DE3129529C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch,
insbesondere ein lichtempfindliches Gemisch, das die
Änderung der hydrophilen Eigenschaft einer hochmolekularen
Verbindung durch eine photochemische Reaktion
ausnutzt.
In den letzten Jahren wurden verschiedene lichtempfindliche
Gemische vorgeschlagen, und mit der Entwicklung
dieser Gemische wird immer die Verbesserung
ihrer Leistung, z. B. Auflösungsvermögen, Empfindlichkeit,
Lagerbeständigkeit und Verarbeitbarkeit angestrebt.
In der DE-AS 24 54 676 ist z. B. ein lichtempfindliches Gemisch auf der
Basis eines polymeren Bindemittels, eines photopolymerisierbaren ungesättigten
Monomeren und eines Photosensibilisators sowie gegebenenfalls
eines Inhibitors der thermischen Polymerisation beschrieben. Dieses Gemisch
ist vor der Photopolymerisation in Wasser oder verdünnten wäßrigen Säuren
leicht löslich und nach der Photopolymerisation darin unlöslich.
Als Ergebnis umfassender Untersuchungen gelang nunmehr
die Entwicklung eines lichtempfindlichen Gemisches mit
guten Leistungen und Eigenschaften auf der Grundlage
eines völlig neuen Mechanismus.
Das lichtempfindliche Gemisch gemäß der Erfindung enthält
- 1) wenigstens eine basische hochmolekulare Verbindung, die ein Molekulargewicht von nicht weniger als 1000 hat, basische Stickstoffatome enthält, schwach hydrophil ist, aber in Gegenwart einer sauren Substanz stark hydrophil auf Grund der Säure-Basen-Wechselwirkung wird, und
- 2) wenigstens eine organische lichtempfindliche Carbonsäure, die bei Belichtung ihre saure Eigenschaft verliert.
Das lichtempfindliche Gemisch gemäß der Erfindung ist
vor der Belichtung hydrophil, und als Folge der Belichtung
wird ihre hydrophile Eigenschaft abgeschwächt. Der
hier gebrauchte Ausdruck "hydrophil" kann in seiner
Bedeutung als "hydrophil" oder "wasserlöslich" einschließlich
verstanden werden.
Das Gemisch gemäß der Erfindung kann nach üblichen
Formgebungsverfahren in geeignete Formen gebracht werden.
In vorteilhafter Weise ist es möglich, auf der Oberfläche
des unter Verwendung des Gemisches hergestellten Formteils
ein latentes Bild oder Muster zu erzeugen, das
dem belichteten oder unbelichteten Teil entspricht und
in der hydrophilen Eigenschaft vom anderen Teil verschieden
ist. Es ist auch möglich, dieses latente Bild durch
Behandlung mit Wasser in ein sichtbares Bild umzuwandeln.
Das charakteristischste Merkmal der Erfindung liegt in
der gemeinsamen oder kombinierten Verwendung der basischen
hochmolekularen Verbindung (Polymerverbindung) und der organischen
Carbonsäure. In Abhängigkeit von ihren Arten ist es
möglich, das Ausmaß des Unterschiedes in der hydrophilen
Eigenschaft zwischen dem belichteten Teil und dem unbelichteten
Teil in geeigneter Weise zu regeln und einzustellen.
Ganz im Gegensatz zu üblichen lichtempfindlichen
Gemischen, die irgendeine Vernetzungsreaktion ausnutzen,
tritt in dem Gemisch gemäß der Erfindung nach der
Belichtung keine dimensionelle Schrumpfung ein. Das
erzeugte Bild weist somit keine Spannungen und Deformierungen
auf, und ein hohes Auflösungsvermögen kann aufrecht
erhalten werden. Da ferner die basische hochmolekulare
Verbindung in Lösungsmitteln auch nach der Einwirkung
des Lichts im wesentlichen löslich ist, ist die
Modifikation des einmal erzeugten latenten Bildes ohne
weiteres möglich. Ferner wird keine Hemmwirkung durch
Sauerstoff oder Luft auf das Gemisch gemäß der Erfindung
ausgeübt, vielmehr ist es ohne weiteres möglich, die
Arbeitsgänge zur Erzeugung des latenten oder sichtbaren
Bildes an der Luft vorzunehmen. Darüber hinaus ist das
Gemisch gemäß der Erfindung sehr wärmebeständig, und
seine lange Lagerbeständigkeit ist gewährleistet. Ferner
ist es ein bemerkenswerter Vorteil, daß zur Entwicklung
für die Umwandlung des latenten Bildes in ein sichtbares
Bild Wasser als Entwickler verwendet werden kann.
Die basische hochmolekulare Verbindung als eine der
wesentlichen Komponenten im Gemisch gemäß der Erfindung
muß ein Molekulargewicht von nicht weniger als 1000 haben,
an dem bzw. den Monomeren, deren Einheiten die Polymerkette
bilden, eine basische Gruppe enthalten und durch die
basische Gruppe einen pKa-Wert von nicht weniger als 2
und nicht mehr als 15 haben, gemessen in einem wäßrigen
Medium durch potentiometrische Titration. Diese hochmolekulare
Verbindung kann aus hochmolekularen Verbindungen,
die durch übliche Polymerisationsverfahren (z. B.
Polykondensation und Polyaddition) einer oder mehrerer
monomerer Verbindungen, die eine basische Gruppe im Molekül
enthalten, mit oder ohne etwaige andere monomere
Verbindungen hergestellt worden sind, und modifizierten
hochmolekularen Verbindungen, die hergestellt worden
sind, indem synthetische oder natürliche hochmolekulare
Verbindungen einer solchen chemischen Reaktion unterworfen
werden, daß ihnen basische Beschaffenheit verliehen wird,
ausgewählt werden. Sie kann auch aus Homopolymeren,
statistischen Copolymerisaten, Blockmischpolymerisaten
usw. ausgewählt werden. Typische Beispiele basischer
hochmolekularer Verbindungen sind hochmolekulare Verbindungen,
die ein basisches Stickstoffatom enthalten. In
diesem Fall kann der Gehalt an basischen Stickstoffatomen
gewöhnlich 0,1 bis 25, vorzugsweise 0,1 bis 14 Äquivalent/kg
betragen. Im einzelnen können die basischen hochmolekularen
Verbindungen z. B. basische Polyamide, basische Polyester,
basische Vinylpolymerisate, basische Polyether und
basische Cellulosederivate sein.
