DE29700289U1 - Surface pattern - Google Patents

Surface pattern

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Description

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FlächenmusterSurface pattern

Die Erfindung betrifft ein Flächenmuster der im Oberbegriff der Anspruchs 1 genannten Art.The invention relates to a surface pattern of the type mentioned in the preamble of claim 1.

Solche Flächenmuster weisen in der Flächenform strukturlose, optisch diffraktive Bildelemente auf, die in ihrer Gesamtheit ein Muster bilden, und dienen als Sicherheitselemente zur Beglaubigung der Echtheit eines Gegenstandes.Such surface patterns have structureless, optically diffractive image elements in the surface shape, which as a whole form a pattern and serve as security elements to certify the authenticity of an object.

Flächenmuster sind aus der europäischen Patentanmeldung EP-537'439 Al bekannt, welche allerdings einen Bildaufbau aus visuell erkennbaren, geometrischen Formen mit optisch diffraktiven Reliefstrukturen aufweisen. Die in der europäischen Patentanmeldung EP- 375'833 Al beschriebenen Flächenmuster sind aus strukturlosen Bildelementen aufgebaut. Allen Flächenmustern mit Beugungsgittern ist die Eigenschaft gemeinsam, dass die Flächenmuster je nach Betrachtungsrichtung ein unterschiedliches, sich durch seine Lichtintensität von der Umgebung abhebendes Muster erkennen lassen.Surface patterns are known from the European patent application EP-537'439 Al, which, however, have an image structure made up of visually recognizable, geometric shapes with optically diffractive relief structures. The surface patterns described in the European patent application EP-375'833 Al are made up of structureless image elements. All surface patterns with diffraction gratings have the property in common that, depending on the viewing direction, the surface patterns reveal a different pattern that stands out from the surroundings due to its light intensity.

Aus der britischen Anmeldung GB-A 2136352 ist ein Verfahren zur Herstellung eines semitransparenten, optischen Sicherheitselements bekannt. Nach dem Prägen von Reliefstrukturen in eine Oberfläche einer Kunststofffolie und dem vollflächigen Metallisieren der geprägten Oberfläche werden Teile der Metallschicht mit einem Schutzlack überzogen und mit einem Aetzmittel die ungeschützten Teile der Metallschicht entfernt. Die Teilflächen des Sicherheitselements ohne Metallschicht sind transparent, während in den übrigen Teilen die Metallschicht auf den Reliefstrukturen einfallendes Licht beugt und reflektiert.A method for producing a semi-transparent, optical security element is known from the British application GB-A 2136352. After embossing relief structures into the surface of a plastic film and metallizing the entire embossed surface, parts of the metal layer are coated with a protective varnish and the unprotected parts of the metal layer are removed with an etchant. The partial areas of the security element without a metal layer are transparent, while in the remaining parts the metal layer on the relief structures diffracts and reflects incident light.

Ausgehend von einem Zwischenprodukt, das eine Kunststofffolie mit eingeprägten und vollflächig metallisierten Reliefstrukturen ist, beschreibt die Schweizer Anmeldung 20 299/95-6 das direkte drucktechnische Auftragen des Aetzmittels auf die Metallschicht in vorbestimmten Flächen. Das Aetzmittel entfernt die reflektierende Metallschicht in diesen Flächen, die dadurch transparent werden und nicht mehr fähig sind, Licht zu beugen. Auf den nicht mit dem Aetzmittel behandelten Flächen bleibt das Vermögen erhalten, Licht an den Reliefstrukturen zu beugen oder an glatten Flächen zu spiegeln. Schliesslich wird die Kunststofffolie mit einem transparenten Schutzlack vollflächig so überzogen, dass die Teile der Reflexionsschicht im Kunststofflaminat des Sicherheitselements eingebettet smd.Starting from an intermediate product, which is a plastic film with embossed and fully metallized relief structures, the Swiss application 20 299/95-6 describes the direct printing application of the etching agent to the metal layer in predetermined areas. The etching agent removes the reflective metal layer in these areas, which then become transparent and are no longer able to diffract light. The areas not treated with the etching agent retain the ability to diffract light at the relief structures or to reflect it on smooth surfaces. Finally, the plastic film is fully coated with a transparent protective varnish so that the parts of the reflective layer are embedded in the plastic laminate of the security element.

Die europäische Patentanmeldung EP - 201 323 A2 enthält eine Zusammenstellung von allen bekannten Materialien, die für die Herstellung von Kunststofflaminaten mit beugungsoptischen Reliefstrukturen geeignet sind. Die Angaben umfassen insbesondere auch den Brechungsindex.The European patent application EP - 201 323 A2 contains a compilation of all known materials that are suitable for the production of plastic laminates with diffractive-optical relief structures. The information includes in particular the refractive index.

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Die Sicherheitselemente der genannten Art sind kostengünstig nur in grossen Stückzahlen herzustellen, für Unikate oder Kleinserien ist der Aufwand prohibitiv.The security elements of the type mentioned can only be produced cost-effectively in large quantities; for unique items or small series the effort is prohibitive.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement mit einem teilmetallisierten Flächenmuster zu schaffen, das auch für Unikate in der Herstellung kostengünstig ist.The invention is based on the object of creating a security element with a partially metallized surface pattern that is cost-effective to manufacture even for unique items.

Die genannte Aufgabe wird erfindungsgemäss durch die im Kennzeichen des Anspruchs 1 angegeben Merkmale gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen.The above object is achieved according to the invention by the features specified in the characterizing part of claim 1. Advantageous embodiments of the invention emerge from the dependent claims.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnungen dargestellt und näher beschrieben.Embodiments of the invention are illustrated and described in more detail with reference to the drawings.

Es zeigenShow it

Figur 1: ein Zwischenprodukt,Figure 1: an intermediate product,

Figur 2: eine Anordnung von Transparentflächen und Bildelementen mit Reliefstrukturen,Figure 2: an arrangement of transparent surfaces and image elements with relief structures,

Figur 3: ein Sicherheitselement im Querschnitt,Figure 3: a security element in cross section,

Figur 4: die Erzeugung eines Musters,Figure 4: the generation of a pattern,

Figur 5: eine Sicherheitsmarke undFigure 5: a security mark and

Figur 6: ein Flächenmuster.Figure 6: a surface pattern.

