DE3443961A1 - Verfahren zur gleichzeitigen herstellung von carbonsaeuretrimethylsilylestern und silylierten carbonsaeureamiden - Google Patents
Verfahren zur gleichzeitigen herstellung von carbonsaeuretrimethylsilylestern und silylierten carbonsaeureamidenInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical class [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 16
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 4
- MBHJFHKNCUQKCQ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylformic acid Chemical class C[Si](C)(C)C(O)=O MBHJFHKNCUQKCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- DVMFMSYWBGARIJ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilylformamide Chemical class C[Si](C)(C)C(N)=O DVMFMSYWBGARIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- -1 carboxylic acid chlorides Chemical class 0.000 description 10
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 9
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)C QHUNJMXHQHHWQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 6
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N pyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=[NH+]C=C1 AOJFQRQNPXYVLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 4
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 3
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N ethenone Chemical compound C=C=O CCGKOQOJPYTBIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VIYXXANHGYSBLY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl 2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound C[Si](C)(C)OC(=O)C(F)(F)F VIYXXANHGYSBLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGQNYIRJCLTTOJ-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si](C)(C)C PGQNYIRJCLTTOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMRDEBIBRUPKPH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-trimethylsilylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)=C[Si](C)(C)C PMRDEBIBRUPKPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJHQNFXUINQPFG-UHFFFAOYSA-N C[SiH2]N Chemical class C[SiH2]N KJHQNFXUINQPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910014299 N-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 238000001640 fractional crystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- FRCLVJBDJNNNGI-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(trimethylsilyl)formamide Chemical class C[Si](C)(C)N(C=O)[Si](C)(C)C FRCLVJBDJNNNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylacetamide Chemical compound CC(=O)N[Si](C)(C)C LWFWUJCJKPUZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1896—Compounds having one or more Si-O-acyl linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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Description
Troisdorf, den 15.11.
OZ 84069 ''Dr.La./Bs.
DYNAMIT NOBEL AKTIENGESELLSCHAFT Troisdorf, Bez. Köln
Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern
und silylierten Carbonsäureamiden
10
10
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern
der Formel E-COOSi(CH,), (I) und von Carbonsäuretri-
^5 methylsilylamiden der Formel RCONHSi(CH3)3 (IV) oder
N.N- bzw. N.Q-Bis-trimethylsilylcarbonsäureamiden der
Formeln (II) bzw. (III)
QF Τ 0-Si(CH,),
R-ö-N Si(CH,),L(II) bzw. I ? ^ (III)
° 0Λ R-C=N-Si(CH5),
wobei die N«0-Isomeren der Formel (III) bevorzugt sind.
R bedeutet vorzugsweise CH,, CgH1-,C^Hr7, CH(CH,)p,
CH2=CH, CH2=CCH5, CHgF, CHF2 oder CF,, gedoch kann R
allgemein aus mit Hexamethyldisilazan umsetzbaren Car-
bonsäureanhydriden der Formel (RCO)pO (V) stammen.
Nach dem Stand der Technik wurde die Acylierung von Hexamethyldisilazan
zu Stoffen der Formel (I)(R=CH7,) bereits
mit Keten versucht (Chem. Abstr. 57· 11224-c), ist
jedoch schwer kontrollierbar. Zu Lasten der Ausbeute entstehen unerwünschte Nebenprodukte, die die Gewinnung eines
reinen und stabilen Produktes verhindern.
Mit Carbonsäurechloriden, ggf. in Gegenwart eines Säureakzeptors verläuft die Acylierung mit unbefriedigender
Ausbeute unter Bildung vieler Nebenprodukte, besonders unter Zersetzung zu Nitrilverbindungen.
Die Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylamiden
RCONHSi(CH5),(IV) erfolgte bisher aus Säureamiden RCONH2
mit Hexamethyldisilazan (G. Schirawski und U. Wannagat,
Monatshefte Chem. 1969. 100 (6), 1901-9). Der besondere Nachteil ist dabei das auftretende Nebenprodukt mit Triazinstruktur.
Außerdem wird in unerwünschter Weise nicht nutzbares Ammoniak frei.
