DE3443784A1 - GATE SHUT-OFF THYRISTOR - Google Patents
GATE SHUT-OFF THYRISTORInfo
- Publication number
- DE3443784A1 DE3443784A1 DE19843443784 DE3443784A DE3443784A1 DE 3443784 A1 DE3443784 A1 DE 3443784A1 DE 19843443784 DE19843443784 DE 19843443784 DE 3443784 A DE3443784 A DE 3443784A DE 3443784 A1 DE3443784 A1 DE 3443784A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- thyristor
- metallized
- gate turn
- base layer
- conductivity type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/45—Ohmic electrodes
- H01L29/456—Ohmic electrodes on silicon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/482—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of lead-in layers inseparably applied to the semiconductor body
- H01L23/4824—Pads with extended contours, e.g. grid structure, branch structure, finger structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/417—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/41716—Cathode or anode electrodes for thyristors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/74—Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1301—Thyristor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Thyristors (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
-A--A-
Gate-AbschaltthyristorGate turn-off thyristor
BESCHREIBUNGDESCRIPTION
Die Erfindung bezieht sich auf einen Gate-Abschaltthyristor und insbesondere auf eine Elektrodenstruktur einer metallisierten Elektrode im Kontaktbereich des Anschlußdrahtes auf der Chipoberfläche eines Gate-Abschaltthyristors.The invention relates to a gate turn-off thyristor and, more particularly, to an electrode structure of a metallized Electrode in the contact area of the connecting wire on the chip surface of a gate turn-off thyristor.
In der heutigen Zeit ist es von größter Bedeutung, wie dem wachsenden Verlangen, Energie und Rohstoffe einzusparen, begegnet werden kann. Im Hinblick auf eine solche Situation wurden im Bereich der Leistungselektronik neue Funktionselemente entwickelt und das Verlangen nach solchen Funktionsele/;enten ist in diesen Tagen bemerkenswert angestiegen. Gate-Abschaltthyristoren haben als Elemente für Inverter oder Unterbrecherschaltungen spezielle Aufmerksamkeit auf sich gezogen. Dieses aus dem Grund, da ein Gate-Abschaltthyristor als Hochgeschwindigkeitsschaltelement ausgezeichnete und ideale Eigenschaften, verglichen mit jedem anderen herkömmlichen Transistor oder Hochgeschwindigkeitsschaltthyristor, besitzt. Die hauptsächlichen Charakteristiken eines Gate-Abschaltthyristors können wie folgt beschrieben werden.In this day and age it is of the utmost importance, like the growing desire to save energy and raw materials, can be encountered. With a view to such a situation, new functional elements were developed in the field of power electronics and the demand for such functional elements has increased remarkably these days. Gate turn-off thyristors are used as elements for inverters or breaker circuits attracted special attention. This is because it is a gate turn-off thyristor excellent and ideal properties as a high-speed switching element compared with any other conventional transistor or high-speed switching thyristor, owns. The main characteristics of a gate turn-off thyristor can be described as follows will.
(1) Da ein Gate-Abschaltthyristor die Fähigkeit der Selbstunterbrechung besitzt, wird ein wie im Falle eines herkömm-(1) Because a gate turn-off thyristor has the ability of self-interruption as in the case of a conventional
lichen Hochgeschwindigkeitsschaltthyristors zwangsläufig notwendiger Unterbrecherschaltkreis nicht benötigt, und dementsprechend wird es möglich, Geräte kleiner und leichter zu machen.union high-speed switching thyristor inevitably necessary breaker circuit is not required, and accordingly it becomes possible to make devices smaller and lighter close.
(2) Die EIN-AUS-Steuerung eines Elementes kann mit geringer Steuerleistung durchgeführt werden.(2) The ON-OFF control of an element can be made with less Tax performance to be carried out.
(3) Ein Thyristor mit kurzer Ausschaltzeit kann, verglichen mit einem herkömmlichen Hochgeschwindigkeitsschaltthyristor, auf relativ einfache Weise erhalten werden.(3) A thyristor with a short turn-off time can, compared with a conventional high-speed switching thyristor, can be obtained in a relatively simple manner.
(4) Ein Element mit großer Sperrspannung und großem Strom kann einfach hergestellt werden.(4) An element with large reverse voltage and large current can be easily manufactured.
(5) Die Verträglichkeit für Stoßströme entspricht der Verträglichkeit eines Thyristors. Gate-Abschaltthyristoren, die die oben beschriebenen Vorteile besitzen, werden jetzt hauptsächlich in industriellen Elektromaschinen, Umformern, Leistungsversorgungen etc. verwendet und in Zukunft werden diese weitgehend auch auf anderen Gebieten Verwendung finden. (5) The compatibility for surge currents corresponds to the compatibility of a thyristor. Gate turn-off thyristors, which have the advantages described above, are now mainly used in industrial electrical machines, converters, power supplies etc. and will be used in the future these are largely used in other areas as well.
Ein Beispiel des Aufbaus eines solchen Gate-Abschaltthyristors ist in dem deutschen Patent N6449 E/42 DE32O0-807 beschrieben.An example of the construction of such a gate turn-off thyristor is in German patent N6449 E / 42 DE32O0-807 described.
