DE3443784A1 - GATE SHUT-OFF THYRISTOR - Google Patents

GATE SHUT-OFF THYRISTOR

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Description

-A--A-

Gate-AbschaltthyristorGate turn-off thyristor

BESCHREIBUNGDESCRIPTION

Die Erfindung bezieht sich auf einen Gate-Abschaltthyristor und insbesondere auf eine Elektrodenstruktur einer metallisierten Elektrode im Kontaktbereich des Anschlußdrahtes auf der Chipoberfläche eines Gate-Abschaltthyristors.The invention relates to a gate turn-off thyristor and, more particularly, to an electrode structure of a metallized Electrode in the contact area of the connecting wire on the chip surface of a gate turn-off thyristor.

In der heutigen Zeit ist es von größter Bedeutung, wie dem wachsenden Verlangen, Energie und Rohstoffe einzusparen, begegnet werden kann. Im Hinblick auf eine solche Situation wurden im Bereich der Leistungselektronik neue Funktionselemente entwickelt und das Verlangen nach solchen Funktionsele/;enten ist in diesen Tagen bemerkenswert angestiegen. Gate-Abschaltthyristoren haben als Elemente für Inverter oder Unterbrecherschaltungen spezielle Aufmerksamkeit auf sich gezogen. Dieses aus dem Grund, da ein Gate-Abschaltthyristor als Hochgeschwindigkeitsschaltelement ausgezeichnete und ideale Eigenschaften, verglichen mit jedem anderen herkömmlichen Transistor oder Hochgeschwindigkeitsschaltthyristor, besitzt. Die hauptsächlichen Charakteristiken eines Gate-Abschaltthyristors können wie folgt beschrieben werden.In this day and age it is of the utmost importance, like the growing desire to save energy and raw materials, can be encountered. With a view to such a situation, new functional elements were developed in the field of power electronics and the demand for such functional elements has increased remarkably these days. Gate turn-off thyristors are used as elements for inverters or breaker circuits attracted special attention. This is because it is a gate turn-off thyristor excellent and ideal properties as a high-speed switching element compared with any other conventional transistor or high-speed switching thyristor, owns. The main characteristics of a gate turn-off thyristor can be described as follows will.

(1) Da ein Gate-Abschaltthyristor die Fähigkeit der Selbstunterbrechung besitzt, wird ein wie im Falle eines herkömm-(1) Because a gate turn-off thyristor has the ability of self-interruption as in the case of a conventional

lichen Hochgeschwindigkeitsschaltthyristors zwangsläufig notwendiger Unterbrecherschaltkreis nicht benötigt, und dementsprechend wird es möglich, Geräte kleiner und leichter zu machen.union high-speed switching thyristor inevitably necessary breaker circuit is not required, and accordingly it becomes possible to make devices smaller and lighter close.

(2) Die EIN-AUS-Steuerung eines Elementes kann mit geringer Steuerleistung durchgeführt werden.(2) The ON-OFF control of an element can be made with less Tax performance to be carried out.

(3) Ein Thyristor mit kurzer Ausschaltzeit kann, verglichen mit einem herkömmlichen Hochgeschwindigkeitsschaltthyristor, auf relativ einfache Weise erhalten werden.(3) A thyristor with a short turn-off time can, compared with a conventional high-speed switching thyristor, can be obtained in a relatively simple manner.

(4) Ein Element mit großer Sperrspannung und großem Strom kann einfach hergestellt werden.(4) An element with large reverse voltage and large current can be easily manufactured.

(5) Die Verträglichkeit für Stoßströme entspricht der Verträglichkeit eines Thyristors. Gate-Abschaltthyristoren, die die oben beschriebenen Vorteile besitzen, werden jetzt hauptsächlich in industriellen Elektromaschinen, Umformern, Leistungsversorgungen etc. verwendet und in Zukunft werden diese weitgehend auch auf anderen Gebieten Verwendung finden. (5) The compatibility for surge currents corresponds to the compatibility of a thyristor. Gate turn-off thyristors, which have the advantages described above, are now mainly used in industrial electrical machines, converters, power supplies etc. and will be used in the future these are largely used in other areas as well.

Ein Beispiel des Aufbaus eines solchen Gate-Abschaltthyristors ist in dem deutschen Patent N6449 E/42 DE32O0-807 beschrieben.An example of the construction of such a gate turn-off thyristor is in German patent N6449 E / 42 DE32O0-807 described.

