DE29807712U1 - Vorrichtung zur Vermeidung des Eindringens von in Abwassersystemen vorhandenen oder eingeleiteten Keimen oder ähnlichen Verunreinigungen in die Raumluft zu schützender Einrichtungen - Google Patents
Vorrichtung zur Vermeidung des Eindringens von in Abwassersystemen vorhandenen oder eingeleiteten Keimen oder ähnlichen Verunreinigungen in die Raumluft zu schützender EinrichtungenInfo
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Description
Demandt, Heinrich
59329 Wadersloh
Wolters, Peter, Dr.-lng.
59597 Erwitte
59329 Wadersloh
Wolters, Peter, Dr.-lng.
59597 Erwitte
vorhandenen oder eingeleiteten Keimen oder ähnlichen Verunreinigungen in die Raumluft zu schützender Einrichtungen.
Es ist bekannt, daß sich in Abwassersystemen von Wasserinstallationen,
selbst wenn diese durch Syphons abgeschlossen sind, Verunreinigungen bilden, die, insbesondere wenn sie gerade eingeleitet wurden, die Raumluft
bakteriell so stark belasten können, daß medizinische und hygienische Komplikationen die Folge sind. In besonderem Maße stellen die bekannten
Abwassersysteme eine Gefahrenquelle dar in Operationsräumen, Arztpraxen, Lebensmittel·verarbeitenden Betrieben und ähnlichen zu schützenden
Einrichtungen.
Es ist bereits aus DE 42 41 023 A1 und 296 14 191.7 E03C 1/22 bekannt,
solche Installationen ohne Überlaufe auszubilden, um diese als mögliche Brutstätten von Keimen dieser Verunreinigungen auszuschließen.
Gegenstand der vorliegenden Neuerung ist nun eine Vorrichtung zur Vermeidung des Eindringens von in Abwassersystemen von Wasch- und
Spülbecken oder dergleichen vorhandenen oder in diese eingeleiteten Keimen oder Verunreinigungen in die Raumluft zu schützender
Einrichtungen, dadurch gekennzeichnet, daß ein UVC - Strahler mit Bakterien abtötender Wirkung in den Siphon der Becken eingebaut ist.
-2-
Claims (7)
1. das Wasch - oder Spülbecken ohne Überlauf und Verschlußstopfen
ausgeführt sind,
2. der Siphon im oberen Teil mit einem UVC - Strahler mit Bakterien
abtötender Wirkung (1) bestückt ist,
3. der UVC - Strahler so angeordnet ist, daß dessen Strahlung im wesentlichen
auf die im Siphon verbleibende Abwassermenge (2) konzentriert ist,
4. der UVC - Strahler (1) in Ring - oder U - Form einfach oder mehrwendelig
so ausgebildet ist, daß Abflußgeschwindigkeit und Reinigung nicht beeinträchtigt
werden.
5. der UVC - Strahler (1) oberhalb des nach dem Spülvorgang im Siphon sich
bildenden Wasserspiegels angeordnet ist, um Verunreinigungen desselben zu vermeiden.
6. die UVC - Strahlereinheit (1) in jeden handelsüblichen Siphon einbaubar
ist.
7. beim Flaschensiphon das Tauchrohr (3) durch ein UVC - Strahlung
durchlässiges Quarzrohr ersetzt wird,
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-04-29 DE DE29807712U patent/DE29807712U1/de not_active Expired - Lifetime
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