DE3236844A1 - ALKALINE DEVELOPER AND METHOD FOR DEVELOPING POSITIVE IMAGING PHOTOLITHOGRAPHIC OBJECTS - Google Patents
ALKALINE DEVELOPER AND METHOD FOR DEVELOPING POSITIVE IMAGING PHOTOLITHOGRAPHIC OBJECTSInfo
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- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Description
f\ η fx * **'*" " Dipl.-Ing. H.Tiedtke f f \ η fx * ** '* "" Dipl.-Ing. H. Tiedtke f
UIRUPE - ÜELLMANN " CIRAMS oooco// Dipl.-Chem. G. BühlingUIRUPE - ÜELLMANN "CIRAMS oooco // Dipl.-Chem. G. Bühling
JZO DO 4 t Dipl.-Ing. R. Kinne Dipl.-Ing. R GrupeJZO DO 4 t Dipl.-Ing. R. Kinne Dipl.-Ing. R group
- 3 - Dipl.-Ing. B. Pellmann- 3 - Dipl.-Ing. B. Pellmann
Dipl.-Ing. K. GramsDipl.-Ing. K. Grams
Bavariaring 4, Postfach 202403 8000 München 2Bavariaring 4, Postfach 202403 8000 Munich 2
Tel.:089-539653 Telex: 5-24845 tipat Telecopier: O 89 / 537377 cable: Germaniapatent MünchenTel.:089-539653 Telex: 5-24845 tipat Telecopier: O 89/537377 cable: Germaniapatent Munich
5, Oktober 1982 DE 2506/case DG-17October 5, 1982 DE 2506 / case DG-17
Polychrome Corporation Yonkers, New York / USAPolychrome Corporation Yonkers, New York / USA
Alkalischer Entwickler und Verfahren zur Entwicklung positiv abbildender, photolithographischer GegenständeAlkaline developer and process for developing positive imaging photolithographic objects
Die Erfindung betrifft wäßrige, alkalische Entwicklerzusammensetzungen, die für die Herstellung positiv abbildender, photolithographischer Gegenstände wie Photoresists und lithographischer Druckplatten geeignet sind, und ein Verfahren zur Entwicklung bildmäßig belichteter, positiv abbildender, photolithographischer Gegenstände durch deren Behandlung mit einer solchen Entwicklerzusammensetzung. The invention relates to aqueous, alkaline developer compositions which are positive for manufacture imaging photolithographic articles such as photoresists and lithographic printing plates and a process for developing imagewise exposed, positive imaging, photolithographic articles by treating them with such a developer composition.
Es ist bekannt, daß positiv abbildende photolithographische Gegenstände durch bildmäßige Belichtung eines positiv abbildenden, strahlungsempfindlichen Elements mit einem geeigneten Träger, der auf mindestens einer seiner Oberflächen durch Aufbringen einer positiv abbildenden, strahlungsempfindlichen Zusammensetzung beschichtet worden ist,It is known that positive imaging photolithographic articles by imagewise exposure of a positive imaging, radiation-sensitive element with a suitable one Carrier that is applied to at least one of its surfaces by applying a positive imaging, radiation-sensitive Composition has been coated,
B/13B / 13
Dresdner Bank (Mönchen) Kto. 3 939 844 Bayer. Vereinsbank (München) Kto. 508 941 Postscheck (München) Kto. 670-43-804Dresdner Bank (Mönchen) Account 3 939 844 Bayer. Vereinsbank (Munich) Account 508 941 Postscheck (Munich) Account 670-43-804
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- 4 - DE 2506- 4 - DE 2506
hergestellt werden, wobei die belichteten, bildfreien Bereiche der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung in einem Entwickler löslicher gemacht und infolgedessen durch Behandlung mit dem Entwickler von dem Träger entfernt werden, während die unbelichteten, weniger löslichen Bildbereiche auf dem Träger zurückgehalten werden.are produced, the exposed, non-image areas of the radiation-sensitive composition made more soluble in a developer and, consequently, by treatment with the developer from the carrier removed, while the unexposed, less soluble image areas retained on the support will.