Basische Polyamide können z. B. unter Verwendung der folgenden
Monomeren hergestellt werden:
Diamine (z. B. N-(2-Aminoethyl)piperazin,
N-(4-Aminocyclohexyl)piperazin,
N-(2-Aminoethyl)-3-methylpiperazin, N,N′-Bis(aminoethyl)piperazin,
N-(Aminomethyl)-N′-(2-aminoethyl)piperazin,
N,N′-Bis(2-aminoethyl)methylamin, N,N-Bis(3-aminopropyl)cyclohexylamin,
N,N′-Dimethyl-N.N′-bis(3-aminopropyl)ethylendiamin,
N,N′-Dicyclohexyl-N,N′-bis(3-aminopropyl)hexamethylendiamin,
6-Methyl-6-(N,N-dimethylaminomethyl)-
4,8-dioxa-1,11-undecandiamin, 6-Ethyl-6-(N,N-dimethyl
aminomethyl)-4,8-dioxa-1,11-undecandiamin, 6,6-Bis(N,N-
dimethylaminomethyl)-4,8-dioxa-1,11-undecandiamin),
ω-Aminosäuren (z. B. N-Carboxymethylpiperazin, N-(4-Carb
oxycyclohexyl)piperazin, N-(2-Carboxyethyl)-3-methylpiperazin,
N-(Aminomethyl)-N′-(carboxymethyl)piperazin,
N-(Aminomethyl)-N′-(carboxymethyl)-2-methylpiperazin,
N-(Aminomethyl)-N-(carboxymethyl)methylamin, N-(Amino
methyl)-N-(2-carboxyethyl)isopropylamin, N,N′-Dimethyl-
N-(aminomethyl)-N′-(acrboxymethyl)ethylendiamin, N,N′-
Dimethyl-N-(aminomethyl)-N′-(carboxyethyl)hexamethylendiamin
und ihre niederen Alkylester, Dicarbonsäuren (z. B.
N,N′-Bis(carboxymethyl)piperazin, N,N′-Bis(carboxy
methyl)-2,6-dimethylpiperazin, N-(2-Carboxyethyl)-N′-
(carboxymethyl)piperazin, N,N-Bis(carboxymethyl)methylamin,
N-Carboxymethyl-N-(2-carboxyethyl)methylamin,
N,N′-Dimethyl-N,N′-Bis(carboxymethyl)ethylendiamin,
N,N′-Dimethyl-N,N′-bis(3-carboxypropyl)hexamethylendiamin)
und ihre niederen Alkylester und Säurehalogenide.
Diese Monomere können einzeln oder zu mehreren verwendet
werden. Zusätzlich zu diesen Monomeren können andere
Monomere, die üblicherweise bei der Herstellung gewöhnlicher
Polyamide verwendet werden, gebraucht werden. Beispiele
hierfür sind aliphatische und aromatische Dicarbonsäuren,
Diamine, ω-Aminosäuren und Lactame.
Basische Polyester z. B. können unter Verwendung der folgenden
Monomere hergestellt werden:
Dicarbonsäuren (z. B. N,N′-
Bis(carboxymethyl)piperazin, N,N′-Bis(carboxymethyl)-2,6-
dimethylpiperazin, N-(2-Carboxyethyl)-N′-(carboxymethyl)piperazin,
N,N-Bis(carboxymethyl)methylamin,
N-Carboxymethyl-N-(2-
carboxyethyl)methylamin, N,N′-Dimethyl-N,N′-bis(carboxymethyl)
ethylendiamin, N,N′-Dimethyl-N,N′-bis(3-carboxypropyl)
hexamethylendiamin) und ihre niederen Alkylester
und Säurehalogenide, Glykole (z. B. N,N′-Bis(hydroxymethyl)
piperazin, N,N′-Bis(2-hydroxypropyl)-2,5-dimethylpiperazin,
N,N′-Bis(2-hydroxycycloheptyl)piperazin,
N,N′-Bis(2-methyl-2-hydroxynonyl)piperazin, N,N′-Bis(2-
hydroxyethyl)-amin, N,N-Bis(2-hydroxypropyl)isopropylamin,
N,N′-Dimethyl-N,N′-bis(2-hydroxyethyl)ethylendiamin,
N,N′-Dicyclohexyl-N,N′-bis(2-hydroxyethyl)hexamethylendiamin,
N,N′-Dimethyl-N,N′-bis(2-hydroxyethyl)-2,2,4-
trimethylhexamethylendiamin, 2-Methyl-2-(N,N-dimethylaminomethyl)-
1,3-propandiol, 2-Methyl-2-(N,N-diisopropylaminomethyl)-
1,3-propandiol, 2-Methyl-2-piperidinomethyl-
1,3-propandiol und Bis(2-N,N-diisopropylaminomethyl)-1,3-
propandiol).
Diese Monomeren können einzeln oder zu
mehreren verwendet werden. Außer ihnen können übliche
Monomere, die für gewöhnliche Polyester verwendet werden,
z. B. aliphatische und aromatische Dicarbonsäuren und ihre
niederen Alkylester, Glykole und Oxysäuren verwendet
werden.