Im allgemeinen besitzt ein Thyristor einen PNPN-Vierschichtenaufbau mit einer Emitterschicht vom p-Typ, einer Basisschicht vom η-Typ, einer Basisschicht vom p-Typ und einer Emitterschicht vom η-Typ. Auf den Oberflächen der Emitterschicht vom p-Typ, der Basisschicht vom p-Typ und der Emitterschicht vom η-Typ sind z.B. in Ohm'schem Kontakt eine metallisierte Anodenelektrode (im folgenden als A-Elektrode bezeichnet), eine metallisierte Gate-Elektrode (im folgen-In general, a thyristor has a PNPN four-layer structure having a p-type emitter layer, a η-type base layer, a p-type base layer and a Η-type emitter layer. On the surfaces of the p-type emitter layer, the p-type base layer and the emitter layer of the η-type are e.g. a metallized anode electrode in ohmic contact (hereinafter referred to as the A-electrode designated), a metallized gate electrode (hereinafter referred to as

den als G-Elektrode bezeichnet) und eine metallisierte Kathodenelektrode (im folgenden als K-Elektrode bezeichnet) vorgesehen. Fließt ein geringer Strom von der G-Elektrode zur K-Elektrode, so wird der Thyristor, wenn eine vorgeschriebene Spannung zwischen die A- und K-Elektroden so angelegt wird, daß die Α-Elektrode ein positives Potential aufweist, von dem AUS-Zustand in den AN-Zustand geschaltet und ein großer Hauptstrom (AN-Strom) fließt von der Α-Elektrode zur K-Elektrode. Dies bedeutet, daß der Thyristor als kontaktloser Schalter betrieben werden kann. Im Falle eines gewöhnlichen Thyristors bleibt die Steuerfunktion der G-Elektrode jedoch nicht erhalten, wenn der Thyristor von dem AUS-Zustand in den EIN-Zustand geschaltet wurde. Um einen solchen gewöhnlichen Thyristor von dem AN-Zustand in den AUS-Zustand zurückkehren zu lassen, ist folgendes notwendig: denoted as the G electrode) and a metallized cathode electrode (hereinafter referred to as K-electrode) is provided. A small current flows from the G-electrode to the K-electrode, the thyristor is activated when a prescribed voltage is applied between the A- and K-electrodes is that the Α electrode has a positive potential, switched from the OFF state to the ON state and on large main current (AN current) flows from the Α-electrode to the K-electrode. This means that the thyristor is considered to be contactless Switch can be operated. In the case of an ordinary thyristor, the control function of the G-electrode remains however, not obtained when the thyristor is switched from the OFF state to the ON state. To one To allow such ordinary thyristor to return from the ON state to the OFF state, the following is necessary:

(1) Den AN-Strom kleiner zu machen als den Haltestrom oder umgekehrt,(1) To make the ON current smaller than the holding current or vice versa,

(2) den Strom zwangsweise zu unterbrechen durch Umkehren der Stromflußrichtung zwischen den A- und K-Elektroden. Andererseits hat ein Gate-Abschaltthyristor denselben grundsätzlichen Aufbau wie ein gewöhnlicher Thyristor, unterscheidet sich aber von einem gewöhnlichen Thyristor stark dadurch, daß ein Gate-Abschaltthyristor die Fähigkeit der Selbstunterbrechung besitzt. Insbesondere kann, wenn ein umgekehrter Strom (Strom von der K-Elektrode zur G-Elektrode) zwischen den G- und K-Elektroden des Gate-Abschaltthyristors im AN-Zustand fließt, der Gate-Abschaltthyristor vom AN-Zustand in den AUS-Zustand geschaltet werden.(2) forcibly interrupting the current by reversing the direction of current flow between the A and K electrodes. On the other hand, a gate turn-off thyristor has the same basic structure as an ordinary thyristor, but differs but differs from an ordinary thyristor in that a gate turn-off thyristor has the ability to Owns self-interruption. In particular, if a reverse current (current from the K-electrode to the G-electrode) between the G and K electrodes of the gate turn-off thyristor in the ON state, the gate turn-off thyristor flows can be switched from the ON state to the OFF state.