Im allgemeinen besitzt ein Thyristor einen PNPN-Vierschichtenaufbau mit einer Emitterschicht vom p-Typ, einer Basisschicht vom η-Typ, einer Basisschicht vom p-Typ und einer Emitterschicht vom η-Typ. Auf den Oberflächen der Emitterschicht vom p-Typ, der Basisschicht vom p-Typ und der Emitterschicht vom η-Typ sind z.B. in Ohm'schem Kontakt eine metallisierte Anodenelektrode (im folgenden als A-Elektrode bezeichnet), eine metallisierte Gate-Elektrode (im folgen-In general, a thyristor has a PNPN four-layer structure having a p-type emitter layer, a η-type base layer, a p-type base layer and a Η-type emitter layer. On the surfaces of the p-type emitter layer, the p-type base layer and the emitter layer of the η-type are e.g. a metallized anode electrode in ohmic contact (hereinafter referred to as the A-electrode designated), a metallized gate electrode (hereinafter referred to as
den als G-Elektrode bezeichnet) und eine metallisierte Kathodenelektrode (im folgenden als K-Elektrode bezeichnet) vorgesehen. Fließt ein geringer Strom von der G-Elektrode zur K-Elektrode, so wird der Thyristor, wenn eine vorgeschriebene Spannung zwischen die A- und K-Elektroden so angelegt wird, daß die Α-Elektrode ein positives Potential aufweist, von dem AUS-Zustand in den AN-Zustand geschaltet und ein großer Hauptstrom (AN-Strom) fließt von der Α-Elektrode zur K-Elektrode. Dies bedeutet, daß der Thyristor als kontaktloser Schalter betrieben werden kann. Im Falle eines gewöhnlichen Thyristors bleibt die Steuerfunktion der G-Elektrode jedoch nicht erhalten, wenn der Thyristor von dem AUS-Zustand in den EIN-Zustand geschaltet wurde. Um einen solchen gewöhnlichen Thyristor von dem AN-Zustand in den AUS-Zustand zurückkehren zu lassen, ist folgendes notwendig: denoted as the G electrode) and a metallized cathode electrode (hereinafter referred to as K-electrode) is provided. A small current flows from the G-electrode to the K-electrode, the thyristor is activated when a prescribed voltage is applied between the A- and K-electrodes is that the Α electrode has a positive potential, switched from the OFF state to the ON state and on large main current (AN current) flows from the Α-electrode to the K-electrode. This means that the thyristor is considered to be contactless Switch can be operated. In the case of an ordinary thyristor, the control function of the G-electrode remains however, not obtained when the thyristor is switched from the OFF state to the ON state. To one To allow such ordinary thyristor to return from the ON state to the OFF state, the following is necessary:
(1) Den AN-Strom kleiner zu machen als den Haltestrom oder umgekehrt,(1) To make the ON current smaller than the holding current or vice versa,
(2) den Strom zwangsweise zu unterbrechen durch Umkehren der Stromflußrichtung zwischen den A- und K-Elektroden. Andererseits hat ein Gate-Abschaltthyristor denselben grundsätzlichen Aufbau wie ein gewöhnlicher Thyristor, unterscheidet sich aber von einem gewöhnlichen Thyristor stark dadurch, daß ein Gate-Abschaltthyristor die Fähigkeit der Selbstunterbrechung besitzt. Insbesondere kann, wenn ein umgekehrter Strom (Strom von der K-Elektrode zur G-Elektrode) zwischen den G- und K-Elektroden des Gate-Abschaltthyristors im AN-Zustand fließt, der Gate-Abschaltthyristor vom AN-Zustand in den AUS-Zustand geschaltet werden.(2) forcibly interrupting the current by reversing the direction of current flow between the A and K electrodes. On the other hand, a gate turn-off thyristor has the same basic structure as an ordinary thyristor, but differs but differs from an ordinary thyristor in that a gate turn-off thyristor has the ability to Owns self-interruption. In particular, if a reverse current (current from the K-electrode to the G-electrode) between the G and K electrodes of the gate turn-off thyristor in the ON state, the gate turn-off thyristor flows can be switched from the ON state to the OFF state.
Der Aufbau des Chips eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors kann nun mit Bezug auf die Fig. 1 bis 3 beschrieben werden. Fig. 1 ist eine Aufsicht auf ein Gate-Abschaltthyristorchip 100. Eine Glaspassivierung 109 ist am Rande des Chips 100 vorgesehen. Eine metallisierte Gate-Elektrode 106 ist innerhalb der Glaspassivierung 109 und eine metallisierte Kathodenelektrode 107 ist weiter innerhalb vorgesehen, wobei diese in die Elektrode 106 in Form der Zähne eines Kammes paßt. Diese Elektroden sind gegeneinander durch einen schützenden Oxidfilm 108 isoliert. Ein Beispiel eines solchen kammförmigen Elektrodenaufbaus ist in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 117276/1982 und 37658/1981 offenbart.The structure of the chip of a conventional gate turn-off thyristor can now be described with reference to Figs. Fig. 1 is a plan view of a gate turn-off thyristor chip 100. A glass passivation 109 is provided on the edge of the chip 100. A metallized gate electrode 106 is inside the glass passivation 109 and a metallized cathode electrode 107 is further provided inside, this fits into the electrode 106 in the form of the teeth of a comb. These electrodes are against each other isolated by a protective oxide film 108. An example of such a comb-shaped electrode structure is in Japanese Patent Laid-Open Nos. 117276/1982 and 37658/1981.
Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die entlang der Linie 2-2 in dem in Fig. 1 gezeigten Chip 100 aufgenommen wurde. Eine Basisschicht 103 vom p-Typ und eine Emitterschicht 102 vom p-Typ werden z.B. auf und unter einer Basisschicht 101 vom η-Typ eines Siliziumeinkristallsubstrats vom n-Typ gebildet. Als Verunreinigung vom p-Typ wird Gallium, Bor oder ähnliches diffundiert. Eine Emitterschicht 104 vom n-Typ, die Verunreinigungen vom η-Typ, wie Phosphor, enthält, wird durch Diffusion in Teilbereichen auf der oberen Oberfläche der Basisschicht 103 vom p-Typ gebildet. Auf den Oberflächen der Emitterschicht 102 vom p-Typ der Basisschicht 103 vom p-Typ und der Emitterschicht 104 vom n-Typ werden z.B. in Ohm'schem Kontakt eine metallisierte Anodenelektrode 105, eine metallisierte Gate-Elektrode 106 und eine metallisierte Kathodenelektrode 107 gebildet. Fig. 3 ist eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der LinieFIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 in the chip 100 shown in FIG. 1. For example, a p-type base layer 103 and a p-type emitter layer 102 are placed on and under a base layer 101 of the η-type of an n-type silicon single crystal substrate. As a p-type impurity, gallium, boron or the like diffuses. An n-type emitter layer 104 containing η-type impurities such as phosphorus, is formed by diffusion in partial areas on the upper surface of the p-type base layer 103. On the Surfaces of the p-type emitter layer 102, the p-type base layer 103 and the n-type emitter layer 104 For example, a metallized anode electrode is used in ohmic contact 105, a metallized gate electrode 106 and a metallized cathode electrode 107 are formed. Fig. 3 Fig. 3 is a sectional view of the structure taken along the line
3-3 des Chips 100 in Fig. 1 aufgenommen wurde. Im allgemeinen hat die metallisierte Schicht der metallisierten Anodenelektrode 105 einen mehrfach metallisierten Aufbau aus z.B. Al-Mo-Ni-Au, Al-Zn-Ni-Au oder Cr-Ni-Au, so daß der Chip 100 auf einem Kühlblech oder ähnlichem durch Löten befestigt werden kann. Für die metallisierten Schichten der metallisierten Gate-Elektrode 106 und der metallisierten Kathodenelektrode 107 wird Al verwendet, da Al zur Bildung der Feinstruktur, die notwendig ist, um die gewünschten Funktionen des Gate-Abschaltthyristors zu erhalten, geeignet ist.3-3 of the chip 100 in FIG. In general, the metallized layer has the metallized Anode electrode 105 has a multiple metallized structure made of, for example, Al-Mo-Ni-Au, Al-Zn-Ni-Au or Cr-Ni-Au, so that the Chip 100 can be attached to a cooling plate or the like by soldering. For the metallized layers of the metallized gate electrode 106 and the metallized cathode electrode 107, Al is used as Al for formation the fine structure which is necessary in order to obtain the desired functions of the gate turn-off thyristor is.
Der Übergang von dem AN-Zustand zum AUS-Zustand des Gate-Abschaltthyristors, nämlich die Änderungen des Anodenstroms (AN-Strom) i_, des Gate-Stroms In und der Anoden-Kathoden-Spannung v. in Beziehung zum Zeitverlauf des Ausschaltvorganges, sind z.B. auf den vertikalen Achsen als Funktion der Zeit t auf den horizontalen Achsen in den Fig. 6A, 6B und 6C aufgetragen. Fig. 6D zeigt die positionsmäßige Beziehung von i , i und v.. Als ein Faktor zur Entwicklung der Leistungsfähigkeit eines Gate-Abschaltthyristors kann die Abschaltverstärkung (G „„) angesehen werden. G „„ wird durch ein Verhältnis von Ιφπη (steuerbarer AN-Strom) und Ι-,π (Spitzenwert des Gate-Umkehrstroms) wie in der folgenden Gleichung (1) gezeigt, repräsentiert.The transition from the ON state to the OFF state of the gate turn-off thyristor, namely the changes in the anode current (ON current) i_, the gate current I n and the anode-cathode voltage v. in relation to the time course of the switch-off process are plotted, for example, on the vertical axes as a function of time t on the horizontal axes in FIGS. 6A, 6B and 6C. Fig. 6D shows the positional relationship of i, i and v .. As a factor in developing the performance of a gate turn-off thyristor, the turn-off gain (G "") can be considered. G "" is represented by a ratio of Ι φπη (controllable ON current) and Ι-, π (peak value of the reverse gate current) as shown in the following equation (1).
