DE3527516A1 - Vorrichtung zum bespruehen von substratflaechen oder plaettchen, insbesondere fuer elektronische schaltungen oder bauteile - Google Patents

Vorrichtung zum bespruehen von substratflaechen oder plaettchen, insbesondere fuer elektronische schaltungen oder bauteile

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DE3527516A1
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Bruce T. Excelsior Minn. Mackedanz
James M. Maple Plain Minn. Silvernail
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Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung nach dem Ober-
  • begriff des Patentanspruches 1.
  • Derartige Vorrichtungen dienen der Bearbeitung von Substratflächen oder Plättchen (Wafers) zur Herstellung von elektronischen Bauteilen. Diese Vorrichtungen weisen eine Dichtung zwischen dem Drehtisch und dem Gehäuse auf, um zu verhindern, daß Sprühflüssigkeiten in die Lager gelangen, die die Welle an dem Gehäuse lagern.
  • Bekannte Dichtungen zwischen der drehangetriebenen Welle und dem Gehäuse, das die Bearbeitungskammer bildet, sind in den unterschiedlichsten Ausgestaltungen vorhanden. Bei einigen Vorrichtungen ist eine flache Scheibe oder eine Dichtung vorhanden, die an dem Boden des Gehäuses liegt und einfach die drehangetriebene Welle umfaßt. Eine derartige Dichtung ist aus der US-PS 3 990 462 bekannt.
  • Bei anderen Vorrichtungen ist die Dichtung tassenförmig ausgebildet, wobei die Kante der Tasse auf dem ortsfesten Boden des Gehäuses aufliegt und der Boden der Dichtung mit einer öffnung versehen ist, damit die drehangetriebene Welle hindurchtreten kann. Eine solche Dichtung ist Gegenstand der US-Ps 4 197 000. Derartige tassenförmige Dichtungen weisen die unterschiedlichsten Formen auf und sie sind in der unterschiedlichsten Weise angeordnet.
  • Auch sind Oringe bekannt, die zwischen dem ortsfesten Gehäuse und der umlaufenden Welle angeordnet wurden.
  • Die bekannten Dichtungen weisen erhebliche Nachteile auf, da immer ein Teil an dem anderen reibt und dadurch kleine Teilchen erzeugt werden. Diese Teilchen neigen dazu in die Behandlungskammer einzudringen und sich auf den zu bearbeitenden Substratflächen oder Plättchen abzusetzen.
  • Da die herzustellenden Plättchen immer dünner und kleiner werden, bedeutet die Anwesenheit von kleinen Teilchen in der Bearbeitungskammer eine erhebliche Beeinträchtigung.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der das Eindringen oder das Einströmen von Bearbeitungsflüssigkeit in den Bereich der umlaufenden Welle verhindert wird und die Erzeugung von unkontrollierten Teilchen, die sich auf den zu bearbeitenden Substratflächen absetzen, auf ein Minimum herabgesetzt wird.
  • Diese Aufgabe wird grundsätzlich durch das Kennzeichen des Anspruches 1 bzw. des Anspruches 12 gelöst.
  • Ein Merkmal der Erfindung liegt in der verbesserten Dichtung zwischen dem ortsfesten Gehäuse und dem umlaufenden Drehtisch in der Bearbeitungskammer. Die Dichtung besteht aus einer Vielzahl konzentrischer ringförmiger Rippen mit. verschiedenen Durchmessern, die einander in achsialer Richtung ausgehend vom Boden des ortsfesten Gehäuses bzw. von dem Drehtisch durchdringen.
  • Die aneinander angrenzenden ringförmigen Rippen, die gleichgerichtet sind, weisen einen Abstand voneinander auf und bilden so ringförmige Nuten zwischen sich. Die ringförmigen Nuten sind gestaltet und dimensioniert um die ringförmigen Rippen, die in entgegengesetzter achsialer Richtung verlaufen, aufzunehmen. Die entgegengesetzt gerichteten ringförmigen Rippen überschneiden sich und weisen einen im wesentlichen gleichen Abstand sowohl in achsialer als auch in radialer Richtung untereinander auf.