Der Aufbau des Chips eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors kann nun mit Bezug auf die Fig. 1 bis 3 beschrieben werden. Fig. 1 ist eine Aufsicht auf ein Gate-Abschaltthyristorchip 100. Eine Glaspassivierung 109 ist am Rande des Chips 100 vorgesehen. Eine metallisierte Gate-Elektrode 106 ist innerhalb der Glaspassivierung 109 und eine metallisierte Kathodenelektrode 107 ist weiter innerhalb vorgesehen, wobei diese in die Elektrode 106 in Form der Zähne eines Kammes paßt. Diese Elektroden sind gegeneinander durch einen schützenden Oxidfilm 108 isoliert. Ein Beispiel eines solchen kammförmigen Elektrodenaufbaus ist in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 117276/1982 und 37658/1981 offenbart.The structure of the chip of a conventional gate turn-off thyristor can now be described with reference to Figs. Fig. 1 is a plan view of a gate turn-off thyristor chip 100. A glass passivation 109 is provided on the edge of the chip 100. A metallized gate electrode 106 is inside the glass passivation 109 and a metallized cathode electrode 107 is further provided inside, this fits into the electrode 106 in the form of the teeth of a comb. These electrodes are against each other isolated by a protective oxide film 108. An example of such a comb-shaped electrode structure is in Japanese Patent Laid-Open Nos. 117276/1982 and 37658/1981.

Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die entlang der Linie 2-2 in dem in Fig. 1 gezeigten Chip 100 aufgenommen wurde. Eine Basisschicht 103 vom p-Typ und eine Emitterschicht 102 vom p-Typ werden z.B. auf und unter einer Basisschicht 101 vom η-Typ eines Siliziumeinkristallsubstrats vom n-Typ gebildet. Als Verunreinigung vom p-Typ wird Gallium, Bor oder ähnliches diffundiert. Eine Emitterschicht 104 vom n-Typ, die Verunreinigungen vom η-Typ, wie Phosphor, enthält, wird durch Diffusion in Teilbereichen auf der oberen Oberfläche der Basisschicht 103 vom p-Typ gebildet. Auf den Oberflächen der Emitterschicht 102 vom p-Typ der Basisschicht 103 vom p-Typ und der Emitterschicht 104 vom n-Typ werden z.B. in Ohm'schem Kontakt eine metallisierte Anodenelektrode 105, eine metallisierte Gate-Elektrode 106 und eine metallisierte Kathodenelektrode 107 gebildet. Fig. 3 ist eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der LinieFIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 in the chip 100 shown in FIG. 1. For example, a p-type base layer 103 and a p-type emitter layer 102 are placed on and under a base layer 101 of the η-type of an n-type silicon single crystal substrate. As a p-type impurity, gallium, boron or the like diffuses. An n-type emitter layer 104 containing η-type impurities such as phosphorus, is formed by diffusion in partial areas on the upper surface of the p-type base layer 103. On the Surfaces of the p-type emitter layer 102, the p-type base layer 103 and the n-type emitter layer 104 For example, a metallized anode electrode is used in ohmic contact 105, a metallized gate electrode 106 and a metallized cathode electrode 107 are formed. Fig. 3 Fig. 3 is a sectional view of the structure taken along the line

3-3 des Chips 100 in Fig. 1 aufgenommen wurde. Im allgemeinen hat die metallisierte Schicht der metallisierten Anodenelektrode 105 einen mehrfach metallisierten Aufbau aus z.B. Al-Mo-Ni-Au, Al-Zn-Ni-Au oder Cr-Ni-Au, so daß der Chip 100 auf einem Kühlblech oder ähnlichem durch Löten befestigt werden kann. Für die metallisierten Schichten der metallisierten Gate-Elektrode 106 und der metallisierten Kathodenelektrode 107 wird Al verwendet, da Al zur Bildung der Feinstruktur, die notwendig ist, um die gewünschten Funktionen des Gate-Abschaltthyristors zu erhalten, geeignet ist.3-3 of the chip 100 in FIG. In general, the metallized layer has the metallized Anode electrode 105 has a multiple metallized structure made of, for example, Al-Mo-Ni-Au, Al-Zn-Ni-Au or Cr-Ni-Au, so that the Chip 100 can be attached to a cooling plate or the like by soldering. For the metallized layers of the metallized gate electrode 106 and the metallized cathode electrode 107, Al is used as Al for formation the fine structure which is necessary in order to obtain the desired functions of the gate turn-off thyristor is.