Die Figur 1 zeigt in einem vergrösserten Ausschnitt eine mit einer transparenten Lackschicht 1 beschichtete bandförmige Trägerfolie 2. Die freie Oberfläche der Lackschicht 1 ist mit einer Reflexionsschicht 3 überzogen. Die Lackschicht 1 und die Trägerfolie 2 können eine Zwischenschicht 5 einschliessen. Die Trägerfolie 2 verleiht den aufgetragenen Schichten eines Laminats 4 die für die Ausführung der weiteren Herstellungsschritte notwendige mechanische Festigkeit. Im Handel sind solche beschichtete Trägerfolien 2 als Rollen in verschiedenen Breiten mit oder ohne Reflexionsschicht 3 erhältlich, die als Ausgangsmaterial für die Herstellung von Flächenmustem dienen können.Figure 1 shows an enlarged section of a band-shaped carrier film 2 coated with a transparent lacquer layer 1. The free surface of the lacquer layer 1 is covered with a reflective layer 3. The lacquer layer 1 and the carrier film 2 can include an intermediate layer 5. The carrier film 2 gives the applied layers of a laminate 4 the mechanical strength necessary for carrying out the further production steps. Such coated carrier films 2 are commercially available as rolls in various widths with or without a reflective layer 3, which can serve as the starting material for the production of surface patterns.

Die Trägerfolie 2, beispielsweise ein 10 bis 50 Mikrometer dickes Polyesterband, wird zunächst einseitig mit der Zwischenschicht 5 aus einer wachsartigen Substanz von 0,1 bis 0,4 Mikrometer Dicke beschichtet. Die Zwischenschicht 5 wird anschliessend mit wenigstens einer Lackschicht 1 von einerThe carrier film 2, for example a polyester tape with a thickness of 10 to 50 micrometers, is first coated on one side with the intermediate layer 5 made of a waxy substance with a thickness of 0.1 to 0.4 micrometers. The intermediate layer 5 is then coated with at least one lacquer layer 1 of a

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Dicke im Bereich von 1 bis 5 Mikrometern überzogen. Mit Vorteil wird ein Lack auf Acrylbasis verwendet. Wie weiter unten ausgeführt ist, ermöglicht eine solche Zwischenschicht 5 eine leichtes Ablösen der Trägerfolie 2 von der Lackschicht 1.Thickness in the range of 1 to 5 micrometers. An acrylic-based varnish is advantageously used. As explained below, such an intermediate layer 5 enables easy detachment of the carrier film 2 from the varnish layer 1.

Für den Schichtaufbau des Laminats 4 sind viele Varianten bekannt. Soll beispielsweise die Trägerfolie 2 als transparenter Schutz mit der Lackschicht 1 fest verbunden bleiben, ist die wachsartige Substanz der Zwischenschicht 5 durch einen transparenten Haftvermittler ersetzt, der zum Beispiel ein aus Polyurethan aufgebauter Lack sein kann. Bei guter Haftung der Lackschicht 1 auf der Trägerfolie 2 kann die Zwischenschicht 5 auch weggelassen werden. Bei Ausweis- und Wertkarten kann die Trägerfolie 2 als Kartensubstrat dienen, dessen Dicke typisch im Bereich 0,1 mm bis 1 mm liegt. Die Trägerfolie 2 selbst kann als Schichtverbund ausgeführt sein, um eine gute Formstabilität der Karte zu erreichen.Many variants are known for the layer structure of the laminate 4. For example, if the carrier film 2 is to remain firmly connected to the lacquer layer 1 as a transparent protection, the waxy substance of the intermediate layer 5 is replaced by a transparent adhesion promoter, which can be a lacquer made of polyurethane, for example. If the lacquer layer 1 adheres well to the carrier film 2, the intermediate layer 5 can also be omitted. For ID and prepaid cards, the carrier film 2 can serve as a card substrate, the thickness of which is typically in the range of 0.1 mm to 1 mm. The carrier film 2 itself can be designed as a layer composite in order to achieve good dimensional stability of the card.

In die Lackschicht 1 sind mikroskopisch feine, beugungsoptisch wirksame Reliefstrukturen 6 mit Höhenunterschieden bis zu einem Mikrometer abgeformt. Die Reflexionsschicht 3 weist eine Dicke im Bereich von 10 bis 100 nm auf, die vor oder nach dem Abformen der Reliefstrukturen 6 aufgebracht werden kann. Für die Reflexionsschicht 3 eignen sich beispielsweise chemisch oder thermisch durch Aufdampfen abgeschiedene Schichten aus Aluminium, Chrom, Tellur, Kupfer usw. Unter den Begriff Reliefstruktur 6 sind abformbare Beugungsgitter aller Art, diffus streuende Mattstrukturen und auch hochglänzende, spiegelnde Oberflächen zu verstehen.Microscopically fine, diffractive relief structures 6 with height differences of up to one micrometer are molded into the lacquer layer 1. The reflection layer 3 has a thickness in the range of 10 to 100 nm, which can be applied before or after the relief structures 6 are molded. For example, layers of aluminum, chromium, tellurium, copper, etc. deposited chemically or thermally by vapor deposition are suitable for the reflection layer 3. The term relief structure 6 refers to moldable diffraction gratings of all kinds, diffusely scattering matt structures and also high-gloss, reflective surfaces.

Beispielsweise sind in der Zeichnung der Figur 1 drei sich voneinander unterscheidende Reliefstrukturen 6 in parallelen Streifen 7, 8 und 9 abgeformt, wie durch das zeichnerische Mittel der Schraffur angedeutet wird. Jeder Streifen 7, 8 oder 9 weist gleiche Abmessungen auf und ist mit Vorteil quer bzw. längs zur Bandlaufrichtung 10 angeordnet. Die Streifen 7, 8 und 9 wiederholen sich zyklisch (7, 8, 9; 7, 8, 9; 7, 8, 9; usw.) längs bzw. quer zur Bandlaufrichtung 10 und bilden Streifenzyklen 11. Die Streifen 7 und 8, 8 und 9 sowie 9 und 7 können sich paarweise mit ihrer Längsseite berühren oder sind duch einen schmalen Zwischenraum getrennt. Das so erhaltene Zwischenprodukt ist für ein erstes Fertigungsverfahren wiederum auf Rollen gewickelt zwischengelagert, bis es zu den letzten Verarbeitungsschritten zur Herstellung der beugungsoptisch aktiven Flächenmuster benötigt wird.For example, in the drawing of Figure 1, three different relief structures 6 are formed in parallel strips 7, 8 and 9, as indicated by the graphic means of hatching. Each strip 7, 8 or 9 has the same dimensions and is advantageously arranged transversely or lengthwise to the strip running direction 10. The strips 7, 8 and 9 repeat cyclically (7, 8, 9; 7, 8, 9; 7, 8, 9; etc.) lengthwise or transversely to the strip running direction 10 and form strip cycles 11. The strips 7 and 8, 8 and 9 and 9 and 7 can touch each other in pairs with their long sides or are separated by a narrow gap. The intermediate product obtained in this way is wound on rolls and stored temporarily for a first manufacturing process until it is needed for the last processing steps to produce the diffractively active surface patterns.