Goff G off
Dementsprechend fließt der Gate-Strom i zum Zeitpunkt des Ausschaltens entgegengesetzt in einer Stärke von i„M.„ = 1IGR = 1TGoZ0Of " In einem Element mit Ζ·Β·Accordingly, the gate current i flows in the opposite direction at the time of switching off with a strength of i " M. " = 1 IGR = 1 TGoZ 0 Of " In an element with Ζ · Β ·
und G ~~ = 4 wird der Wert von In~ 5OA und somit fließt einand G ~~ = 4 becomes the value of I n ~ 50A and thus flows in
Oil liKOil liK
großer Gate-Umkehrstrom. Der steuerbare AN-Strom Imp0 des Gate-Abschaltthyristors wird durch die Gleichung (2), in der sich der Strom I_-o umgekehrt proportional zur effektiven Weite (S) der Kathodenelektrode verhält, ausgedrückt.large reverse gate current. The controllable ON current Imp 0 of the gate turn-off thyristor is expressed by equation (2), in which the current I_- o is inversely proportional to the effective width (S) of the cathode electrode.
1TGQ = 4 1 TGQ = 4
In dieser Gleichung bezeichnet VR„ die Gate-Umkehrspannung, V/p die Dicke der Basisschicht 103 vom p-Typ, T die Länge der Kathodenelektrode 107, S die Weite der Kathodenelektrode 107 und 5 bezeichnet den mittleren spezifischen Widerstand der Basisschicht 103 vom p-Typ unter der Emitterschicht 104 vom η-Typ.In this equation, V R "denotes the reverse gate voltage, V / p the thickness of the p-type base layer 103, T the length of the cathode electrode 107, S the width of the cathode electrode 107, and 5 denotes the average resistivity of the p-type base layer 103 Type under the η-type emitter layer 104.
Folglich ist es, um einen vorbestimmten Widerstand des Gate-Abschaltthyristors bei gleichzeitig großem steuerbaren AN-Strom Im/-,n zu erhalten, notwendig, die effektive Kathodenelektrodenweite (S) so klein wie möglich zu machen und dementsprechend ist es notwendig, eine feine Struktur zu bilden. Aus diesem Grund ist Al geeignet und wird im allgemeinen für die metallisierten Schichten der metallisierten Kathodenelektrode 107 und der metallisierten Gate-Elektrode 106 angewendet. Andererseits wird aus Kostengründen beim Zusammenbau eines Gate-Abschaltthyristors, der ein It_,q von ungefähr 200A oder weniger besitzt, eine Methode zum Löten der metallisierten Anodenelektrode 105 auf ein Kühlblech angewandt, und im Hinblick auf die metallisierten Kathoden- und Gate-Elektroden 107, 106 wird im allgemeinen eine Methode angewandt, bei der, wie in Fig. 7A in ver-Consequently, in order to obtain a predetermined resistance of the gate turn-off thyristor with a large controllable ON current I m / -, n at the same time, it is necessary to make the effective cathode electrode width (S) as small as possible and accordingly it is necessary to make a fine one To form structure. For this reason, Al is suitable and is generally used for the metallized layers of the metallized cathode electrode 107 and the metallized gate electrode 106. On the other hand, for reasons of cost, in assembling a gate turn-off thyristor having an I t _, q of about 200A or less, a method of soldering the metallized anode electrode 105 to a heat sink is employed, and in view of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106 a method is generally used in which, as shown in FIG. 7A in different
3 A 43 7843 A 43 784
größerter Weise gezeigt, ein dünner, nach außen führender Al-Draht 300 mit einem Durchmesser von ungefähr 300 bis μπι auf der Al-metallisierten Oberfläche durch Ultraschall-Schweißen befestigt wird.Da jedoch beide Ljqq und I wie oben beschrieben große Werte annehmen, ist es notwendig, wenn dünne Al-Drähte verwendet werden, eine Mehrzahl von Drähten parallel durch Ultraschall-Schweißen anzuordnen, was eine uneffiziente Zusammenbauarbeit zur Folge hat.Shown on a larger scale, a thin, outwardly leading Al wire 300 with a diameter of about 300 to μπι on the Al-metallized surface by ultrasonic welding However, since both Ljqq and I are as above assume large values, if thin Al wires are used, a plurality of wires is necessary to be arranged in parallel by ultrasonic welding, resulting in inefficient assembling work.
Um die oben beschriebenen Nachteile eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors zu vermeiden, ist es Aufgabe der Erfindung, einen Gate-Abschaltthyristor vorzusehen, bei dem die Verbindungsdrähte zur metallisierten Kathode und/ oder Gate-Elektrode mit hoher Zuverlässigkeit und hoher Effizienz des Zusammenbaus ohne die Leistungsfähigkeit des Gate-Abschaltthyristors zu verschlechtern, angebracht werden können.In order to avoid the above-described disadvantages of a conventional gate turn-off thyristor, it is the task of Invention of providing a gate turn-off thyristor in which the connecting wires to the metallized cathode and / or gate electrode with high reliability and high Assembly efficiency without deteriorating the gate turn-off thyristor performance can.