Unter dem Druck von Bestrebungen hinsichtlich der Vermeidung einer Umweltverschmutzung sind photolithographische Elemente mit Beschichtungen, die durch Wasser oder wenigstens durch wäßrige, alkalische Zusammensetzungen entwickelt werden können, erfunden worden. Zu solchen Beschichtungen gehören die aus der US-PS 36 47 443 bekannten, polymeren Chinonazide oder die monomeren Chinonazide in Kombination mit gegenüber wäßrigem Alkali empfindlichen (als löslich oder dispergierbar definierten) Zusatzstoffen wie Kresol-Formaldehyd-Harzen und Harzen, die Carboxylatgruppen enthalten, wie sie aus der US-PS 40 36 644 bekannt sind.Under pressure from environmental pollution prevention efforts are photolithographic Elements with coatings that are affected by water or at least by aqueous, alkaline compositions can be developed, invented. Such coatings include those from US Pat. No. 3,647,443 known, polymeric quinone azides or the monomeric quinone azides in combination with an aqueous alkali sensitive additives (defined as soluble or dispersible) such as cresol-formaldehyde resins and Resins containing carboxylate groups, as known from US Pat. No. 4,036,644.
Zu wäßrigen Entwicklern für solche Beschichtungen gehören die wäßrigen Lösungen von Basen wie den Phosphaten, Hydroxiden und Silicaten von Alkali- und Erdalkalimetallen und von organischen Basen wie Ethanolamin, die außerdem Materialien wie organische Lösungsmittel und oberflächenaktive Mittel enthalten können.Aqueous developers for such coatings include aqueous solutions of bases such as phosphates, Hydroxides and silicates of alkali and alkaline earth metals and of organic bases such as ethanolamine, which may also contain materials such as organic solvents and surfactants.
Es ist jedoch festgestellt worden, daß die unbelichteten Bildbereiche solcher Elemente gegenüber einem Angriff durch den Entwickler nicht vollkommen unempfindlich . sind und in Abhängigkeit von der Dauer der Entwicklung der unbelichteten Bereiche teilweise aufgelöst werden, was zu fertigen Bildern führt, die eine schlechtere Auflösung und eine schlechtere Qualität haben.It has been found, however, that the unexposed image areas of such elements are resistant to attack not completely insensitive by the developer. are and depending on the duration of development the unexposed areas are partially resolved, resulting in finished images that have a poorer quality Resolution and poor quality.
- 5 - DE-2506- 5 - DE-2506
Aus der US-PS 34 95 979 ist ein wäßriger Entwickler bekannt, der Natriumphosphat und Natriumchlorid enthält, jedoch wird für die Zugabe des Natriumchlorids kein Grund angegeben. Außerdem wird in der Beschreibung der US-PS 34 95 979 (Spalte 3, Zeilen 29 und 30) ein alkalischer Entwickler als solcher als "eine wäßrige Lösung eines Alkalimetallphosphats wie Natriumphosphat" beschrieben. In der Beschreibung der US-PS 34 95 979 findet sich keine Angabe irgendeines Vorteils, der XO durch Zugabe eines Neutralsalzes zu dem alkalischen Entwickler erzielt werden könnte. In dieser Hinsicht ist den Fachleuten in der US-PS 39 84 250 die Zugabe eines Salzes zu ihrer Natriumphosphatlösüng nicht nahegelegt worden.From US-PS 34 95 979 an aqueous developer is known which contains sodium phosphate and sodium chloride , but no reason is given for the addition of the sodium chloride. In addition, in the specification of US Pat. No. 3,495,979 (column 3, lines 29 and 30), an alkaline developer as such is described as "an aqueous solution of an alkali metal phosphate such as sodium phosphate". In the description of US Pat. No. 3,495,979 there is no indication of any benefit which XO could be obtained by adding a neutral salt to the alkaline developer. In this regard, it has not been suggested to those skilled in the art in US Pat. No. 3,984,250 to add a salt to their sodium phosphate solution.