Für ein zweites Fertigungsverfahren wird nach dem Abformen der Reliefstrukturen 6 ein transparenter oder in einem vorbestimmten Spektralbereich absorbierender Decklack, z.B. auf Akrylbasis, einige Mikrometer dick als Deckschicht 12 auf die Reflexionsschicht 3 aufgetragen und die Reliefstrukturen ausgeebnet, um sie vor mechanischen Beschädigungen zu schützen. Das so erhaltene Zwischenprodukt für das zweite Fertigungsverfahren der Flächenmuster wird wiederum auf Rollen gewickelt zwischengelagert.For a second manufacturing process, after the relief structures 6 have been molded, a transparent top coat or one that absorbs in a predetermined spectral range, e.g. acrylic-based, a few micrometers thick is applied as a top coat 12 to the reflective layer 3 and the relief structures are leveled to protect them from mechanical damage. The intermediate product thus obtained for the second manufacturing process of the surface patterns is again wound onto rolls and stored temporarily.

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Das Harz der Deckschicht 12 kann als Heisskleber formuliert sein, der ein Aufkleben eines aus dem Laminat 4 abgetrennten Abschnitts auf die Oberfläche eines zu schützenden oder die Echtheit zu beglaubigenden Gegenstands ermöglicht. Der Abschnitt dient somit als optisches Sicherheitselement.The resin of the cover layer 12 can be formulated as a hot-melt adhesive, which enables a section separated from the laminate 4 to be glued to the surface of an object to be protected or authenticated. The section thus serves as an optical security element.

Die Figur 2 zeigt ein einfaches Beispiel mit nur zwei Streifen 8 und 9, die den Streifenzyklus 11 bilden und sich durch zwei verschiedene Reliefstrukturen 6 (Figur 1) unterscheiden. Das Flächenmuster des beispielhaft gezeigten Sicherheitselementes umfasst zwei ineinander verschachtelte Muster, die aus kleinen strukturlosen Bildelementen 13 bzw. 14, sogenannte Pixel zusammengesetzt sind. Die Flächen der Biidelemente 13 und 14 sind als Rechtecke gezeichnet und mit dem zeichnerischen Mittel des Schraffierens unterschieden. Die Bildelemente 13 liegen alle auf den parallelen Streifen 8 mit der einen Reliefstruktur 6 und bilden ein erstes Muster, den Buchstaben "B". Die Bildelemente 14 sind auf den parallelen Streifen 9 mit der anderen Reliefstruktur 6 angeordnet und fugen sich zum zweiten Muster, dem Buchstaben "A", zusammen. In Wirklichkeit sind die Flächen der Bildelemente 13, 14 nicht auf Rechtecke beschränkt und nicht mit Linien berandet, wie dies aus der Zeichnung zu erwarten wäre. In den von den beiden Mustern belegten Flächen sind die Reliefstrukturen 6 von der Reflexionsschicht 3 bedeckt. Mittels einer Lupe kann beobachtet werden, dass die Flächen der Bildelemente 13, 14 nur durch das Vorhandensein der Reflexionsschicht 3 (Figur 1) und durch die Reliefstruktur 6 definiert sind und beliebig geformt sein können. Ebenso sind die Reliefstrukturen 6 mikroskopisch feine, lichtbeugende optische Gitter und keine drucktechnisch erzeugten Schraffuren. Auf die als Gitter ausgebildeten Reliefstrukturen 6 der Bildelemente 13, 14 einfallendes Licht wird, entsprechend den Gitterparametern (Spatialfrequenz, Relieftiefe, Orientierung in der Gitterebene {Azimut &thgr;} und Profilform) reflektierend gebeugt. Die Gesamtheit der Bildelemente 13 bzw. 14 erzeugt wegen der Interferenz des am zugeordneten Gitter gebeugten Lichtes ein brilliantes Farbmuster, das sich für den Beobachter von der Umgebung markant abhebt, sobald das gebeugte Licht einer der Beugungsordnungen des entsprechenden Gitters der Bildelemente 13 bzw. 14 in das Auge des Beobachters fällt.Figure 2 shows a simple example with only two stripes 8 and 9, which form the stripe cycle 11 and are distinguished by two different relief structures 6 (Figure 1). The surface pattern of the security element shown as an example comprises two nested patterns, which are composed of small, structureless image elements 13 and 14, respectively, so-called pixels. The surfaces of the image elements 13 and 14 are drawn as rectangles and distinguished using the graphical means of hatching. The image elements 13 are all located on the parallel stripes 8 with one relief structure 6 and form a first pattern, the letter "B". The image elements 14 are arranged on the parallel stripes 9 with the other relief structure 6 and join together to form the second pattern, the letter "A". In reality, the surfaces of the image elements 13, 14 are not limited to rectangles and are not bordered by lines, as would be expected from the drawing. In the areas covered by the two patterns, the relief structures 6 are covered by the reflective layer 3. Using a magnifying glass, it can be observed that the areas of the image elements 13, 14 are only defined by the presence of the reflective layer 3 (Figure 1) and by the relief structure 6 and can be shaped as desired. Likewise, the relief structures 6 are microscopically fine, light-diffracting optical gratings and not hatchings produced by printing technology. Light incident on the relief structures 6 of the image elements 13, 14, which are designed as gratings, is reflectively diffracted according to the grating parameters (spatial frequency, relief depth, orientation in the grating plane {azimuth &thetas;} and profile shape). Due to the interference of the light diffracted at the associated grating, the entirety of the image elements 13 and 14 produces a brilliant color pattern that stands out clearly from the surroundings for the observer as soon as the diffracted light of one of the diffraction orders of the corresponding grating of the image elements 13 and 14 falls into the eye of the observer.