Die Erfindung weist einen Gate-Abschaltthyristor auf mit einer ersten Basisschicht eines ersten Halbleiterleitfähigkeitstyps, einer zweiten Basisschicht eines zweiten Halbleiterleitfähigkeitstyps die der einen Oberfläche der ersten Basisschicht benachbart vorgesehen ist, einer ersten Emitterschicht des zweiten Halbleiterleitfähigkeitstyps die der entgegengesetzten Oberfläche der ersten Basisschicht benachbart vorgesehen ist und einer zweiten Emitterschicht des ersten Halbleiterleitfähigkeitstyps, die auf Teilbereichen auf der Oberfläche der zweiten Basisschicht gebildet ist, wobei der Oberflächenverlauf der zweiten Emitterschicht entsprechend der Zähne eines Kammes geformt ist, metallisierte Elektroden so geformt sind, daß sie jeweilsThe invention comprises a gate turn-off thyristor with a first base layer of a first semiconductor conductivity type, a second base layer of a second semiconductor conductivity type which is provided adjacent to the one surface of the first base layer, a first Emitter layer of the second semiconductor conductivity type that of the opposite surface of the first base layer is provided adjacent and a second emitter layer of the first semiconductor conductivity type, which on subregions is formed on the surface of the second base layer, the surface profile of the second emitter layer Shaped to match the teeth of a comb, metallized electrodes are shaped to each
Ohm'sehen Kontakt mit den Oberflächen der ersten Emitterschicht, der zweiten Basisschicht und der zweiten Emitterschicht besitzen, und der oben beschriebene Gate-Abschaltthyristor dadurch gekennzeichnet ist, daß mindestens ein Kontaktbereich zum Anschluß eines Verbindungsdrahtes an die metallisierte Elektrode auf der zweiten Emitterschicht einen lötbaren metallisierten Elektrodenaufbau aufweist.Ohms see contact with the surfaces of the first emitter layer, the second base layer and the second emitter layer, and the gate turn-off thyristor described above characterized in that at least one contact area for connecting a connecting wire to the metallized electrode on the second emitter layer a solderable metallized Has electrode structure.
Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der Figuren. Von den Figuren zeigen:Further features and usefulnesses of the invention emerge from the description of an exemplary embodiment based on the figures. From the figures show:
Fig. 1 eine Aufsicht auf ein herkömmliches Gate-Abschal tthyristorchip ;1 shows a plan view of a conventional gate turn-off thyristor chip;
Fig. 2 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 2-2 des in den Fig. 1 und 4 gezeigten Chips aufgenommen ist;FIG. 2 is a sectional view of the assembly taken along line 2-2 of that shown in FIGS Chips is added;
Fig. 3 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 3-3 des in Fig. 1 gezeigten Chips aufgenommen ist;3 is a sectional view of the assembly taken along line 3-3 of the chip shown in FIG is;
Fig. 4 eine Aufsicht auf das Gate-Abschaltthyristorchip einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;4 shows a plan view of the gate turn-off thyristor chip of an embodiment according to the invention;
Fig. 5 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 5-5 des in Fig. 4 gezeigten Chips aufgenommen ist;FIG. 5 is a sectional view of the assembly taken along line 5-5 of the chip shown in FIG is;
Fig. 6A, 6B und 6C Änderungen des Anodenstroms i„, Gatestroms α« und der Anoden-Kathodenspannung v., z.B. als Funktion der Zeit des Absc'haltvorgangesFIGS. 6A, 6B and 6C show changes in the anode current i ", gate current α «and the anode-cathode voltage v., e.g. as a function of the time of the shutdown process
und Fig. 6D eine positionsmäßige Beziehung vonand FIG. 6D shows a positional relationship of FIG
1G und VA; 1 G and V A ;
undand
Fig.7A ein herkömmliches Verfahren zum Anschluß eines Verbindungsdrahtes an eine metallisierte Kathoden-■'·*.-♦ '-"7A shows a conventional method for connecting a connecting wire to a metallized cathode ■ '· * .- ♦ '- "
elektrode oder eine metallisierte Gate-Elektrode und Fig. 7B ein erfindungsgemäßes Verfahren.'"electrode or a metallized gate electrode and FIG. 7B shows a method according to the invention. '"
In den Zeichnungen kennzeichnen identische Bezugszeichen identische oder entsprechende Teile.In the drawings, identical reference characters indicate identical or corresponding parts.
