DE3685831T2

DE3685831T2 - Optische abtastvorrichtung.

Info

Publication number: DE3685831T2
Application number: DE8686301994T
Authority: DE
Inventors: Shin-Ya Hasegawa; Hiroyuki Ikeda; Takefumi Inagaki; Masayuki Kato; Fumio Yamagishi
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1985-03-20
Filing date: 1986-03-19
Publication date: 1993-02-04
Anticipated expiration: 2006-03-20
Also published as: EP0195657B1; US4824191A; KR860007644A; DE3685831D1; EP0195657A3; EP0195657A2; CA1257392A; KR900002999B1

Description

Diese Erfindung bezieht sich auf eine optische Abtastvorrichtung zum Aus lesen von Informationen von einem Informationsaufzeichnungsmedium, wie eine optische Diskette, und auch auf eine Hologrammlinsenbaugruppe, die zum Einsatz in einer optischen Abtastvorrichtung geeignet ist.
Eine optische Abtastvorrichtung P, die vorher vorgeschlagen wurde, enthält, wie aus Fig. 24 ersichtlich ist, ein optisches System mit einer Halbleiterlaserquelle 1, einer Kollimatorlinse 2, einem Prismenpaar 3, einem Prismenteiler 4, einer (1/4 λ) Wellenplatte 5, einer Objektivlinse 6, einer Fokussierlinse 7 und einem optischen Sensor 8, und diese Elemente bilden eine einzelne Einheit. Wie aus Fig. 25 ersichtlich ist, wird die Bewegung der Abtastvorrichtung zum Zugriff auf ein Aufzeichnungsmedium durch einen Linearmotor LM ausgeführt, in bezug auf eine optische Diskette D, die durch einen Motor M rotiert wird.
In dieser optischen Abtastvorrichtung sind die wesentlichen Elemente, die das optische System bilden, jedoch aus Glas oder dergleichen hergestellt. Um eine geforderte Qualität oder Kapazität zu gewährleisten, ist deshalb das System notwendigerweise schwer und groß. Bei einem typischen Beispiel beträgt das Gewicht der Abtastvorrichtung wenigstens einige Dekagramm, auch wenn Anstrengungen unternommen worden sind, um das Gewicht davon zu verringern.
Deshalb besteht auf diesem Gebiet seit langem der Wunsch nach einer leichten und kompakten Abtastvorrichtung, da es sehr wichtig ist, die Zugriffszeit auf ein Informationsspeichermedium, wie eine optische Diskette, das in der Lage ist, große Informationsmengen zu speichern, zu reduzieren, und die Zugriffszeit hängt von der Geschwindigkeit der Abtastvorrichtung ab, wenn sie durch den obengenannten Linearmotor LM bewegt wird, welche Geschwindigkeit wiederum im hohen Maße vom Gewicht der Abtastvorrichtung abhängt.
EP-A-0 123 048 offenbart einen holographischen optischen Kopf mit den Merkmalen der Präambel des beiliegenden Anspruches 1. In dem optischen Linsensystem von diesem optischen Kopf hat ein Hologramm eine duale Beugungs- /Übertragungsfunktion, und drei andere Hologramme werden für spezifische einzelne Funktionen benutzt. Durch dieses optische Linsensystem wird nur eine begrenzte Kompaktheit erreicht.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist eine optische Abtastvorrichtung vorgesehen mit einer Lichtquelle zum Einstrahlen eines Lichtstrahles auf ein Informationsaufzeichnungsmedium, wie eine optische Diskette, einem optischen Sensor zum Erfassen des Lichtstrahles, der von dem genannten Informationsaufzeichnungsmedium reflektiert wurde, und einem optischen Linsensystem, das enthält:
eine Wellenplatte, eine erste Hologrammlinse und eine zweite Hologrammlinse, die im wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind; wobei das optische Linsensystem angeordnet ist, um den Lichtstrahl, der von der genannten Lichtquelle eingestrahlt wurde, längs einem ersten Weg zu dem genannten Medium zu lenken, und um den Lichtstrahl, der von dem genannten Informationsaufzeichnungsmedium reflektiert wurde, längs einem zweiten Weg zu dem genannten Sensor zu lenken; bei der
eine der genannten Hologrammlinsen dazu dient, den Lichtstrahl von der Lichtquelle zu dem genannten Informationsaufzeichnungsmedium zu beugen, und die andere Hologrammlinse dazu dient, den Lichtstrahl von der genannten Lichtquelle zu übertragen und den reflektierten Lichtstrahl von dem genannten Informationsaufzeichnungsmedium zu dem optischen Sensor zu beugen; dadurch gekennzeichnet, daß:
die genannten Hologrammlinsen und die Wellenplatte so angeordnet sind, daß der Lichtstrahl, der direkt von der genannten Lichtquelle empfangen wird, längs dem genannten ersten Weg durch die genannten ersten und zweiten Hologrammlinsen und dann durch die genannte Wellenplatte hindurchtritt, und der reflektierte Lichtstrahl längs dem genannten zweiten Weg durch die genannte Wellenplatte und dann durch die genannten zweiten und ersten Hologrammlinsen hindurchtritt, um direkt von dem genannten optischen Sensor empfangen zu werden; und daß
die genannte eine der Hologrammlinsen auch dazu dient, den reflektierten Lichtstrahl von dem genannten Informationsaufzeichnungsmedium zu übertragen, so daß jeder Weg Linsenfunktionen des Beugens und des Übertragens eines Hologrammes umfaßt.
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine optische Abtastvorrichtung vorsehen, die leichte und kompakte Hologrammlinsen enthält.
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine optische Abtastvorrichtung vorsehen, die in der Lage ist, die Zugriffszeit auf eine optische Diskette zu reduzieren.
Bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird der Lichtstrahl, der zu dem optischen Sensor wandert, von dem einfallenden Lichtstrahl, der von der Lichtquelle eingestrahlt wird, auf Grund von Beugungs- und Übertragungsfunktionen, die sowohl durch die ersten als auch die zweiten Hologrammlinsen ausgeübt werden, getrennt. Deshalb kann eine optische Abtastvorrichtung erhalten werden, die eine Reduzierung bei der Zugriffszeit auf eine optische Diskette ermöglicht.