Ausserhalb der von den Bildelementen 13 und 14 der beiden Muster eingenommenen Flächen fehlt die Reflexionsschicht 3 auf Reliefstruktur 6, d.h. diese Flächen bilden aus ganzen Pixeleinheiten 15 zusammengesetzte, von der Art des Decklacks der Deckschicht 12 abhängige Färb- oder Transparentflächen. Bei der Verwendung eines transparenten Decklacks sind derartige Flächenmuster semitransparent, da die Gesamtheit der Transparentflächen, die sich fast gleichmässig über das Flächenmuster verteilen, meist mehr als die Hälfte des Flächenmusters umfassen. Für einen Beobachter sind hinter dem Sicherheitselement angeordnete Strukturen durch die Transparentflächen hindurch erkennbar. Die Strukturen sind in der Regel grosser als das Flächenmuster und umfassen auch Gebiete innerhalb der Muster.Outside the areas occupied by the image elements 13 and 14 of the two patterns, the reflection layer 3 on the relief structure 6 is missing, i.e. these areas form colored or transparent areas composed of entire pixel units 15, depending on the type of topcoat of the topcoat 12. When a transparent topcoat is used, such surface patterns are semi-transparent, since the totality of the transparent areas, which are distributed almost evenly over the surface pattern, usually cover more than half of the surface pattern. For an observer, structures arranged behind the security element can be recognized through the transparent areas. The structures are usually larger than the surface pattern and also cover areas within the patterns.

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Die beleuchteten optischen Gitter des Flächenmusters des Sicherheitselements erzeugen ihre Muster nur in der ihnen durch die Gitterparameter der Reliefstruktur 6 der Bildelemente 13 bzw. 14 vorbestimmten Richtung. Je nach der Beleuchtungs- und Betrachtungsbedingung erkennt der Beobachter entweder das erste Muster "A" oder das zweite Muster "B" auf dem Sicherheitselement. Ausserhalb dieser Betrachtungsrichtungen erscheint das Sicherheitselement im wesentlichen transparent, wobei die Transparentflächen von den metallisch schimmernden Teilflächen der Bildelemente 13 und 14 getrennt sind.The illuminated optical gratings of the surface pattern of the security element produce their patterns only in the direction predetermined by the grating parameters of the relief structure 6 of the image elements 13 and 14. Depending on the lighting and viewing conditions, the observer recognizes either the first pattern "A" or the second pattern "B" on the security element. Outside of these viewing directions, the security element appears essentially transparent, with the transparent surfaces being separated from the metallically shimmering partial surfaces of the image elements 13 and 14.

Aus Gründen der zeichnerischen Darstellung sind in der Figur 2 die beiden Muster "A" und "B" stark vergrössert. In Wirklichkeit weist der Streifenzyklus 11, bestehend aus zwei oder mehr verschiedenen Streifen 7 (Figur 1) bis 9 eine Höhe h von weniger als 0,5 mm auf. Im Beispiel der Figur 2 weist der Streifenzyklus 11 nur die zwei Streifen 8 und 9 auf, wobei die Breite der Streifen 8 und 9 weniger als 0,3 mm beträgt. Die Abmessung der Bildelemente 13, 14 in Längsrichtung der Streifen 8 und 9 ist gleich der Breite B der Streifen 8 und 9 oder ein ganzzahliges Vielfaches davon. Die Höhe des Buchstabens "A" im Beispiel der Figur 2 wäre rund 4 mm. In der normalen Sehdistanz sind solche Bildelemente 13 bzw. 14 visuell nicht mehr getrennt wahrnehmbar und verschmelzen zu dem unter der Betrachtungsrichtung sichtbaren ersten bzw. zweiten Muster. Für jedes Muster werden Bildelemente bzw. 14 wenigstens einen der Streifen 7 bis 9 in jedem Streifenzyklus 11 benötigt. Die Anzahl N der unter verschiedenen Blickrichtungen sichtbaren Muster ist daher höchstens gleich der Anzahl M der Streifen 7 bis 9. Die Anzahl M ist einerseits durch das Abformen und die Wirksamkeit des Gitters begrenzt, wobei die Streifen 7 bis 9 eine minimale Breite von etwa 20 &mgr;&idiagr;&eegr; aufweisen müssen, und andererseits ist die Genauigkeit entscheidend, mit der die schmalen Streifen 7 bis 9 bei den nachstehend beschriebenen Fertigungsverfahren lokalisiert werden können.For reasons of graphic representation, the two patterns "A" and "B" in Figure 2 are greatly enlarged. In reality, the strip cycle 11, consisting of two or more different strips 7 (Figure 1) to 9, has a height h of less than 0.5 mm. In the example in Figure 2, the strip cycle 11 only has the two strips 8 and 9, whereby the width of the strips 8 and 9 is less than 0.3 mm. The dimension of the image elements 13, 14 in the longitudinal direction of the strips 8 and 9 is equal to the width B of the strips 8 and 9 or an integer multiple thereof. The height of the letter "A" in the example in Figure 2 would be around 4 mm. At normal viewing distance, such image elements 13 and 14 are no longer visually perceptible separately and merge into the first and second patterns visible in the viewing direction. For each pattern, image elements 14 or at least one of the strips 7 to 9 are required in each strip cycle 11. The number N of patterns visible from different viewing directions is therefore at most equal to the number M of strips 7 to 9. The number M is limited on the one hand by the molding and the effectiveness of the grid, whereby the strips 7 to 9 must have a minimum width of about 20 μm, and on the other hand the accuracy with which the narrow strips 7 to 9 can be located in the manufacturing processes described below is crucial.

Im Gegensatz zu den bekannten zweidimensionalen Flächenmustern mit optischen Beugungsgittern liegen die gleichzeitig sichtbaren Bildelemente 13 bzw. 14 auf einem der parallelen Streifen 7 bis 9, weil zur Erzeugung der sichtbaren Muster lediglich die Reflektivität des Materials in der Reflexionsschicht 3 in den für die Muster nicht benötigten Transparentflächen vermindert wird.In contrast to the known two-dimensional surface patterns with optical diffraction gratings, the simultaneously visible image elements 13 and 14 lie on one of the parallel strips 7 to 9, because to produce the visible patterns, only the reflectivity of the material in the reflective layer 3 is reduced in the transparent areas not required for the patterns.