Ein Chipaufbau eines Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung wird mit Bezug auf die Fig. 2, 4 und 5 beschrieben. Fig. 4 ist eine Aufsicht auf ein Chip eines Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung. Der Aufbau im Querschnitt des in Fig. 4 gezeigten Chips entlang der Linie 2-2 ist der gleiche wie der von Fig. 2 und der in Fig. 5 entlang der Linie 5-5 gezeigte Aufbau im Querschnitt, Der Aufbau des Hauptteils des Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung ist derselbe wie der eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors und daher wird eine detaillierte Beschreibung darüber weggelassen. Der erfindungsgemäße Gate-Abschaltthyristor unterscheidet sich im Aufbau, verglichen mit einem herkömmlichen Gate-Abschaltthyristor, dadurch, daß der metallisierte Aufbau der Kontaktbereiche der Verbindungsdrähte 107a, 106a der metallisierten Kathode und Gate-Elektroden 107, 106 als lötbare metallisierte Schicht zum Anschluß der Verbindungsdrähte gebildet ist, und daß der metallisierte Aufbau der metallisierten Kathode und Gate-Elektroden 107, 106, die die KontaktbereicheA chip structure of a gate turn-off thyristor according to the invention will be described with reference to Figs. Fig. 4 is a plan view of a chip of a gate turn-off thyristor according to the invention. The structure in cross section of the chip shown in FIG. 4 along the Line 2-2 is the same as that of Fig. 2 and the cross-sectional structure shown in Fig. 5 along line 5-5; The structure of the main part of the gate turn-off thyristor according to the invention is the same as that of a conventional one Gate turn-off thyristor, and therefore detailed description thereof will be omitted. The inventive Gate turn-off thyristor differs in structure compared to a conventional gate turn-off thyristor, in that the metallized structure of the contact areas of the connecting wires 107a, 106a of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106 are formed as a solderable metallized layer for connecting the connecting wires, and that the metallized structure of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106, which form the contact areas
107a, 106a der Anschlußdrähte ausschließen, als Al-Schicht gebildet sind, die dazu geeignet ist, eine feine Struktur zu bilden, so daß die gewünschte Leistungsfähigkeit des Gate-Abschaltthyristors erzielt werden kann. Als lötbarer metallisierter Aufbau der Kontaktbereiche 107a und 106a der Verbindungsdrähte wird ein mehrfach metallisierter Aufbau aus Al-Mo-Ni-Au oder Al-Zn-Ni-Au zum Beispiel angewendet. Als Verfahren zur Bildung des mehrfach metallisierten Aufbaus in diesen Teilen wird ein Aufdampfverfahren oder ein kombiniertes Verfahren aus Aufdampfen, Überziehen u.a. angewendet. Als Verfahren zur Bildung der metallisierten Schichten in diesen Bereichen kann ein Verfahren angewendet werden, bei dem während der Zeit der Bildung der Al-metallisierten Schicht, die die Kontaktbereiche 107a und 106a der Verbindungsdrähte ausschließt, die Almetallisierte Schicht ebenfalls unter den metallisierten Bereichen 107a und 106a durch einen Aufdampfprozeß gebildet werden und dann wird ein geschichteter metallisierter Aufbau der metallisierten Bereiche 107a und 106a gebildet. Alternativ kann auch ein Verfahren angewandt werden, bei dem die metallisierten Bereiche 107a und 106a durch einen,von dem Prozeß der Bildung der Al-metallisierten Schicht der Bereiche 107 und 106 abweichenden Prozeß, gebildet werden, so daß die metallisierte Schicht in den jeweiligen Bereichen verbunden werden kann. Ein Beispiel eines Verfahrens zur Verbindung der Anschlußdrähte mit den Kontaktbereichen 107a und 106a der Anschlußdrähte ist in Fig. 7B gezeigt. Ein lötbarer nickelüberzogender Verbindungsdraht 400, der aus relativ dünnem Kupferblech o.a. hergestellt ist, ist mit einem Lötmaterial 200 auf die metallisierte Kathodenelektrode 107a oder die metallisierte107a, 106a of the connecting wires exclude, as an Al layer are formed, which is capable of forming a fine structure, so that the desired performance of the Gate turn-off thyristor can be achieved. As a solderable metallized structure of the contact areas 107a and 106a A multi-metallized structure made of Al-Mo-Ni-Au or Al-Zn-Ni-Au, for example, is used for the connecting wires. A vapor deposition process is used as the method for forming the multiple metallized structure in these parts or a combined process of vapor deposition, coating, etc. is used. As a method of forming the metallized Layers in these areas can be applied a process in which during the time of formation the Al-metallized layer that forms the contact areas 107a and 106a of the connecting wires excludes the Almetallized Layer also formed under the metallized areas 107a and 106a by a vapor deposition process and then a layered metallized structure of the metallized areas 107a and 106a is formed. Alternatively, a method can also be used in which the metallized areas 107a and 106a through a process different from the process of forming the Al-metallized layer of the regions 107 and 106 so that the metallized layer can be connected in the respective areas. An example a method of connecting the leads to the contact areas 107a and 106a of the leads is shown in FIG 7B. A solderable, nickel-plated connecting wire 400 made of relatively thin copper sheet or the like. is made is with a solder material 200 on the metallized cathode electrode 107a or the metallized
Gate-Elektrode 106a, die zum Anschluß der Verbindungsdrähte gebildet sind, gelötet. Es muß nicht näher erwähnt werden, daß in Abhängigkeit vom Betrag von IGR» den man aus dem Betrag der Strombelastungsgrenze (Betrag von ITG0) des verwendeten Gate-Abschaltthyristors erhält, die Erfindung nur auf einen metallisierten Kathodenelektrodenteil angewendet werden kann.Gate electrodes 106a formed for connecting the connecting wires are soldered. It goes without saying that, depending on the amount of I GR »which is obtained from the amount of the current load limit (amount of I TG0) of the gate turn-off thyristor used, the invention can only be applied to a metallized cathode electrode part.
