DE3629203A1

DE3629203A1 - Process for disposing of photoresist solutions

Info

Publication number: DE3629203A1
Application number: DE19863629203
Authority: DE
Inventors: Ernst Ing Grad Oswald
Original assignee: Gutling GmbH
Current assignee: Gutling GmbH
Priority date: 1986-08-28
Filing date: 1986-08-28
Publication date: 1988-03-03

Abstract

Alkaline, aqueous photoresist solutions, such as arise in the production of printed circuit boards, for the purpose of disposal, receive an addition of an inorganic acid in excess, so that the photoresist flocculates out. To the solution thus obtained is added a cationic surfactant, which is fed in excess and is then neutralised by a nonionic surfactant. The solution is then separated off from the flocculated photoresist by filtration. A porous, crumbly filter cake is obtained which does not impede the draining of the filtrate and can therefore grow to any desired thickness. The filtrate is clear and colourless and can be subjected to a conventional secondary treatment. The filter cake comprising a neutral polymer can be disposed without problem. <IMAGE>

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Entsorgung von alkalischen, wäßrigen Fotoresist-Lösungen, bei dem die Lösung durch Zusatz von Säure neutralisiert und dadurch der gelöste Fotoresist zum Ausflocken gebracht und anschließend der ausgeflockte Fotoresist von dem wäßrigen Lösungsmittel durch Filtrieren abgetrennt wird. The invention relates to a method for the disposal of alkaline, aqueous photoresist solutions in which the Solution neutralized by adding acid and thereby the dissolved photoresist flocculated and then the flocculated photoresist from the aqueous solvent is separated by filtration.

Die Herstellung von Leiterplatten erfolgt unter Verwendung von Fotoresist genannten, lichtempfindlichen, filmbildenden Kunststoffen, die nach der Fertigstellung einer Leiterplatte wieder abgelöst werden müssen. Es finden in zunehmendem Maße Fotoresists Verwendung, die in wäßrigen Lösungen verarbeitet werden und insbesondere mittels alkalischer Lösungen von den Leiterplatten entfernt werden können. Obwohl die Verarbeitung dieser Fotoresists sehr viel umweltfreundlicher ist als die Verarbeitung von Fotoresists auf der Basis organischer Lösungsmittel, insbesondere in Form chlorierter Kohlenwasserstoffe, bietet auch die Entsorgung der alkalischen Fotoresist-Lösungen noch erhebliche Probleme. Wie aus Galvanotechnik 77 (1986), Nr. 2, Seiten 402 bis 406, bekannt, ist es möglich, den in den alkalischen Lösungen enthaltenen Fotoresist durch Zusatz von Säure zum Ausflocken zu bringen und dann abzufiltrieren. Dabei ist jedoch die starke Klebrigkeit der durch Ausfällen gebildeten Flocken sehr störend. Diese klebrigen Flocken haben nämlich die Tendenz, sich zu einer zähen Masse zusammenzuballen, die sehr schnell Rohrleitungen, Pumpen, Ventile und dergleichen verstopft und außerdem im Filter für das Lösungsmittel undurchlässige Schichten bildet, so daß die Filterstufen einen nur sehr geringen Durchsatz haben und ein sehr hoher Verbrauch an Filtermaterial, z. B. Papier, zu verzeichnen ist.Printed circuit boards are manufactured using photoresist, film-sensitive Plastics after the completion of a circuit board have to be replaced again. Find it increasingly Photoresists use that processed in aqueous solutions are and in particular by means of alkaline solutions of the circuit boards can be removed. Although the processing of these photoresists is much more environmentally friendly than processing photoresists based on organic Solvents, especially in the form of chlorinated hydrocarbons, also offers the disposal of alkaline Photoresist solutions still pose significant problems. Like from electroplating 77 (1986), No. 2, pages 402 to 406 it is possible to use the contained in the alkaline solutions Flocculate photoresist by adding acid and then filter out. However, this is the strong stickiness the flakes formed by failures are very annoying. These sticky flakes tend to shrink of a viscous mass, the pipelines very quickly, Pumps, valves and the like are blocked and also in the filter impermeable to the solvent Forms layers, so that the filter stages only a very have low throughput and very high consumption Filter material, e.g. B. paper.