Der Übergang von dem AN-Zustand zum AUS-Zustand des Gate-Abschaltthyristors, nämlich die Änderungen des Anodenstroms (AN-Strom) i_, des Gate-Stroms In und der Anoden-Kathoden-Spannung v. in Beziehung zum Zeitverlauf des Ausschaltvorganges, sind z.B. auf den vertikalen Achsen als Funktion der Zeit t auf den horizontalen Achsen in den Fig. 6A, 6B und 6C aufgetragen. Fig. 6D zeigt die positionsmäßige Beziehung von i , i und v.. Als ein Faktor zur Entwicklung der Leistungsfähigkeit eines Gate-Abschaltthyristors kann die Abschaltverstärkung (G „„) angesehen werden. G „„ wird durch ein Verhältnis von Ιφπη (steuerbarer AN-Strom) und Ι-,π (Spitzenwert des Gate-Umkehrstroms) wie in der folgenden Gleichung (1) gezeigt, repräsentiert.The transition from the ON state to the OFF state of the gate turn-off thyristor, namely the changes in the anode current (ON current) i_, the gate current I n and the anode-cathode voltage v. in relation to the time course of the switch-off process are plotted, for example, on the vertical axes as a function of time t on the horizontal axes in FIGS. 6A, 6B and 6C. Fig. 6D shows the positional relationship of i, i and v .. As a factor in developing the performance of a gate turn-off thyristor, the turn-off gain (G "") can be considered. G "" is represented by a ratio of Ι φπη (controllable ON current) and Ι-, π (peak value of the reverse gate current) as shown in the following equation (1).

Goff G off

Dementsprechend fließt der Gate-Strom i zum Zeitpunkt des Ausschaltens entgegengesetzt in einer Stärke von i„M.„ = 1IGR = 1TGoZ0Of " In einem Element mit Ζ·Β·Accordingly, the gate current i flows in the opposite direction at the time of switching off with a strength of i " M. " = 1 IGR = 1 TGoZ 0 Of " In an element with Ζ · Β ·

und G ~~ = 4 wird der Wert von In~ 5OA und somit fließt einand G ~~ = 4 becomes the value of I n ~ 50A and thus flows in

Oil liKOil liK

großer Gate-Umkehrstrom. Der steuerbare AN-Strom Imp0 des Gate-Abschaltthyristors wird durch die Gleichung (2), in der sich der Strom I_-o umgekehrt proportional zur effektiven Weite (S) der Kathodenelektrode verhält, ausgedrückt.large reverse gate current. The controllable ON current Imp 0 of the gate turn-off thyristor is expressed by equation (2), in which the current I_- o is inversely proportional to the effective width (S) of the cathode electrode.

1TGQ = 4 1 TGQ = 4

In dieser Gleichung bezeichnet VR„ die Gate-Umkehrspannung, V/p die Dicke der Basisschicht 103 vom p-Typ, T die Länge der Kathodenelektrode 107, S die Weite der Kathodenelektrode 107 und 5 bezeichnet den mittleren spezifischen Widerstand der Basisschicht 103 vom p-Typ unter der Emitterschicht 104 vom η-Typ.In this equation, V R "denotes the reverse gate voltage, V / p the thickness of the p-type base layer 103, T the length of the cathode electrode 107, S the width of the cathode electrode 107, and 5 denotes the average resistivity of the p-type base layer 103 Type under the η-type emitter layer 104.

Folglich ist es, um einen vorbestimmten Widerstand des Gate-Abschaltthyristors bei gleichzeitig großem steuerbaren AN-Strom Im/-,n zu erhalten, notwendig, die effektive Kathodenelektrodenweite (S) so klein wie möglich zu machen und dementsprechend ist es notwendig, eine feine Struktur zu bilden. Aus diesem Grund ist Al geeignet und wird im allgemeinen für die metallisierten Schichten der metallisierten Kathodenelektrode 107 und der metallisierten Gate-Elektrode 106 angewendet. Andererseits wird aus Kostengründen beim Zusammenbau eines Gate-Abschaltthyristors, der ein It_,q von ungefähr 200A oder weniger besitzt, eine Methode zum Löten der metallisierten Anodenelektrode 105 auf ein Kühlblech angewandt, und im Hinblick auf die metallisierten Kathoden- und Gate-Elektroden 107, 106 wird im allgemeinen eine Methode angewandt, bei der, wie in Fig. 7A in ver-Consequently, in order to obtain a predetermined resistance of the gate turn-off thyristor with a large controllable ON current I m / -, n at the same time, it is necessary to make the effective cathode electrode width (S) as small as possible and accordingly it is necessary to make a fine one To form structure. For this reason, Al is suitable and is generally used for the metallized layers of the metallized cathode electrode 107 and the metallized gate electrode 106. On the other hand, for reasons of cost, in assembling a gate turn-off thyristor having an I t _, q of about 200A or less, a method of soldering the metallized anode electrode 105 to a heat sink is employed, and in view of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106 a method is generally used in which, as shown in FIG. 7A in different

3 A 43 7843 A 43 784

größerter Weise gezeigt, ein dünner, nach außen führender Al-Draht 300 mit einem Durchmesser von ungefähr 300 bis μπι auf der Al-metallisierten Oberfläche durch Ultraschall-Schweißen befestigt wird.Da jedoch beide Ljqq und I wie oben beschrieben große Werte annehmen, ist es notwendig, wenn dünne Al-Drähte verwendet werden, eine Mehrzahl von Drähten parallel durch Ultraschall-Schweißen anzuordnen, was eine uneffiziente Zusammenbauarbeit zur Folge hat.Shown on a larger scale, a thin, outwardly leading Al wire 300 with a diameter of about 300 to μπι on the Al-metallized surface by ultrasonic welding However, since both Ljqq and I are as above assume large values, if thin Al wires are used, a plurality of wires is necessary to be arranged in parallel by ultrasonic welding, resulting in inefficient assembling work.