Die herkömmlichen Verfahren zur Herstellung von persilylierten
Carbonsäureamiden der Formeln (II) bzw» (III) aus Carbonsäureamiden mit Trimethylchlorsilan und einem tertiären
Amin als Säureakzeptor (L. Birkhofer und A. Ritter,
Angew. Chem. 75« 93-4» 1963) läßt sehr große Salzmengen
von zwei Äquivalenten tert.-Amin χ HCl entstehen» Der Ausweg einer hohen Verdünnung erfordert große Mengen von aufzuarbeitenden
Lösemitteln, begrenzt die Kapazität und führt zu verzögerter Reaktion. Bei unvollständigem Umsatz werden
verunreinigte und nicht lagerstabile Produkte erhalten
Demnach stellt sich die Aufgabe, verbesserte einfache Verfahren
zur Herstellung sowohl von Carbonsäuretrimethylsi-
lylestern wie auch von silylierten Carbonsäureamiden zu finden.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern und
Trimethylsilylcarbonsäureamiden, dadurch daß man ein Carbons aureanhydrid bei 40-13O0C, vorzugsweise bei 5O-9O°C,mit Hexamethyldisilazan
zu Carbonsäuretrimethylsilylestern und Mono-trimethylsilylcarbonsäureamiden umsetzt und, ggf.
nach weiterer Umsetzung mit einem Mol Trimethylchlorsilan
je Mol Mono-trimethylsilylcarbonsäureamid bei 40 bis 800C
in Gegenwart von einem Mol tert.-Amin, aus. der Mischung
der Produkte tert.-Amin χ HCl als festen Stoff abtrennt und durch Aufarbeitung die Silylderivate trennt.
Die Herstellung verläuft nach den Reaktionsgleichungen:
(CH,),SiNHSi(CHx)x + (RCO)0O-*RCOOSi(CHx),+ RCONHSi(CHx)-, (1
ο ο oo <?. ^ 3 3 3 3=:
sowie gegebenenfalls:
ECONHSiCCH^)5+ (CH3)3SiCl + R3N-^RCON |si(CH3)
ECONHSiCCH^)5+ (CH3)3SiCl + R3N-^RCON |si(CH3)
Beide Reaktionen laufen überraschend sehr vollständig, praktisch ohne Bildung von Nebenprodukten ab.
Erfindungsgemäß erfolgt zunächst eine Umsetzung von Hexamethylsilazan
mit dem jeweiligen Carbonsäureanhydrid unter Spaltung des Disilazans gemäß Gleichung (1), welche bei
Verwendung des Molverhältnisses 1 : 1 oder bei Überschuß an Hexamethyldisilazan Garbönsäuretrimethylsilylester (I)
und das monosilylierte Carbonsäureamid (IV) als einzige isolierbare Produkte liefert. Diese Produktmischung aus (I)
und (IV) kann, beispielsweise durch Destillation, aufgearbeitet werden und liefert die beiden Produkte (I) und (IV)
in reiner, verkaufsfähiger Form.
Zur Herstellung der Bis-trimethylsilylcarbonsäureamide
S-
' kann das Produktgemisch nach Gleichung (i) weiter mit
einem Mol Trimethylchlorsilan unter Zugabe von einem Mol tert.-Amin als Säureakzeptor gemäß Gleichung (2 ) umgesetzt
werden. Nach Abtrennung von tert.-Amin-Hydrochlorid
als Feststoff werden dann die Produkte (I) und (II) bzw. (III) nacheinander durch Destillation in reiner Form gewonnen.
Die Carbonsäuretrimethylsilylester (I) werden bei der Umsetzung gemäß Gleichung (2 )mit Trimethylchlorsilan
nicht angegriffen und bleiben unverändert erhalten.
Entsprechend kann auch das gemäß Gleichung (1) durch Aufarbeitung erhaltene monosi]ylierte Carbonsäureamid (IV) gemäß
Gleichung (.2 ) mit Trimethylchlorsilan und tert.-Amin umgesetzt werden; weiter kann einem Reaktionsgemisch
gemäß Gleichung (1) zusätzlich Mono-trimethylsilylcarbonsäureamid,
bevorzugt gleicher Art, zugefügt werden, wobei die Reaktion gemäß Gleichung ( 2) mit Molmengen Trimethyl·
chlorsilan und tert.-Amin entsprechend der dann vorhanden en Menge Mono-trimethylsilylcarbonsäureamid (IV) auszuführen
ist.