Zwar ist es möglich, durch die Anwendung von Binde- und Flockungsmitteln die Klebrigkeit der Flocken etwas zu reduzieren, jedoch wird durch den Einsatz solcher Mittel die anfallende Schlammenge bedeutend vergrößert, was wiederum zu erheblichen Problemen bei der Entsorgung der Schlämme führt. So ist es insbesondere bekannt, den Fotoresist aus alkalischen Lösungen mittels Schwefelsäure auszufällen und dann die Lösung mit Eisen(II)sulfat als Flockungsmittel zu behandeln. Das dabei in großen Mengen entstehende Eisen(II)hydroxid führt zu den oben erwähnten großen Problemen bei der Schlammbeseitigung.Although it is possible by using binding and Flocculants to reduce the stickiness of the flakes somewhat, however, through the use of such means accumulated sludge significantly enlarged, which in turn increases leads to considerable problems in the disposal of the sludge. So it is known in particular, the photoresist from alkaline Precipitate solutions using sulfuric acid and then treat the solution with iron (II) sulfate as a flocculant. The iron (II) hydroxide formed in large quantities leads to the big problems mentioned above with the Sludge removal.

Demgemäß liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Entsorgung von alkalischen, wäßrigen Fotoresist- Lösungen anzugeben, bei dem weder klebrige Flocken noch große Schlammengen entstehen, deren Beseitigung Probleme bietet.Accordingly, the invention is based on the object Process for the disposal of alkaline, aqueous photoresist Provide solutions where neither sticky flakes still large amounts of sludge arise, their elimination problems offers.

Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst, daß die Säure im Überschuß zugesetzt, die saure Lösung mit wenigstens einem kationischen sowie auch mit wenigstens einem anionischen Tensid versetzt wird.This object is achieved according to the invention in that the acid added in excess, the acidic solution with at least one cationic and at least one an anionic surfactant is added.

Es hat sich überraschend gezeigt, daß durch die Zugabe von Tensiden zu der sauren Lösung mit dem ausgeflockten Fotoresist eine Änderung der Flockenstruktur erzielt wird, durch welche den Flocken ihre Klebrigkeit genommen wird, so daß sie nicht mehr zu einem Verstopfen von Rohrleitungen, Pumpen u. dgl. führen und außerdem einen porösen Filterkuchen bilden, der ein äußerst effektives Abfiltrieren des ausgefällten Fotoresists von der Lösung ermöglicht. Dabei wird selbst dann, wenn der Fotoresist gefärbt ist, ein klares und farbloses Filtrat erzielt. Eine nennenswerte Vergrößerung der abzufiltrierenden Schlammenge findet bei dem erfindungsgemäßen Verfahren nicht statt. Der erhaltene Filterkuchen besteht aus unlöslichen Polymeren, die keinen nennenswerten Gehalt an Schadstoffen haben, so daß es sich um einen im Sinne der Verordnung über gefährliche Arbeitsstoffe nicht kennzeichnungspflichtigen Stoff handelt, der auf jeder geordneten Mülldeponie abgelagert werden darf. Die Nachbehandlung des klaren, farblosen Filtrats kann zusammen mit den übrigen Abwässern erfolgen, die bei Anlagen zur Herstellung von Leiterplatten anfallen, insbesondere zusammen mit den kupferhaltigen Ätzlösungen, so daß die Nachbehandlung des Filtrats keine besonderen Schwierigkeiten bereitet.It has surprisingly been found that the addition of Surfactants to the acidic solution with the flocculated photoresist a change in the flake structure is achieved by which removes the stickiness from the flakes, so that they no longer clog pipes, pumps u. Like. And also form a porous filter cake, which is an extremely effective filtering of the precipitated Allows photoresists from the solution. Doing so yourself when the photoresist is colored, a clear and colorless Filtrate achieved. A significant increase in the amount of sludge to be filtered takes place in the inventive Procedure does not take place. The filter cake obtained exists from insoluble polymers that have no significant Have content of pollutants, so that it is in the The meaning of the ordinance on hazardous substances does not labeling substance that acts on everyone orderly landfill may be deposited. The aftercare the clear, colorless filtrate can be mixed with the other wastewater that occurs in manufacturing plants of printed circuit boards, especially together with the copper-containing etching solutions, so that the after-treatment of the filtrate presents no particular difficulties.