Um die oben beschriebenen Nachteile eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors zu vermeiden, ist es Aufgabe der Erfindung, einen Gate-Abschaltthyristor vorzusehen, bei dem die Verbindungsdrähte zur metallisierten Kathode und/ oder Gate-Elektrode mit hoher Zuverlässigkeit und hoher Effizienz des Zusammenbaus ohne die Leistungsfähigkeit des Gate-Abschaltthyristors zu verschlechtern, angebracht werden können.In order to avoid the above-described disadvantages of a conventional gate turn-off thyristor, it is the task of Invention of providing a gate turn-off thyristor in which the connecting wires to the metallized cathode and / or gate electrode with high reliability and high Assembly efficiency without deteriorating the gate turn-off thyristor performance can.

Die Erfindung weist einen Gate-Abschaltthyristor auf mit einer ersten Basisschicht eines ersten Halbleiterleitfähigkeitstyps, einer zweiten Basisschicht eines zweiten Halbleiterleitfähigkeitstyps die der einen Oberfläche der ersten Basisschicht benachbart vorgesehen ist, einer ersten Emitterschicht des zweiten Halbleiterleitfähigkeitstyps die der entgegengesetzten Oberfläche der ersten Basisschicht benachbart vorgesehen ist und einer zweiten Emitterschicht des ersten Halbleiterleitfähigkeitstyps, die auf Teilbereichen auf der Oberfläche der zweiten Basisschicht gebildet ist, wobei der Oberflächenverlauf der zweiten Emitterschicht entsprechend der Zähne eines Kammes geformt ist, metallisierte Elektroden so geformt sind, daß sie jeweilsThe invention comprises a gate turn-off thyristor with a first base layer of a first semiconductor conductivity type, a second base layer of a second semiconductor conductivity type which is provided adjacent to the one surface of the first base layer, a first Emitter layer of the second semiconductor conductivity type that of the opposite surface of the first base layer is provided adjacent and a second emitter layer of the first semiconductor conductivity type, which on subregions is formed on the surface of the second base layer, the surface profile of the second emitter layer Shaped to match the teeth of a comb, metallized electrodes are shaped to each

Ohm'sehen Kontakt mit den Oberflächen der ersten Emitterschicht, der zweiten Basisschicht und der zweiten Emitterschicht besitzen, und der oben beschriebene Gate-Abschaltthyristor dadurch gekennzeichnet ist, daß mindestens ein Kontaktbereich zum Anschluß eines Verbindungsdrahtes an die metallisierte Elektrode auf der zweiten Emitterschicht einen lötbaren metallisierten Elektrodenaufbau aufweist.Ohms see contact with the surfaces of the first emitter layer, the second base layer and the second emitter layer, and the gate turn-off thyristor described above characterized in that at least one contact area for connecting a connecting wire to the metallized electrode on the second emitter layer a solderable metallized Has electrode structure.

Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand der Figuren. Von den Figuren zeigen:Further features and usefulnesses of the invention emerge from the description of an exemplary embodiment based on the figures. From the figures show:

Fig. 1 eine Aufsicht auf ein herkömmliches Gate-Abschal tthyristorchip ;1 shows a plan view of a conventional gate turn-off thyristor chip;

Fig. 2 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 2-2 des in den Fig. 1 und 4 gezeigten Chips aufgenommen ist;FIG. 2 is a sectional view of the assembly taken along line 2-2 of that shown in FIGS Chips is added;

Fig. 3 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 3-3 des in Fig. 1 gezeigten Chips aufgenommen ist;3 is a sectional view of the assembly taken along line 3-3 of the chip shown in FIG is;

Fig. 4 eine Aufsicht auf das Gate-Abschaltthyristorchip einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;4 shows a plan view of the gate turn-off thyristor chip of an embodiment according to the invention;

Fig. 5 eine Schnittansicht des Aufbaus, die entlang der Linie 5-5 des in Fig. 4 gezeigten Chips aufgenommen ist;FIG. 5 is a sectional view of the assembly taken along line 5-5 of the chip shown in FIG is;