Bei der Aufarbeitung durch Destillation werden die Ester (I), die persilylierten Amide (II) bzw. (III) rein oder
im Gemisch beider Formen, sowie, wenn gewollt, das monosilylierte Amid (IV) in sehr reiner Form getrennt voneinander
erhalten.
Das Verfahren erlaubt es erstmals die bisher schwer und
nur mit geringer Ausbeute zugängigen Carbonsäure-trimethylsilylester (I) einfach und in sehr hoher Ausbeute zu
erhalten.
Das Verfahren benötigt keine Lösungsmittel und erfolgt gegenüber bekannten Verfahren mit erhöhter Produktkonzentration
und einem vollständigen und raschen Reaktionsablauf.
Es ist von besonderem Vorteil, daß bei Ausführung der Reaktionen gemäß den Gleichungen (1) und (2 ) nacheinander
gegenüber herkömmlichen Verfahren nur die Hälfte des tert.-Aminhydrochlorids als festes Salz anfällt, abgetrennt
und wieder aufgearbeitet werden muß. Bei Ausführung der Reaktion gemäß Gleichung (1) allein entsteht
kein aufzuarbeitender fester Stoff. Der Re akt ions ab lauf nach Gleichung (1 ) und seine einfache,
vollständige und glatte Ausführbarkeit ist aus. dem Stand der Technik bezüglich der Umsetzung mit Keten oder Säurechloriden
nicht nahegelegt, vielmehr mußte ein komplexer Reaktionsverlauf mit Bildung erheblicher Mengen von Nebenprodukten,
wie störende Nitrilverbindungen und von Hexamethyldisiloxan, erwartet werden.
Die Molverhältnisse der Reaktionspartner sollen im allgemeinen genau den Angaben in den Reaktionsgleichungen (1)
und (2 ) entsprechen. Der Überschuß eines Reaktionspartners ist möglich, führt jedoch zu Verunreinigungen bzw.
abzutrennenden Resten. Ein Überschuß von Hexamethyldisilazan gegenüber dem Molverhältnis von 1:1 gemäß Gleichung
(1) von bis zu 8 Mol ist möglich und zweckmäßig, z.B. wem die Anwendung eines Verdünnungsmittels wünschenswert ist.
Die Durchführung des Verfahrens erfolgt in einfacher Weise durch Vorlegen von Hexamethyldisilazan, ggf. im
Überschuß, bei 40 bis 80° C und Zudosierung von höchstens einem Äquivalent Carbonsäureanhydrid unter Rühren. Die
Reaktion verläuft relativ schwach exotherm.Eine Temperatur von 130 C soll nicht überschritten werden. Gegebenenfalls
ist zu kühlen.
Nach beendeter Reaktion kann durch fraktionierte Destillation und/oder Kristallisation und Feststoffabtrennung
in an sich bekannter Weise zu den Carbonsäuretrimethylsilylestern (I) und den Mono-carbonsäuretrimethylsilylamiden
(IV) aufgearbeitet werden. Beide Produkte liefern sehr hohe Ausbeuten und enthalten keine verfahrensbedingten
Nebenprodukte. Es ist möglich, lediglich die Ester (I) durch Destillation abzutrennen und den Destillationerückstand
oder die isolierte Verbindung (IV) nach Reaktionsgleichung (2 ) umzusetzen.
Erfindungsgemäß kann ohne Aufarbeitung die weitere Silyüerung
nach Reaktionsgleichung (2) durch Zumischung eines Äquivalents Trimethylchlorsilan je Äquivalent Mono-trimethylsilylcarbonsäureamid
(IV) erfolgen. Nach Einstellen der Reaktionstemperatur von 4-0 bis 80° C wird ein Äquivalent
tert.-Amin eindosiert ohne die Maximaltemperatur
von 300C zu überschreiten, und die Umsetzung so ausgeführt.