Das Zerstören der hohen Reflektivität des Materials in der Reflexionsschicht 3 kann durch das vollständige chemische oder thermische Entfernen der freiliegenden Reflexionsschicht 3 in den für Färb- oder Transparentflächen vorbestimmten Pixelelementen 15 erfolgen. Die Färb- oder Transparentflächen können auch entstehen, indem mittels thermischer Energie durch die Lackschicht hindurch die innere Struktur des reflektiven Materials zwischen der Lackschicht 1 und der Deckschicht 12 in den Pixelelementen 15 verändert wird.The destruction of the high reflectivity of the material in the reflection layer 3 can be achieved by completely chemically or thermally removing the exposed reflection layer 3 in the pixel elements 15 intended for color or transparent areas. The color or transparent areas can also be created by using thermal energy through the lacquer layer to change the internal structure of the reflective material between the lacquer layer 1 and the cover layer 12 in the pixel elements 15.

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Die Figur 3 zeigt ein Sicherheitselement im Querschnitt. Die für die Muster benötigten Bildelemente bzw. 14 (Figur 1) mit der Reliefstruktur 6 eines jeden Streifens 7 (Figur 1) bis 9 (Figur 1) sind mit einem Schutzlack 16 abgedeckt. In den für die Muster nicht benötigten Pixeleinheiten 15 ist die Reflexionsschicht 3 chemisch entfernt, während an den mit einem Schutzlack 16 geschützten Stellen die Reflexionsschicht 3 erhalten ist. In den Pixeleinheiten 15 verbindet sich die Deckschicht 12 mit dem Material der Lackschicht 1. Die optisch aktive Grenzschicht zwischen der Lackschicht 1 und der Deckschicht 12 verschwindet völlig, wenn das Material der Lackschicht 1 und der Deckschicht 12 fast denselben Brechungsindex aufweisen. Damit bleiben auch die Beugungseffekte an der nicht mit der Reflexionsschicht 3 bedeckten Reliefstruktur 6 für das unbewaffnete Auge praktisch unsichtbar. In der Figur 3 ist daher die Grenzschicht mit einer gestrichelten Linie eingezeichnet. Die Streifenzyklen 11 (Figur 1) sind mit zehn verschiedenen Streifen 7 (Figur 1) bis 9 (Figur 1) von 0,05 mm Breite herstellbar, ohne die Höhe h (Figur 2) von 0,5 mm zu überschreiten. Erreicht die Höhe h einen Wert über 0,5 mm, wird der Raster der Bildelemente 13, 14 zu grob und für den Beobachter sichtbar. Aus künstlerischen Erwägungen könnten solche groben Raster zur Anwendung gelangen.Figure 3 shows a security element in cross-section. The image elements required for the patterns or 14 (Figure 1) with the relief structure 6 of each strip 7 (Figure 1) to 9 (Figure 1) are covered with a protective lacquer 16. In the pixel units 15 not required for the patterns, the reflection layer 3 is chemically removed, while in the places protected with a protective lacquer 16, the reflection layer 3 is retained. In the pixel units 15, the cover layer 12 combines with the material of the lacquer layer 1. The optically active boundary layer between the lacquer layer 1 and the cover layer 12 disappears completely if the material of the lacquer layer 1 and the cover layer 12 have almost the same refractive index. This means that the diffraction effects on the relief structure 6 not covered with the reflection layer 3 remain practically invisible to the naked eye. In Figure 3, the boundary layer is therefore drawn with a dashed line. The stripe cycles 11 (Figure 1) can be produced with ten different stripes 7 (Figure 1) to 9 (Figure 1) of 0.05 mm width without exceeding the height h (Figure 2) of 0.5 mm. If the height h reaches a value of over 0.5 mm, the grid of the image elements 13, 14 becomes too coarse and visible to the observer. Such coarse grids could be used for artistic reasons.

Unterscheiden sich die Reliefstrukturen 6 in den Streifen 7 bis 9 des Laminats 4 nur im Azimut &thgr;, so sind je nach Orientierung des Laminats 4 in seiner Ebene nur die der Streifen 7 bis 9 sichtbar, deren Reliefstruktur 6 im wesentlichen quer zur Blickrichtung orientiert ist. Zwei oder mehr der Streifen 7 bis 9 des Streifenzyklus 11 können Reliefstrukturen 6 mit dem gleichen Azimut &thgr; aufweisen und sich in andern Gitterparametern unterscheiden. Beispielsweise sind die monochromatisch beleuchteten Bildelemente 13, 14 dieser Streifen 7 bis 9 nacheinander beim Kippen um eine Achse senkrecht zur Blickrichtung sichtbar, wenn die Reliefstruktur 6 der Bildelemente 13, 14 nur verschiedene Spatialfrequenzen besitzen.If the relief structures 6 in the strips 7 to 9 of the laminate 4 differ only in the azimuth θ, then, depending on the orientation of the laminate 4 in its plane, only those of the strips 7 to 9 are visible whose relief structure 6 is oriented essentially transversely to the viewing direction. Two or more of the strips 7 to 9 of the strip cycle 11 can have relief structures 6 with the same azimuth θ and differ in other grid parameters. For example, the monochromatically illuminated image elements 13, 14 of these strips 7 to 9 are visible one after the other when tilted about an axis perpendicular to the viewing direction if the relief structure 6 of the image elements 13, 14 only have different spatial frequencies.

In der Figur 4 ist eine aus dem Laminat 4 (Figur 1) geschnittene Sicherheitsmarke 33 auf eine ebene Oberfläche 34 eines zu sichernden Substrats 35 aufgeklebt. Die Sicherheitsmarke 33 ist zunächst ein Abschnitt des Laminats 4, dessen Reflexionsschicht 3 bereits im Zwischenprodukt noch vor der Ausgestaltung der Bildelemente ganzflächig mit der Deckschicht 12 überzogen worden ist. Mit der Deckschicht 12 ist die Sicherheitsmarke 33 mit der Oberfläche 34 verbunden und anschliessend die Trägerfolie 2 (Figur 1) entfernt worden. Weil die parallelen Streifen 7 (Figur 1) der aufeinanderfolgenden Streifenzyklen 11 (Figur 1) gleiche Gitterparameter in den Reliefstrukturen 6 aufweisen und in einem Abstand von nur etwa 0,45 mm angeordnet sind, vermag das Auge die stark leuchtenden Streifen 7 nicht getrennt wahrzunehmen. Das völlig flache Laminat 4 der Sicherheitsmarke 33 kann dem Beobachter als einheitlich leuchtende Farbfläche erscheinen. Wird die Beobachtungsrichtung durch Drehen oder Kippen des Laminats 4 geändert, sind andere Farben sichtbar oder die Oberfläche des Laminats 4 ist unauffällig und metallisch schimmernd. Solcherart markierteIn Figure 4, a security mark 33 cut from the laminate 4 (Figure 1) is glued to a flat surface 34 of a substrate 35 to be secured. The security mark 33 is initially a section of the laminate 4, the reflective layer 3 of which has already been completely covered with the cover layer 12 in the intermediate product before the design of the image elements. The security mark 33 is connected to the surface 34 with the cover layer 12 and the carrier film 2 (Figure 1) is then removed. Because the parallel stripes 7 (Figure 1) of the successive stripe cycles 11 (Figure 1) have the same grid parameters in the relief structures 6 and are arranged at a distance of only about 0.45 mm, the eye cannot perceive the highly luminous stripes 7 separately. The completely flat laminate 4 of the security mark 33 can appear to the observer as a uniformly luminous color surface. If the direction of observation is changed by turning or tilting the laminate 4, other colors are visible or the surface of the laminate 4 is inconspicuous and has a metallic shimmer.