Es ist Aufgabe der Erfindung, einen wäßrigen, alkalischen Entwickler zur Verfügung zu stellen, der für positiv abbildende, photolithographische Gegenstände eine hohe Entwicklungsgeschwindigkeit zeigt und eine hohe Entwicklungsleistung hat und durch dessen Anwendung das Auflösen von Bildbereichen beseitigt oder auf ein Minimum herabgesetzt wird. Durch die Erfindung soll auch ein Verfahren zur Entwicklung bildmäßig belichteter, photolithographischer Elemente zur Verfugung gestellt werden, das mit hoher Geschwindigkeit abläuft und zu einem minimalen Angriff auf die Bildbereiche führt.It is an object of the invention to provide an aqueous, alkaline developer available for positive imaging photolithographic articles shows a high development speed and a has high development performance and, through its application, eliminates or reduces the resolution of image areas Minimum is reduced. The invention is also intended to provide a method for developing imagewise exposed, photolithographic elements provided which runs at high speed and results in minimal attack on the image areas.
Die Aufgabe der Erfindung wird durch einen wäßrigen, alkalischen Entwickler gelöst, derThe object of the invention is achieved by an aqueous, alkaline developer dissolved, the
I. mindestens eine basische Substanz undI. at least one basic substance and
II. mindestens ein NeutralsalzII. At least one neutral salt
enthält, und zwar unter der Bedingung, daß das Neutralsalz nicht Natriumchlorid ist, wenn die basische Substanz Natriumphosphat ist. .contains, on condition that the neutral salt is not sodium chloride when the basic substance Is sodium phosphate. .
- 6 - DE 2506- 6 - DE 2506
Erfindungsgemäß wird durch die Zugabe eines Neutralsalzes ein wäßriger, alkalischer Entwickler zur Verfügung gestellt, der zu einer hohen Entwicklungsgeschwindigkeit führt, eine hohe Entwicklungsleistung hat, eine verminderte Einwirkung auf die unbelichteten Bereiche der photolithographischen Gegenstände zeigt, d. h. das vorstehend erwähnte Problem des Auflösens der Bildbereiche vermindern oder auf ein Minimum herabsetzen kann, und für die Herstellung positiv abbildender, photolitho- IQ graphischer Gegenstände geeignet ist.According to the invention, the addition of a neutral salt provides an aqueous, alkaline developer which leads to a high development speed, has a high development performance, and exhibits a reduced effect on the unexposed areas of the photolithographic objects, that is to say reduces the above-mentioned problem of dissolving the image areas can or reduce to a minimum, and positive imaging for the production, photolithographic IQ graphical objects is suitable.
Falls erwünscht, kann der Entwickler außerdem mindestens einen aus organischen Lösungsmitteln und oberflächenaktiven Mitteln ausgewählten Zusatzstoff enthalten. If desired, the developer may further contain at least one additive selected from organic solvents and surface active agents.
Die im Rahmen der Erfindung geeigneten, basischen Substanzen sind bekannt. Beispiele dafür sind Phosphate, Silicate, Hydroxide, Carbonate und Borate von Kat.ionen, die aus Alkalimetallionen, Erdalkalimetallionen und quaternären Ammoniumionen ausgewählt sind, organische Basen wie Ethanolamine und Mischungen davon.The basic substances suitable for the purposes of the invention are known. Examples are phosphates, Silicates, hydroxides, carbonates and borates of Kat.ionen, which are composed of alkali metal ions, alkaline earth metal ions and quaternary ammonium ions are selected, organic bases such as ethanolamines, and mixtures thereof.
