DE3620788C2

DE3620788C2 -

Info

Publication number: DE3620788C2
Application number: DE3620788A
Authority: DE
Inventors: Juergen Dipl.-Phys. Dr. 7410 Reutlingen De Hartmann; Joerg 7400 Tuebingen De Metzger; Dieter Dipl.-Phys. Dr. 7410 Reutlingen De Seipler
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 1986-06-20
Filing date: 1986-06-20
Publication date: 1991-03-28
Also published as: DE3620788A1

Description

Stand der Technik

Die Erfindung betrifft einen Träger des Hauptanspruchs und ein Verfahren zu dessen Herstellung.

In Laserabgleichsystemen werden Schichtschaltungen auf Großsub straten, die in Dickschichttechnik oder in Dünnschichttechnik auf die Substrate aufgebracht sind, mittels Laserstrahl abgeglichen. Dadurch lassen sich beispielsweise die Widerstandswerte aufgebrachter Wider standsstrukturen in gewünschtem Maße verändern und auf vorgegebene exakte Werte abgleichen. Derartige Laserabgleichsysteme müssen an die verwendeten Substratgrößen angepaßt sein und sind sehr kostenauf wendig. Die mit den Schichtschaltungen behafteten Großsubstrate können dabei mehrere Einzelschaltungen tragen, die durch Ritzen und anschließendes Brechen der Großsubstrate vereinzelt werden können. Wird bei einem derart mehrfach genutzten Großsubstrat in einer der separaten Einzelschaltungen ein Herstellungsfehler gefunden, so müßte das gesamte Großsubstrat zum Beheben des Fehlers zurückgehalten und anschließend erneut dem Abgleichsystem zugeführt werden. Durch die Entnahme des Großsubstrates aus dem Magazinsystem können zusätzliche Beschädigungen entstehen. Darüber hinaus würden bei Reparatur im Großsubstrat alle Einzelschaltungen den dann erforderlichen zusätz lichen Wärmeprozessen unterworfen werden. Bei Meßfehlern, die durch mangelhaften elektrischen Kontakt des Meßsystems auf dem Substrat verursacht werden, ist eine Neukontaktierung mit Neu positionierung der Einzelschaltung wünschenswert. Dazu könnten nach der Vereinzelung die fehlerhaft gemessenen oder reparierten Einzel substrate Lasersystemen zugeführt werden, die speziell an deren Ab messungen angepaßt sind. Der hierfür erforderliche Aufwand an speziellen Einrichtungen für die unterschiedlichen Einzelsubstrate ist jedoch äußerst hoch.

Aus der Firmendruckschrift "Vollautomatische mikroprozessorge steuertes Widerstandstrimmsystem Modell 685" der Firma Laser-Optronic ist bereits ein Laserabgleichsystem bekannt, mit dem auf Substrate aufgebrachte Schichtwiderstände abgeglichen werden können. Der bei diesem System verwendete Substratträger ist als Rotationstisch aus gebildet und weist als Anschlagelemente winkelförmig ausgeschnittene Tischauflagen auf, an denen die Substrate angelegt werden.

Aus der DE-OS 22 61 001 ist es des weiteren für ein Abgleichsystem mit einem drehbaren Arbeitstisch bekannt, zur exakten Positionierung von Substraten Anschlagelemente vorzusehen, die die Eckbereiche der Substrate freilassen.

Aus der DD-PS 1 10 378 ist es des weiteren bekannt, beim Abgleich von Dünnschichtwiderständen die Substrate mit einander gegenüberliegenden Anschlägen zu halten.

Aufgabe, Lösung und Vorteile der Erfindung

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Träger für Einzel substrate nach der Gattung des Hauptanspruchs zu schaffen, mit dem nachzuarbeitende bzw. zu reparierende Einzelsubstrate, die aus einem Großsubstrat durch Unterteilen, insbesondere durch Ritzen und Brechen, hergestellt worden sind, einem für Großsubstrate ausgelegten Laserabgleichsystem zugeführt werden können.

Erfindungsgemäß ist diese Aufgabe durch die kennzeichnenden Merkmale des Hauptanspruchs gelöst. Hierbei ergibt sich der besondere Vorteil, daß auf einem Großsubstrat Einzelsubstrate exakt positioniert werden können, so daß das für das Großsubstrat ausgelegte Laserabgleichsystem auf sehr einfache Weise auch für die Bearbeitung der Einzelsubstrate verwendet werden kann. Weitere Vor teile ergeben sich aus den Unteransprüchen 2 bis 6. Ein besonders vorteilhaftes Verfahren zur Herstellung eines Trägers nach einem der Ansprüche 1 bis 6 ist durch die Ansprüche 7 und 8 gekennzeichnet.