  • Die einander überschneidenden und einen Abstand untereinander aufweisenden ringförmigen Rippen bilden ein Labyrinth oder einen entsprechenden gewundenen Pfad, der von der Welle ausgeht und nach außen gerichtet ist und durch den Staub und kleine Teilchen sich aus dem Bereich der Kammer herausbewegen. Die umlaufenden, einander überschneidenden Rippen schleudern Staubteilchen nach außen und verhindernso, daß diese die Welle erreichen.
  • Bei einer Ausführungsform ist eine Spülwasserzufuhröffnung vorgesehen, die Spülwasser in den äußeren Umfangsbereich der Labyrinthdichtung leitet. Das Spülwasser nimmt irgendwelche Teilchen im Bereich der Dichtung mit und leitet diese über den Boden des Gehäuses nach außen zu einem Abfluß.
  • Eine Vakuumöffnung, die mit dem Labyrinth zwischen den Rippen verbunden ist, saugt Gase und damit Staub und kleine Teilchen aus dem Labyrinth ab,bevor sich diese im Bereich der Dichtung ablagern können. Gase, Staubteilchen oder andere kleine Teilchen in dem Labyrinth, die nicht durch die Vakuumöffnung entfernt werden, werden durch das Spülwasser benetzt und über den Kammerboden nach außen zu demAbfluß geschleudert.
  • Bedingt durch die fortlaufende nicht unterbrochene Ausgestaltung des Labyrinths und den durchgehenden Abstand zwischen den ortsfesten und den umlaufenden Rippen und den entsprechenden Teilen, bildet die Labyrinthdichtung in vorteilhafter Weise ein wirksames Hindernis für die radial nach innen gerichtete Bewegung der Gase, der Staubteilchen und anderer kleiner Teilchen, und gleichzeitig verhindert sie die Erzeugung solcher Teilchen. Zusätzlich werden irgendwelche sich im Bereich des Labyrinths ansammelde Teilchen nach außen geschleudert, mitgenommen und von dem Spülwasser abtransportiert und schließlich aus dem Labyrinth durch die Vakuumöffnung entfernt.
  • Im folgenden wird die Erfindung unter Hinweis auf die Zeichnung anhand zweier Ausführungsbeispiele näher erläutert.
  • Es zeigt: Figur 1 eine teilweise geschnittene Seitenansicht einer Ausführungsform der Vorrichtung zum Bearbeiten von Substratflächen oder Plättchen; Figur 2 einen Teilschnitt durch den Teil der der Befestigung des Drehtisches dient; Figur 3 einen Teilschnitt ungefähr gemäß der Linie 3 - 3 der Figur 1; und Figur 4 einen der Figur 2 entsprechenden Teilschnitt, jedoch durch eine andere Ausführungsform.
  • In Figur 1 ist eine Vorrichtung (10) zur Durchführung einer Sprühbearbeitung dargestellt, d.h. die Vorrichtung dient der Sprühbearbeitung von Plättchen oder Substratflächen (11), die in einem Behälter (12) innerhalb der Bearbeitungskammer des Gehäuses (14) angeordnet ist.
  • Der Behälter, der die Substratflächen trägt, ist in Ständern (15) auf einem Drehtisch (16) angeordnet. Der Drehtisch (16) ist an einer umlaufenden Welle (17) befestigt, die mit einem Lager versehen ist, das sich an der unteren oder Bodenwand (19) des Gehäuses (14) befindet. DerDrehtisch (16) kann auch anders ausgestaltet sein. In der dargestellten Form befindet sich die Stütze (15) an dem äußeren Umfangsbereich des Drehtisches (16).
  • Verschiedene Träger (15) sind im Abstand voneinander am Umfang angeordnet, so daß der die Plättchen (11) tragende Behälter (12) auch bei hohen Drehzahlen sicher gehalten wird. Der Drehtisch (16) kann langsam mit ungefähr 5 Umdrehungen pro Minute umlaufen, wenn bestimmte Bearbeitungsvorgänge hinsichtlich der Plättchen (11) durchgeführt werden sollen. In anderen Bearbeitungsstufen läuft der Drehtisch (16) äußerst schnell um, beispielsweise schneller als 1000 Umdrehungen pro Minute.
  • Das Gehäuse (14) ist mit einem Deckel (20) versehen, der durch ein Scharnier befestigt ist, damit die Bearbeitungskammer (13) zugänglich ist. Eine Sprühsäule (22) ist an dem Deckel (20) befestigt, um Strahlen der Bearbeitungsflüssigkeit und der Gase auf die Plättchen (11) zu leiten. Bei anderen Ausführungsformen, bei denen der Drehtisch den Behälter (12) der Plättchen (11) in der Drehachse der Welle (17) befestigt, kann die Sprühsäule für die Leitung der Strahlen der flüssigen Chemikalien auf die Plättchen an oder in der Seitenwand des Gehäuses (14) befestigt sein.
  • Das Gehäuse (14), der Boden (23) des Drehtisches, die Sprühsäule (22) und der Befestigungsring (24) für den Drehtisch sind aus starrem Kunststoffmaterial hergestellt, das sehr widerstandsfähig und inert gegen die sehr aktiven Bearbeitungschemikalien ist, die zum Besprühen der Plättchen (11) eingesetzt werden. Bei diesen Kunststoffmaterialien handelt es sich insbesondere um inertes Fluorpolymer wie Tetrafluoräthylenpolymer oder Perfluoralkoxy bzw. Chlortetrafluoräthylen. Die sehr aktiven Chemikalien, die auf die Plättchen in derBearbeitungskammer (13) gesprüht werden, enthalten Schwefelsäure, Ammoniumhydroxid, Wasserstoffperoxid, Salzsäure und Fluorwasserstoffsäure sowie Spülflüssigkeiten, wie deionisiertes Wasser und schließlich inerte Gase wie Stickstoff oder Argon.
  • Bedingt durch die sehr aktiven chemischen Bestandteile ist es wichtig, daß eine wirksame Dichtung zwischen der Bodenwand (19) des Gehäuses, durch die die Welle (17) verläuft, und dem Rotor (25) in der Bearbeitungskammer aufgebaut wird. Diese enthält den Drehtisch (16), die Grundplatte (23) und den Befestigungsring (24) zusammen mit dem oberen Abschnitt der Welle (17). In den Figuren 2 und 3 ist die allgemein mit (26) bezeichnete Dichtung im einzelnen dargestellt. Sie besteht aus einem Paar konzentrisch angeordneter Rippen (27 und 28) auf dem Befestigungsring (24) und einer vorstehenden Nabe (29), die durch Ringnuten (31 bzw. 31) voneinander getrennt sind. Der mittlere Abschnitt der Bodenwand (19) des Gehäuses weist außerdem ein Paar achsial vorstehender konzentrischer Rippen (32 und 33) auf, die voneinander getrennt sind und die eine Ringnut (34) zwischen sich bilden. Die Ringnuten (30 und 31) sind breiter als die Rippen (32 und 33), so daß sie die ringförmigen Rippen (32 und 33) in sich aufnehmen, während eine ausreichende Breite an der zylindrischen Seite und an den Stirnflächen der beiden Rippen (32) und(33) frei bleibt. In gleicher Weise ist die Ringnut (34) breiter als die Rippe (28), um die ringförmige Rippe (28) aufzunehmen, und zwar mit einem Zwischenraum an beiden inneren und an der äußeren Seite der Rippe (28) sowie angrenzend an ihre Stirnfläche.
  • Dementsprechend überschneiden sich die umlaufenden ringförmigen Rippen (27 und 28) auf dem Befestigungsring (24) mit den ortsfesten ringförmigen Rippen (32 und 33) auf der Bodenwand (19) des Gehäuses und bilden ein Labyrinth (35), das fortlaufend offen und ungestört zwischen dem äußeren Umfang des Befestigungsringes (24) und der Welle (17) ist. Kein Abschnitt des Befestigungsringes (24) steht mit irgendeinem Abschnitt der Bodenwand (19) des Gehäuses im Eingriff, so daß keine Möglichkeit besteht, kleine Teilchen zu erzeugen, wenn sich der Rotor (25) dreht.
  • In Figur 2 sind Lager (36) dargestellt, die die Welle (17) in dem Lagergehäuse (18) befestigen. Das Lagergehäuse (18) ist ortsfest in bezug auf das Gehäuse (17) und die Bodenwand (19). Eine zusätzliche Dichtung (37) ist angrenzend an die Welle (17) angeordnet, wenn die Vorrichtung (10) verwendet wird, um Säuren und stark flüchtige Chemikalien zu versprühen, um zu verhindern, daß Dämpfe dieser Flüssigkeiten die Lager (36) erreichen.
  • Spülwasser wird durch einen Kanal (38) der Welle (17) zu öffnungen (39) zugeführt, die in der Grundplatte (23)und in dem Befestigungsring (24) vorgesehen sind. Das Spülwasser wird zu Rohren (40) geliefert, die, wie dargestellt, Düsen aufweisen, um die Innenseite des Gehäuses (14) während der Bearbeitung zu reinigen. Eine Spülwasserzufuhröffnung (41) verläuft zwischen dem Kanal (39) des Befestigungsringes (24) und der Ringnut (30), um dem Labyrinth (35) Spülwasser zuzuführen. Zusätzlich ist die ortsfeste Gehäusewand (19) mit einer Vakuumöffnung (42> versehen, die durch die Ringnut (34) nach außen in bezug auf die Bodenwand (19) des Gehäuses zur Verbindung mit dem Rohr (43) verläuft, das mit der Vakuumquelle verbunden ist.
  • Das Vakuum, das über die Öffnung (42) zugeführt wird, wird an dem Labyrinth (35) ausgebildet, um in Verbindung mit dem Spülwasser das von der öffnung (41) kommt, wirksam zu werden.
  • Das Labyrinth (35) schafft eine Dichtung zwischen der Bearbeitungskammer (13) und der Welle (17), um die Bewegung und den Durchtritt von kleinen Teilchen in die Bearbeitungskammer auf ein Minimum herabzusetzen. Das Anlegen von Vakuum an dem inneren Abschnitt des Labyrinths - an der öffnung (42) - führt zusammen mit der Anwendung von Spülwasser an dem äußeren Umfang des Labyrinths (35) dazu, daß kleine Teilchen, die gegebenenfalls erzeugt werden oder eintreten, von dem Spülwasser aufgenommen und mit diesem zu der Abflußöffnung 19.1 in der Bodenwand des Gehäuses geführt werden.
  • Es ist einzusehen, daß durch die Erfindung eine Labyrinthdichtung zwischen der ortsfesten Bodenwand des Gehäuses, durch die die Antriebswelle hindurchgeht, und dem Rotor in dem Gehäuse-einschl. der Welle, dem Befestigungsring und der Drehtischgrundplatte sowie sämtlichen anderen Teilen des Drehtisches, die fest miteinander verbunden sind, geschaffen wird. Das Labyrinth weist die einander "überschneidenden" ringförmigen Rippen (27,28,32 und 33) auf, die alle konzentrisch zueinander liegen und einen entsprechenden Abstand von der Welle aufweisen, so daß der Abstand zwischen der Welle und dem Labyrinth ebenso groß ist wie die Breite des Labyrinths einschl. der konzentrischen Ringe und Nuten. In Figur 4 ist ein anderer Befestigungsring (24.1) für einen Drehtisch dargestellt, der eine Grundplatte (23.1) auf der Welle (17.1) trägt. Bei dieser Ausführungsform ist ein getrennter Ring (44) an dem Befestigungsring (24.1) angebracht. Er arbeitet mit der Bodenwand (19.2) des Gehäuses zusammen, um das Labyrinth (35.1) zu bilden. Bei dieser Ausführungsform ist der Kanal (39.1) für das Spülwasser in der Grundplatte des Drehtisches vorgesehen und von dem Labyrinth getrennt. Vakuum wird bei dieser Ausführungsform auf das Labyrinth nicht übertragen.