An Hand eines Beispiels wird Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen genommen, in denen:-
Figur 1 eine schematische Darstellung eines optischen Systems ist, das die vorliegende Erfindung verkörpert;
Fig. 2A und 2B schematische Darstellungen von Schritten zum Konstruieren eines Phasenhologramms bzw. eines Oberflächenreliefhologramms in der in Fig. 1 gezeigten Ausführungsform sind;
Fig. 3A und 3B Diagramme sind, die die Kennlinien des Einfallswinkels eines Phasenhologramms bzw. die Kennlinien der Polarisation eines Oberflächenreliefhologramms zeigen;
Fig. 4 eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
Fig. 5A und 5B schematische Darstellungen von Schritten zum Konstruieren eines Phasenhologramms bzw. Oberflächenreliefhologramms in der in Fig. 4 gezeigten Ausführungsform sind;
Fig. 6 eine perspektivische Ansicht ist, die die Polarisationsrichtung des Lichtstrahles zeigt, der von einer Halbleiterlaserquelle eingestrahlt wird;
Fig. 7 eine Darstellung einer dritten Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
Fig. 8 ein Diagramm ist, das die Beugungseffektivität bei der in Fig. 7 gezeigten Ausführungsform zeigt;
Fig. 9 eine Darstellung einer vierten Ausführungsform, ähnlich der in Fig. 7 gezeigten dritten Ausführungsform, ist;
Fig. 10 eine schematische perspektivische Ansicht einer fünften Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
Fig. 11 eine schematische Querschnittsansicht einer modifizierten Ausführungsform, ähnlich der in Fig. 10 gezeigten fünften Ausführungsform, ist;
Fig. 12 eine schematische Darstellung einer sechsten Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung ist;
Fig. 13 eine Querschnittsansicht der in Fig. 12 gezeigten sechsten Ausführungsform ist;
Fig. 14 eine Querschnittsansicht einer laminierten Hologrammlinse ist, die bei der in Fig. 12 und 13 gezeigten sechsten Ausführungsform verwendet wird;
Fig. 15 eine Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform der laminierten Hologrammlinse ist;
Fig. 16 eine schematische Darstellung zum Erläutern des Prinzips einer Objektivhologrammlinse ist, die in einem optischen System gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann;
Fig. 17A, 17B, 17C und 17D schematische Darstellungen einer ersten Ausführungsform der Objektivhologrammlinse sind;
Fig. 18 eine schematische Darstellung einer zweiten Ausführungsform der Objektivhologrammlinse ist;
Fig. 19A, 19B, 19C, 19D und 19E schematische Darstellungen einer dritten Ausführungsform der Objektivhologrammlinse sind, wobei Fig. 19A, 19B und 19E perspektivische Ansichten und Fig. 19C und 19D Aufrißansichten sind:
Fig. 20 eine schematische Darstellung einer vierten Ausführungsform der Objektivhologrammlinse ist;
Fig. 21A und 21B schematische Darstellungen einer vorher vorgeschlagenen Hologrammlinse sind;
Fig. 22A und 22B schematische Darstellungen eines anderen Beispiels einer vorher vorgeschlagenen Hologrammlinse sind;
Fig. 23 ein Diagramm ist, das die Beziehung zwischen räumlicher Frequenz und optischer Effektivität zeigt;
Fig. 24 eine schematische Darstellung einer vorher vorgeschlagenen optischen Abtastvorrichtung ist; und
Fig. 25 eine schematische Darstellung einer Zugriffsanordnung in einer vorher vorgeschlagenen optischen Abtastvorrichtung ist.
Unter Bezugnahme auf Fig. 1 ist nun eine Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung gezeigt, bei der das optische System eine Halbleiterlaserquelle 11, ein Phasenhologramm 12, ein Oberflächenreliefhologramm 13, eine (1/4 λ) Wellenplatte 14 und einen optischen Sensor 15 umfaßt.
Das Phasenhologramm 12 besteht aus lichtempfindlichem Material, wie Silberhalogenid, Dichromat-Gelatine oder Photopolymer, und wird so konstruiert, wie aus Fig. 2A zu ersehen ist, daß ein Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub1;, der von einem Punkt P&sub2; divergiert, und ein konvergierender Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub2; auf das obengenannte lichtempfindliche Material ausgestrahlt werden.
Das so konstruierte Phasenhologramm 12 hat eine Einfallswinkelkennlinie wie in Fig. 3A gezeigt. Offensichtlich hängt die Beugungseffektivität des Phasenhologramms 12 im hohen Maße von dem Einfallswinkel des Rekonstruktionslichtstrahls ab. Wenn ein Lichtstrahl auf die untere Oberfläche 12b des Phasenhologramms 12 in Fig. 2A ausgestrahlt wird, ist ein Einfallswinkel des Lichtstrahls, der in dieselbe Richtung wie der Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub1; geht, ein sogenannter Braggscher Winkel ΘB, bei dem die Beugungseffektivität maximal wird, so daß der ausgestrahlte Lichtstrahl zu der Richtung längs einer verlängerten Linie L&sub3; des Hologramm-Konstruktionslichtstrahls L&sub2;, wie durch eine unterbrochene Linie in Fig. 2A gezeigt, gebeugt wird. Im Gegenteil ist, wenn ein Lichtstrahl auf die obere Oberfläche 12a des Phasenhologramms 12 ausgestrahlt wird, ein Einfallswinkel des Lichtstrahls, der in dieselbe Richtung wie die obengenannte verlängerte Linie L&sub3; geht, der Braggsche Winkel ΘB, bei dem die Beugungseffektivität maximal wird, so daß der ausgestrahlte Lichtstrahl in die Richtung längs dem Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub1; gebeugt wird. Andererseits wird, wenn ein Lichtstrahl unter einem Winkel ausgestrahlt wird, der sich von dem obengenannten Braggschem Winkel sehr unterscheidet, wie ein Winkel, der wenigstens um 20 bis 30 Grad von dem obengenannten Braggschen Winkel abweicht, im folgenden als "nicht- Braggscher Winkel" bezeichnet, die Beugungseffektivität viel niedriger, so daß nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl durch das Phasenhologramm 12 (im wesentlichen unverändert) übertragen wird.