Fig. 6A, 6B und 6C Änderungen des Anodenstroms i„, Gatestroms α« und der Anoden-Kathodenspannung v., z.B. als Funktion der Zeit des Absc'haltvorgangesFIGS. 6A, 6B and 6C show changes in the anode current i ", gate current α «and the anode-cathode voltage v., e.g. as a function of the time of the shutdown process

und Fig. 6D eine positionsmäßige Beziehung vonand FIG. 6D shows a positional relationship of FIG

1G und VA; 1 G and V A ;

undand

Fig.7A ein herkömmliches Verfahren zum Anschluß eines Verbindungsdrahtes an eine metallisierte Kathoden-■'·*.-♦ '-"7A shows a conventional method for connecting a connecting wire to a metallized cathode ■ '· * .- ♦ '- "

elektrode oder eine metallisierte Gate-Elektrode und Fig. 7B ein erfindungsgemäßes Verfahren.'"electrode or a metallized gate electrode and FIG. 7B shows a method according to the invention. '"

In den Zeichnungen kennzeichnen identische Bezugszeichen identische oder entsprechende Teile.In the drawings, identical reference characters indicate identical or corresponding parts.

Ein Chipaufbau eines Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung wird mit Bezug auf die Fig. 2, 4 und 5 beschrieben. Fig. 4 ist eine Aufsicht auf ein Chip eines Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung. Der Aufbau im Querschnitt des in Fig. 4 gezeigten Chips entlang der Linie 2-2 ist der gleiche wie der von Fig. 2 und der in Fig. 5 entlang der Linie 5-5 gezeigte Aufbau im Querschnitt, Der Aufbau des Hauptteils des Gate-Abschaltthyristors gemäß der Erfindung ist derselbe wie der eines herkömmlichen Gate-Abschaltthyristors und daher wird eine detaillierte Beschreibung darüber weggelassen. Der erfindungsgemäße Gate-Abschaltthyristor unterscheidet sich im Aufbau, verglichen mit einem herkömmlichen Gate-Abschaltthyristor, dadurch, daß der metallisierte Aufbau der Kontaktbereiche der Verbindungsdrähte 107a, 106a der metallisierten Kathode und Gate-Elektroden 107, 106 als lötbare metallisierte Schicht zum Anschluß der Verbindungsdrähte gebildet ist, und daß der metallisierte Aufbau der metallisierten Kathode und Gate-Elektroden 107, 106, die die KontaktbereicheA chip structure of a gate turn-off thyristor according to the invention will be described with reference to Figs. Fig. 4 is a plan view of a chip of a gate turn-off thyristor according to the invention. The structure in cross section of the chip shown in FIG. 4 along the Line 2-2 is the same as that of Fig. 2 and the cross-sectional structure shown in Fig. 5 along line 5-5; The structure of the main part of the gate turn-off thyristor according to the invention is the same as that of a conventional one Gate turn-off thyristor, and therefore detailed description thereof will be omitted. The inventive Gate turn-off thyristor differs in structure compared to a conventional gate turn-off thyristor, in that the metallized structure of the contact areas of the connecting wires 107a, 106a of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106 are formed as a solderable metallized layer for connecting the connecting wires, and that the metallized structure of the metallized cathode and gate electrodes 107, 106, which form the contact areas