Nach der Reaktion wird das als Feststoff vorliegende tert.-Aminhydrochlorid über eine Filtereinrichtung, beispielsweise
eine Zentrifuge, abgetrennt und die Mischung der SiHylieiungsprodukte einer Vakuumdestillations-Kolonne
zugeführt und fraktioniert destilliert.
Der Filterkuchen wird gewaschen, vorzugsweise mit dem jeweiligen
Carbonsäuretrimethylsilylester, und in einen Peststoff-Rührapparat, z.B. Ankerrührkessel, Schaufeltrockner,
ausgerüstet mit Destillationseinrichtung für Vakuum überführt, im leichten Vakuum destillativ getrocknet
und mit Ammoniak gesättigt. Vorzugsweise wird wasserfrei gearbeitet. Das in Freiheit gesetzte tertiäre Amin
wird abdestilliert und wiederverwendet. Gleichzeitig wird das bei 40 bis 80 C nicht nennenswert mit sublimierende
Ammoniumchlorid getrocknet.
Als Apparatur für die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dient
z.B. ein Rührreaktor mit Rückflußkühler und Dosiervorlage, der für den Ausschluß von Feuchtigkeit und die
Steuerung der Temperatur ausgerüstet ist.
Die Reaktionsprodukte können in einer Destillationsanlage mit Ausrüstung für die Vakuumdestillation in die
Komponenten getrennt werden. Die Mono-silylamide (IV)
können auch durch Kristallisation bei tiefer Temperatur abgeschieden und durch Filtration oder Zentrifugieren
abgetrennt werden.
Es ist jedoch bevorzugt, das Reaktionsgemisch nach Reaktionsgleichung
(1) ohne Aufarbeitung weiter umzusetzen oder, nach Abdestillation der Carbonsäureester (I) die
weitere Umsetzung mit Trimethylchlorsilan auszuführen.
Die Reaktion gemäß Reaktionsgleichung (2 ) erfolgt z.B. in dem bereits oben beschriebenen Rührreaktor.
Die Zugabe von Trimethylchlorsilan erfolgt bei Reaktionstemperatur oder darunter. Durch Zugabe des tert.-Amins,
vorzugsweise durch Dosierung entsprechend dem Reaktionsfortschritt, wird die Reaktion bei Temperaturen von 4-0
bis 80° C in Gang gesetzt und ausgeführt. Gegebenenfalls ist eine Nachreaktionszeit erforderlich.
Aus dem Reaktionsgemisch wird das tert.-Amin χ HCl durch Filtration bzw. Zentrifugieren abgetrennt. Die Aufarbeitung
des Gemisches der Silylierungsprodukte erfolgt in der bereits genannten Destillationsanlage mit Ausrüstung
für die Vakuumdestillation.
Geeignete Carbonsäureanhydride der Formel (RCO)2O(V) als
Ausgangsstoffe haben sich nach der Art des benötigten Restes R im Produkt, besonders im Carbonsäureester (I),
zu richten. Bevorzugt sind beispielsweise Acetanhydrid, die Anhydride der Propion-, Butter- und Isobuttersäure,
Acryl- und Methacrylsäureanhydrid sowie die Anhydride der
-3 '
Mono-,Di- und Triflouressigsäure.
Als Säureakzeptoren sind tertiäre Amine, vorzugsweise Trimethylamin, Triäthylamin, Tributylamin, H.UT-Dimethylanilin
und Pyridin geeignet.
Bevorzugte Produkte der Formeln (II) bzw. (III) oder (IV) sind beispielsweise N-Trimethylsilylacetamid
N-Trimethylsilylpropionamid
N-Trimethylsilylbutyramid
N-TrimethylsiIyIi s obutyramid
N-Trimethylsilylmethacrylamid
N-Trimethylsilyltrifluoracetamid
Bis-Trimethylsilylacetamid Bis-Trimethylsilylpropionamid
Bis-Trimethylsilylisobutyramid
Bis-Trimethylsilylacrylamid
Bis-Trimethylsilylmethacrylamid
Bis-Trimethylsilylfluoracetamid
Bis-Trimethylsilyltrifluojacetamid,
welche als Silylierungsmittel und Schutzgruppenreagenzien dienen. Sie finden Verwendung bei der Synthese von
Antibiotika und Naturstoffen, sowie zu Behandlung von
Festbett-Katalysatoren.