  • Das Labyrinth setzt bei beiden Ausführungsformen die mögliche Eindringung von Flüssigkeit zu der Welle auf ein Minimum herab und verhindert die Ausbildung irgendwelcher kleinen Teilchen, da die Bodenwand des Gehäuses im Abstand von dem Befestigungsring des Drehtisches gehalten wird.
  • - Leerseite -

Claims (17)

  1. Titel der Anmeldung: Vorrichtung zum Besprühen von Substratflächen oder Plättchen,insbesondere für elektronische Schaltungen oher Bauteile.
    Patentansprüche: 1. Vorrichtung zum Bearbeiten von Substratflächen oder Plättchen durch Besprühen mit entsprechenden Flüssigkeiten mit einer drehangetriebenen Welle, die einen Drehtisch innerhalb einer Bearbeitungskammer eines Gehäuses antreibt, mit einem Rotor auf der Welle, der den Drehtisch mitumfaßt, mit einem ortsfesten Bodenabschnitt des Gehäuses, durch den die Welle hindurchgeht und der Lager für die Welle aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenabschnitt (19) und der Rotor (16) einander gegenüberliegende Flächen im Bereich der Welle (17) aufweisen und quer zur Drehachse liegen, und daß eine Anzahl konzentrischer ringförmiger Rippen (27, 28,32, 33) mit unterschiedlichen Durchmessern an dem Bodenabschnitt und dem Rotor vorgesehen sind und in entgegengesetzten Richtungen ausgehend von den einander gegenüberliegenden Flächen einander durchdringen, wobei die Rippen (27,28 bzw. 32, 33) die von ein und derselben Fläche ausgehen, eine ringförmige Nut (30 bzw. 34) zwischen sich definieren und eine ringförmige Rippe von der gegenüberliegenden Fläche darin aufnehmen, wodurch die Rippen einander überschneiden und einen Abstand voneinander in beiden Achsrichtungen und in radialer Richtung aufweisen und so ein durchgehendes Labyrinth zwischen sich bilden, wodurch die nach innen gerichtete Bewegung von Verunreinigungen in Richtung auf die Welle verhindert wird.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rippen (27, 28, 32, 33) im wesentlichen zylindrisch ausgebildete Seitenflächen und flache Stirnflächen aufweisen.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Höhe und Dicke der Rippen (27, 28, 32, 33) ungefähr den gleichen Wert aufweisen.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rippen (27, 28, 32, 33) ungefähr die gleiche Höhe aufweisen.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ringnuten (30, 34) breiter sind als die Rippen.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenabschnitt (19) eine Vakuumöffnung (42) aufweist, die mit dem Labyrinth (26) zum Absaugen aus diesem Bereich verbunden ist.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 1 mit einer Spülwasserzuführung zum Bereich des Rotors, dadurch gekennzeichnet, daß der Drehtisch (23) eine Spülwasserzuleitung (39) aufweist, die mit dem Labyrinth (26) verbunden ist, um kleine Teilchen radial nach außen aus dem Labyrinth während der Drehung des Rotors und der Rippen auszutragen.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Bodenabschnitt (19) eine Vakuumöffnung (42) zur Verbindung mit dem Labyrinth zum Absaugen aus diesem Bereich aufweist.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Spülwasserzuleitung (39, 41) von der Drehachse weiter entfernt ist als die Vakuumöffnung (42).