Das in Fig. 1 gezeigte Oberflächenreliefhologramm 13 umfaßt, wie aus Fig. 2B ersichtlich ist, eine (1/4 λ) Wellenplatte 14, die als Substrat dient, und ein Beschichtungsmaterial, wie das Photoresist 16, das auf der Wellenplatte 14 aufgetragen ist, auf das ein Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub4;, der von einem Punkt P&sub1; divergiert, und ein konvergierender Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub5; ausgestrahlt werden. Außerdem sind eine Vielzahl von parallelen Reliefnuten, die in eine Richtung gerichtet sind, auf der beschichteten Oberfläche gebildet. Bei dieser Ausführungsform ist, da die Wellenplatte 14 als Substrat verwendet wird, das Verfahren zum Bilden von Hologrammen vereinfacht.
Das so konstruierte Oberflächenreliefhologramm 13 hat eine Polarisationskennlinie wie in Fig. 3B gezeigt. Wie aus Fig. 3B ersichtlich ist, hängt die Intensität eines gebeugten Lichtstrahls durch dieses Oberflächenreliefhologramm 13 im hohen Maße von der Polarisationsrichtung des einfallenden Lichtstrahls ab. Das heißt, wenn die Richtung der Reliefnuten dieselbe wie jene der Polarisation ist, eine sogenannte "S-Polarisation", wird die Intensität des gebeugten Lichtstrahls maximal, wobei ein einfallender Lichtstrahl aus derselben Richtung wie der Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub4; in Fig. 2B längs einer verlängerten Linie L&sub6; des Hologramm-Konstruktionslichtstrahls L&sub5; gebeugt wird, wie durch eine unterbrochene Linie in Fig. 2B gezeigt. Wenn andererseits die Richtung des gebeugten einfallenden Lichtstrahls senkrecht zu der Richtung der Reliefnuten verläuft, eine sogenannte "P-Polarisation", wird die Intensität des gebeugten Lichtstrahls minimal, so daß fast der gesamte einfallende Lichtstrahl durch das Oberflächenreliefhologramm 13 übertragen wird.
Bei dieser Ausführungsform ist eine Halbleiterlaserquelle 11 an einer Position angeordnet, an der ein einfallender Lichtstrahl L&sub7; davon zu dem Phasenhologramm 12 unter dem nicht-Braggschen Winkel ausgestrahlt wird. Andererseits entspricht die Position der Laserquelle 11 dem Brennpunkt P&sub1; des Hologramm-Konstruktionslichtstrahls L&sub4; bezüglich des Oberflächenreliefhologramms 13. Außerdem ist die Richtung A&sub1; der Polarisation des obigen einfallenden Lichtstrahls L&sub7; von dem Halbleiterlaser 11 dieselbe wie die Richtung der Reliefnuten des Oberflächenreliefhologramms 13. (Die Richtung A&sub1; ist senkrecht zu der Blattebene von Fig. 1.) Andererseits befindet sich der optische Sensor 15 an einer Position, die dem Brennpunkt P&sub2; des Hologramm-Konstruktionslichtstrahls L&sub1; entspricht. Die Hologramme 12 und 13 sind durch einen geeigneten Abstandshalter 18 mit einem Abstand angeordnet, damit sie zueinander parallel und benachbart sind.
Es erfolgt jetzt eine Beschreibung der Operation der Lichtstrahlen in der obigen Ausführungsform.
In Fig. 1 wird ein Lichtstrahl L&sub7; von der Halbleiterlaserquelle 11 auf das Phasenhologramm 12 unter dem nicht- Braggschen Winkel ausgestrahlt, so daß nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl dadurch übertragen wird. Der übertragene Lichtstrahl L&sub8; wird auf das Oberflächenreliefhologramm 13 ausgestrahlt, aber wird dann gebeugt (abgelenkt), da die Richtung (A&sub1;) der Polarisation dieselbe wie jene der Reliefnuten ist. Der gebeugte Lichtstrahl L&sub9; wird über die Wellenplatte 14 auf die optische Diskette D fokussiert. Der gebeugte Lichtstrahl L&sub9;, der durch die Wellenplatte 14 hindurchgetreten ist, ist von einem linear polarisiertem Licht zu einem zirkular polarisiertem Licht konvertiert worden.
Der Lichtstrahl L&sub1;&sub0;, der auf der optischen Diskette D reflektiert wurde und die Leseinformationen trägt, ist ein zirkular polarisiertes Licht, welches dasselbe wie der obengenannte gebeugte Lichtstrahl L&sub9; ist. Jedoch wird es wieder zu einem linear polarisiertem Licht konvertiert, wenn es durch die Wellenplatte 14 hindurchtritt, und wird dann auf das Oberflächenreliefhologramm 13 ausgestrahlt. Die Richtung A&sub2; der Polarisation dieses einfallenden Lichtstrahls ist jedoch parallel zu der Ebene des Blattes von Fig. 1, die senkrecht zu der obigen Richtung A&sub1; ist. Da die Richtung A&sub2; senkrecht zu der Richtung der Reliefnuten des Oberflächenreliefhologramms 13 verläuft, wird nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl dadurch übertragen, und der übertragene Lichtstrahl L&sub1;&sub1; wird auf das Phasenhologramm 12 unter dem Braggschen Winkel ausgestrahlt, wie oben erwähnt. Deshalb wird der übertragene Lichtstrahl L&sub1;&sub1; gebeugt, und der so gebeugte Lichtstrahl L&sub1;&sub2; wird in den optischen Sensor 15 geleitet.
Figur 4 zeigt eine andere Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung, bei der das optische System auf die gleiche Weise wie in Fig. 1 eine Halbleiterlaserquelle 21, ein Phasenhologramm 22, ein Oberflächenreliefhologramm 23, eine (1/4 λ) Wellenplatte 24 und einen optischen Sensor 25 umfaßt. Zusätzlich umfaßt diese zweite Ausführungsform eine Objektivhologrammlinse 27, die beweglich in die Richtung A&sub3; sowie in die Richtung senkrecht dazu angeordnet ist, so daß das Fokussieren und Richten des Lichtstrahls auf die optische Diskette D durch das Bewegen der Objektivhologrammlinse 27 wünschenswert erfolgt.