Zeichnung

Die Erfindung wird anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 einen Substratträger zur Aufnahme eines Ein zelsubstrats der Größe 1/6 der Gesamtfläche und

Fig. 2 ein Substratträger zur Aufnahme eines Einzel substrats der Größe ¼ der Substratträgerfläche.

Die in Fig. 1 und Fig. 2 dargestellten Substrat träger bestehen jeweils aus einem Großsubstrat 1, zwei Anschlagelementen 2, 3; 4, 5 und zwei Hilfselementen 6, 7; 8, 9.

Die äußeren Konturen der jeweils zugehörigen Einzel substrate 10, 11 sind mit unterbrochener Linie darge stellt.

Die Anschlagelemente 2, 3; 4, 5 besitzen exakt ausge richtete Anschlagkanten 12, deren Position mittels einer geeigneten Schablone festgelegt wurde. Die Position der Hilfselemente 6 bis 9 wurde im wesentlichen durch Ein setzen eines typischen Einzelsubstrats 10 oder 11 fest gelegt, wobei zwischen den Gegenkanten 13 und der be nachbarten Kante des Einzelsubstrats ein Fügeabstand von ungefähr 50 µm eingehalten wurde.

Die mit unterbrochenen Linien dargestellten Einzelsub strate 10, 11 besitzen überstehende Ecken 14, 15, die beim Brechen als Bruchreste entstanden sind. Bei der jeweils benachbarten Ecke 16; 17 fehlt das entsprechende Eckstück.

Dadurch, daß die Anschlagelemente 2 bis 5 und die Hilfs elemente 6 bis 9 jeweils die Eckbereiche der Einzel substrate 10, 11 freilassen, stören überstehende Ecken bei der exakten Positionierung der Einzelsubstrate nicht.

Die Pfeilrichtung a gibt die Transportrichtung der Sub stratträger durch das Laserabgleichsystem an.

Der Substratträger kann beispielsweise eine Größe von 2 Zoll × 2 Zoll oder 4 Zoll × 4 Zoll und beispielsweise eine Substratdicke von ca. 0,65 mm oder 1,0 mm haben.

Claims

1. Träger für aus einem Großsubstrat aus Keramik durch Unterteilen, insbesondere durch Ritzen und Brechen, hergestellte Einzelsubstrate (10, 11) für ein Laserabgleichsystem, das zum Abgleich von auf Groß substraten in Schichttechnik ausgebildeten Schaltungselementen aus gelegt ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus einem Großsubstrat (1) und aus Anschlagelementen (2, 3; 4, 5) besteht, die auf dem Großsubstrat (1) zur exakten Positionierung der Einzelsubstrate (10, 11) angebracht sind.

2. Träger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anschlag elemente (2, 3; 4, 5) die Eck bereiche der Einzelsubstrate (10; 11) freilassen.

3. Träger nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß den für ein Einzelsubstrat (10; 11) vorgesehenen Anschlag elementen (2, 3; 4, 5) jeweils ein Hilfsanschlagelemente (6, 7; 8, 9) gegenüberliegend zugeordnet ist.

4. Träger nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn zeichnet, daß die Anschlagelemente (2, 3; 4, 5) und/oder die Hilfs elemente (6, 7; 8, 9) auf das Großsubstrat (1) aufgeklebte Keramikstreifen sind.

5. Träger nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Keramik streifen aus einem Großsubstrat hergestellt sind.

6. Träger nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Einzelsubstrat (10, 11) und den Hilfsanschlag elementen (6, 7; 8, 9) jeweils ein Fügeabstand zwischen 40 µm und 60 µm besteht.

7. Verfahren zum Herstellen eines Trägers gemäß einem der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Anschlagelemente (2, 3; 4, 5) zur exakten Positionierung der Anschlagkanten (12) beim Aufkleben mittels einer Schablone ausgerichtet werden.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur Positionierung der Hilfsanschlagelemente (6, 7; 8, 9) ein Einzel substrat (10; 11) an den Anschlagelementen (2, 3; 4, 5) angelegt wird und die Hilfsanschlagelemente (6, 7; 8, 9) mit geringem Fügeabstand ausgerichtet und fixiert werden.