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Substrate 35 sind zu einem späteren Zeitpunkt individualisierbar, d.h. die einzelne Sicherheitsmarke 33 erhält das ihr eigene Flächenmuster.Substrates 35 can be customized at a later date, i.e. the individual security mark 33 receives its own surface pattern.

Die dazu notwendige Einrichtung richtet den mit einem optischen Element 36 fokussierten Lichtstrahl 37 eines Farbstofflasers auf die Pixeleinheit 15 aus, so dass die Lackschicht 1 durchstrahlt und die Reflexionsschicht 3 lokal im Brennpunkt des optischen Elements 36 aufgeheizt wird, bis das Material der Reflexionsschicht 3 in der Pixeleinheit 15 aufschmilzt oder verdampft und beim Abkühlen mikroskopisch kleine Sphäroide anstelle der gleichmässigen optisch hochwertigen Reflexionsschicht 3 bildet. An diesen Stellen wird die Sicherheitsmarke 33 wegen des Fehlens der Reflexionsschicht 3 durchsichtig, d.h. die Transparentflächen entstehen. Von der Reflexionsschicht 3 bleibt höchstens ein ; schwacher Grauschleier visuell sichtbar. Gleichzeitig verbindet sich das Material der Lackschicht 1 mit dem transparenten Material der Deckschicht 12 in einem dem Verschweissen ähnlichen Vorgang.The device required for this directs the light beam 37 of a dye laser, which is focused with an optical element 36, onto the pixel unit 15 so that the lacquer layer 1 is penetrated and the reflection layer 3 is heated locally at the focal point of the optical element 36 until the material of the reflection layer 3 in the pixel unit 15 melts or evaporates and, when cooled, forms microscopically small spheroids instead of the uniform, optically high-quality reflection layer 3. At these points, the security mark 33 becomes transparent due to the absence of the reflection layer 3, i.e. the transparent surfaces are created. At most a faint gray haze remains visually visible from the reflection layer 3. At the same time, the material of the lacquer layer 1 bonds with the transparent material of the cover layer 12 in a process similar to welding.

Mittels des vom Personalcomputer gesteuerten Lichtstrahls 37 können die Pixeleinheiten 15 der Transparentflächen individuell in die Sicherheitsmarke 33 eingeschrieben werden. Der Lichtstrahl 37 tastet zunächst die Reliefstruktur 6 mit geringer Lichtleistung ab und stellt die Ausrichtung der Streifenzyklen 11 (Figur 1) sowie die Lage der einzelnen Streifen 7 (Figur 1) bis 9 (Figur 1) im Streifenzyklus 11 fest. Anschliessend steuert der Lichtstrahl 37 die Pixeleinheiten 15 der Transparentflächen an und zerstört bei hoher Lichtleistung die Reflexionsschicht 3. Uebrig bleiben die Teilflächen der Reflexionsschicht 3 in den vom Flächenmuster vorbestimmten Bildelemente 13,14. Da die Referenz der aufeinanderfolgenden Streifen 7 bis 9 und der Streifenzyklen 11 zerstört ist, können nur mit grossem Aufwand einzelne Bildelemente 13,14 zusätzlich entfernt werden, um das Flächenmuster zu verändern.The pixel units 15 of the transparent surfaces can be individually inscribed into the security mark 33 using the light beam 37 controlled by the personal computer. The light beam 37 first scans the relief structure 6 with low light output and determines the alignment of the strip cycles 11 (Figure 1) and the position of the individual strips 7 (Figure 1) to 9 (Figure 1) in the strip cycle 11. The light beam 37 then controls the pixel units 15 of the transparent surfaces and destroys the reflective layer 3 at high light output. What remains are the partial surfaces of the reflective layer 3 in the image elements 13, 14 predetermined by the surface pattern. Since the reference of the successive strips 7 to 9 and the strip cycles 11 is destroyed, individual image elements 13, 14 can only be removed with great effort in order to change the surface pattern.

Die Figur 5 zeigt beispielhaft die Sicherheitsmarke 33, die als Abschnitt aus dem Vorprodukt für das zweite Fertägungsverfahren auf dem Substrat 35 aufgeklebt ist. Das zu erzeugende Flächenmuster basiert auf dem Streifenzyklus 11 (Figur 1) mit den drei Streifen 7, 8 und 9 (Figur 1), deren Reliefstrukturen 6 (Figur 1) sich lediglich durch das Azimut &thgr; unterscheiden. Bevor die Sicherheitsmarke 33 individualisiert wird, zeigt die unter der Richtung 39 mit polychromatischem Licht beleuchtete Sicherheitsmarke 33 dem Auge 40 des Beobachters unter der Richtung 41 der Betrachtung ein diesen Bedingungen gemässes, einheitliches Aussehen, z.B. mit einer intensiven Farbe oder wie eine metallisch schimmernde, Fläche, falls kein gebeugtes reflektiertes Licht in das Auge 40 fällt. Beim Drehen um eine zum Flächenmuster senkrechte Achse Z können sich die intensive Farbe mit der metallisch schimmernden, matten Farbe abwechseln, während sich beim Kippen um eine zur Achse Z senkrechte Achse die Farbe ändert bevor ein Wechsel zum metallisch schimmernden, matten Aussehen erfolgt.Figure 5 shows an example of the security mark 33, which is glued to the substrate 35 as a section from the preliminary product for the second production process. The surface pattern to be created is based on the strip cycle 11 (Figure 1) with the three strips 7, 8 and 9 (Figure 1), whose relief structures 6 (Figure 1) differ only in the azimuth θ. Before the security mark 33 is individualized, the security mark 33 illuminated with polychromatic light in the direction 39 shows the eye 40 of the observer in the direction 41 of observation a uniform appearance in accordance with these conditions, e.g. with an intense color or like a metallically shimmering surface if no diffracted reflected light falls into the eye 40. When rotating around an axis Z perpendicular to the surface pattern, the intense color can alternate with the metallic shimmering, matte color, while when tilting around an axis perpendicular to the Z axis, the color changes before changing to the metallic shimmering, matte appearance.