Basische Vinylpolymerisate können z. B. unter Verwendung der
folgenden Monomere hergestellt werden: Vinylpyridine
(z. B. 4-Vinylpyridin), Methacrylate (z. B. 2-(N,N-Dimethylamino)
ethylmethacrylat und 3-(N,N-Diethylamino)propylmethacrylat),
Methacrylamide (z. B. 3-(N,N-Dimethylamino)
propylmethacrylamid und 3-(N,N-Diethylamino)propylmethacrylamid).
Diese Monomeren können einzeln oder zu mehreren
verwendet werden. Zusätzlich zu ihnen können andere
Monomere, die üblicherweise für die Herstellung gewöhnlicher
Vinylpolymerisate verwendet werden, gebraucht werden.
Basische Polyäther können beispielsweise durch Polykondensation
von basischen Diolen oder ihren funktionellen
Derivaten mit oder ohne andere Diole oder ihre funktionellen
Derivate nach üblichen Verfahren hergestellt werden.
Beispiele solcher anderen Diole und ihrer funktionellen
Derivate sind Ethylenglykol, Propylenglykol, Tetramethylenglykol,
Hexamethylenglykol, Diethylenglykol, Polyethylenglykol
(Molekulargewicht 200 bis 3000, vorzugsweise
200 bis 1000), Polytetramethylenglykol, Bis(4-
hydroxyphenyl)methan, 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexan,
Bis(4-hydroxyphenyl)thioäther, Bis(4-hydroxyphenyl)sulfon,
2,2′-Dihydroxybenzophenon, 2,2′-Dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenon,
Kresol, Resorcin, Hydrochinin, 2,4-Dihydroxyacetophenon,
1,5-Dihydroxynaphthalin und p-, m-
oder o-Xylylenglykol.
Als Beispiele modifizierter hochmolekularer Verbindungen
sind Cellulosederivate, die mit Ethylenamin modifiziert
worden sind, z. B. Aminoethylcellulose, und Polymerisate,
die durch Pfropfen basisch gemacht worden sind, zu nennen.
Zusätzlich zu den genannten basischen hochmolekularen
Verbindungen kann das Gemisch gemäß der Erfindung wahlweise
beliebige andere hochmolekulare Verbindungen
enthalten.
Die organische lichtempfindliche Carbonsäure als andere wesentliche Komponente
muß ihre saure Beschaffenheit als Folge der durch
die Belichtung verursachten chemischen Umwandlung verlieren.
Beispiele solcher Säuren sind 2-Nitrophenylessigsäure,
4-Nitrophenylessigsäure, 4-Nitrohomophthalsäure,
2,4-Dinitrophenylessigsäure, 4,4′-Dinitrodiphenylessigsäure,
2-Cyanophenylessigsäure, 4-Cyanophenylessigsäure, 2,4-
Dicyanophenylessigsäure, 4,4′-Dicyanodiphenylessigsäure,
2-Chlorophenylessigsäure, 4-Chlorophenylessigsäure,
2,4-Dichlorophenylessigsäure, 4,4′-Dichlorodiphenylessigsäure,
2-Carboxyphenylessigsäure und 4-Carboxyphenylessigsäure.
Die durch die folgenden Formeln dargestellten
Verbindungen fallen ebenfalls unter diese Beispiele:
worin X Stickstoff, Sauerstoff, Schwefel oder Selen,
R¹ und R² jeweils Wasserstoff, substituiertes oder unsubstituiertes
Aryl, substituiertes oder unsubstituiertes
C₁-C₆-Alkyl oder Phenylen, R³ und R⁴ jeweils Wasserstoff
oder C₁-C₃-Alkyl, R⁵ und R⁶ jeweils Wasserstoff oder
substituiertes oder unsubstituiertes C₁-C₆-Alkyl und l,
m und n jeweils 0 oder 1 sind.
worin Y für -NR⁹- oder Schwefel steht, R⁷ und R⁹ jeweils
Wasserstoff oder C₁-C₃-Alkyl sind und R⁸ Wasserstoff,
Nitro, Cyano, niederes Alkoxy oder Halogen ist, und
worin Z Sauerstoff oder Schwefel, R¹⁰ substituiertes oder
unsubstituiertes Phenyl und k 0 oder
1 ist.
In der vorstehenden Formel (I) sind als Beispiele des
Substituenten, der am Aryl- oder Alkylrest, für die R¹
bzw. R² stehen, vorhanden sein kann, die folgenden zu
nennen: Halogenatome, Hydroxylgruppen, niedere Alkylreste,
Nitrogruppen, Cyanogruppen, niedere Alkylcarbonylgruppen,
niedere Alkoxyreste, N-substituierte Carbamoylgruppen
und N-substituierte Sulfamoylgruppen. Beispiele des
Substituenten, der am Alkylrest, für den R⁵ oder R⁶
steht, vorhanden sein kann, sind Hydroxyl, Imidazolyl und
Aminocarbonyl. Als spezielle Beispiele von Verbindungen
der Formel (I) sind somit zu nennen:
N-Phenylglycin, N-(3-Chlorophenyl)glycin, N-(2,4-Dichlorophenyl)glycin,
N-(4-Acetylphenyl)glycin, N-(2,4-Dichlorophenyl)glycin,
N-(4-Acetylphenyl)glycin, N-(2-Nitrophenyl)glycin,
N-(4-Nitrophenyl)glycin, N-(2,4-Dinitrophenyl)glycin,
N-(4-Cyanophenyl)glycin, N-(3-Chlorophenyl)glycin,
N-(2-Bromophenyl)glycin, N-(2-Methylphenyl)glycin,
N-(2-Methoxyphenyl)glycin, N-(2-Methoxyphenyl)glycin,
N-(2,4-Dimethoxyphenyl)glycin, N-Methyl-N-phenylglycin,
N-Methyl-N-(2-methylphenyl)glycin, N-Methyl-N-(4-chlorophenyl)
glycin, N-Methyl-N-(2-nitrophenyl)glycin,
N-Methyl-N-(2-methoxyphenyl)glycin, N-(4-carbamoylphenyl)
glycin, N-(4-Sulfamoylphenyl)glycin, N-Phenylalanin,
N-Phenylserin, N-Phenylhistidin, N-Phenylasparagin,
N-Phenylglutamin, N-Carboxymethylcarbazol, 3-Anilino-2-
propen-1-carbonsäure, Indol-3-essigsäure, Phenoxyessigsäure,
2-Methylphenoxyessigsäure, (3-Methoxyphenoxy)-
essigsäure, (4-Nitrophenoxy)-essigsäure, (3-Chlorophenoxy)-
essigsäure, (4-Methylphenoxy)-essigsäure, Thiophenoxyessigsäure,
3-Methoxythiophenoxyessigsäure, 2-Chlorothiophenoxyessigsäure,
2-Methylthiophenoxyessigsäure, 4-Nitrothiophenoxyessigsäure,
S-Hydroxyethylthioessigsäure,
S-Hydroxyethylthiophenoxyessigsäure, S-n-Butylthioessigsäure
und Phenylcarboxymethylselenid.