107a, 106a der Anschlußdrähte ausschließen, als Al-Schicht gebildet sind, die dazu geeignet ist, eine feine Struktur zu bilden, so daß die gewünschte Leistungsfähigkeit des Gate-Abschaltthyristors erzielt werden kann. Als lötbarer metallisierter Aufbau der Kontaktbereiche 107a und 106a der Verbindungsdrähte wird ein mehrfach metallisierter Aufbau aus Al-Mo-Ni-Au oder Al-Zn-Ni-Au zum Beispiel angewendet. Als Verfahren zur Bildung des mehrfach metallisierten Aufbaus in diesen Teilen wird ein Aufdampfverfahren oder ein kombiniertes Verfahren aus Aufdampfen, Überziehen u.a. angewendet. Als Verfahren zur Bildung der metallisierten Schichten in diesen Bereichen kann ein Verfahren angewendet werden, bei dem während der Zeit der Bildung der Al-metallisierten Schicht, die die Kontaktbereiche 107a und 106a der Verbindungsdrähte ausschließt, die Almetallisierte Schicht ebenfalls unter den metallisierten Bereichen 107a und 106a durch einen Aufdampfprozeß gebildet werden und dann wird ein geschichteter metallisierter Aufbau der metallisierten Bereiche 107a und 106a gebildet. Alternativ kann auch ein Verfahren angewandt werden, bei dem die metallisierten Bereiche 107a und 106a durch einen,von dem Prozeß der Bildung der Al-metallisierten Schicht der Bereiche 107 und 106 abweichenden Prozeß, gebildet werden, so daß die metallisierte Schicht in den jeweiligen Bereichen verbunden werden kann. Ein Beispiel eines Verfahrens zur Verbindung der Anschlußdrähte mit den Kontaktbereichen 107a und 106a der Anschlußdrähte ist in Fig. 7B gezeigt. Ein lötbarer nickelüberzogender Verbindungsdraht 400, der aus relativ dünnem Kupferblech o.a. hergestellt ist, ist mit einem Lötmaterial 200 auf die metallisierte Kathodenelektrode 107a oder die metallisierte107a, 106a of the connecting wires exclude, as an Al layer are formed, which is capable of forming a fine structure, so that the desired performance of the Gate turn-off thyristor can be achieved. As a solderable metallized structure of the contact areas 107a and 106a A multi-metallized structure made of Al-Mo-Ni-Au or Al-Zn-Ni-Au, for example, is used for the connecting wires. A vapor deposition process is used as the method for forming the multiple metallized structure in these parts or a combined process of vapor deposition, coating, etc. is used. As a method of forming the metallized Layers in these areas can be applied a process in which during the time of formation the Al-metallized layer that forms the contact areas 107a and 106a of the connecting wires excludes the Almetallized Layer also formed under the metallized areas 107a and 106a by a vapor deposition process and then a layered metallized structure of the metallized areas 107a and 106a is formed. Alternatively, a method can also be used in which the metallized areas 107a and 106a through a process different from the process of forming the Al-metallized layer of the regions 107 and 106 so that the metallized layer can be connected in the respective areas. An example a method of connecting the leads to the contact areas 107a and 106a of the leads is shown in FIG 7B. A solderable, nickel-plated connecting wire 400 made of relatively thin copper sheet or the like. is made is with a solder material 200 on the metallized cathode electrode 107a or the metallized

Gate-Elektrode 106a, die zum Anschluß der Verbindungsdrähte gebildet sind, gelötet. Es muß nicht näher erwähnt werden, daß in Abhängigkeit vom Betrag von IGR» den man aus dem Betrag der Strombelastungsgrenze (Betrag von ITG0) des verwendeten Gate-Abschaltthyristors erhält, die Erfindung nur auf einen metallisierten Kathodenelektrodenteil angewendet werden kann.Gate electrodes 106a formed for connecting the connecting wires are soldered. It goes without saying that, depending on the amount of I GR »which is obtained from the amount of the current load limit (amount of I TG0) of the gate turn-off thyristor used, the invention can only be applied to a metallized cathode electrode part.

Darüber hinaus ist die Erfindung selbstverständlich nicht durch den oben beschriebenen Gate-Abschaltthyristor begrenzt und kann auch auf ein Halbleiterelement wie einen Leistungstransistor, der eine feinstrukturierte metallisierte Elektrode besitzt, angewendet werden.In addition, the invention is of course not limited by the gate turn-off thyristor described above and can also be applied to a semiconductor element such as a power transistor, which is a finely structured metallized Electrode has to be applied.

Die Erfindung ermöglicht es, wie beschrieben, einen Gate-Abschaltthyristor einer hohen Zuverlässigkeit vorzusehen, bei dem die Anschl'ußdrähte während der Zusammenbauarbeit leistungsfähig miteinander verbunden werden kernen, ohne daß dabei die Charakteristiken des Gate-Abschaltthyristors verschlechtert werden.As described, the invention enables a gate turn-off thyristor to provide a high reliability, in which the connecting wires during the assembly work powerfully interconnected cores without that thereby the characteristics of the gate turn-off thyristor are deteriorated.

Claims (5)