Als gleichzeitig entstehende Produkte der Formel (I) sind beispielsweise Trimethylsilylacetat, -acrylat, -methacrylat,
-fluoracetat, -trifluoracetat bevorzugt. Produkte
der Formel (I) finden Verwendung speziell für die Inertisierung von Silanolen durch gezielten Endgruppenverschluß
mit der TrimethylsiIyIgruppe, sowie ebenfalls
als Silylierungsmittel.
ο ο ο ο if ο σ
^ Beispiel 1; Herstellung von Trimethylsilylacetat und
N-Trimethylsilylacetamid
In der 1,4- mr-Blase, ausgerüstet mit Rührwerk, 800 Liter-Dosiervorlage,
Thermostatheizung und einer Vakuumdestillationsanlage (SULZER-Feinvakuumfüllung mit 50 Böden),
Kopfkühler, Destillatleitungen und temperierbaren Vorlagen wurden 4 kMol (644- kg) Hexamethyldisilazan auf 72° C
erwärmt. Innerhalb zwei Stunden wurden 4- kMol (4-08 kg) Es
sigsäureanhydrid eingerührt, wobei die Innentemperatur vorübergehend auf 93
Stunden lang bei ca„ 80
Umsatz im Vakuum fraktioniert
Stunden lang bei ca„ 80
Umsatz im Vakuum fraktioniert
C anstieg= Anschließend wurde drei 0 C gerührt und nach vollständigem
Die Destillation ergab insgesamt 514- kg (97 % Ausbeute)
reines Trimethylsilylacetat, Kp0 39° C (ca» 50 mbar), und
danach (bei dann auf 37° C gesteuerter Temperatur auf Kopfkühler, Destillatleitung und Vorlage) 501 kg (95,6 % Aus
beute) an N-Trimethylsilylaeetamid,
Pp. 35° C
Kp. 59° C (1 mbar),
Beispiel 2: Herstellung von Trimethylsilylacetat und
NoOo-Bis-trimethylsilylacetamid
pe- In einem 2 m -Rührreaktor mit thermostatgesteuertem Heiz-
und Kühlkreislauf am Doppelmantel, stickstoffüberlagertem Rückflußkühler und eintauchendem G&seinleitungsrohr wurden
4,1 kMol (660 kg) Hexamethyldisilazan auf 72° C erwärmt. Innerhalb von zwei Stunden wurden 4 kMol (4-08 kg)
■zQ Essigsäureanhydrid eingerührt, wobei die Innentemperatur
vorübergehend auf 91° C anstieg» Anschließend wurde vier
Stunden lang bei ca= 80° C nachgerührt» Danach wurde der Ansatz auf ca. 52° C abgekühlt. Es wurden 4- kMol (434 kg)
Trimethylchlorsilan zugemischt und unter Rühren über einen
xc Strömungsmesser mit der Geschwindigkeit von ca. 4- kg/Min.
insgesamt 238 kg (4 kMol) Trimethylamin innerhalb ca. einer
Stunde eingeleitet, während die Reaktortemperatur mit Hilfe des Heizkreislaufs wieder auf 72° C gesteigert wurde.
Nach dem Ende der Aminzugabe wurde zur VervolLständigung der Reaktion vier Stunden bei ca. 72° G gerührt.
Zur Aufarbeitung wurde die abreagierte Rohproduktsuspension aus dem Reaktor über eine vollautomatisch arbeitende
Siphonzentrifuge in das feste Trimethylammoniumchlοrid
ΊΟ (ca. 420 kg; Waschflüssigkeit Trimethylsilylacetat) und in
das Rohfiltrat getrennt.
Das Rohfiltrat bestand aus ca. 60 Gew.-% N.N.- bzw. N.0-Bis-trimethylsilylacetamid,
ca. 39 Gew.-% Trimethylsilylacetat und ca. 1 Gew.-% Hexamethyldisilazan. Die Kolonnendestillation
im Vakuum übpr die im Beispiel 1 beschriebene Destillationseinrichtung lieferte insgesamt 5^2 kg Trimethylsilylacetat
(97 % Ausbeute), Kp. 40° C (50 mbar),
und 799 kg N.N.- bzw. N.O-Bis-trimethylsiIyIacetamid (97 %
Ausbeute), Kp. 4A° C (11 mbar), mit ca. 0,8 % Hexamethyldisilazan-Gehalt.