Den Wirkungsmechanismus des erfindungsgemäßen Verfahrens kann man sich so vorstellen, daß die kationischen Tenside sich mit den in der alkalischen Lösung enthaltenen Molekülen des Fotoresists verbinden und diese Moleküle gewissermaßen umhüllen. Dieser Vorgang findet unabhängig davon statt, ob die kationischen Tenside während oder nach der Säurezugabe sowie gleichzeitig oder nacheinander zudosiert werden. Das Hinzufügen anionischer Tenside verstärkt diesen Effekt. Die Tenside bewirken dabei eine Veränderung des Flockencharakters in der oben beschriebenen Weise. Wegen der Wechselwirkung zwischen den Tensiden und dem Fotoresist einerseits sowie zwischen den Tensiden andererseits ist es von Vorteil, wenn das kationische Tensid im Überschuß eingesetzt und der Überschuß durch das anionische Tensid neutralisiert wird. Dabei gehen dann die kationischen Tenside in eine Bindung mit den Molekülen des Fotoresist ein, die einen anionischen Charakter haben. Durch die Zugabe der anionischen Tenside werden die überschüssigen kationischen Tenside neutralisiert, wodurch sich hüllenartige Strukturen ergeben, welche die Kunststoffmoleküle des Fotoresists umgeben. Die Reihenfolge der Zugabe der Tenside scheint keinen grundlegenden Einfluß auf die Wirksamkeit des Verfahrens zu haben. The mechanism of action of the method according to the invention can you imagine that the cationic surfactants with the molecules contained in the alkaline solution of the photoresist and, so to speak, these molecules envelop. This process takes place regardless of whether the cationic surfactants during or after the acid addition and metered in simultaneously or in succession. The Adding anionic surfactants enhances this effect. The Surfactants cause a change in the flake character in the manner described above. Because of the interaction between the surfactants and the photoresist on the one hand and between the surfactants on the other hand, it is advantageous if the cationic surfactant is used in excess and the Excess is neutralized by the anionic surfactant. The cationic surfactants then bond with the molecules of the photoresist that are anionic Have character. By adding the anionic surfactants neutralizes the excess cationic surfactants, which results in shell-like structures that the Plastic molecules surrounding the photoresist. The chronological order the addition of the surfactants does not seem to have any fundamental influence to have on the effectiveness of the procedure.

In weiterer Ausgestaltung des Verfahrens kann durch Zugabe auch des anionischen Tensids im Überschuß die der Filtration zugeführte Lösung anionisch eingestellt werden. Eine solche Einstellung ist dann von Vorteil, wenn eine Nachbehandlung des Filtrats mit Kalk zur Reduktion des CBS-Wertes stattfinden soll, weil eine anionisch eingestellte Lösung gegenüber dem Kalk empfindlicher ist, also mit dem zur Reduzierung des CBS-Wertes eingesetzten Kalk besser reagiert.In a further embodiment of the method can be added also the anionic surfactant in excess that of the filtration supplied solution can be adjusted anionically. Such Adjustment is beneficial when post-treatment of the filtrate with lime to reduce the CBS value should, because of an anionically adjusted solution the lime is more sensitive, i.e. with the to reduce the CBS value used lime responds better.

Obwohl die Vorstellung über den Wirkungsmechanismus des erfindungsgemäßen Verfahrens, nach dem die die klebrige Masse bildenden Moleküle des in der Lösung enthaltenen Fotoresists von den Tensid-Molekülen mehr oder weniger eingehüllt werden, nicht im einzelnen nachprüfbar und für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens auch ohne Bedeutung ist, kann eine gewisse Bestätigung dieser Vorstellung darin gesehen werden, daß die oben beschriebene Wirkung, nämlich die Erzeugung poröser und klebungsfreier Flocken, dann besonders ausgeprägt ist, wenn als kationisches Tensid ein kationischer Polyelektrolyt mit einem Molekulargewicht von mehr als 10⁴ verwendet wird. Als besonders geeignet hat sich ein handelsübliches Diallyldimethylammoniumchlorid- Polymer mit einem Molekulargewicht von etwa 2 · 10⁵ erwiesen. Wird eine Mischung von kationischen Tensiden eingesetzt, kann dem genannten Diallyldimethylammoniumchlorid- Polymer noch ein sehr stark kationischer Polyelektrolyt auf der Basis von Methacrylsäureester zugesetzt werden, und zwar vorteilhaft in einer Menge bis zu etwa 10%. Although the idea of the mechanism of action of the inventive method, according to which the sticky Mass forming molecules of the contained in the solution Photoresists of the surfactant molecules more or less be encased, not individually verifiable and for the implementation of the method according to the invention without Meaning is some confirmation of this idea be seen in the fact that the effect described above, namely the production of porous and non-sticky Flakes, then particularly pronounced when as cationic A cationic polyelectrolyte with a surfactant Molecular weight of more than 10⁴ is used. As a commercially available diallyldimethylammonium chloride Polymer with a molecular weight of about 2 · 10⁵. Will be a mix of cationic If surfactants are used, the diallyldimethylammonium chloride Polymer still a very strongly cationic Polyelectrolyte based on methacrylic acid ester be added, advantageously in an amount up to about 10%.