Spezielle Beispiele der Verbindungen der Formel (II) sind
Indoxylsäure, 4-Nitroindoxylsäure, Thioindoxylsäure und
N-Methylindoxylsäure.
Der Substituent, der am Phenylrest, für den R¹⁰ steht,
vorhanden sein kann, kann beispielsweise Halogen, Nitro,
niederes Alkoxy, niederes Alkyl oder Amino sein.
Spezielle Beispiele der Verbindungen der Formel (III)
sind somit Benzoylameisensäure, 2-Chlorobenzoylameisensäure,
4-Chlorobenzoylameisensäure, N-Dimethylaminobenzoylameisensäure,
Thiobenzoylameisensäure, Benzoylessigsäure
und Thiobenzoylessigsäure.
Die Mengenanteile der basischen hochmolekularen Verbindung
und der organischen Carbonsäure im Gemisch gemäß
der Erfindung werden je nach ihrer Art variiert und können
in geeigneter Weise in Abhängigkeit von den gewünschten
Gebrauchseigenschaften und -leistungen, z. B. vom
Unterschied in der hydrophilen Eigenschaft vor und nach
der Belichtung, den mechanischen Eigenschaften und der
Reaktionsgeschwindigkeit gewählt werden. Im allgemeinen
kann der Gehalt der organischen Carbonsäure im Gemisch
0,4 bis 700 g/kg betragen, und das Äquivalentverhältnis
der sauren Gruppe in der organischen Carbonsäure und des
basischen Stickstoffatoms in der basischen hochmolekularen
Verbindung kann etwa 0,02 : 1 bis 1 : 1 betragen.
Das Gemisch gemäß der Erfindung kann wahlweise eine
beliebige saure Verbindung enthalten, die gewöhnlich auch
bei Belichtung ihre saure Beschaffenheit nicht verliert,
um den Unterschied in der hydrophilen Eigenschaft vor und
nach der Belichtung zu regeln oder einzustellen.
Es kann außerdem als fakultative Komponente ein das
Gemisch bei Lichteinwirkung unlöslich machendes Mittel
zur Regulierung dieses Unterschiedes der hydrophilen
Eigenschaft sowie der mechanischen Eigenschaften enthalten.
Beispiele der das Gemisch bei Lichteinwirkung unlöslich
machenden Mittel sind Monomere, die eine ungesättigte
Doppelbindung enthalten, z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure,
Methylacrylat, Methylmethacrylat, Cyclohexylacrylat, Acrylamid,
Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Butoxymethylacrylamid,
Natriumacrylat, Ammoniumacrylat, Acrylnitril,
Styrol, Natriumstyrolsulfonat und Vinylpyridin, Monomere
mit zwei oder mehr ungesättigten Doppelbindungen, z. B.
Glycidylmethacrylat, Allylmethacrylat, Ethylenglykoldiacrylat,
Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Propandiolacrylat,
1,3-Propandiolmethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat, Triacryloyloxyethylphosphat,
Methylenbisacrylamid und Methylenbismethacrylamid.
Wenn ein Triarylimidazolyldimeres der folgenden Formel
dem Gemisch gemäß der Erfindung zugesetzt wird, wird die
Lichtempfindlichkeit des Gemisches erheblich gesteigert,
weil dieses Dimere bei Belichtung ein Radikal freisetzt
und dieses Radikal die chemische Umwandlung, die die
saure Beschaffenheit der organischen Carbonsäure verringert,
bewirkt oder fördert:
(Die beiden Imidazolringe können nicht nur in 1-Stellung, sondern auch
in 2-, 3-, 4- oder 5-Stellung aneinander gebunden sein).
Hierin stehen Ar, Ar′ und Ar′′ jeweils für einen substituierten
oder unsubstituierten Arylrest. Wenn Ar ein
Phenylrest ist, enthält dieser vorzugsweise einen beliebigen
Substituenten in o-Stellung. Wenn Ar ein 1-Naphthylrest
ist, ist es günstig, wenn dieser einen beliebigen
Substituenten in 2-Stellung enthält. Spezielle Beispiele
von Verbindungen der Formel (IV) sind
2-(o-Chlorophenyl)-
4,5-diphenylimidazolyldimeres, 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-
(m-dichlorophenyl)imidazolyldimeres, 2-(o-Chlorophenyl)-
4,5-(m-dianisyl)imidazolyldimeres, 2-(o-Fluorophenyl)-
4,5-diphenylimidazolyldimeres, 2-(o-Methoxyphenyl)-4,5-
diphenylimidazolyldimeres, 2-(o-Nitrophenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres,
2-(p-Nitrophenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres,
2-(o-Bromophenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres,
2-(1′-Naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres,
2-(2′-Chloro-1′-naphthyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres.