Darüber hinaus ist die Erfindung selbstverständlich nicht durch den oben beschriebenen Gate-Abschaltthyristor begrenzt und kann auch auf ein Halbleiterelement wie einen Leistungstransistor, der eine feinstrukturierte metallisierte Elektrode besitzt, angewendet werden.In addition, the invention is of course not limited by the gate turn-off thyristor described above and can also be applied to a semiconductor element such as a power transistor, which is a finely structured metallized Electrode has to be applied.
Die Erfindung ermöglicht es, wie beschrieben, einen Gate-Abschaltthyristor einer hohen Zuverlässigkeit vorzusehen, bei dem die Anschl'ußdrähte während der Zusammenbauarbeit leistungsfähig miteinander verbunden werden kernen, ohne daß dabei die Charakteristiken des Gate-Abschaltthyristors verschlechtert werden.As described, the invention enables a gate turn-off thyristor to provide a high reliability, in which the connecting wires during the assembly work powerfully interconnected cores without that thereby the characteristics of the gate turn-off thyristor are deteriorated.
Claims (5)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58228043A JPS60119777A (en) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | Gate turn-off thyristor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3443784A1 true DE3443784A1 (en) | 1985-07-18 |
DE3443784C2 DE3443784C2 (en) | 1991-10-10 |
Family
ID=16870300
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843443784 Granted DE3443784A1 (en) | 1983-11-30 | 1984-11-30 | GATE SHUT-OFF THYRISTOR |
DE19843448379 Expired - Fee Related DE3448379C2 (en) | 1983-11-30 | 1984-11-30 | Gate shutdown thyristor |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843448379 Expired - Fee Related DE3448379C2 (en) | 1983-11-30 | 1984-11-30 | Gate shutdown thyristor |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60119777A (en) |
DE (2) | DE3443784A1 (en) |
GB (1) | GB2150754B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004048688B4 (en) * | 2004-01-14 | 2013-05-08 | Mitsubishi Denki K.K. | Power semiconductor device |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5396436B2 (en) | 2011-06-29 | 2014-01-22 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
US9583425B2 (en) * | 2012-02-15 | 2017-02-28 | Maxim Integrated Products, Inc. | Solder fatigue arrest for wafer level package |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1105526B (en) * | 1959-12-29 | 1961-04-27 | Siemens Ag | Method for manufacturing a semiconductor device |
DE1214978B (en) * | 1963-06-11 | 1966-04-21 | Licentia Gmbh | Process for soldering a gold foil to a nickel-plated molybdenum disk |
GB1149606A (en) * | 1967-02-27 | 1969-04-23 | Motorola Inc | Mounting for a semiconductor wafer which is resistant to fatigue caused by thermal stresses |
DE2009363A1 (en) | 1969-03-04 | 1971-01-21 | RIV-SKF Officine di Villar Perosa S.p.A.. Turin (Italien) | Arrangement for the automatic change of the infeed speed in machine tools |
US3633076A (en) * | 1966-03-19 | 1972-01-04 | Siemens Ag | Three layer metallic contact strip at a semiconductor structural component |
DE2009863B2 (en) * | 1970-03-03 | 1977-05-05 | Licentia Pate nt-Verwaltungs-GmbH, 6000 Frankfurt | NON-LOCKING CONTACT MADE OF MULTIPLE LAYERS FOR SILICON SEMICONDUCTOR COMPONENTS |
DE2809863A1 (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-14 | Ates Componenti Elettron | METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR COMPONENTS |
DE2712533A1 (en) * | 1977-03-15 | 1978-12-14 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | SEMICONDUCTOR COMPONENT CONTROLLED BY A CONTROL ELECTRODE, IN PARTICULAR THYRISTOR |
GB1557399A (en) * | 1976-04-09 | 1979-12-12 | Int Rectifier Corp | Gate controlled semiconductor device |
DE3200807A1 (en) * | 1981-01-14 | 1982-10-14 | Hitachi, Ltd., Tokyo | PERFORMANCE SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT |
GB2104290A (en) * | 1981-08-18 | 1983-03-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
DE3346833A1 (en) * | 1982-12-28 | 1984-07-05 | Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki | SEMICONDUCTOR ELEMENT |
EP0121605A2 (en) * | 1983-01-20 | 1984-10-17 | BROWN, BOVERI & CIE Aktiengesellschaft | Method of producing a multi-layer contact metallisation on a silicon semiconductor component |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1196834A (en) * | 1967-03-29 | 1970-07-01 | Hitachi Ltd | Improvement of Electrode Structure in a Semiconductor Device. |
GB1196576A (en) * | 1968-03-06 | 1970-07-01 | Westinghouse Electric Corp | High Current Gate Controlled Switches |