Das Phasenhologramm 22 besteht wie bei der obigen Ausführungsform aus lichtempfindlichem Material, wobei ein Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub1;&sub8; (Fig. 5A), der von einem Punkt P4 divergiert, und ein paralleler Hologramm- Konstruktionslichtstrahl L&sub1;&sub9; auf das lichtempfindliche Material ausgestrahlt werden. Das so konstruierte Phasenhologramm 22 hat so eine Kennlinie, daß, wenn ein Lichtstrahl auf die untere Oberfläche 22b des Phasenhologramms 22 in Fig. 5A ausgestrahlt wird, und wenn ein Einfallswinkel des Lichtstrahles in dieselbe Richtung wie der Hologramm- Konstruktionslichtstrahl L&sub1;&sub8; geht (der Braggsche Winkel), der Lichtstrahl als verlängerte Linie L&sub2;&sub0; gebeugt wird, wie durch eine unterbrochene Linie in Fig. 5A gezeigt. Wenn im Gegenteil ein Lichtstrahl auf die obere Oberfläche 22a ausgestrahlt wird, und wenn ein Einfallswinkel des Lichtstrahls in dieselbe Richtung wie die Linie L&sub2;&sub0; geht (der Braggsche Winkel), wird der Lichtstrahl zu der Richtung des Hologramm-Konstruktionslichtstrahls L&sub1;&sub8; gebeugt. Andererseits wird, wenn ein Lichtstrahl unter dem nicht- Braggschen Winkel ausgestrahlt wird, nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl durch das Phasenhologramm 22 übertragen.
Das Oberflächenreliefhologramm 23 ist in derselben Weise wie bei der obigen Ausführungsform konstruiert, wobei ein Photoresist 26 (Fig. 5B) auf der Wellenplatte 24 aufgetragen ist, auf das ein Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub2;&sub1;, der von einem Punkt P&sub3; divergiert, und ein paralleler Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub2;&sub2; ausgestrahlt werden. Außerdem sind eine Vielzahl von parallelen Reliefnuten, die in eine Richtung gerichtet sind, auf der beschichteten Oberfläche gebildet.
Das so konstruierte Oberflächenreliefhologramm 23 hat so eine Polarisationskennlinie, daß, wenn die Richtung der Reliefnuten dieselbe wie jene der Polarisation ist, eine sogenannte S-Polarisation, die Intensität des gebeugten Lichtstrahls maximal wird und ein einfallender Lichtstrahl von derselben Richtung wie der Hologramm-Konstruktionslichtstrahl L&sub2;&sub1; in Fig. 5B auf einer verlängerten Linie L&sub2;&sub3; gebeugt wird, wie durch eine unterbrochene Linie in Fig. 5B gezeigt. Andererseits wird, wenn die Richtung des gebeugten einfallenden Lichtstrahls senkrecht zu der Richtung der Reliefnuten ist, eine sogenannte P-Polarisation, die Intensität des gebeugten Lichtstrahls minimal, und nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl wird durch das Oberflächenreliefhologramm 23 übertragen.
Bei der zweiten Ausführungsform ist die Halbleiterlaserquelle 21 so angeordnet, daß der Lichtstrahl L&sub1;&sub3; von da auf das Phasenhologramm 22 unter dem Braggschen Winkel ausgestrahlt wird. Die Richtung A&sub4; der Polarisation des Lichtstrahls L&sub1;&sub3; ist parallel zu der Blattebene von Fig. 4 und senkrecht zu jener der Reliefnuten des Oberflächenreliefhologramms 23.
Bei dieser zweiten Ausführungsform wird der Lichtstrahl L&sub1;&sub3; von der Halbleiterlaserquelle 21 größtenteils gebeugt, da er auf das Phasenhologramm 22 unter dem Braggschen Winkel ausgestrahlt wird, wie oben erwähnt. Da die Richtung A&sub4; der Polarisation des Lichtstrahls L&sub1;&sub3; die kürzere diametrale Richtung einer Ellipse ist, wie in Fig. 6 gezeigt, wird der kürzere Durchmesser so vergrößert, daß der Lichtstrahl in eine im wesentlichen zirkulare Form kompensiert wird, wenn er durch das Phasenhologramm 22 hindurchtritt. Der gebeugte Lichtstrahl L&sub1;&sub4; wird dann auf das Oberflächenreliefhologramm 23 ausgestrahlt, und nahezu alles wird dadurch übertragen, da die Richtung der Polarisation davon senkrecht zu jener der Reliefnuten verläuft. Der übertragene Lichtstrahl ist ein paralleler Strahl, der zu einem zirkular polarisiertem Licht konvertiert wird, wenn er durch die Wellenplatte 24 hindurchgetreten ist und auf die optische Diskette D durch die Objektivhologrammlinse 27 fokussiert wird.
Der auf der optischen Diskette D reflektierte Lichtstrahl L&sub1;&sub5; wird durch die Objektivhologrammlinse 26 wieder in einen parallelen Strahl L&sub1;&sub6; umgewandelt und auf das Oberflächenreliefhologramm 23 über die Wellenplatte 24 ausgestrahlt. Der parallele Lichtstrahl L&sub1;&sub6; ist jedoch durch die Wellenplatte 24 von einem zirkular polarisiertem Licht zu einem linear polarisiertem Licht konvertiert worden, und die Richtung A&sub6; der Polarisation verläuft senkrecht zu der Blattebene von Fig. 4, die dieselbe wie die Richtung der Reliefnuten des Oberflächenreliefhologramms 23 ist. Deshalb wird der parallele Lichtstrahl L&sub1;&sub6; durch das Oberflächenreliefhologramm 23 größtenteils gebeugt, und der gebeugte Lichtstrahl L&sub1;&sub7; wird auf das Phasenhologramm 22 unter dem nicht-Braggschen Winkel ausgestrahlt, so daß nahezu der gesamte Lichtstrahl dadurch übertragen und zu dem optischen Sensor 25 geleitet wird.
Figur 7 stellt eine dritte Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung dar, bei der das optische System eine Halbleiterlaserquelle 31, zwei Oberflächenreliefhologramme 33a und 33b, eine (1/4 λ) Wellenplatte 34, einen optischen Sensor 35 und eine Objektivhologrammlinse 37 umfaßt. Eines der Oberflächenreliefhologramme 33a ist auf der Wellenplatte 34 auf die gleiche Weise wie bei den vorhergehenden Ausführungsformen konstruiert.