Bevorzugte basische Substanzen sind die Silicate, Phosphate und Hydroxide von Alkalimetallionen, Erdalkalimetallionen und quaternären Ammoniumionen, beispielsweise Natriumphosphate und -silicate, KOH und (CHq)4N0H.Preferred basic substances are the silicates, phosphates and hydroxides of alkali metal ions, alkaline earth metal ions and quaternary ammonium ions, for example sodium phosphates and silicates, KOH and (CH q ) 4 NOH.
Die Natriumsilicate, KOH und (CHg)4NOH werden als basische Substanzen am meisten bevorzugt.The sodium silicates, KOH and (CHg) 4 NOH are most preferred as basic substances.
Zu den Neutralsalzen, die im Rahmen der Erfindung geeignet sind, gehören anorganische Salze von Anionen, die
aus starken Mineralsäuren wie HCl, HNO3 oder H_SO
erhalten worden sind, und Alkalimetall- oder quaternärenThe neutral salts which are suitable in the context of the invention include inorganic salts of anions obtained from strong mineral acids such as HCl, HNO 3 or H_SO
and alkali metal or quaternary
Ammoniumkationen. 'Ammonium cations. '
- 7 - DE 25G6- 7 - DE 25G6
Als Beispiele für die vorstehenden Neutralsalze können NaCl, KCl, KBr und Mischungen davon erwähnt werden.As examples of the above neutral salts, NaCl, KCl, KBr and mixtures thereof can be mentioned.
Bevorzugte Neutralsalze sind NaCl und KCl und Mischungen davon, wobei zur Bedingung gemacht wird, 'daß das Neutralsalz nicht NaCl ist, wenn die basische Substanz Natriumphosphat ist.Preferred neutral salts are NaCl and KCl and mixtures of it, whereby it is made the condition that the neutral salt is not NaCl if the basic substance is sodium phosphate.
Im Rahmen der Erfindung geeignete, organische Lösungsmittel sind bekannt. Beispiele dafür sind Ethylenglykolmonomethylether, Benzylalkohol, 2-Butoxyethanol, n-Prppanol und Mischungen davon.Organic solvents suitable for the purposes of the invention are known. Examples are ethylene glycol monomethyl ether, benzyl alcohol, 2-butoxyethanol, n-propanol and mixtures thereof.
Für die Verwendung im Rahmen der Erfindung geeignete, oberflächenaktive Mittel sind bekannt. Dazu gehörenSuitable surfactants for use in the invention are known. This includes
TMTM
beispielsweise Triton X (Rohm and Haas), Natrium-TM for example Triton X (Rohm and Haas), Sodium ™
isopropylnaphthalinsulfonat (z. B. Aerosol OS , hergestellt von American Cyanamid Co.), Schwefelsäure- oder Phosphorsäureestersalze höherer Alkohole (mit 6 bis 22 Kohlenstoffatomen) und Mischungen davon.isopropyl naphthalene sulfonate (e.g. Aerosol OS) from American Cyanamid Co.), sulfuric acid or phosphoric acid ester salts of higher alcohols (with 6 to 22 carbon atoms) and mixtures thereof.
Die Menge der in dem Entwickler vorhandenen, basischen Substanz hängt von der im Einzelfall verwendeten, strahlungsempfindlichen Beschichtung und der geeigneten Entwicklungszeit ab. Diese Menge liegt im allgemeinen in dem Bereich von 0,5 bis 30 Gew.-% und vorzugsweise von 1 bis 20 Gew.-%, auf das Gesamtgewicht des Entwicklers bezogen.The amount of the basic substance present in the developer depends on the radiation-sensitive substance used in the individual case Coating and the appropriate development time. This amount is generally in the range of from 0.5 to 30% by weight, and preferably from 1 to 20% by weight, based on the total weight of the developer based.