Bezüglich der anionischen Tenside konnte nicht festgestellt werden, daß der Einsatz hochmolekularer Tenside von besonderem Vorteil ist. Vielmehr empfiehlt sich der Einsatz üblicher anionischer Tenside, deren Molekulargewicht im Bereich von 300 liegt. Als besonders wirkungsvoll hat sich als anionisches Tensid ein Sulfat der allgemeinen FormelWith regard to the anionic surfactants could not be determined be that the use of high molecular weight surfactants of particular Advantage is. Rather, the use of more common is recommended anionic surfactants whose molecular weight is in the range of 300 lies. Has proven particularly effective as an anionic Surfactant is a sulfate of the general formula

erwiesen, in der R ein hydrophober organischer Rest und X⁺ das Gegenion der hydrophilen Gruppe bedeuten. Ein bevorzugtes Beispiel eines solchen Sulfats ist Natriumlaurylsulfat.proven, in which R is a hydrophobic organic radical and X ⁺ the counterion of the hydrophilic group. A preferred example of such a sulfate is sodium lauryl sulfate.

Zur Optimierung des Verfahrens bezüglich Durchsatz und Wirkung ist es weiterhin von Vorteil, wenn der pH-Wert der Lösung, die durch die Zugabe von Säure zu der alkalischen Fotoresist-Lösung erhalten wird, auf etwa 3 eingestellt wird. Dabei sollte der Schwankungsbereich -0,5 nicht überschritten werden. Bei optimierten Arbeitsbedingungen beträgt die Einwirkungszeit der Säure, bei der es sich vorzugsweise um Schwefelsäure handelt, etwa 15 Minuten, während für die Einwirkung der Tenside etwa je 5 Minuten benötigt werden. Aus diesen Zeiten ergibt sich in Verbindung mit dem erforderlichen Durchsatz einer zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens bestimmte Anlage die Größe der einzelnen Reaktionsbehälter. Es ist ersichtlich, daß im Hinblick auf die geringe Verweilzeit im Verhältnis zum Durchsatz kleine Behälter ausreichen. Dabei läßt sich ein solches Verfahren ohne weiteres kontinuierlich ausführen. Es ist lediglich unter Verwendung von Rührern dafür Sorge zu tragen, daß eine die reaktionsfördernde, gute Durchmischung der jeweils zufließenden Lösung mit dem Inhalt des Reaktors stattfindet. Dabei wird in dem Behälter, in dem die Ausflockung des Fotoresists durch Säurezugabe erfolgt, vorteilhaft ein schneller Rührer eingesetzt, der dafür sorgt, daß möglichst kleine, reaktionsfreudige Flocken entstehen. In dem oder den nachfolgenden Behältern, in denen die Behandlung mit Tensiden erfolgt, werden dagegen zweckmäßig langsam laufende Rührer verwendet, um die Bildung großer und poröser Flocken auszubilden. Der Ablauf des erfindungsgemäßen Verfahrens läßt sich nicht nur durch Überwachung der oben angegebenen Werte (pH-Wert, kationischer oder anionischer Charakter der Lösung), sondern auch durch Beobachten der Art der Flockenbildung überwachen und steuern.To optimize the process in terms of throughput and It is also advantageous if the pH value of the Solution by adding acid to the alkaline Photoresist solution obtained is set to about 3 becomes. The fluctuation range should not be -0.5 be crossed, be exceeded, be passed. With optimized working conditions is the exposure time of the acid at which it is is preferably sulfuric acid, about 15 minutes, while for the action of the surfactants about 5 minutes each are needed. From these times it results in connection with the throughput required to perform the The inventive method determined the size of the single reaction vessel. It can be seen that in In view of the short residence time in relation to the The throughput of small containers is sufficient. Here one can carry out such a process continuously without further ado. It is only to be ensured using stirrers wear that a reaction-promoting, good mixing the solution flowing in with the contents of the reactor takes place. It is in the container in which the flocculation of the photoresist is done by adding acid, advantageous a fast stirrer is used, which ensures that as possible small, responsive flakes are created. By doing or the subsequent containers in which the treatment done with surfactants, however, are expediently slow running stirrer used to form large and porous Train flakes. The sequence of the method according to the invention can not only be monitored by monitoring the above specified values (pH, cationic or anionic Character of the solution), but also by observing the species monitor and control the formation of flakes.

Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Beispieles für die Behandlung einer typischen Fotoresist-Lösung näher beschrieben und erläutert. Die dabei verwendete Anlage ist in der beigefügten Zeichnung schematisch dargestellt.The invention is based on an example of the treatment of a typical photoresist solution described and explained. The system used is shown schematically in the accompanying drawing.

Eine Fotoresist-Lösung, bestehend aus Entwickler und Stripper, die durch das Ablösen der Fotoresistschicht von fertiggestellten Leiterplatten mittels verdünnter Natronlauge entstanden ist, wurde in einem ersten Behälter 1 mit verdünnter Schwefelsäure vermischt. Die Fotoresist-Lösung und die Schwefelsäure wurden über je eine Leitung 2 bzw. 3 dem Behälter 1 zugeführt. Die zugeführte Menge an Schwefelsäure wurde so bemessen, daß die im Behälter 1 enthaltene Lösung 4 einen pH-Wert von 3-0,5 hatte. In dem Behälter 1 befand sich ein schnellaufender Rührer 5, der für eine schnelle und gute Durchmischung der Fotoresist-Lösung und der verdünnten Schwefelsäure sorgte. Da der Fotoresist nur im alkalischen Milieu löslich ist, fällt er durch das Ansäuern der Lösung in Form von Flocken aus. Der schnellaufende Rührer 5 sorgt dafür, daß keine großen Flocken und keine Zusammenballungen entstehen, so daß die nunmehr saure Lösung mit den Flocken über eine Leitung 6 einem weiteren Behälter 7 zugeführt werden kann. In diesen Behälter wurde über eine Leitung 8 ein kationisches Tensid eingeführt, bei dem es sich um eine Mischung einer 3%igen Lösung von polymerisiertem Diallyldimethylammoniumchlorid mit einem Molekulargewicht von etwa 2 · 10⁵ in Wasser und einer 0,1%igen Lösung eines handelsüblichen Polyelektrolyten auf der Basis von Methacrylsäureester handelte. In diesem Behälter 7 wurde ein langsam laufender Rührer 9 verwendet, der zwar für eine gute Vermischung der Tenside mit der Lösung sorgte, jedoch nicht die durch die Zugabe des kationischen Tensids bewirkte Vergrößerung der Flocken beeinträchtigte. Die kationischen Tenside wurden im Überschuß zugegeben, so daß die im Behälter 7 enthaltene Lösung einen kationischen Charakter hatte.A photoresist solution consisting of developer and stripper, which was created by detaching the photoresist layer from finished printed circuit boards using dilute sodium hydroxide solution, was mixed in a first container 1 with dilute sulfuric acid. The photoresist solution and the sulfuric acid were fed to container 1 via lines 2 and 3, respectively. The amount of sulfuric acid added was measured so that the solution 4 contained in container 1 had a pH of 3-0.5. In the container 1 there was a high-speed stirrer 5 , which ensured rapid and thorough mixing of the photoresist solution and the dilute sulfuric acid. Since the photoresist is only soluble in an alkaline environment, it precipitates in the form of flakes when the solution is acidified. The high-speed stirrer 5 ensures that there are no large flakes and no agglomerations, so that the now acidic solution with the flakes can be fed to a further container 7 via a line 6 . A cationic surfactant, which is a mixture of a 3% solution of polymerized diallyldimethylammonium chloride with a molecular weight of approximately 2 × 10 einem in water and a 0.1% solution of a commercially available polyelectrolyte, was introduced into this container via a line 8 based on methacrylic acid ester. In this container 7 , a slow-moving stirrer 9 was used, which provided good mixing of the surfactants with the solution, but did not impair the enlargement of the flakes caused by the addition of the cationic surfactant. The cationic surfactants were added in excess, so that the solution contained in the container 7 had a cationic character.