In diesen Beispielen sind die Lophinstrukturen die
gleichen. Dimere, in denen die Lophinstrukturen verschieden
sind, können ebenfalls brauchbar sein. Beispiele
hierfür sind 2-Phenyl, 2′-(o-Chlorophenyl)-4,4′,5,5′-
tetraphenylbiimidazol, 2-(o-Chlorophenyl)-2′-phenyl und
4,5-(Di-m-anisyl)-4′,5′-Diphenylimidazol.
Die Menge dieses dem Gemisch gemäß der Erfindung zuzusetzenden
Dimeren beträgt gewöhnlich 1 bis 50 Gew.-%,
vorzugsweise 1 bis 20 Gew.-%. Besonders günstig ist ein
Äquivalentverhältnis des Dimeren zur organischen Carbonsäure
zwischen 0,1 und 2,0.
Das Gemisch gemäß der Erfindung kann einen beliebigen
Photosensibilisator zur Steigerung seiner Lichtempfindlichkeit
enthalten. Unter dem Ausdruck "Photosensibilisator"
ist eine Substanz zu verstehen, die durch Belichtung
angeregt wird und bei Kollision mit irgendeinem anderen Molekül
diesem Energie überträgt, wodurch
eine chemische Reaktion ausgelöst wird. Als spezielle
Beispiele seien genannt: Aromatische Ketonverbindungen
(z. B. 4,4′-Bisdimethylaminobenzophenon, Thioxanthon,
Fluorenon, Trinitrofluorenon), aromatische Thioketonverbindungen
(z. B. 4,4′-Bisdimethylaminothiobenzophenon),
Chinonverbindungen (z. B. Benzochinon, Dichlorobenzochinon,
Tetrachlorobenzochinon, Dichloronaphthochinon,
Phenanthrenchinon, Dichloroanthrachinon, Dinitroanthrachinon,
Alizarin und Benzanthrachinon), aromatische
Nitroverbindungen (z. B. Dinitrofluoren, Tetrafluoren,
Trinitrofluoren, Nitroacenaphthen, 2,4,6-Trinitroanilin),
Triarylpyrazolinverbindungen (z. B. Triphenylpyrazolin),
Monoimidazolverbindungen (z. B. Tetraphenylimidazol und
Triphenylimidazol), Xanthenverbindungen (z. B. Fluorescein,
Eosin Y, Bengalrosa, Erythrosin B und Phloxin),
Acridinverbindungen (z. B. Acriflavin und Riboflavin),
Cumarinverbindungen (z. B. 7-N-Dimethylaminocumarin) und
Triphenylmethanverbindungen (z. B. Thymolblau, Bromothymolblau
und Bromokresolgrün). Hiervon werden die
aromatischen Ketonverbindungen, Chinonverbindungen,
aromatischen Nitroverbindungen, Triarylpyrazolverbindungen
und Cumarinverbindungen besonders bevorzugt.
Die gewünschte Menge des Photosensibilisators kann in
das Gemisch nach beliebigen üblichen Mischverfahren eingearbeitet
werden. Beispielsweise werden die basisische
hochmolekulare Verbindung und die organische Carbonsäure
- gegebenenfalls in Mischung mit dem arylimidazolyldimeren
und/oder dem Photosensibilisator - gemischt,
und das erhaltene Gemisch wird in einem geeigneten Lösungsmittel
unter Bildung einer gleichmäßigen Lösung gelöst,
in der ein Säure- und Basenpaar gebildet wird. Beispiele
geeigneter Lösungsmittel sind Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol
und Isopropanol, Methylcellosolve, Ethylcellosolve),
Ketone (z. B. Aceton und Methylethylketon und
aromatische Kohlenwasserstoffe
(z. B. Toluol und Xylol). Diese Lösungsmittel können allein
oder in Kombination verwendet werden. Wenn die basische
hochmolekulare Verbindung in Form einer Flüssigkeit bei
Raumtemperatur vorliegt oder einen verhältnismäßig
niedrigen Schmelz-, Erweichungs- oder Fließpunkt hat,
kann sie mit der organischen Carbonsäure und, falls verwendet,
mit anderen Komponenten ohne Verwendung eines
Lösungsmittels zusammengegeben werden.
Das in dieser Weise hergestellte Gemisch gemäß der
Erfindung kann nach beliebigen Formgebungsverfahren wie
Streichenm, Heißpressen, Spritzgießen oder Schmelzextrusion
in die geeignete Form, z. B. in die Form einer
Folie, Membran oder Platte, gebracht werden. Ferner kann
das geformte Produkt auf ein beliebiges Trägermaterial
- falls erforderlich mit Hilfe eines Bindemittels -
aufgebracht werden. Als Trägermaterialien eignen sich z. B.
Stahl, Aluminium, Kunststoffe und Glas.
Für das Gemisch gemäß der Erfindung eignen sich alle
Lichtquellen, die ein Licht mit hohem Anteil an Strahlen
einer Wellenlänge von nicht mehr als 400 µm abzugeben
vermögen. Spezielle Beispiele sind Quecksilberlampen,
Kohlebogenlampen, Xenonlampen und UV-Fluoreszenzlampen.
Die Belichtung des Formteils aus dem Gemisch gemäß der
Erfindung erfolgt gewöhnlich durch einen Positiv- oder
Negativfilm, der ein gewünschtes Bild oder Muster trägt
und einen lichtdurchlässigen Teil und einen lichtundurchlässigen
Teil aufweist. Als Alternative kann ein
Lichtstrahl aus der Lichtquelle auf das Formteil aus dem
Gemisch so gerichtet werden, daß ein gewünschtes Bild
oder Muster gezeichnet wird.
Als Folge der Belichtung wird ein latentes Bild auf der
Oberfläche des Formteils aus dem Gemisch erzeugt. Die
hydrophile Eigenschaft des dem latenten Bild entsprechenden
belichteten Teils wird im Vergleich zum unbelichteten
Teil abgeschwächt. Dies bedeutet, daß die Polarität des
belichteten Teils gegenüber dem unbelichteten Teil
verringert wird.