Das Neutralsalz wird erfindungsgemäß in Mengen eingesetzt, die 0,1 bis 10 Gew.-% und vorzugsweise 2 bis 5 Gew.-%, auf das Gesamtgewicht des Entwicklers bezogen, betragen.According to the invention, the neutral salt is used in amounts the 0.1 to 10 wt .-% and preferably 2 to 5 wt .-%, based on the total weight of the developer, be.
- 8 - DE 2506- 8 - DE 2506
Durch die Erfindung wird auch ein Verfahren zur Entwicklung positiv abbildender, photolithographischer Platten mit hohen Entwicklungsgeschwindigkeiten, niedrigem Entwicklerverbrauch und einem minimalen Angriff (falls überhaupt vorhanden) auf die unbelichteten Bereiche der photolithographischen Platten zur Verfügung gestellt. Bei diesem Verfahren werden bildmäßig belichtete, positiv abbildende, photolithographische Elemente mit einem wäßrigen, alkalischen Entwickler behandelt, der mindestens eine basische Substanz und mindestens ein Neutralsalz enthält, und zwar unter der Bedingung, daß das Neutralsalz nicht Natriumchlorid ist, wenn die basische Substanz Natriumphosphat ist.The invention also provides a method for developing positive imaging photolithographic plates with high development speeds, low developer consumption and a minimal attack (if available at all) on the unexposed areas of the photolithographic plates. In this process, image-wise exposed, positive imaging, photolithographic elements with a Treated aqueous, alkaline developer, the at least one basic substance and at least one neutral salt contains, on condition that the neutral salt is not sodium chloride when the basic Substance is sodium phosphate.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist das Neutralsalz KCl, wenn die basische Substanz KOH ist, oder das Neutralsalz ist NaCl, wenn die basische Substanz ein Natriumsilicat ist.In a preferred embodiment of the invention, the neutral salt is KCl if the basic substance Is KOH, or the neutral salt is NaCl when the basic substance is a sodium silicate.
Die erfindungsgemäßen Entwickler können auf die bildmäßig belichteten, photolithographischen Gegenstände entweder von Hand oder mittels einer Vorrichtung nach üblichen,. bekannten Verfahren aufgebracht werden.The developers according to the invention can be applied to the image-wise exposed, photolithographic objects either by hand or by means of a device according to the usual. known methods are applied.
Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele näher erläutert.The invention is illustrated by the following examples explained in more detail.
Herstellung von positiv abbildenden Photoresists I. Herstellung bildmäßig belichteter Elemente Production of Positive Imaging Photoresists I. Production of Imagewise Exposed Elements
Eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung .(PC-129SF, Polychrome Corp.) wurde durch Wirbel- bzw. Schleuderbeschichtung mit 6000 U/min auf oxidierte Si-ScheibenA radiation sensitive composition (PC-129SF, Polychrome Corp.) was spin-coated onto oxidized Si wafers at 6000 rpm
- 9 - DE 2506- 9 - DE 2506
aufgebracht, und die beschichteten Scheiben wurden 0,5 h lang bei 90°C erhitzt.and the coated disks were heated at 90 ° C for 0.5 hour.
Die beschichteten Scheiben wurden dann in einer Kasper-Ausrichtvorrichtung etwa 5,5 s lang durch ein Diapositiv hindurch mit einer Quecksilberdampflampe belichtet.The coated disks were then placed in a Kasper aligner exposed through a slide with a mercury vapor lamp for about 5.5 s.
II. Entwicklung des belichteten Elements
Zwei Lösungen wurden folgendermaßen hergestellt:II. Development of the exposed element
Two solutions were made as follows:
Natriummetasilicatpentahydrat * 30 g 30 gSodium metasilicate pentahydrate * 30 g 30 g
Aerosol OS ™ 2,16 g 2,16 gAerosol OS ™ 2.16 g 2.16 g
Wasser 1 Liter 1 LiterWater 1 liter 1 liter
Natriumchlorid keines 30 gSodium chloride none 30 g
TMTM
* (z. B. Metso Pentabead 20, hergestellt von Philadelphia
Quartz Co.)