Das abzentrifugierte Trimethylammoniumchlorid wurde direkt aus der Zentrifuge in einen Schaufeltrockner überführt
unter Vakuum gesetzt und das Vakuum mit ca.80 kg gasförmigem Ammoniak aufgehoben. Unter Eigendruck wurde auf ca.
80° C erwärmt und schließlich die Anlage durch vorsichtiges öffnen der Brüdenleitung entspannt, wobei das freigesetzt
Trimethylamin in eine Tiefkühlvorlage destillierte
(ca. 230 kg) Ausbeute und zur Wiederverwendung bereitgestellt wird. Nach Vorlagenwechsel wurde unter Beibehaltung
der 80° C Trocknertemperatur auf ca. 50 mbar evakuiert,
wobei noch ca. 30 kg Trimethylsilylacetat abdestillierten. Danach wurden aus dem Trockner 210 kg verwertbares Ammoniumchlorid
als weißes Pulver abgefüllt.
-Vi-
Beispiel 3> Herstellung von Trimethylsilyltrifluaracetat
und N.N- bzw„ NoO-Bis-trimethylsilyltrifluoracetat
In einem 10. Liter-Rührreaktor mit thermostatgesteuertem
Heiz-.und Kühlwasserkreislauf am Doppelmantel, stickstoffüberlagertem
Rückflußkühler, Innenthermometer und 1 Liter-Dosiervorlage mit Einleitrohr wurden 1.620 g (10 Mol)
Hexamethyldisilazan auf 60° C erwärmt. Innerhalb zwei Stunden wurden 2.100 g (10 Mol) Trifluoressigsäureanhydrid
eingerührt, wobei die Innentemperatur vorübergehend auf 84° C anstieg. Anschließend wurde drei Stunden lang
bei ca. 80° C nachgerührt. Danach wurde der Ansatz auf ca 56° C abgekühlt» Es wurden 1.085 g (10 Mol) Trimethylchlorsilan
zugemischt und unter Rühren innerhalb einer Stunde 790 g (10 Mol) Pyridin zugetropft, während die
Reaktortemperatur mit Hilfe des Heizkreislaufs auf 74° C gesteigert wurde. Nach dem Ende der Aminzugabe wurde zur
Vervollständigung der Reaktion drei Stunden bei ca. 7M-0G
gerührt.
Nach dem Abtrennen des Pyridin-HydroChlorids (ca. 1.200g)
über eine Zentrifuge unter Ausschluß von Feuchtigkeit wurde das FiItrat über eine SULZER-KoIonne im Vakuum
fraktioniert.
Die Destillation lieferte insgesamt 1^722 g (92,6 % Ausbeute)
Trimethylsilyltrifluoracetat, Kp.4J0C (ca. 100 mbar),
und 2.408 (93,7 % Ausbeute) NoN- bzw. N.O-Bis-trimethylsilyltrifluoracetamid,
Kp0 40° C (25 mbar).
Die 1.200 g Pyridin-Hydrochlorid würden in der Kälte in
einem G-I as autoklav en mit Ankerrührer mit ca. 200 g flüssigem
Ammoniak versetzt. Die exotherme Reaktion war nach ca. 20 Minuten beendet. Danach wurde unter Rühren bei
80° C und ca. 50 mbar das Pyridin abdestilliert, zuletzt
nach Vorlagenwechsel bei 20 mbar. Insgesamt wurden dabei 719 g (91 % Ausbeute) Pyridin zurückgewonnen.