Das Formteil, das als Folge der Belichtung das latente
Bild trägt, kann als solches oder nach einer Nachbehandlung,
z. B. einer Entwicklung, verwendet werden. Falls
eine Entwicklung erforderlich ist, kann ein geeignetes
Lösungsmittel gewählt werden, wobei der Unterschied in
der Polarität zwischen dem belichteten Teil und dem
unbelichteten Teil berücksichtigt wird. Im allgemeinen
ist die Verwendung von Wasser am günstigsten. So kann
Wasser oder eine beliebige wäßrige Lösung mit einem pH-
Wert von 5,5 bis 7,5 für die Entwicklung des Gemisches
gemäß der Erfindung nach der Belichtung verwendet werden.
Eine vorteilhafte Anwendung der Erfindung ist u. a. die
Verwendung des Gemisches in flächiger Form von geringer
Dicke (z. B. Film, Membran, Platte), die zuweilen an ein
Trägermaterial gebunden ist. So wird das geformte Produkt
aus dem Gemisch gemäß der Erfindung gewöhnlich belichtet,
wodurch seine Oberfläche eine verschiedene hydrophile
Beschaffenheit oder Polarität zwischen dem belichteten
Teil und dem unbelichteten Teil erhält, und dann
als solches oder nach Ätzung oder Waschen mit Wasser
verwendet. Im ersteren Fall (d. h. Verwendung des belichteten
Produkts als solchem) kann es als Material für die
Elektronenphotographie, den elektrostatischen Druck, die
Bildaufzeichnung usw. verwendet werden. Im letzteren Fall
(d. h. Verwendung des belichteten Produkts nach Entwicklung)
kann es als Material, z. B. für Negativresists, Offset-
Druckformen und Reliefdruckformen verwendet werden.
Falls gewünscht, kann ein beliebiges farbgebendes Material,
z. B. ein Farbstoff oder Pigment, dem Gemisch zugesetzt
werden. Das erhaltene Gemisch kann zum Maskieren
verwendet werden.
Praktische und zur Zeit bevorzugte Ausführungsformen der
Erfindung werden in den folgenden Beispielen beschrieben,
in denen die Mengenangaben in Prozent und Teilen sich
auf das Gewicht beziehen, falls nicht anders angegeben.
1 Teil eines Polyesters, der durch direkte Polymerisation
von 2-Methyl-2-(N,N-dimethylamino)methyl-1,3-propandiol
und Terephthalsäure hergestellt worden war, und die in
Tabelle 1 genannte Menge einer dort angegebenen organischen
Carbonsäure wurden in Methylethylketon gelöst. Die
Lösung wurde gleichmäßig unter Bildung eines Films einer
Dicke von etwa 2 µm auf eine vorher anodisierte, 200 µm
dicke Aluminiumplatte aufgebracht, worauf der Film
5 Minuten mit Heißluft bei 50°C getrocknet wurde. Die in
dieser Weise hergestellte lichtempfindliche Platte wurde
in enge Berührung mit einem Negativfilm gebracht und mit
einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe während der in Tabelle 1
genannten Zeit belichtet. Die erhaltene Platte wurde in
Wasser von pH 7 bei 20°C getaucht und zur Entwicklung mit
dem Wasser gewaschen. Die erhaltene Platte wurde mit
Kautschuk beschichtet und an der Luft bei Raumtemperatur
getrocknet.
Die in dieser Weise hergestellte Druckform zeigte ein
scharfes Bild mit hohem Auflösungsvermögen und gutem
Halbton. Die Druckform wurde auf eine Offset-Druckmaschine
aufgespannt,
worauf kontinuierlich gedruckt wurde, wobei Drucke mit
einem klar und deutlich wiedergegebenen Bild erhalten
wurden.
1 Teil einer durch Polymerisation von 2-(N,N-Diethylamino)
ethylmethacrylat und Ethylen im Gewichtsverhältnis
von 30 : 70 hergestellten hochmolekularen Verbindung,
0,1 Teile 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-(m-dianisyl)imidazolyldimeres
und 0,3 Teile 3-Chlorophenylglycin wurden in
einem Gemisch von Methylethylketon und Toluol im Volumenverhältnis
von 5,5 : 4,5 gelöst. Die Lösung wurde auf
eine Polypropylenfolie (Dicke 60 µm)
unter Verwendung eines Drahtstabes gleichmäßig aufgetragen und
5 Minuten bei 70°C getrocknet, wobei ein lichtempfindlicher
Film mit einer 5 µm dicken lichtempfindlichen
Schicht erhalten wurde. Auf die Oberfläche des Films
wurde ein Negativfilm in enger Berührung gelegt, worauf
mit chemischen Lampen (20 W×10 Lampen; Abstand zwischen
Lampe und lichtempfindlichem Film 45 mm) 1,5 Minuten
belichtet wurde. Nach der Belichtung wurde der Film in
eine Entwicklerlösung aus Bromphenolblau (0,005 Teile)
in einem Gemisch von Wasser und Methanol im Volumenverhältnis
von 4 : 6 (10 Teile) 30 Sekunden getaucht, wobei
ein Positivbild von dunkelblauer Farbe erhalten wurde.
Das Punktauflösungsvermögen betrug 59 Linien/cm.
Auf die in Beispiel 9 beschriebene Weise, jedoch unter
Verwendung der in Tabelle 2 genannten lichtempfindlichen
Verbindungen an Stelle des 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-(m-
dianisyl)imidazolyldimeren wurde ein lichtempfindlicher
Film hergestellt, der während der in Tabelle 2 genannten
Zeit belichtet wurde, wobei ein Positivbild von dunkelblauer
Farbe mit einem Punktauflösungsvermögen von nicht
weniger als 59 Linien/cm erhalten wurde.