20* (e.g. Metso Pentabead 20, manufactured by Philadelphia Quartz Co.)
20th
Die Lösung 2 entwickelte das belichtete Element von Stufe I in 60 s unter Erzeugung von Bildern mit guter Qualität, während mit der Lösung 1 innerhalb dieser Zeit keine Entwicklung bewirkt werden konnte.Solution 2 developed the exposed element from Step I in 60 seconds producing images of good quality Quality, while with solution 1 no development could be effected within this time.
Beispiel 1 wurde unter Anwendung der Lösung 1 wiederholt, jedoch betrug die Belichtungszeit 12 s und die Entwicklungszeit 120 s. Es wurde wieder festgestellt, daß die Entwicklung unvollständig'war. Auch im Fall der Anwendung längerer Belichtungs- und Entwicklungszeiten war die Entwicklung noch unvollständig. Die Ergebnisse der Beispiele 1 und 2 zeigen deutlich, daß die GebrauchsleistungExample 1 was repeated using solution 1, but the exposure time was 12 s and the development time 120 pp. It was found again that the development was incomplete. Even in the case of application The development was still incomplete after longer exposure and development times. The results of the examples 1 and 2 clearly show that the usage performance
-:-"-w "·—=;· 323684A- : - "- w " * - =; * 323684A
- 10 - DE 2506- 10 - DE 2506
des Entwicklers durch die Zugabe von NaCl verbessert wird.of the developer improved by the addition of NaCl will.
Beispiel 3
5 Example 3
5
I. Belichtete Elemente wurden in der in Stufe I von Beispiel 1 angegebenen Weise hergestellt.I. Exposed elements were prepared in the manner outlined in Step I of Example 1.
II. Die Entwickler bestanden aus wäßrigen Lösungen, die KOH und bei den Versuchen 1 bis 7 außerdem KCl enthielten. Die Mengen und die Ergebnisse sind nachstehend angegeben.II. The developers consisted of aqueous solutions which contained KOH and, in experiments 1 to 7, also contained KCl. The amounts and the results are given below.
OS(g/l)Aerosol
OS (g / l)
(s)exposure
(s)
(S)development
(S)
25'!
!'6
|!115
25 '!
! '6
|!
I1
I.
13,715.2
13.7
37,8.37.8
37.8.
2,162.16
2.16
65
6th
4030th
40
- 11 - DE 2506- 11 - DE 2506
Ein Vergleich der Versuche 1 und 8 zeigt, daß die Entwicklungszeit durch die Zugabe von etwa 2,3 Gew. -% KCl um 80 % . vermindert wird. Des weiteren geht aus einem Vergleich der Versuche 1 und 5 hervor, daß im Fall der .5 Zugabe von größeren Mengen des Neutralsalzes bei niedrigeren Basenkonzentrationen gleichwertige Entwicklungszeiten erzielt werden können.A comparison of Runs 1 and 8 shows that the development time by adding about 2.3 wt -.% KCl to 80%. is decreased. Furthermore, a comparison of experiments 1 and 5 shows that in the case of the addition of larger amounts of the neutral salt at lower base concentrations, equivalent development times can be achieved.
Beispiel 4
10 Example 4
10
Herstellung von positiv abbildenden, lithographischen DruckplattenProduction of positive imaging, lithographic printing plates
I. Herstellung von bildmäßig belichteten Elementen
15I. Preparation of Imagewise Exposed Elements
15th
Proben (20,3 cm χ 25,4 cm) einer vorsensibilisierten Platte (mit einer mechanisch genarbten bzw. aufgerauhten und anodisierten Aluminiumoberfläche, auf die ein strahlungsempfindliches Diazooxid aufgebracht worden war) wurden in einem Berkey-Ascor -Druck- bzw. Kopierrahmen mit 80 Strahlungseinheiten aus einer Metallhalogenidlampe mit einer Leistung von 5 kW belichtet.Samples (8 inches by 10 inches) of a presensitized Plate (with a mechanically grained or roughened and anodized aluminum surface on which a radiation-sensitive Diazooxide was applied) were placed in a Berkey-Ascor® print or copy frame with 80 radiation units from a metal halide lamp exposed with a power of 5 kW.
II. Entwicklung der belichteten Elemente
25II. Development of the exposed elements
25th
Jeweils 50 ml der Lösung 1 oder 2 von Stufe II des Beispiels 1 wurden auf die belichteten Platten der Stufe I des Beispiels 4 aufgegossen. Es wurde festgestellt, daß die Platten im Fall der Anwendung der Lösung 2 inner-50 ml each of solution 1 or 2 from stage II of the example 1 were poured onto the exposed plates of stage I of example 4. It was determined, that if solution 2 is used, the plates
halb von 10 bis 30 s vollständig entwickelt waren, während die Anwendung der Lösung 1 längere Entwicklungszeiten (in der Größenordnung von Minuten) und ein Reiben mit einem Bäumwollbausch bzw. -tupfer notwendig machte.half of 10 to 30 seconds were fully developed, while the application of Solution 1 extended development times (on the order of minutes) and rubbing made necessary with a cotton ball or swab.
DE 2506DE 2506
Bestimmung der Entwicklungsleistung des EntwicklersDetermination of the developer's development performance
(Die Entwicklungsleistung bzw. das Entwicklungsvermögen ist definiert als die Menge des belichteten Materials, das durch eine gegebene Menge des Entwicklers von einem belichteten, photolithographischen Element entfernt werden kann.)(The development performance or the development capacity is defined as the amount of exposed material, removed from an exposed photolithographic element by a given amount of developer can be.)
herge-originated
Die vorstehenden Lösungen wurden in einer automatischen Plattenbearbeitungsvorrichtung C PC-32 Automatic Plate Processor (Polychrome Corp.) J verwendet, um positiv abbildende, lithographische Elemente zu entwickeln, die in der in Beispiel 4 beschriebenen Weise einer Gesamtbelichtung mit 80 Strahlungseinheiten unterzogen worden waren, wobei der Betrag der belichteten, strahlungsempfindlichen Beschichtung der Gesamtfläche der entwickelten Platten direkt proportional war.The above solutions were used in a C PC-32 Automatic Plate Processor (Polychrome Corp.) J to develop positive-image lithographic elements which had been subjected to a total exposure of 80 units of radiation in the manner described in Example 4, wherein the amount of exposed radiation sensitive coating was directly proportional to the total area of the developed plates.
Es wurde festgestellt, daß mit 1 1 der Lösung A nurIt was found that with 1 1 of solution A only
2 22 2
1,23 m der Platten (50 ft. /gal.) entwickelt werden konnten, während die Lösung B eine mindestens viermal
so große Plattenfläche /d. h. mehr als 4,91 m /1
(200 ft. /gal. )J entwickeln konnte. Daraus geht hervor,
daß die Entwicklungsleistung der basischen Substanz durch das Vorhandensein des Salzes verbessert wird.1.23 m of the plates (50 ft. / Gal.) Could be developed, while solution B had at least four times the plate area / ie more than 4.91 m / l
(200 ft. / Gal. ) J could develop. It can be seen from this that the development performance of the basic substance is improved by the presence of the salt.
Claims (1)
10DE 2506 / DG-17
10
ist und das Neutralsalz NaCl ist.4. Developer according to claim 3, characterized in that the basic substance is sodium metasilicate
and the neutral salt is NaCl.
ist und das Salz NaCl ist.7. The method according to claim 6, characterized in that the basic substance is sodium metasilicate
and the salt is NaCl.
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