Bei dieser dritten Ausführungsform wird der Lichtstrahl von der Halbleiterlaserquelle 31 auf das Oberflächenreliefhologramm 33b ausgestrahlt, das eine Vielzahl von Reliefnuten hat, deren Richtung senkrecht zu der Polarisation des ausgestrahlten Lichtstrahls verläuft. Deshalb wird der ellipsenförmige Lichtstrahl zu einem kreisförmigen Lichtstrahl verändert. Um den Lichtstrahl mit P-Polarisation, der von der Halbleiterlaserquelle 31 ausgestrahlt wurde, zu beugen, sollte λ/d (Fig. 8) etwa 0,8 betragen, wobei der Mittenabstand der Reliefnuten d und die Wellenlänge natürlich λist. Das heißt, wenn die Wellenlänge des Strahls von der Halbleiterlaserquelle 31 0,8 um beträgt, sollte d etwa 1 um betragen (die räumliche Frequenz beträgt etwa 1000/mm. Der durch das 0berflächenreliefhologramm 33b gebeugte Lichtstrahl wird dann auf das andere Oberflächenreliefhologramm 33a ausgestrahlt, das so konstruiert ist, daß λd etwa 1,6 beträgt, d. h., d beträgt etwa 0,5 um (hier beträgt die räumliche Frequenz etwa 2000/mm), um den Lichtstrahl nur leicht zu beugen. Der so durch das Oberflächenreliefhologramm 33a übertragene Lichtstrahl tritt durch die Wellenplatte 34 und die Objektivhologrammlinse 37 hindurch und wird auf die optische Diskette D fokussiert. Der reflektierte Lichtstrahl wird wieder auf das Oberflächenreliefhologramm 33a als S-Polarisation ausgestrahlt und dadurch gebeugt. Da der gebeugte Lichtstrahl eine S-Polarisation hat, wird er durch das 0berflächenreliefhologramm 33 fast vollständig übertragen und auf den optischen Sensor 35 gerichtet. Die optischen Elemente, die diese zwei Hologramme 33a und 33b enthalten, zusammen mit der Wellenplatte 34, dem Laser 31 und dem optischen Sensor 35, sind in einer einzelnen Gehäusestruktur 38 untergebracht.
Figur 8 zeigt die Beziehung zwischen*λ\d und der Effektivität der Beugung (η) bei der in Fig. 8 gezeigten Ausführungsform. Wenn λ/d 0,8 ist, ist die Effektivität der Beugung der P-Polarisation erhöht. Andererseits ist, wenn λ/d 1,6 ist, die Effektivität der Beugung der S-Polarisation erhöht.
Figur 9 stellt eine vierte Ausführungsform dar, die ähnlich der in Fig. 7 gezeigten dritten Ausführungsform ist. Bei dieser Ausführungsform umf aßt das optische System eine Halbleiterlaserquelle 41, zwei Oberflächenreliefhologramme 43a und 43b, eine (1/4 λ) Wellenplatte 44 und einen optischen Sensor 45. Eine Objektivhologrammlinse ist jedoch weggelassen, und deshalb ist eines der Oberflächenreliefhologramme 43a so konstruiert, um den von der Halbleiterlaserquelle 41 ausgestrahlten Lichtstrahl im höheren Maße zu beugen, um ihn so direkt auf die optische Diskette D zu fokussieren.
Die Figuren 10 und 11 stellen eine fünfte Ausführungsform dar, die ähnlich der vorhergehenden, in Fig. 9 gezeigten Ausführungsform ist. Bei dieser Ausführungsform umfaßt das optische System eine Halbleiterlaserquelle 51, zwei Oberflächenreliefhologramme 53a und 53b, eine (1/4 λ) Wellenplatte 54 und einen optischen Sensor 55 auf die gleiche Weise wie bei der vorhergehenden, in Fig. 9 gezeigten Ausführungsform. Jedoch sind die zwei Oberflächenreliefhologramme 53a und 53b so angeordnet, daß sich die Reliefnuten eines der Hologramme senkrecht bezüglich jener des anderen Hologramms erstrecken. Deshalb können die Laserquelle 51 und der optische Sensor 55 auf x- bzw. y- Linien angeordnet werden, wenn der Laserstrahl längs einer z-Linie zu der optischen Diskette D in den x-, y-, z- Koordinaten ausgestrahlt wird. Bezugszeichen 52 in Fig. 11 bezeichnet einen Flachspiegel, der parallel zu der y-, z- Ebene in Fig. 10 angeordnet ist, zum Reflektieren des von der Laserquelle 51 ausgestrahlten Lichtstrahls. In diesem Fall kann deshalb die Laserquelle 51 in der Nähe des 0- Punktes, d. h. dem Schnittpunkt der Linien x, y und z, angeordnet sein. Entsprechend der Anordnung der Laserquelle 51 und des optischen Sensors 55, wie in Fig. 10 und 11 gezeigt, kann die optische Abtastvorrichtung kompakter konstruiert sein.
Die Figuren 12 und 13 stellen eine sechste Ausführungsform eines optischen Systems gemäß der vorliegenden Erfindung dar, bei der das optische System eine Halbleiterlaserquelle 61, zwei Phasenhologramme 62a und 62b, eine*(1/4 λ) Wellenplatte 64 und einen optischen Sensor 65 umfaßt. Bei dieser sechsten Ausführungsform wird der Lichtstrahl von der Halbleiterlaserquelle 61 auf das Phasenhologramm 62b unter dem nicht-Braggschen Winkel ausgestrahlt, so daß nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl dadurch übertragen wird. Die Richtung der Polarisation ist A&sub1;, die senkrecht zur Blattebene von Fig. 12 ist. Der Lichtstrahl wird dann auf das andere Phasenhologramm 62a ausgestrahlt. Auf Grund der S-Polarisation wird er jedoch zu der optischen Diskette D durch die Wellenplatte 64 gebeugt, die ein linear polarisiertes Licht in ein zirkular polarisiertes Licht konvertiert. Somit kann ein Phasenhologramm auch dieselben Kennlinien wie Fig. 3B haben. Wenn der auf der optischen Diskette D reflektierte Lichtstrahl durch die Wellenplatte 64 hindurchtritt, wird er wieder zu einem linear polarisiertem Licht konvertiert, dessen Richtung A&sub2; ist, senkrecht zu der obigen Richtung A&sub1;, und dann auf das Phasenhologramm 62a ausgestrahlt, wodurch auf Grund der S-Polarisation nahezu der gesamte einfallende Lichtstrahl übertragen wird. Der Lichtstrahl wird dann auf das Phasenhologramm 62b unter dem Braggschem Winkel ausgestrahlt. Deshalb wird der Lichtstrahl dadurch gebeugt und auf den optischen Sensor 65 gerichtet.