US3599060A (en) * | 1968-11-25 | 1971-08-10 | Gen Electric | A multilayer metal contact for semiconductor device |
GB2095904B (en) * | 1981-03-23 | 1985-11-27 | Gen Electric | Semiconductor device with built-up low resistance contact and laterally conducting second contact |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP58228043A patent/JPS60119777A/en active Pending
-
1984
- 1984-11-30 DE DE19843443784 patent/DE3443784A1/en active Granted
- 1984-11-30 DE DE19843448379 patent/DE3448379C2/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-11-30 GB GB8430310A patent/GB2150754B/en not_active Expired
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1105526B (en) * | 1959-12-29 | 1961-04-27 | Siemens Ag | Method for manufacturing a semiconductor device |
DE1214978B (en) * | 1963-06-11 | 1966-04-21 | Licentia Gmbh | Process for soldering a gold foil to a nickel-plated molybdenum disk |
US3633076A (en) * | 1966-03-19 | 1972-01-04 | Siemens Ag | Three layer metallic contact strip at a semiconductor structural component |
GB1149606A (en) * | 1967-02-27 | 1969-04-23 | Motorola Inc | Mounting for a semiconductor wafer which is resistant to fatigue caused by thermal stresses |
DE2009363A1 (en) | 1969-03-04 | 1971-01-21 | RIV-SKF Officine di Villar Perosa S.p.A.. Turin (Italien) | Arrangement for the automatic change of the infeed speed in machine tools |
DE2009863B2 (en) * | 1970-03-03 | 1977-05-05 | Licentia Pate nt-Verwaltungs-GmbH, 6000 Frankfurt | NON-LOCKING CONTACT MADE OF MULTIPLE LAYERS FOR SILICON SEMICONDUCTOR COMPONENTS |
GB1557399A (en) * | 1976-04-09 | 1979-12-12 | Int Rectifier Corp | Gate controlled semiconductor device |
DE2809863A1 (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-14 | Ates Componenti Elettron | METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR COMPONENTS |
DE2712533A1 (en) * | 1977-03-15 | 1978-12-14 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | SEMICONDUCTOR COMPONENT CONTROLLED BY A CONTROL ELECTRODE, IN PARTICULAR THYRISTOR |
DE3200807A1 (en) * | 1981-01-14 | 1982-10-14 | Hitachi, Ltd., Tokyo | PERFORMANCE SEMICONDUCTOR ARRANGEMENT |
GB2104290A (en) * | 1981-08-18 | 1983-03-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
DE3346833A1 (en) * | 1982-12-28 | 1984-07-05 | Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki | SEMICONDUCTOR ELEMENT |
EP0121605A2 (en) * | 1983-01-20 | 1984-10-17 | BROWN, BOVERI & CIE Aktiengesellschaft | Method of producing a multi-layer contact metallisation on a silicon semiconductor component |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004048688B4 (en) * | 2004-01-14 | 2013-05-08 | Mitsubishi Denki K.K. | Power semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2150754B (en) | 1987-08-26 |
DE3448379C2 (en) | 1993-12-16 |
GB8430310D0 (en) | 1985-01-09 |
GB2150754A (en) | 1985-07-03 |
DE3443784C2 (en) | 1991-10-10 |
JPS60119777A (en) | 1985-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4235175C2 (en) | Semiconductor device | |
DE102008064779B3 (en) | Semiconductor device | |
DE3136682C2 (en) | ||
DE2063579A1 (en) | Semiconductor device | |
DE1234856B (en) | Solid-state toggle switch | |
DE2727405A1 (en) | FIELD CONTROLLED THYRISTOR WITH EMBEDDED GRILLE | |
DE2363120B2 (en) | SOLAR CELL ARRANGEMENT | |
DE112009004277T5 (en) | POWER SEMICONDUCTOR DEVICE | |
DE2050289A1 (en) | ||
DE3517414A1 (en) | SOLAR GENERATOR | |
DE1639019A1 (en) | Semiconductor rectifier | |
EP0071916B1 (en) | Power mos field effect transistor and method of producing the same | |
DE3819671A1 (en) | SOLAR CELL AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION | |
DE3526337C2 (en) | ||
DE3002897C2 (en) | Thyristor | |
DE3443784A1 (en) | GATE SHUT-OFF THYRISTOR | |
DE3010986A1 (en) | INTEGRATED SEMICONDUCTOR CIRCUIT | |
DE2119610A1 (en) | Thin film power field effect transistor | |
DE102020128768A1 (en) | ELECTRONIC CIRCUIT, SEMICONDUCTOR MODULE AND SEMICONDUCTOR DEVICE | |
DE3616185C2 (en) | ||
DE3501985A1 (en) | PERFORMANCE SEMICONDUCTOR DEVICE | |
DE2731443C2 (en) | ||
DE3616233C2 (en) | ||
DE3439803C2 (en) | ||
DE2606885B2 (en) | Semiconductor component |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8172 | Supplementary division/partition in: |
Ref country code: DE Ref document number: 3448379 Format of ref document f/p: P |
|
Q171 | Divided out to: |
Ref country code: DE Ref document number: 3448379 |
|
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 3448379 Format of ref document f/p: P |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 3448379 Format of ref document f/p: P |
|
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |