oder Winkelmeßeinrichtungen Verwendung. Der
artige Positionsmeßeinrichtungen werden speziell bei
Bearbeitungsmaschinen zur Messung der Relativlage
eines Werkzeugs bezüglich eines zu bearbeitenden
Werkstücks sowie bei Koordinatenmeßmaschinen zur
Ermittlung von Lage und/oder Abmessungen von Prüf
objekten eingesetzt.
Diese Maßverkörperung besteht bei einer Längenmeß
einrichtung aus dem mit einer Linearteilung verse
henen Maßstab und/oder aus der mit einer entspre
chenden Abtastteilung versehenen Abtastplatte und
bei einer Winkelmeßeinrichtung aus der mit einer
Winkelteilung versehenen Teilscheibe und/oder aus
der mit einer entsprechenden Abtastteilung verse
henen Abtastplatte. Diese Teilungen können bei
spielsweise als Amplitudengitter und als Phasen
gitter ausgebildet sein.
Die hochgenaue und hochauflösende Teilung einer
derartigen Maßverkörperung ist aber insbesondere
bei Bearbeitungsmaschinen einer Verschmutzungsge
fahr ausgesetzt, die zu Meßungenauigkeiten führen
kann, die bei den heutigen Anforderungen an die
Maßgenauigkeit nicht mehr tragbar sind.
Aus dem DE-GM 84 10 775 ist ein Phasengitter be
kannt, dessen Stufengitter auf einem Substrat
durch eine ganzflächig aufgebrachte optische Kitt
schicht gegen Verschmutzungen geschützt ist. Zum
mechanischen Schutz dieser optischen Kittschicht
ist auf der freien Oberfläche der optischen Kitt
schicht eine Glaslamelle aufgebracht. Dieses ge
schützte Phasengitter ist aber relativ aufwendig
in der Herstellung.
In dem Prospekt der Fa. Heidenhain "Neue Produkte:
LIP 101 Inkrementales Längenmeßsystem hoher Genau
igkeit", 11.86, ist eine Maßstabteilung in Form
eines Phasengitters beschrieben, die durch eine
mittels einer Kittschicht aufgekittete transparen
te Abdecklamelle in Form einer Glaslamelle gegen
Verschmutzungen geschützt ist. Da die Teilungs
ebene mit der Teilung und die Unterseite der Glas
lamelle im allgemeinen herstellungsbedingt nicht
ganzflächig planparallel sein werden, ergeben sich
kein ganzflächiger Kontakt zwischen der Teilungs
ebene des Maßstabs und der Unterseite der Glasla
melle, sondern partiell unterschiedliche Abstände
bis zu einigen µm die Newtonsche Ringe durch Re
flexionen an der Unterseite der Glaslamelle und
an der Teilungsebene zur Folge haben, die die
Meßgenauigkeit nachteilig beeinflussen können.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei ei
ner Maßverkörperung der genannten Gattung eine An
ordnung der transparenten Abdecklamelle anzugeben,
die Meßungenauigkeiten ausschließt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kenn
zeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen
insbesondere darin, daß mit einfachen Mitteln ein
einwandfreier Schutz der Maßverkörperung vor Ver
unreinigungen ohne eine Beeinträchtigung der Meß
genauigkeit erzielt wird, so daß diese Maßverkör
perung für hochgenaue Messungen eingesetzt werden
kann.
Vorteilhafte Ausbildungen der Erfindung entnimmt
man den Unteransprüchen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand
der Zeichnung näher erläutert.
Es zeigt
Fig. 1 eine erste geschützte Maßver
körperung in einer Draufsicht
und
Fig. 2 in einem Querschnitt,
Fig. 3 eine zweite geschützte Maßver
körperung in einem Querschnitt;
Fig. 4 eine dritte geschützte Maßver
körperung in einem Querschnitt;
Fig. 5 eine vierte geschützte Maßver
körperung in einem Querschnitt
und
Fig. 6 eine fünfte geschützte Maßver
körperung in einem Querschnitt.
In Fig. 1 ist eine bevorzugte erste geschützte
Maßverkörperung in einer Draufsicht und in
Fig. 2 in einem Querschnitt gezeigt. Diese erste Maß
verkörperung in Form eines Maßstabes M 1 für eine
nicht dargestellte bekannte lichtelektrische Län
genmeßeinrichtung besteht beispielsweise aus Me
tall und besitzt auf einer Oberfläche O 1 eine Tei
lungsebene TE 1 mit einer Teilung T 1. Diese Teilung
T 1 besteht aus lichtreflektierenden Feldern (helle
Felder) und aus lichtabsorbierenden Feldern (dunk
le Felder), die in Meßrichtung X abwechselnd auf
einander folgen. Zum Schutz dieser Teilung T 1 vor
Verunreinigungen ist auf der Teilungsebene TE 1 des
Maßstabes M 1 eine transparente Abdecklamelle D 1,
beispielsweise aus Glas, mittels einer Kittschicht
K 1 aufgekittet, die umlaufend am Außenrand der
transparenten Abdecklamelle D 1 vorgesehen ist.
Diese Teilung T 1 wird durch die transparente Ab
decklamelle D 1 hindurch im Auflicht von einer
nicht gezeigten Abtasteinheit der Längenmeßein
richtung in bekannter Weise abgetastet, die eine
Lichtquelle, einen Kondensator, eine Abtastplatte
mit einer Abtastteilung, die mit der Teilung T 1
des Maßstabes M 1 identisch ist, sowie ein Photo
element zur Erzeugung eines Abtastsignals bei
der Relativbewegung der Abtasteinheit bezüglich
des Maßstabes M 1 in Meßrichtung X aufweist.
Zur Vermeidung von Newtonschen Ringen durch Re
flexionen der Lichtstrahlen der Lichtquelle an
der Teilungsebene TE 1 mit der Teilung T 1 und an
der Unterseite einer planparallelen transparenten
Abdecklamelle, die Meßungenauigkeiten zur Folge
haben können, wird vorgeschlagen, daß die trans
parente Abdecklamelle D 1 und die Teilung T 1 sich
mittels eines außerhalb des optisch wirksamen
Teilungsbereichs TB 1 vorgesehenen Abstandshalters
in einem Abstand d 1 größer als die halbe Kohärenzlänge
der verwendeten Lichtquelle durchgehend berüh
rungsfrei gegenüberstehen. Dieser Abstandshal
ter in Form eines umlaufenden Steges im Rand
bereich ist durch eine Vertiefung V 1 in der plan
parallelen transparenten Abdecklamelle D 1 gebil
det; dieser umlaufende Steg liegt auf der Tei
lungsebene TE 1 des Maßstabes M 1 außerhalb des op
tisch wirksamen Teilungsbereichs TB 1 der Teilung
T 1 auf. Somit besteht zumindest im optisch wirk
samen Teilungsbereich TB 1 der Teilung T 1 zwischen
der Teilungsebene TE 1 mit der Teilung T 1 und der
Unterseite U 1 der transparenten Abdecklamelle D 1
dieser Abstand d 1 größer als die halbe Kohärenzlänge
der verwendeten Lichtquelle, so daß keine Newton
schen Ringe mehr auftreten können. Die Vertiefung
V 1 in der transparenten Abdecklamelle D 1 kann
beispielsweise durch Ätzen erzeugt werden.
In Fig. 3 ist eine zweite geschützte Maßverkör
perung in einem Querschnitt gezeigt. Diese zweite
Maßverkörperung in Form eines Maßstabes M 2 be
steht beispielsweise aus Metall und besitzt auf
einer Oberfläche O 2 eine Teilungsebene TE 2 mit
einer Teilung T 2. Zum Schutz dieser Teilung T 2
vor Verunreinigungen ist eine planparallele trans
parente Abdecklamelle D 2, beispielsweise aus Glas,
vorgesehen, deren Unterseite U 2 zur Vermeidung von
Newtonschen Ringen zumindest im optisch wirksamen
Teilungsbereich TB 2 der Teilung T 2 von der Tei
lungsebene TE 2 einen Abstand d 2 aufweist, der grö
ßer als die halbe Kohärenzlänge der verwendeten Licht
quelle ist. Dieser Abstand d 2 wird durch einen Ab
standhalter in Form eines umlaufenden Stegs ST
auf der Teilungsebene TE 2 außerhalb des optisch
wirksamen Teilungsbereichs TB 2 der Teilung T 2 ge
bildet, der durch galvanisches Abscheiden auf der
Teilungsebene TE 2 des Maßstabs M 2 aufgebracht ist.
Die planparallele transparente Abdecklamelle D 2
ist auf dem umlaufenden Steg ST mittels einer Kitt
schicht K 2 aufgekittet.