Die zwei Phasenhologramme 62a und 62b und die Wellenplatte 64 können laminiert sein, wie in Fig. 13 gezeigt, und als kompakter optischer Modul zusammen mit der Laserquelle 61 und dem optischen Sensor 65 konstruiert sein. Ausführungsformen der laminierten Phasenhologramme 62a und 62b und der Wellenplatte 64 sind in Fig. 14 und 15 dargestellt. In Fig. 14 ist; a) ein Hologramm-Material 62b', wie PVCz, auf einem transparenten Substrat 66 aufgetragen, um das Phasenhologramm 62b zu erhalten; b) auf dem ein Si- Schutzfilm 67b gebildet ist, um es vor den nachfolgenden chemischen Verfahren zum Herstellen des anderen Phasenhologramms 62a zu schützen. c) Hologramm-Material 62a', wie PVCz, ist auf dem Schutzfilm 67b aufgetragen, um darin das Phasenhologramm 62a zu erhalten (vorzusehen). d) Ein Si- Schutzfilm 67a ist auf dem Phasenhologramm 62a gebildet, um es zu schützen, und die (1/4 λ) Wellenplatte 64 ist mit dem Phasenhologramm 62a durch optisches Kleben (Klebstoff) 68 verklebt. Auf den Oberflächen des Substrats 66 und der Wellenplatte 64 können Reflexionsschutzfilme 69 aufgetragen sein, um den möglichen optischen Verlust zu reduzieren. Die Dicke solcher laminierten Hologramme überschreitet nicht wesentlich die Summe der Dicke des Substrats 66 und der Wellenplatte 64.
In Fig. 15 ist eine andere Ausführungsform gezeigt, bei der a) Hologramm-Material 62b' auf einem transparenten Substrat 66 aufgetragen ist bzw. Hologramm-Material 62a' auf der (1/4 λ) Wellenplatte 64 direkt aufgetragen ist. b) Dann werden diese zwei Hologrammschichten mittels eines optischen Klebstoffes 68 in einer zueinanderzeigenden Beziehung verklebt. Wenn es für die Arten von Hologramm-Material erforderlich ist, die Hologrammschichten bezüglich des Klebstoffes zu schützen, können vor dem Kleben Schutzfilme auf diesen Hologrammschichten gebildet werden.
Unter Bezugnahme nun auf Fig. 16 ist eine Hologrammlinse dargestellt, die als die Objektivhologrammlinse 27 (Fig. 4) oder 37 (Fig. 7) verwendet werden kann. In Fig. 16 bezeichnet H&sub1; eine erste Hologrammlinse; und H&sub2; eine zweite Hologrammlinse. Die erste Hologrammlinse H&sub1; ist angeordnet, um einem einfallenden Licht 71 gegenüberzuliegen. Andererseits ist die zweite Hologrammlinse H&sub2; auf der Seite eines Brennpunktes 74 angeordnet. Obwohl die ersten und zweiten Hologrammlinsen H&sub1; und H&sub2; nur für Erläuterungszwecke getrennt gezeigt sind, bilden sie vorzugsweise auf dieselbe Weise wie unter Bezugnahme auf Fig. 14 und 15 beschrieben eine laminierte Struktur. Die erste Hologrammlinse H&sub1; dient zum Beugen des einfallenden Lichtstrahls 71 in die divergierende Richtung, bezüglich einer optischen Achse A. Andererseits dient die zweite Hologrammlinse H&sub2; zum Beugen des Lichtstrahls 72, der durch das erste Hologramm H&sub1; gebeugt wurde, in die konvergierende Richtung, bezüglich der optischen Achse A.
Deshalb wird das einfallende Licht 71 nach außen gebeugt, wenn es durch die erste Hologrammlinse H&sub1; hindurchtritt. Dann wird der gebeugte Lichtstrahl 72 wieder nach innen gebeugt, wenn er durch die zweite Hologrammlinse H&sub2; hindurchtritt. Der konvergierende Lichtstrahls 73 wird auf den Brennpunkt 74 fokussiert.
Die Figuren 17A, 17B, 17C und 17D stellen eine erste Ausführungsform der Objektivhologrammlinse dar, wobei Fig. 17A eine rechte Hälfte der Doppelstruktur-Hologrammlinse, wie oben beschrieben, zeigt. Es sind zwei Sätze der rechten Hälften der Doppelstruktur-Hologrammlinse vorzubereiten, und einer von ihnen wird um 180º um die optische Achse A gedreht und mit der anderen Hälfte der Hologrammlinse, wie in Fig. 17B gezeigt, zusammengefügt.
Gemäß der obigen Doppelstruktur-Hologrammlinse erzeugt die erste Hologrammlinse H&sub1; eine Planwelle, die zur Peripherie divergiert, wenn ein symmetrischer Lichtstrahl bezüglich der optischen Achse A, wie eine Planwelle senkrecht zum Hologramm, in das erste Hologramm H&sub2; eintritt. Andererseits dient die zweite Hologrammlinse H&sub2; zum Beugen des Lichtstrahls 72, der durch das erste Hologramm H&sub1; gebeugt wurde, um ihn auf den Brennpunkt 74 zu fokussieren. Diese ersten und zweiten Hologrammlinsen H&sub1; und H&sub2; sind miteinander durch ein geeignetes optisches Kleben verklebt, wie ein Typ, bei dem der Klebstoff durch ultraviolette Bestrahlung gehärtet wird. Zwei so hergestellte rechte Hälften der Doppelstruktur-Hologrammlinse werden Seite an Seite auf einer Linie ausgerichtet, um eine Inline-Hologrammlinse mit guten Eigenschaften bei einem vernünftigen Bereich räumlicher Frequenz zu erzeugen.
In der Praxis ist es jedoch schwierig, eine Doppelstruktur-Hologrammlinse, wie in Fig. 17B gezeigt, aus zwei halbrunden Hologrammen, wie in Fig. 17C und 17D gezeigt, genau zu bilden. Daher wird eine Planwelle 75 auf die gesamte Ebene des ersten Hologramms H&sub1; senkrecht ausgestrahlt, und die Planwellen 76 und 77 werden schräg auf die rechte Hälfte bzw. die linke Hälfte, wie in Fig. 17C gezeigt, ausgestrahlt, um Interferenzstreifen zu erzeugen. Dann wird das erste Hologramm H&sub1; mit der Innenseite nach außen gedreht und zum zweiten Hologramm H&sub2; hin angeordnet, um die Planwelle nach außen zu beugen. Andererseits wird, wie in Fig. 17D gezeigt, eine Raumwelle 78 auf die gesamte Ebene des zweiten Hologramms H&sub2; ausgestrahlt, und Planwellen 76 und 77 werden schräg auf die rechte bzw. linke Hälfte ausgestrahlt, um Interferenzstreifen zu erzeugen.
Es ist auch schwierig, diese zwei Hologramme in dem durch 79 bezeichneten Bereich (Fig. 17B) auf der optischen Achse A genau zueinander zu positionieren. Um diese Probleme zu lösen, wird in einer zweiten, in Fig. 18 gezeigten Ausführungsform das erste Hologramm H&sub1; hergestellt, indem zwei separate Planwellen 76 und 77 aus den entsprechenden Richtungen ausgestrahlt werden, damit sich diese Planwellen 76 und 77 um die Mitte eines Hologramm-Materials Hp&sub1; überlagern, wodurch zwei Hologramme genau und glatt zusammengefügt werden können. Andererseits wird das zweite Hologramm H&sub2; auch durch Ausstrahlen dieser linken und rechten Planwellen 76 und 77 hergestellt, damit sich Teile von ihnen auf der optischen Achse A überlagern. Um eine gegenseitige Interferenz durch die Planwellen 76 und 77 selbst zu verhindern, ist es vorteilhaft, geeignete Masken zu verwenden und die optische Abscheidung in zwei Schritten durchzuführen.