Die nunmehr große Flocken aufweisende, kationische Lösung wurde über eine Leitung 10 einem dritten Behälter 11 zugeführt, in den über eine Leitung 12 ein anionisches Tensid eingeleitet wurde. Die Menge des anionischen Tensids war ausreichend, um den kationischen Überschuß der zugeführten Lösung zu neutralisieren oder sogar der Lösung einen anionischen Charakter zu verleihen. Auch in diesem Behälter 11 war wiederum ein langsam laufender Rührer 13 enthalten, der zwar eine gute Vermischung der zugeführten anionischen Tenside mit der Lösung gewährleistete, jedoch die Flockenbildung nicht störte. In dem Behälter 11 tritt eine Umbildung der Flocken ein, die an einer Auflockerung der Strukturen erkennbar war. The now large flake-containing, cationic solution was fed via line 10 to a third container 11 , into which an anionic surfactant was introduced via line 12 . The amount of anionic surfactant was sufficient to neutralize the cationic excess of the solution supplied or even to give the solution an anionic character. This container 11 also contained a slow-running stirrer 13 , which ensured good mixing of the anionic surfactants supplied with the solution, but did not interfere with the formation of flakes. A change of the flakes occurs in the container 11 , which was recognizable by a loosening of the structures.

Die in dem Behälter 11 entstandene Lösung wurde mit den darin umgebildeten Flocken über eine Leitung 14 einem Filter 15 zugeführt, in dem sich auf einer nicht näher dargestellten Schicht aus Filterpapier ein Filterkuchen 16 bildete, während das Filtrat über eine Leitung 17 abfloß. Bei dem Filterkuchen 16 handelte es sich um eine poröse, krümelige Masse, die für das Filtrat gut durchlässig war und daher die Leitungsfähigkeit des Filters 15 in keiner Weise beeinträchtigte. Das über die Leitung 17 abgeführte Filtrat wurde zusammen mit dem aus der Ätzeinrichtung der Anlage zur Herstellung von Leiterplatten stammenden Abwasser nachbehandelt.The solution formed in the container 11 was fed with the flakes formed therein via a line 14 to a filter 15 in which a filter cake 16 was formed on a layer of filter paper, not shown, while the filtrate flowed off via a line 17 . The filter cake 16 was a porous, crumbly mass which was permeable to the filtrate and therefore did not impair the conductivity of the filter 15 in any way. The filtrate discharged via line 17 was aftertreated together with the waste water from the etching device of the plant for the production of printed circuit boards.

Das beschriebene Verfahren wurde kontinuierlich in der Weise durchgeführt, daß die Verweilzeit in dem ersten Reaktor 1, in dem das Ausflocken des Fotoresists aus der Lösung mit Schwefelsäure stattfand, 15 Minuten betrug. Die Verweilzeit in den Behältern 7 und 11, in denen die Behandlung mit Tensiden stattfand, betrug jeweils 5 Minuten. Die eingesetzte Lösung hatte eine Polymerbelastung, die einem CSB-Wert von 9500 mg O²/l entsprach. Die Belastung durch mitgeführtes Kupfer betrug 9,1 mg/l. Pro 1000 l Lösung wurden 14 l 38%ige Schwefelsäure zugegeben, während die Zugabe an kationischem Tensid 300 g Diallyldimethylammoniumchlorid und 20 g Polyelektrolyt auf der Basis von Methacrylsäureester betrug. Die Menge des im dritten Behälter 11 zugesetzten Natriumlaurylsulfat betrug 700 g pro 1000 l Lösung.The process described was carried out continuously in such a way that the residence time in the first reactor 1 , in which the flocculation of the photoresist from the solution with sulfuric acid took place, was 15 minutes. The residence time in containers 7 and 11 , in which the treatment with surfactants took place, was 5 minutes in each case. The solution used had a polymer load which corresponded to a COD value of 9500 mg O² / l. The exposure to entrained copper was 9.1 mg / l. 14 l of 38% sulfuric acid were added per 1000 l of solution, while the addition of cationic surfactant was 300 g of diallyldimethylammonium chloride and 20 g of polyelectrolyte based on methacrylic acid ester. The amount of sodium lauryl sulfate added in the third container 11 was 700 g per 1000 l of solution.

Das unter den genannten Bedingungen erhaltene Filtrat war völlig farblos und klar. Die durch den CSB-Wert ausgedrückte organische Belastung des Filters betrug noch 2000 mg O₂/l, während die Kupferbelastung auf 4,2 mg/l zurückgegangen war. The filtrate obtained under the conditions mentioned was completely colorless and clear. The one expressed by the COD value organic load on the filter was still 2000 mg O₂ / l, while the copper load had dropped to 4.2 mg / l.

Diese Werte lassen sich durch eine Nachbehandlung ohne weiteres so weit reduzieren, daß das Filtrat zum Einleiten in den Kanal geeignet ist. Wie bereits erwähnt, fallen bei der Herstellung von Leiterplatten ohnehin vom Ätzen der Kupferschichten stammende Lösungen mit hoher Kupferbelastung an, die entsorgt werden müssen und denen das bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltene Filtrat ohne weiteres zugemischt werden kann.These values can be treated without aftertreatment further reduce so far that the filtrate to be introduced is suitable in the channel. As already mentioned, fall at the manufacture of printed circuit boards anyway by etching the Solutions from copper layers with a high copper load to which must be disposed of and to which this is the case with the invention Filtrate obtained process easily can be added.

Wie bereits erwähnt, besteht der erhaltene Filterkuchen im wesentlichen aus unlöslichen Polymeren, die keine Schadstoffe bilden und auch nicht in beachtlichen Mengen enthalten, so daß die endgültige Entsorgung des Filterkuchens ebenfalls keine Schwierigkeiten und keine hohen Kosten bereitet.As already mentioned, the filter cake obtained consists of essentially from insoluble polymers that do not contain any pollutants form and also not contain in considerable quantities, so that the final disposal of the filter cake also no difficulties and no high costs.

Aus dem Vorstehenden ist ersichtlich, daß durch die Erfindung ein Verfahren geschaffen wird, das mit geringem Aufwand die Entsorgung von wäßrigen Lösungen möglich macht, die eine hohe Belastung an klebrigen Polymeren enthalten und die insbesondere bei der Herstellung von Leiterplatten durch das Ablösen (Strippen) der Fotoresist-Schichten von den fertigen Leiterplatten entstehen. Das erfindungsgemäße Verfahren, das wahlweise im Batch-Betrieb oder kontinuierlich durchgeführt werden kann, erfordert keine komplizierten Installationen und verursacht auch keine hohen Kosten für die zur Behandlung notwendigen Chemikalien. Von besonderem Vorteil ist, daß die dabei anfallenden Endprodukte bezüglich der Entsorgung ebenfalls keine großen Probleme mehr bieten, und zwar weder hinsichtlich der Menge noch hinsichtlich der Notwendigkeit einer besonderen, komplizierten Nachbehandlung.From the above it can be seen that by the invention A process is created that is easy makes the disposal of aqueous solutions possible contain a high load of sticky polymers and the especially in the manufacture of printed circuit boards by the Detachment (stripping) of the photoresist layers from the finished ones Printed circuit boards are created. The inventive method, the either in batch mode or carried out continuously requires no complicated installations and also does not incur high costs for treatment necessary chemicals. It is particularly advantageous that the resulting end products with regard to disposal also no longer pose any major problems, namely neither in terms of quantity nor in terms of necessity a special, complicated after-treatment.

Claims

1. A process for the disposal of alkaline, aqueous photoresist solutions, in which the solution is neutralized by the addition of acid, thereby causing the dissolved photoresist to flocculate and then the flocculated photoresist is separated from the aqueous solvents by filtration, characterized in that the acid added in excess, the acidic solution is mixed with at least one cationic and also with at least one anionic surfactant.

2. The method according to claim 1, characterized in that to the acidic solution the cationic and the anionic surfactant can be added.

3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the cationic surfactant is used in excess and the excess by the anionic surfactant is neutralized.

4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the supplied to the filtration Solution is adjusted anionically.

5. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that as a cationic surfactant a cationic polyelectrolyte with a molecular weight of more than 10⁴ is used.