PATENTANWALT DIPL.-PHYS. LUTZ H. PRÜFER · D-8OOO MÜNCHEN 90PATENT ADVERTISEMENT DIPL.-PHYS. LUTZ H. PRÜFERD-8OOO MUNICH 90 FO 57-3235 3 A4 3784 P/Ka/huFO 57-3235 3 A4 3784 P / Ka / hu Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha, Tokyo / JapanMitsubishi Denki Kabushiki Kaisha, Tokyo / Japan Gate-AbschaltthyristorGate turn-off thyristor PATENTANSPRÜCHEPATENT CLAIMS 1 Λ Gate-Abschaltthyristor mit einer ersten Basisschicht1 Λ gate turn-off thyristor with a first base layer (101) aus einem Halbleitermaterial eines ersten Leitfähigkeitstyps, einer zweiten Basisschicht (103) aus einem Halbleitermaterial eines zweiten Leitfähigkeitstyps, wobei die zweite Basisschicht (103) benachbart einer Oberfläche der ersten Basisschicht (101) vorgesehen ist, einer ersten Emitterschicht (102) aus einem Halbleitermaterial des zweiten Leitfähigkeitstyps, wobei die erste Emitterschicht(101) made of a semiconductor material of a first conductivity type, a second base layer (103) made of a semiconductor material of a second conductivity type, wherein the second base layer (103) is provided adjacent to a surface of the first base layer (101), a first Emitter layer (102) made of a semiconductor material of the second conductivity type, wherein the first emitter layer (102) benachbart der gegenüberliegenden Oberfläche der ersten Basisschicht (101) vorgesehen ist, und einer zweiten Emitterschicht (104) aus einem Halbleitermaterial des ersten Leitfähigkeitstyps, wobei die zweite Emitterschicht (104) im Teilbereich der Oberfläche der zweiten Basisschicht(102) is provided adjacent to the opposite surface of the first base layer (101), and a second Emitter layer (104) made of a semiconductor material of the first conductivity type, wherein the second emitter layer (104) in the partial area of the surface of the second base layer (103) gebildet ist, die Oberflächenstruktur der zweiten(103) is formed, the surface structure of the second PATENTANWALT DIPL.-PHYS. LUTZ H. PRÜFER · D-8000 MÜNCHEN 90 - HARTHAUSER STR. 25d · TEL (089) 640 640PATENT ADVERTISEMENT DIPL.-PHYS. LUTZ H. PRÜFER · D-8000 MUNICH 90 - HARTHAUSER STR. 25d TEL (089) 640 640 Emitterschicht (104) entsprechend den Zähnen eines Kammes geformt ist, und metallisierte Elektroden (105, 106 und 107) so vorgesehen sind, daß diese jeweils Ohm'sehen Kontakt mit den Oberflächen der ersten Emitterschicht (102), der zweiten Basisschicht (103) und der zweiten Emitterschicht (104) haben,Emitter layer (104) shaped like the teeth of a comb, and metallized electrodes (105, 106 and 107) are provided in such a way that they each see ohmic contact with the surfaces of the first emitter layer (102), the second base layer (103) and the second emitter layer (104) have, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Kontaktbereich (107a) zur Verbindung eines Anschlußdrahtes mit dem metallisierten Elektrodenaufbau vorgesehen ist.characterized in that at least one contact area (107a) for connecting a connecting wire to the metallized Electrode structure is provided. 2. Gate-Abschaltthyristor nach Anspruch 1,2. gate turn-off thyristor according to claim 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Kontaktbereich (106a) zur Verbindung eines Anschlußdrahtes mit der metallisierten Elektrode auf der zweiten Basisschicht (103) einen lötbaren metallisierten Elektrodenaufbau aufweist.characterized in that a contact area (106a) for connecting a connecting wire to the metallized Electrode on the second base layer (103) has a solderable metallized electrode structure. 3. Gate-Abschaltthyristor nach Anspruch 2,3. gate turn-off thyristor according to claim 2, dadurch gekennzeichnet, daß der lötbare metallisierte Elektrodenaufbau des Kontaktbereiches (107a oder/und 106a) ein mehrfach metallisierter Aufbau aus Al-Mo-Ni-Au oder Al-Zn-Ni-Au ist, in der Reihenfolge beginnend auf der Seite des Halbleiters des ersten oder des zweiten Leitfähigkeitstyps. characterized in that the solderable, metallized electrode structure of the contact area (107a and / or 106a) is a multi-metallized structure made of Al-Mo-Ni-Au or Al-Zn-Ni-Au, starting in the order below the side of the semiconductor of the first or the second conductivity type. 4. Gate-Abschaltthyristor nach einem der Ansprüche 1 bis 3,4. gate turn-off thyristor according to one of claims 1 to 3, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Leitfähigkeitstyp ein η-Typ und der zweite Leitfähigkeitstyp ein p-Typ ist.characterized in that the first conductivity type is η-type and the second conductivity type is p-type is. — ο —- ο - 5. Gate-Abschaltthyristor nach einem der Ansprüche 15. Gate turn-off thyristor according to one of claims 1 dadurch gekennzeichnet, daß der erste Leitfähigkeitstyp ein p-Typ und der zweite Leitfähigkeitstyp ein n-Typcharacterized in that the first conductivity type a p-type and the second conductivity type an n-type
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