1 Teil eines durch direkte Polymerisation von 2-Methyl-
2-(N,N-dimethylamino)methyl-1,3-propandiol und Terephthalsäure
hergestellten Polyesters, 0,4 Teile N-Phenylglycin
und 0,15 Teile des 2-(o-Chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeren
wurden in 8 Teilen Methylethylketon
gelöst. Die Lösung wurde gleichmäßig auf ein vorher mit
einem elektrisch leitenden Mittel behandeltes Papierblatt
aufgetragen und 5 Minuten mit einem Heißlufttrockner bei 70°C
getrocknet, wobei eine 6 µm dicke lichtempfindliche
Schicht erhalten wurde. Das so hergestellte lichtempfindliche
Blatt wurde mit einem Negativfilm in enge Berührung
gebracht und mit chemischen Lampen (20 W×10 Lampen;
Abstand zwischen Lampe und lichtempfindlichem Blatt 45 mm)
2,5 min belichtet. Das belichtete Blatt wurde durch eine
elektronische Kopiermaschine
gegeben, wobei ein Toner auf die belichteten
Bereiche unter Bildung eines Positivbildes aufgebracht
wurde. Das Punktauflösungsvermögen betrug
59 Linien/cm.
Auf die in Beispiel 19 beschriebene Weise, jedoch unter
Verwendung der in Tabelle 3 genannten Mengen der dort
genannten organischen Carbonsäuren und des dort genannten
Photosensibilisators an Stelle von N-Phenylglycin wurde
ein lichtempfindliches Blatt mit einer 3 µm dicken lichtempfindlichen
Schicht hergestellt. Dieses lichtempfindliche
Blatt wurde mit einem Negativfilm in enge Berührung
gebracht und mit chemischen Lampen während der in Tabelle
3 genannten Zeit belichtet. Das belichtete Blatt wurde
durch eine elektronische Kopiermaschine gegeben, wobei ein
Positivbild erhalten wurde. Das Punktauflösungsvermögen
ist in Tabelle 3 genannt.
100 Teile eines durch Polymerisation von N-(β-Aminoäthyl)-
piperazin, Adipinsäure und ε-Caprolactam im Gewichtsverhältnis
von 40 : 50 : 38 hergestellten Polyamids,
50 Teile 4-Nitrophenylglycin, 20 Teile des 2-(2′-Chloro-
1′-naphthyl)-4,5-(m-dianisylimidazol)dimeren und 3 Teile
7-N-Dimethylaminocumarin wurden in Methanol gelöst. Die
Lösung wurde unter Bildung einer etwa 1 mm dicken Platte
ausgebreitet. Die Platte wurde auf die Oberfläche einer
28 mm dicken Eisenplatte mit Hilfe eines Bindemittels
geklebt, wobei eine lichtempfindliche Platte erhalten
wurde. Auf die lichtempfindliche Platte wurde ein
Negativfilm mit einer Punktauflösung von 60 Linien/cm
in enger Berührung gelegt, worauf mit chemischen Lampen
von 200 W/cm² für eine Zeit von 1,5 Minuten belichtet
wurde. Dei belichtete Platte wurde dann 1 Minute in
Leitungswasser von pH 7,5 gebürstet und 10 Minuten mit
Heißluft bei 60°C getrocknet.
Die in dieser Weise hergestellte Reliefplatte hatte ein
Bild, das genau und scharf dem Bild des Negativfilms
entsprach. Der Schulterwinkel am Reliefteil betrug etwa
70°. Unter Verwendung der Reliefdruckplatte wurde mit
einem Reliefdruckautomaten gedruckt, wobei Drucke mit
einem gut reproduzierten Bild erhalten wurden.
Das Bild der Reliefplatte wurde mit einem Cellophanstreifen
bedeckt, wobei ein Teil unbedeckt gelassen wurde,
und durch Besprühen mit Wasser von pH 4,0 für 0,5 Minuten
gewaschen. Dann wurde der Cellophansteifen entfernt und
getrocknet. Der vorstehend beschriebene Druckversuch
wurde unter Verwendung der erhaltenen Platte erneut
durchgeführt. Als Ergebnis wurden Drucke erhalten, bei
denen das Punktbild an dem unbedeckt gebliebenen Teil
im Vergleich zu dem an den anderen Bereichen sehr klar
war.
50 Teile Poly(4-vinylpyridin),
7 Teile 4-Nitrothiophenoxyessigsäure, 10 Teile
2-(o-Nitrophenyl)-4,5-diphenylimidazoldimeres und
3 Teile Fluorescein wurden in einem Gemisch von Aceton
und Methanol gelöst. Die Lösung wurde unter Verwendung
einer Rakel auf ein 0,3 mm dickes Papierblatt aufgetragen
und dann an der Luft getrocknet, wobei ein lichtempfindliches
Blatt erhalten wurde. Auf das lichtempfindliche
Blatt wurde der bei dem in Beispiel 30 beschriebenen
Versuch verwendete Negativfilm in enger Berührung
gelegt, worauf mit chemischen Lampen von 200 W/cm² für
eine Zeit von 1,5 Minuten belichtet wurde. Das belichtete
Blatt wurde auf eine Offset-Druckmaschine aufgespannt und
zum Drucken verwendet, wobei Drucke mit guter Bildwiedergabe
erhalten wurden.
1 Teil einer durch Polymerisation von 56 Teilen N,N′-
Dimethylaminoethylmethacrylat und 44 Teilen Methylmethacrylat
im Gewichtsverhältnis von 56 : 44 hergestellten hochmolekularen
Verbindung, 0,24 Teile des 2-(o-Chlorophenyl)-
4,5-(m-dianisyl)-imidazoldimeren, 0,4 Teile 4-Nitrophenylglycin,
0,05 Teile Triphenylpyrazolin, 0,15 Teile
Ruß und 10 Teile Tetrahydrofuran wurden gemischt. Das
Gemisch wurde auf eine 100 µm dicke, biaxial gereckte
Folie aus Polyethylenterephthalat aufgetragen und getrocknet,
wobei eine 3 µm dicke lichtempfindliche Schicht
gebildet wurde. Die Absorptionsrate von aktivem Licht
bei einer Wellenlänge von 300 bis 400 µm, gemessen mit
einem Spektrophotometer, betrug 99,9% oder mehr.