In Fig. 4 ist eine dritte geschützte Maßverkör
perung in einem Querschnitt gezeigt. Diese dritte
Maßverkörperung in Form eines Maßstabes M 3 besteht
beispielsweise aus Metall und besitzt auf einer
Oberfläche O 3 eine Teilungsebene TE 3 mit einer
Teilung T 3. Zum Schutz dieser Teilung T 3 vor Ver
unreinigungen ist eine planparallele transparente
Abdecklamelle D 3, beispielsweise aus Glas, vorge
sehen, deren Unterseite U 3 zur Vermeidung von New
tonschen Ringen zumindest im optisch wirksamen
Teilungsbereich TB 3 der Teilung T 3 von der Tei
lungsebene TE 3 einen Abstand d 3 aufweist, der
größer als die halbe Köhärenzlänge der verwendeten
Lichtquelle ist. Dieser Abstand d 3 wird durch
einen Abstandshalter in Form einer umlaufenden
Folie F auf der Teilungsebene TE 3 außerhalb des
optisch wirksamen Teilungsbereiches TB 3 der Tei
lung T 3 gebildet, die mittels einer ersten Kitt
schicht K 3 a auf der Teilungsfläche TE 2 des Maß
stabs M 3 aufgekittet ist. Die planparallele trans
parente Abdecklamelle D 3 ist mittels einer zweiten
Kittschicht K 3 b auf der umlaufenden Folie F aufge
kittet.
In Fig. 5 ist eine vierte geschützte Maßverkör
perung in einem Querschnitt gezeigt. Diese vierte
Maßverkörperung in Form eines Maßstabes M 4 besteht
beispielsweise aus Metall und besitzt in einer
Oberfläche O 4 eine Vertiefung V 4. Die Oberfläche
dieser Vertiefung V 4 bildet die Teilungsebene TE 4
mit der Teilung T 4. Zum Schutz dieser Teilung T 4
vor Verunreinigungen ist eine planparallele trans
parente Abdecklamelle D 4, beispielsweise aus Glas,
vorgesehen, deren Unterseite U 4 zur Vermeidung von
Newtonschen Ringen zumindest im optisch wirksamen
Bereich TB 4 der Teilung T 4 von der Teilungsebene
TE 4 einen Abstand d 4 aufweist, der größer als die hal
be Kohärenzlänge der verwendeten Lichtquelle ist.
Dieser Abstand d 4 wird durch einen Abstandshalter
in Form eines umlaufenden Steges im Randbereich
außerhalb des optisch wirksamen Teilungsbereichs
TB 4 der Teilung T 4 durch die Vertiefung V 4 in der
Oberfläche O 4 des Maßstabs M 4 gebildet. Die plan
parallele transparente Abdecklamelle D 4 ist auf
diesem umlaufenden Steg mittels einer Kittschicht
K 4 aufgekittet, die umlaufend am Außenrand der
transparenten Abdecklamelle D 4 vorgesehen ist.
Die Vertiefung V 4 kann beispielsweise durch Ätzen
erzeugt werden.
In Fig. 6 ist eine fünfte geschützte Maßverkör
perung in einem Querschnitt gezeigt. Diese fünfte
Maßverkörperung in Form eines Maßstabs M 5 besteht
beispielsweise aus Metall und besitzt auf einer
Oberfläche O 5 eine Teilungsebene TE 5 mit einer
Teilung T 5. Zum Schutz dieser Teilung T 5 vor Ver
unreinigungen ist eine transparente Abdecklamelle
D 5, beispielsweise aus Glas, vorgesehen, deren Un
terseite U 5 zur Vermeidung von Newtonschen Ringen
zumindest im optisch wirksamen Teilungsbereich TB 5
der Teilung T 5 von der Teilungsebene TE 5 einen Ab
stand d 5 aufweist, der größer als die halbe Kohärenz
länge der verwendeten Lichtquelle ist. Dieser Abstand
d 5 wird durch einen Abstandhalter in Form eines
umlaufenden Stegs im Randbereich durch eine Ver
tiefung V 5 in der planparallelen transparenten
Abdecklamelle D 5 gebildet. Dieser umlaufende Steg
der transparenten Abdecklamelle D 5 liegt auf der
Teilung T 5 außerhalb des optisch wirksamen Teilungs
bereichs TB 5 der Teilung T 5 auf, da die Teilung T 5
senkrecht zur Meßrichtung X über den optisch wirk
samen Teilungsbereich TB 5 verbreitert ist. Die
transparente Abdecklamelle D 5 ist mittels einer an
ihrem Außenrand umlaufenden Kittschicht K 5 auf der
Oberfläche O 5 des Maßstabs M 5 aufgekittet. Die
Vertiefung V 5 kann beispielsweise durch Ätzen er
zeugt werden.
In nicht dargestellter Weise kann der Maßstab auf
der Montagefläche eines Maschinenteils einer Be
arbeitungsmaschine befestigt sein. Zum Schutz der
Teilung des Maßstabs ist an der Montagefläche ei
ne transparente Abdecklamelle durch eine Kitt
schicht aufgekittet, deren Unterseite von der
Teilungsebene des Maßstabs einen Abstand größer
als die halbe Kohärenzlänge der verwendeten Lichtquelle
aufweist. Das Maschinenteil bildet somit den Ab
standshalter für die transparente Abdecklamelle.
Die offenen Seitenbereiche zwischen der Teilungs
ebene des Maßstabs und der Unterseite der trans
parenten Abdecklamelle werden durch Abdichtmittel
zum hermetischen Schutz der Teilung abgedichtet.
Der Abstand d zwischen der transparenten Abdeck
lamelle D und der Teilung T wird so gewählt, daß
keine störenden Interferenzerscheinungen mehr auf
treten können; das Verhältnis des Abstandes d zur
Kohärenzlänge der verwendeten Lichtquelle ist deut
lich größer als 0,5. Entsprechendes gilt auch für
die Dicke der transparenten Abdecklamelle D, die
gleichfalls so gewählt werden muß, daß zwischen
deren beiden Oberflächen keine störenden Interferenz
erscheinungen auftreten können.
Die Erfindung wird vorzugsweise bei Maßverkörperungen
eingesetzt, die beispielsweise in der europäischen
Patentanmeldung 8 53 01 077.5 beschrieben sind.
Claims (10)
1. Maßverkörperung mit einer Teilung, insbesondere
für lichtelektrische Positionsmeßeinrichtungen
zur Messung der Relativlage zweier Objekte, bei
der die Teilung in der Teilungsebene der Maß
verkörperung von einer Lichtquelle beleuchtet
wird und bei der die Teilung durch eine trans
parente Abdecklamelle hermetisch geschützt ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die transparente
Abdecklamelle (D) und die Teilung (T) sich mit
tels eines außerhalb des optisch wirksamen Tei
lungsbereichs (TB) vorgesehenen Abstandshalters
zur Vermeidung von Interferenzerscheinungen
durchgehend berührungsfrei gegenüberstehen.
2. Maßverkörperung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Abstandshalter in Form eines
umlaufenden Stegs im Randbereich durch eine
Vertiefung (V 1) in der planparallelen transpa
renten Abdecklamelle (D 1) gebildet ist und daß
der Steg auf der Teilungsebene (TE 1) der Maß
verkörperung (M 1) außerhalb des optisch wirk
samen Teilungsbereichs (TB 1) aufliegt.
3. Maßverkörperung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Abstandhalter durch einen um
laufenden Steg (ST) auf der Teilungsebene (TE 2)
der Maßverkörperung (M 2) außerhalb des optisch
wirksamen Teilungsbereichs (TB 2) gebildet ist.
4. Maßverkörperung nach Anspruch 1, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Abstandshalter durch ei
ne umlaufende Folie (F) auf der Teilungsebene
(TE 3) der Maßverkörperung (M 3) außerhalb des
optisch wirksamen Teilungsbereichs (TB 3) ge
bildet ist.
5. Maßverkörperung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Abstandshalter in Form eines
umlaufenden Stegs im Randbereich außerhalb des
optisch wirksamen Teilungsbereichs (TB 4) durch
eine Vertiefung (V 4) in der Oberfläche (O 4) der
Maßverkörperung (M 4) gebildet ist, daß die
Oberfläche der Vertiefung (V 4) die Teilungs
ebene (TE 4) mit der Teilung (T 4) bildet und
daß eine planparallele transparente Abdeckla
melle (D 4) auf dem umlaufenden Steg aufliegt.
6. Maßverkörperung nach den Ansprüchen 2 und 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die transparente
Abdecklamelle (D 1; D 4) mittels einer am Außen
rand der transparenten Abdecklamelle (D 1; D 4)
umlaufenden Kittschicht (K 1; K 4) auf der Ober
fläche (O 1; O 4) der Maßverkörperung (M 1; M 4)
aufgekittet ist.
7. Maßverkörperung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Vertiefung (V 1) in der trans
parenten Abdecklamelle (D 1) durch Ätzen gebil
det ist.
8. Maßverkörperung nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß der umlaufende Steg (ST) auf der
Teilungsebene (TE 2) durch galvanisches Abschei
den aufgebracht ist.
9. Maßverkörperung nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Vertiefung (V 4) in der Ober
fläche (O 4) der Maßverkörperung (M 4) durch Ätzen
gebildet ist.
10. Maßverkörperung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß zwischen der transparenten Abdeck
lamelle (D) und der Teilung (T) ein Abstand d
größer als die halbe Kohärenzlänge der verwendeten
Lichtquelle besteht.
Priority Applications (1)
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Cited By (2)
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CN104075741A (zh) * | 2013-03-29 | 2014-10-01 | 株式会社三丰 | 光学位移编码器 |
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1987
- 1987-06-25 DE DE19873720916 patent/DE3720916C2/de not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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DE3720916C2 (de) | 1993-09-30 |
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