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Durch das Individualisieren werden die Pixelelemente 15 des Flächenmusters der Sicherheitsmarke 33 erzeugt, wobei in den Pixelelementen 15 die Reflektivität der Reflexionsschicht 3 (Figur 4) zerstört wird. In den Bildelementen 13, 14 bleibt die Reflektivität erhalten. Infolge dieses Verfahrens sind die Bildelemente 13 bzw. 14 mit den gleichen Reliefstrukturen 6 (Figur 4) auf den parallelen Streifen 7 bzw. 8 angeordnet. Unter der vorbestimmten Betrachtungsbedingung sind für das Auge 40 alle Bildelemente 13 des ersten Musters mit den Reliefstrukturen 6 des Azimuts &thgr;&igr; auf allen parallelen Streifen 7 gleichzeitig sichtbar. Beim Drehen der Sicherheitsmarke 33 um die Achse Z erscheint das zweite Muster der Bildelemente 14 mit den Reliefstrukturen 6 des Azimuts S2 auf den parallelen Streifen 8 nach einem Drehwinkel &agr;, der gleich der Differenz der beiden Azimute ist, also &agr; = &i - &thgr;2.By individualizing, the pixel elements 15 of the surface pattern of the security mark 33 are created, whereby the reflectivity of the reflection layer 3 (Figure 4) is destroyed in the pixel elements 15. The reflectivity is retained in the image elements 13, 14. As a result of this process, the image elements 13 and 14 with the same relief structures 6 (Figure 4) are arranged on the parallel strips 7 and 8, respectively. Under the predetermined viewing condition, all image elements 13 of the first pattern with the relief structures 6 of the azimuth θ&igr; on all parallel strips 7 are visible to the eye 40 at the same time. When the security mark 33 is rotated about the axis Z, the second pattern of the image elements 14 with the relief structures 6 of the azimuth S 2 appears on the parallel strips 8 after a rotation angle α that is equal to the difference between the two azimuths, i.e. α = �i - θ 2 .

Das Flächenmuster der Figur 6 umfasst drei einfache Muster, die je aus einem unterschiedlich orientierten Rechteckrahmen 42 bzw. 43 bzw. 44 bestehen. Im hier gezeigten Beispiel fallen die Mittelpunkte der ineinander verschachtelten Rechteckrahmen 42 bis 44 zusammen. Der Rechteckrahmen 42 bzw. 43 bzw. 44 jedes Musters ist aus den den Mustern zugeordneten Bildelementen 13 (Figur 5) bzw. 14 (Figur 5) bzw. hier nicht gezeigten dritten Bildelementen gebildet. In der Darstellung der Figur 6 sind die Rechteckrahmen 42 bis 44 als einfache Linien gezeichnet, obwohl sie aus den Bildelementen 13 bzw. 14 zusammengesetzt sind und beispielsweise eine Breite von 1,5 mm aufweisen. Nach dem Individualisieren ist die Sicherheitsmarke 33, ausser in den von den Bildelementen 13, 14 der Rechteckrahmen 42 bis 44 beanspruchten Flächen, transparent. Wird bei gleichen Beleuchtungsbedingungen das Substrat 35 in seiner Ebene 34 um die Achse Z in der Richtung des Azimuts &thgr; gedreht, leuchtet für den Beobachter nacheinander einer der drei Rechteckrahmen 42 bis 44 in einer Farbe hell auf. Drehen und Kippen verändern zusätzlich noch die Farbe des gerade sichtbaren Rechteckrahmens, falls weisses Licht auf die Sicherheitsmarke 33 fallt. Dieser kinematische Effekt ist der gleiche wie der im europäischen Patent EP-105'099 Bl beschriebene.The surface pattern of Figure 6 comprises three simple patterns, each consisting of a differently oriented rectangular frame 42 or 43 or 44. In the example shown here, the center points of the nested rectangular frames 42 to 44 coincide. The rectangular frame 42 or 43 or 44 of each pattern is formed from the image elements 13 (Figure 5) or 14 (Figure 5) assigned to the patterns or third image elements not shown here. In the illustration in Figure 6, the rectangular frames 42 to 44 are drawn as simple lines, although they are composed of the image elements 13 or 14 and have a width of 1.5 mm, for example. After individualization, the security mark 33 is transparent, except in the areas occupied by the image elements 13, 14 of the rectangular frames 42 to 44. If, under the same lighting conditions, the substrate 35 is rotated in its plane 34 around the Z axis in the direction of the azimuth θ, one of the three rectangular frames 42 to 44 lights up brightly in one color for the observer. Rotating and tilting also change the color of the rectangular frame that is currently visible if white light falls on the security mark 33. This kinematic effect is the same as that described in the European patent EP-105'099 Bl.

Gemäss Figur 4 sind durch die Transparentflächen der Pixelelemente 15 hindurch Strukturen 38 auf der Oberfläche 34, wie Druckbilder oder Buchstaben usw., erkennbar und zwar besonders gut, wenn die Reflexionsstrukturen 6 dunkel erscheinen, da kein gebeugtes Licht in das Auge 40 (Figur 5) des Beobachters fällt. Ist hingegen der Deckschicht 12 oder die Oberfläche 34 farbig absorbierend, sind die Muster des beleuchteten Flächenmusters vor diesem Hintergrund sichtbar.According to Figure 4, structures 38 on the surface 34, such as printed images or letters, etc., can be seen through the transparent surfaces of the pixel elements 15, particularly well when the reflection structures 6 appear dark, since no diffracted light falls into the eye 40 (Figure 5) of the observer. If, on the other hand, the cover layer 12 or the surface 34 is color-absorbent, the patterns of the illuminated surface pattern are visible against this background.