Auf die lichtempfindliche Schicht wurde ein Negativfilm
mit engem Kontakt gelegt, worauf mit einer Ultrahochdruck-
Quecksilberlampe von 3 kW aus einem Abstand von
50 cm 2 Minuten belichtet wurde. Dann wurde Leitungswasser
unter einem Druck von 3 bar etwa 0,5 Minuten auf
die belichtete Schicht gesprüht und das Material
getrocknet, wobei ein scharfes Bild im Bereich von 2%-
bis 90%-Punkten erhalten wurde.
Der in dieser Weise erhaltene Positivfilm, der das Bild
trug, wurde vor der Belichtung in enge Berührung mit
der lichtempfindlichen Schicht gebracht und in der
gleichen, vorstehend beschriebenen Weise behandelt,
wodurch ein Negativfilm mit einem umgekehrten Bild mit
guter Wiedergabe der Punkte erhalten wurde. Dieser
Negativfilm wurde in enge Berührung mit einer Reliefdruckplatte
aus einem lichtempfindlichen Polyamidharz gebracht und 1,5 Minuten
belichtet, worauf das Material 2,5 Minuten mit Wasser
gewaschen wurde. Hierbei wurde eine Reliefdruckform
mit scharfem Bild erhalten.
Der in Beispiel 32 beschriebene Versuch wurde in der
gleichen Weise wiederholt, wobei jedoch 0,3 Teile
S-n-Butylthioessigsäure an Stelle von 4-Nitrophenylglycin
verwendet wurden. Im wesentlichen wurden die gleichen
Ergebnisse erhalten.
Claims (9)
1. Lichtempfindliches Gemisch mit
- (1) wenigstens einer basischen hochmolekularen Verbindung, die ein Molekulargewicht von nicht weniger als 1000 hat, basische Stickstoffatome enthält, schwach hydrophil ist, aber in Anwensenheit einer sauren Substanz stark hydrophil als Folge der Säure- Basen-Wechselwirkung wird, und
- (2) wenigstens einer organischen lichtempfindlichen Carbonsäure, die bei Belichtung ihre saure Eigenschaft verliert.
2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es außerdem einen
Photosensibilisator enthält.
3. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die basische hochmolekulare
Verbindung eine Verbindung ist, deren basische Gruppe einen
pKa-Wert (negativer Logarithmus der Aciditätskonstante) von 2 bis 15
ergibt, wenn dieser in einem wäßrigen Medium durch potentiometrische
Titration bestimmt wird.
4. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die basische hochmolekulare
Verbindung monomere Einheiten, die ein basisches Stickstoffatom
enthalten, enthält und einen Stickstoffgehalt von 0,1 bis 25 Äquivalent/kg
hat.
5. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die organische Carbonsäure ein Heteroatom oder ein konjugiertes
Kohlenstoffatom an dem Kohlenstoffatom, an das
eine Carboxylgruppe gebunden ist, enthält.
6. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Carbonsäure 2-Nitrophenylessigsäure, 4-Nitrophenylessigsäsure,
4-Nitrihomophthalsäure, 2,4-Dinitrophenylessigsäure
oder 4,4′-Dinitrodiphenylessigsäure ist.
7. Gemisch nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die organische Carbonsäure einer der allgemeinen Formeln
I-III entspricht:
worin X Stickstoff, Sauerstoff, Schwefel oder Selen ist,
R¹ und R² jeweils Wasserstoff, substituiertes oder unsubstituiertes
Aryl, substituiertes oder unsubstituiertes
C₁-C₆-Alkyl oder Phenylen sind, R³ und R⁴ jeweils Wasserstoff
oder C₁-C₃-Alkyl, R⁵ und R⁶ jeweils Wasserstoff
oder substituiertes oder unsubstituiertes C₁-C₆-Alkyl sind
und l, m und n jeweils 0 oder 1 sind:
in der Y für -NR⁹- oder Schwefel steht, R⁷ und R⁹ jeweils
Wasserstoff oder C₁-C₃-Alkyl sind und R⁸ Wasserstoff,
Nitro, Cyano, niederes Alkoxy oder Halogen ist;
in der Z Sauerstoff oder Schwefel, R¹⁰ substituiertes
oder unsubstituiertes Phenyl und k 0 oder 1 ist.
8. Gemisch nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß der Photosensibilisator ein aromatisches Keton, ein aromatisches
Thioketon, eine Chinonverbindung, eine aromatische Nitroverbindung,
eine Triarylpyrazolinverbindung, eine Monoimidazolverbindung,
eine Xanthenverbindung, eine Acridinverbindung, eine
Cumarinverbindung oder eine Triphenylmethanverbindung ist.
9. Gemisch nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß es ferner ein Triarylimidazolyldimeres enthält.
Priority Applications (2)
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GB08123076A GB2104232B (en) | 1981-07-27 | 1981-07-27 | Photosensitive resin composition |
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DE3129529A1 DE3129529A1 (de) | 1983-04-07 |
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Family
ID=25794852
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GB (1) | GB2104232B (de) |
Families Citing this family (1)
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Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5236042B2 (de) * | 1973-11-19 | 1977-09-13 |
-
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- 1981-07-27 DE DE19813129529 patent/DE3129529A1/de active Granted
- 1981-07-27 GB GB08123076A patent/GB2104232B/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
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GB2104232A (en) | 1983-03-02 |
GB2104232B (en) | 1985-02-27 |
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