Gemäß der so hergestellten Doppelstruktur-Hologrammlinse kann der Bereich der räumlichen Frequenz auf etwa die Hälfte jener einer herkömmlichen Hologrammlinse eingeengt werden, wie durch B in Fig. 23 gezeigt, und so kann eine Verbesserung der optischen Effektivität über den gesamten Bereich des Hologramms erwartet werden.
Die Figuren 19A, 19B, 19C, 19D und 19E zeigen eine dritte Ausführungsform der Objektivhologrammlinse, bei der der optische Weg in bezug auf die optische Achse A symmetrisch ist. Bei dieser Ausführungsform ist das erste Hologramm H&sub1; so konstruiert, daß die Interferenzstreifen davon so sind, daß, wenn eine einfallende Lichtwelle (wie eine senkrecht ausgestrahlte Planwelle), die zu der optischen Achse A symmetrisch ist, auf das Hologramm trifft, die Lichtwelle von Kreisen auf das Hologramm, das konzentrisch um die optische Achse A liegt, und längs der geneigten Linien der konzentrischen kreisförmigen Kegel, wie aus Fig. 19A ersichtlich ist, ausgestrahlt wird. Andererseits ist das zweite Hologramm H&sub2; so konstruiert, daß die Interferenzstreifen davon so sind, daß, wenn eine einfallende Lichtwelle längs geneigter Linien von kreisförmigen Kegeln, die konzentrisch um die optische Achse A liegen, darauf trifft, die Lichtwelle davon ausgestrahlt wird, um auf einen Punkt auf der optischen Achse A fokussiert zu werden, wie aus Fig. 19B ersichtlich ist. Diese zwei Hologramme H&sub1; und H&sub2; sind laminiert, um eine Doppelstruktur-(Inline-) Hologrammlinse zu bilden.
Die Figuren 19C und 19D zeigen Verfahren zum Herstellen dieser zwei Hologramme H&sub1; bzw. H&sub2;, in denen Bezugszeichen 81 ein transparentes optisches Element mit einer kegelförmig geneigten Fläche 82 bezeichnet, wie auch in Fig. 19E gezeigt, um das erste Hologramm H&sub1; zu konstruieren. Eine ringförmige Planwelle 83 wird auf die kegelförmige Fläche 82 des optischen Elementes 81 ausgestrahlt, und eine kreisförmige Planwelle 84 wird auch auf die zentrale ebene Oberfläche 84 ausgestrahlt. Deshalb wird die Planwelle 83 an den entsprechenden Flächen des optischen Elementes 81 gebeugt, so daß die innere Peripherie davon auf die optische Achse A fokussiert wird und die äußere Peripherie davon auf die äußere Peripherie des Hologramm-Materials Hp&sub1; fokussiert wird, um Interferenzstreifen zu konstruieren, die wie unter Bezugnahme auf Fig. 19A erläutert funktionieren. Andererseits wird, um das zweite Hologramm H&sub2; zu konstruieren, das Hologramm-Material Hp&sub2; an einer zurückgezogenen Position angeordnet, wie durch eine punktierte Linie in Fig. 19C und eine durchgehende Linie in Fig. 19D gezeigt. Eine Raumwelle 78 wird auch auf die ebene Oberfläche 84 ausgestrahlt, wodurch Interferenzstreifen gebildet werden, die wie unter Bezugnahme auf Fig. 19B erläutert funktionieren. Das optische Element 81 kann eine zentrale Öffnung 86 zum Hindurchtreten der Raumwelle 78 haben (Fig. 19C und 19E).
Figur 20 zeigt eine vierte Ausführungsform einer Hologrammlinse, bei der das optische Element 81 so angeordnet ist, daß die kegelförmig geneigte Fläche 82 davon zu den Hologramm-Materialien zeigt. Die Hologramm-Materialien für die ersten und zweiten Hologramme H&sub1; und H&sub2; sind an Hp&sub1; bzw. Hp&sub2; positioniert, um diese Hologramme H&sub1; und H&sub2; zu konstruieren.
Gemäß der so hergestellten Hologrammlinse in Übereinstimmung mit den dritten und vierten Ausführungsformen ist es auch möglich, einen engen Bereich der räumlichen Frequenz, wie für B in Fig. 23, einzustellen, und eine Verbesserung der optischen Effektivität über den gesamten Bereich des Hologramms kann erwartet werden. Bei den obigen Ausführungsformen ist es auch möglich, die räumliche Frequenz von B zu B' in Fig. 23 zu verschieben. Dies kann in den dritten und vierten Ausführungsformen durch Verändern des Öffnungswinkels des kreisförmigen Kegels geschehen, der durch die Lichtstrahlen für die zwei Hologramme gebildet wird, und in den ersten und zweiten Ausführungsformen durch Verändern der Einfalls- und Abstrahlwinkel der Planwelle zwischen den zwei Hologrammen.
Wie oben erwähnt, hat eine gemäß der vorliegenden Erfindung konstruierte Inline-Hologrammlinse einen vorteilhaft engen Bereich der räumlichen Frequenz. Es tritt keine Ungleichmäßigkeit in der Lichtintensität wie bei einer herkömmlichen einzelnen Hologrammlinse, wie in Fig. 21B gezeigt, auf Grund der Reduzierung der Beugungseffektivität auf, wenn ein Regenerierungslichtstrahl ausgestrahlt wird, wie in Fig. 21A gezeigt. Bei einer vorher vorgeschlagenen Doppelstruktur-Hologrammlinse, wie in Fig. 22A gezeigt, unterscheidet sich die räumliche Frequenz der Interferenzstreifen auf der rechten Seite R von jener auf der linken Seite L, und die räumliche Frequenz ändert sich ständig. Deshalb kann eine hohe Effektivität der Brechung im Bereich nahe der linken Seite L nicht erreicht werden, da die Verteilung der Lichtintensität in bezug auf die optische Achse A asymmetrisch ist, wie in Fig. 22B gezeigt. Deshalb ist der Bereich der räumlichen Frequenz relativ breit, wie durch A in Fig. 23 gezeigt. Umgekehrt hat bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Hologrammlinse einen vorteilhaft engen Bereich der räumlichen Frequenz, wie aus B in Fig. 23 ersichtlich ist.

Claims

1. Optische Abtastvorrichtung mit einer Lichtquelle (11, 21, 31, 41, 51, 61) zum Einstrahlen eines Lichtstrahles auf ein Informationsaufzeichnungsmedium (D), z.B. eine optische Diskette, einem optischen Sensor (15, 25, 35, 45, 55, 65) zum Detektieren des Lichtstrahles, der von dem Informationsaufzeichnungsmedium reflektiert wurde, und einem optischen Linsensystem mit:

einer Wellenplatte (14, 24, 34, 44, 54, 64), einer ersten Hologrammlinse (12, 22 33b, 43b, 53b, 62b) und einer zweiten Hologrammlinse (13, 23, 33a, 43a, 53a, 62a), die im wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind; wobei das optische Linsensystem angeordnet ist, um den Lichtstrahl, der von der Lichtquelle eingestrahlt wurde, längs einem ersten Weg zu dem genannten Medium zu lenken, und um den Lichtstrahl, der von dem Informationsaufzeichnungsmedium reflektiert wurde, längs einem zweiten Weg zu dem Sensor zu lenken; bei der

eine (13, 22 33b, 43b, 53a, 62a) der Hologrammlinsen dazu dient, den Lichtstrahl von der Lichtquelle zu dem Informationsaufzeichnungsmedium (D) zu beugen, und die andere Hologrammlinse (12, 23 33a, 43a, 53b, 62b) dazu dient, den Lichtstrahl von der Lichtquelle zu übertragen und den reflektierten Lichtstrahl von dem Inforinationsaufzeichnungsmedium zu dem optischen Sensor zu beugen; dadurch gekennzeichnet, daß:

die Hologrammlinsen und die Wellenplatte so angeordnet sind, daß der Lichtstrahl, der direkt von der Lichtquelle empfangen wird, längs dem ersten Weg durch die ersten und zweiten Hologrammlinsen und dann durch die Wellenplatte hindurchtritt, und der reflektierte Lichtstrahl längs dem zweiten Weg durch die Wellenplatte und dann durch die zweite und die erste Hologrammlinse hindurchtritt, um direkt von dem optischen Sensor empfangen zu werden; und daß

die eine der Hologrammlinsen auch dazu dient, den reflektierten Lichtstrahl von dem Informationsaufzeichnungsmedium (D) zu übertragen, so daß jeder Weg Linsenfunktionen des Beugens und des Übertragens eines Hologrammes umfaßt.

2. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, bei der eine (13, 43b, 53a, 62a) der Hologrammlinsen den Lichtstrahl von der Lichtquelle (11, 41, 51, 61) so beugt, daß er direkt auf das Inforamtionsaufzeichnungsmedium fokussiert wird.

3. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der die andere (12, 23, 33a, 43a, 53b, 62b) der Hologrammlinsen den von dem Informationsaufzeichnungsmedium reflektierten Lichtstrahl (D) so beugt, daß er auf den optischen Sensor (15, 25, 35, 45, 55, 65) fokussiert wird.

4. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, bei der die Lichtquelle (11, 21, 31, 41, 51, 61) ein Halbleiterlaser ist.

5. Optische Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die ersten und zweiten Hologrammlinsen aus einem Phasenhologramm (12, 22) bestehen, welches im Betrieb den Lichtstrahl durch seine Einstrahlung unter dem nicht-Bragg'schen Winkel überträgt und den Lichtstrahl durch Einstrahlung unter dem Bragg'schen Winkel beugt, und die andere Hologrammlinse aus einem Oberflächenreliefhologramm (13, 23) besteht.

6. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, bei der die ersten und zweiten Hologrammlinsen aus Phasenhologrammen (62a, 62b) bestehen, die Hologrammlinse (62a) neben dem Informationsaufzeichnungsmedium (D), im Betrieb, den Lichtstrahl überträgt oder beugt, indem sie ihn unter einem nicht-Bragg'schen oder einem Bragg'schen Winkel einstrahlt, und die andere Hologrammlinse (62b) im Betrieb, den Lichtstrahl überträgt oder beugt, indem sie ihn unter einem nicht-Bragg'schen- oder Bragg'schen Winkel einstrahlt, oder durch P- oder S-Polarisation.

7. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, bei der sowohl die erste als auch die zweite Hologrammlinse aus Oberflächenhologrammen (33a, 33b; 53a, 53b) bestehen.

8. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 7, bei der die ersten und zweiten Oberflächenreliefhologrammlinsen (33a, 33b) Reliefnuten haben, und die Reliefnuten der ersten Hologrammlinsen parallel zu jenen der zweiten Hologrammlinsen angeordnet sind.

9. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 7, bei der die ersten und zweiten Oberflächenreliefhologrammlinsen (53a, 53b) Reliefnuten haben, und die Reliefnuten der ersten Hologrammlinse senkrecht zu jenen der zweiten Hologrammlinse angeordnet sind.

10. Optische Abtastvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der eine (22, 33b) der ersten und zweiten Hologrammlinsen, im Betrieb, den Lichtstrahl von der Lichtquelle (21, 31) beugt, um einen parallelen Lichtstrahl zu formen, und das optische Linsensystem ferner eine Objektivhologrammlinse (27, 37) umfaßt, um den parallelen Lichtstrahl auf das Informationsaufzeichnungsmedium (D) zu fokussieren.

11. Optische Abtastvorrichtung nach Anspruch 10, bei der die Objektivhologrammlinse (27, 37) eine Doppelstruktur-Inline-Hologrammlinse ist, die symmetrisch zu ihrer optischen Achse (A) ist.