  10. 10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das von der Welle (17) entfernt liegende Labyrinth (26) in radialer Richtung eine Breite hat, die in ihrem Wert dem Abstand zwischen der Welle (17) und dem Labyrinth (26) entspricht.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen dem Labyrinth (26) und der Drehachse die Breite des Labyrinthes übersteigt.
  12. 12. Vorrichtung zur Bearbeitung von Substratflächen oder Plättchen durch Besprühen mit Flüssigkeiten, mit einem Gehäuse und einer Sprüheinrichtung, die einen Gehäuseboden definiert und mit einem Rotor innerhalb des Gehäuses und mit einer drehbaren Welle, die durch den Gehäuseboden hindurchgeht, wobei der Rotor außerdem einen die zu bearbeitenden Substratflächen tragenden Drehtisch an der Welle aufweist, der dem Gehäuseboden gegenüberliegt, dadurch gekennzeichnet, daß der Gehäuseboden(19) und der Rotor (16) eine Anzahl konzentrischer Rippen (27,28 und 32, 33) aufweist, die zwischen sich ringförmige Nuten (30, 34) bilden, wobei die Rippen achsial über den Gehäuseboden und den Rotor in die angrenzenden Nuten vorstehen und einander über schneiden" und kreisförmiges Labyrinth (26) bilden, das einen Abstand zwischen dem Gehäuseboden und dem Rotor aufweist und eine Bewegung von Flüssigkeit und kleinen Teilchen durch diesen Bereich verhindert.
  13. 13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Rotor (16) und der Gehäuseboden (19) in dem Labyrinth (26) einen gleichmåBigen Abstand voneinander aufweisen.
  14. 14. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Drehtisch (23) eine Spülwasserzuleitung(39)und eine öffnung (41) in das Labyrinth (26) zur Zuführung von Spülwasser in diesen Bereich aufweist.
  15. 15. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß eine Vakuumöffnung (52) in dem Gehäuseboden (19) vorgesehen ist, die in das Labyrinth (26) führt, um aus diesem Bereich abzusaugen.
  16. 16. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuumöffnung (42) in das Labyrinth zwischen der Welle (17) und der Spülwasseröffnung (41) liegt.
  17. 17. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen der Welle (17) und dem Labyrinth (26) mindestens so groß ist wie die Breite des Labyrinths in radialer Richtung.
DE19853527516 1984-08-01 1985-07-31 Vorrichtung zum bespruehen von substratflaechen oder plaettchen, insbesondere fuer elektronische schaltungen oder bauteile Withdrawn DE3527516A1 (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE9013668U1 (de) * 1990-09-29 1992-01-30 HAMATECH Halbleiter-Maschinenbau und Technologie GmbH, 7137 Sternenfels Vorrichtung für die Halbleitertechnik

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61117246U (de) * 1984-12-29 1986-07-24
JPS6210439U (de) * 1985-07-03 1987-01-22
JPH069498Y2 (ja) * 1987-03-24 1994-03-09 株式会社トミ−精工 スピンドライヤ
EP1657002A3 (de) * 1998-03-25 2014-05-21 Daikin Industries, Ltd. Verfahren zum Reinigen eines aus Fluorkautschuk geformten Gegenstands für Geräte zur Herstellung von Halbleitern und gereinigter geformter Gegenstand
KR100912701B1 (ko) * 2007-10-22 2009-08-19 세메스 주식회사 웨이퍼 스핀 척과 스핀 척을 구비한 에칭 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE9013668U1 (de) * 1990-09-29 1992-01-30 HAMATECH Halbleiter-Maschinenbau und Technologie GmbH, 7137 Sternenfels Vorrichtung für die Halbleitertechnik

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