Unterscheiden sich die M verschiedenen Reliefstrukturen 6 in mehr als nur einem der Gitterparameter, sind weitere Flächenmuster herstellbar, deren Erscheinungsbild durch das Beugungsverhalten der Bildelemente 13, 14 bestimmt ist.If the M different relief structures 6 differ in more than just one of the lattice parameters, further surface patterns can be produced whose appearance is determined by the diffraction behavior of the image elements 13, 14.

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Mit Vorteil wird das Zwischenprodukt des zweiten Fertigungsverfahren, wie in der Figur 1 gezeigt, längsweise in Streifen in Bänder 45 geschnitten und aufgerollt. Die Breite der Bänder 45 entspricht der Breite der Sicherheitsmarke 33 (Figur 4).Advantageously, the intermediate product of the second manufacturing process, as shown in Figure 1, is cut lengthwise into strips in bands 45 and rolled up. The width of the bands 45 corresponds to the width of the security mark 33 (Figure 4).

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Claims (8)

SchutzansprücheProtection claims 1. Flächenmuster mit N visuell erkennbaren Mustern (42; 43; 44) zusammengesetzt aus durch Pixelelemente (15) getrennten Bildelementen (13; 14) mit mikroskopisch feinen Reliefstrukturen (6), deren optische Wirksamkeit durch eine Reflexionsschicht (3) auf den Reliefstrukturen (6) bestimmt ist und die in einem Laminat (4) aus Kunststoff eingebettet sind, dadurch gekennzeichnet,1. Surface pattern with N visually recognizable patterns (42; 43; 44) composed of image elements (13; 14) separated by pixel elements (15) with microscopically fine relief structures (6), the optical effectiveness of which is determined by a reflection layer (3) on the relief structures (6) and which are embedded in a laminate (4) made of plastic, characterized in that dass jedes der Bildelemente (13; 14) eine einzige von M verschiedenen Reliefstrukturen (6) aufweist,that each of the image elements (13; 14) has a single relief structure (6) different from M, dass sich die M verschiedenen Reliefstrukturen (6) in wenigstens einem der Gitterparameter unterscheiden undthat the M different relief structures (6) differ in at least one of the lattice parameters and dass die Bildelemente (13 bzw. 14), deren Reliefstruktur (6) gleiche Gitterparameter besitzen, auf parallelen Streifen (7 bzw. 8 bzw. 9) angeordnet sind.that the image elements (13 or 14), whose relief structure (6) have the same grid parameters, are arranged on parallel strips (7 or 8 or 9). 2. Flächenmuster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl M der verschiedenen Reliefstrukturen (6) grosser oder gleich der Anzahl N der visuell erkennbaren Muster (42; 43; 44) ist, die beim Drehen um eine Achse Z senkrecht zur Ebene einer Sicherheitsmarke (33) oder beim Kippen um eine zur Achse Z senkrechte Achse nacheinander sichtbar sind.2. Surface pattern according to claim 1, characterized in that the number M of the different relief structures (6) is greater than or equal to the number N of the visually recognizable patterns (42; 43; 44) which are visible one after the other when rotating about an axis Z perpendicular to the plane of a security mark (33) or when tilting about an axis perpendicular to the axis Z. 3. Flächenmuster nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Streifenzyklus (11) eine Gruppe der M benachbarten Streifen (7 bis 9) umfasst, die je eine der M verschiedenen Reliefstrukturen3. Surface pattern according to claim 1 or 2, characterized in that a strip cycle (11) comprises a group of the M adjacent strips (7 to 9), each of which has one of the M different relief structures (6) aufweisen und dass der Streifenzyklus (11) eine Höhe h von weniger als 0,5 mm aufweist.(6) and that the strip cycle (11) has a height h of less than 0.5 mm. 4. Flächenmuster nach einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Laminat (4) wenigstens eine transparente Lackschicht (1) und eine transparente Deckschicht (12) umfasst, zwischen denen die Reflexionsschicht (3) der Bildelemente (13 bzw. 14) eingebettet ist.4. Surface pattern according to one of the preceding claims 1 to 3, characterized in that the laminate (4) comprises at least one transparent lacquer layer (1) and a transparent cover layer (12) between which the reflection layer (3) of the image elements (13 or 14) is embedded. 5. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 3 , dadurch gekennzeichnet, dass das Laminat (4) wenigstens eine transparente Lackschicht (1) und eine sichtbares Licht absorbierende Deckschicht (12) umfasst, zwischen denen die Reflexionsschicht (3) der Bildelemente (13 bzw. 14) eingebettet ist.5. Surface pattern according to one of claims 1 to 3, characterized in that the laminate (4) comprises at least one transparent lacquer layer (1) and a visible light-absorbing cover layer (12), between which the reflection layer (3) of the image elements (13 or 14) is embedded. 6. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die von der Gesamtheit der Pixelflächen (15) gebildete transparente Fläche grosser ist als die gesamte Fläche der Bildelemente (13; 14).6. Surface pattern according to one of claims 1 to 5, characterized in that the transparent area formed by the totality of the pixel areas (15) is larger than the total area of the image elements (13; 14). P2783DEg/rev. 28.04.97P2783DEg/rev. 28.04.97 7. Flächenmuster nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass zum Verbinden eines mit einem zu sichernden Substrat (35) das Laminat (4) einen Kleber als Decklack der Deckschicht (12) aufweist.7. Surface pattern according to one of claims 1 to 6, characterized in that for connecting a substrate to be secured (35) the laminate (4) has an adhesive as a top coat of the cover layer (12). 8. Flächenmuster nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der auf dem zu sichernden Substrat (35) aufgeklebte Abschnitt des Laminats (4) individualisierbar ist, wobei jedes der vorbestimmten Pixelelemente (15) nach dem Einwirken eines fokussierten Lichtstrahls (37) durch die Lackschicht (1) hindurch nicht mehr reflektierend sondern transparent ist, so dass im Pixelelement (15) die Deckschicht (12) bzw. eine Struktur (38) auf der Oberfläche (34) des Substrats (35) durch die Deckschicht (12) hindurch sichtbar ist.8. Surface pattern according to claim 7, characterized in that the section of the laminate (4) glued to the substrate (35) to be secured is customizable, wherein each of the predetermined pixel elements (15) is no longer reflective but transparent after the action of a focused light beam (37) through the lacquer layer (1), so that in the pixel element (15) the cover layer (12) or a structure (38) on the surface (34) of the substrate (35) is visible through the cover layer (12). P2783DEg/rev. 28.04.97P2783DEg/rev. 28.04.97
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