Beispiel 4; Herstellung von Trimethylsilylmethacrylat und N.N- bzw. N.O-Bis-trimethylsilylmethacrylamid
Analog Beispiel 3 wurden 1.610 g (10 Mol) Hexamethyldisilazan
zusammen mit 1.580 g Methacrylsäuretrimethylsilyl-
/iQ ester (stabilisiert mit 500 mg Kupferpulver) vorgelegt und
auf 66° C erwärmt. Innerhalb zwei Stunden wurden 1.540 g
(10 Mol) frisch destilliertes Methacrylsäureanhydrid eingerührt, wobei die Innentemperatur vorübergehend auf 79° C
anstieg. Anschließend wurde vier Stunden lang bei 79° G
/je nachgerührt. Nach Abkühlung auf ca. 56° C wurden 1.085 g
(10 Mol) Trimethylchlorsilan zugemischt und unter Rühren innerhalb einer Stunde 1.010 g (10 Mol) Triäthylamin zugetropft,
während die Reaktortemperatur mit Hilfe des Heizkreislaufs auf 72° C gesteigert wurde. Durch Zentrifugierei
2Q wurden ca. 1,4 kg Triäthylamin-Hydrochlorid abgetrennt und
das Piltrat über eine SULZER-Kolonne mit Monel-Füllung unter
Einspeisung von reinem Sauerstoff in Spuren zur Stabilisierung fraktioniert.
Die Destillation lieferte insgesamt 3.092 g Methacrylsäuretrimethylsilylester
(95,7 % Ausbeute, abzüglich der als zusätzlichen Verdünner eingesetzten Menge), Kp. 40° C (11
mbar), und 2.110 g N.N- bzw. N.O-Bis-trimethylsilylmethacrylamid
(92 % Ausbeute), Kp. 36° G (1 mbar).
Das Triäthylamin-Hydrochlorid wurde analog Beispiel 3 aufgearbeitet.
Dabei wurden durch Destillation bei ca. 80 mbar und zuletzt nach Vorlagenwechsel bei ca. 40 mbar insgesamt
944 g (94 J/o) Triäthylamin zurückgewonnen.
Claims (4)
1. Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern
und Trimethylsilylcarbonsäureamiden, dadurch gekennzeichnet,
daß man ein Carbonsäureanhydrid bei 4-0 bis 130 C
vorzugsweise bei 5G - 9DDC mit Hexamethyldisilazan zu Carbcinsäuretrimethylsilylestern
und Mono-trimethylsilylcarbonsäureamiden
umsetzt und, ggf. nach weiterer Umsetzung mit
q einem Mol Trimethylchlorsilan je Mol Mono-trimethyl-
silylcarbonsäureamid bei 40 bis 80° C in Gegenwart
von einem Mol tert.-Amin, aus der Mischung der Produkte tert.-Amin χ HCl als festen Stoff abtrennt und
durch Aufarbeitung die Silylderivate trennt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Carbonsauretrimethylsilylester nach der Umsetzung
mit Hexamethyldisilazan gewonnen und Monotrimethylsilylcarbonsäureamid abgetrennt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mono-trimethylsilylcarbonsäureamid allein
mit Trimethylchlorsilan in Gegenwart von tert.-Amin umgesetzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 3, dadurch
gekennzeichnet, daß aus dem abgetrennten tert.-Amin χ HCl mit Ammoniak das Amin in Freiheit gesetzt und
durch Destillation gewonnen wird.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3443961A DE3443961C2 (de) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern und Trimethylsilylcarbonsäureamiden |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3443961A DE3443961C2 (de) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern und Trimethylsilylcarbonsäureamiden |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3443961A1 true DE3443961A1 (de) | 1986-06-05 |
DE3443961C2 DE3443961C2 (de) | 1986-12-11 |
Family
ID=6251717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3443961A Expired DE3443961C2 (de) | 1984-12-01 | 1984-12-01 | Verfahren zur gleichzeitigen Herstellung von Carbonsäuretrimethylsilylestern und Trimethylsilylcarbonsäureamiden |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4609749A (de) |
JP (1) | JPS61134393A (de) |
DE (1) | DE3443961C2 (de) |
FR (1) | FR2574079B1 (de) |
GB (1) | GB2167754B (de) |
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---|---|
JPS61134393A (ja) | 1986-06-21 |
FR2574079A1 (fr) | 1986-06-06 |
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GB2167754A (en) | 1986-06-04 |
US4609749A (en) | 1986-09-02 |
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DE3443961C2 (de) | 1986-12-11 |
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Legal Events
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: HUELS AG, 4370 MARL, DE |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: DEGUSSA-HUELS AG, 60311 FRANKFURT, DE |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: DEGUSSA AG, 40474 DUESSELDORF, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |