DE2932991A1 - METHOD FOR CONTROLLING A FLAT KNITTING MACHINE - Google Patents
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Description
Verfahren zum Steuern einer Flachstrickmaschine Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Strickstücke. Method for controlling a flat knitting machine The invention relates to a method for producing a piece of knitted fabric.
Anwendungsgebiet der Erfindung ist das der Strickverfahren für Flachstrickmaschinen, die mit einem elektronischen Musterapparat ausgestattet sind.The field of application of the invention is that of knitting processes for flat knitting machines, which are equipped with an electronic sample device.
Bei den Verfahren zur Bildung von Mustern ist es bekannt, Daten über die Anordnung und Erscheinung des Musters entlang aller Reihen und der Strickbreite in einem Speichermedium zu speichern.In the method for forming patterns, it is known to use data on the To store the arrangement and appearance of the pattern along all rows and the knitting width in a storage medium.
Wenn ein Grundmuster oder die Lage eines Musters geändert werden sollen, ist es beim Speichern von Mustern gemäß diesem Verfahren erforderlich, den Speicherinhalt, ζ. B. Daten über ein neues Grundmuster oder eine neue Musteranordnung, entlang aller Reihen zu ändern. Ferner ist es unvermeidlich, eine Speichereinrichtung mit großer Speicherkapazität zu verwenden, was zu wirtschaftlichen Nachteilen führt.If a basic pattern or the position of a pattern is to be changed, When saving patterns according to this procedure, it is necessary to read the memory contents, ζ. B. data on a new basic pattern or a new pattern arrangement to change along all rows. Furthermore it is inevitably to use a memory device having a large storage capacity, which leads to economical disadvantages.
Es ist auch aus der deutschen Patentanmeldung P 2 446 141.4 bekannt, einzelne oder mehrere Grundmuster mittels eines elektronischen Musterapparats auf einem Strickstück anzuordnen. Eine Modifizierung des Grundmusters ist bisher jedoch mit keinem Verfahren und mit keiner Vorrichtung durchgeführt worden.It is also known from German patent application P 2 446 141.4, to arrange single or multiple basic patterns on a piece of knitting by means of an electronic pattern apparatus. A modification of the basic pattern has not yet been carried out with any method or device.
Aufgabe der Erfindung ist es demgemäß, ein elektronisches Verfahren für die Musterbildung für eine Flachstrickmaschine vorzusehen, weiche es ermöglicht, Grundmuster und entwickelte Muster an geeigneten Stellen anzuordnen.The object of the invention is accordingly to provide an electronic method to provide for pattern formation for a flat knitting machine, which makes it possible to create basic patterns and developed patterns in suitable places to arrange.
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ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED
Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der Inhalt von drei Speichern, d. h. einem Grundmusterspeicher, einem Musteranordnungsspeicher, in dem eine Musteranordnung eines Strickstücks gespeichert ist, und eines Musterentwicklungsspeichers, in dem Entwicklung und Modifizierung des Grundmusters gespeichert sind, in einen Betriebssteuerkreis eingeführt und der Ausgang dieses Kreises in einen Nadelwählantriebskreis, der einen Nadelwählausgangskreis enthält, eingeführt, um einen Nadelwählbetätiger einer Strickmaschine zu betreiben.According to the method according to the invention, the content of three memories, d. H. a basic pattern memory, a pattern arrangement memory in which a pattern arrangement of a knitted piece is stored, and a pattern development memory in which development and modification of the basic pattern are stored, introduced into an operation control circuit and the output of that circuit is fed into a needle select drive circuit including a needle select output circuit to a needle select actuator to operate a knitting machine.
Anhand der Figuren soll die Erfindung im einzelnen näher erläutert werden. Es zeigen:The invention is to be explained in more detail with the aid of the figures. Show it:
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein Grundmuster;1 shows a plan view of a basic pattern;
Fig. 2 eine Draufsicht auf einen Lochstreifen, auf dem einFig. 2 is a plan view of a punched tape on which a
Grundmuster gespeichert ist;Basic pattern is saved;
Fig. 3 eine Draufsicht auf die Musteranordnung eines StrickFig. 3 is a plan view of the pattern arrangement of a knit
stücks;piece;
Fig. 4 eine Draufsicht auf eine Ausführungsform der MusterFigure 4 is a plan view of one embodiment of the patterns
entwicklung unddevelopment and
Fig. 5 ein Blockdiagramm, das einen Steuerkreis darstellt.Fig. 5 is a block diagram showing a control circuit.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden drei Teilinformationen, die das Grundmuster, die Musteranordnung und die Muster entwicklung betreffen, unter Verwendung eines Lochstreifens eingegeben. Die Informationseingabe ist selbstverständlich auch mit anderen Mitteln als mit Lochstreifen durchführbar. Bei der Erfindung sind die üblicherweise verwendeten Lochstreifen verwendbar. Das Vorliegen oder Nichtvorliegen des Musters wird erfaßt über das Vorliegen oder Nichtvorliegen einer Lochung anIn the method according to the invention, three pieces of information, the concern the basic pattern, the pattern arrangement and the pattern development, entered using a punched tape. The input of information is of course also possible with other means than with punched tape feasible. In the invention, the commonly used punched tape can be used. The presence or absence of the pattern is detected about the presence or absence of a perforation
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bestimmter Stelle. Wird z. B. ein Muster, wie es in der Fig. 1 gezeigt ist, als Grundmuster 10 verwendet, werden Grundmusterperforationen 2 in einem Streifen 1 gebildet, wie dies die Fig. 2 zeigt, und es werden eine Startmarke 3 und eine Stopmarke 4 vor und nach jeder Grundmusterperforation 2 gebildet. Der mit dem Grundmuster gelochte Streifen 1 wird von einem Streifenleser 51 (siehe Fig. 5), der von einem Antriebskreis 71 angetrieben wird, gelesen,und die Signale des Streifenlesers 51 werden in eine Diskriminatorschaltung 54 über einen Lesekreis 52 und eine Schnittstelle 53 eingeführt. Die Grundmustereingabe wird in der Diskriminatorschaltung 54 diskriminiert und in einem Speicherkreis 55 gespeichert.specific place. Is z. B. a pattern as shown in FIG is used as the basic pattern 10, basic pattern perforations 2 are formed in a strip 1 as shown in FIG Start mark 3 and a stop mark 4 formed before and after each basic pattern perforation 2. The strip 1 perforated with the basic pattern is used by a strip reader 51 (see Fig. 5) driven by a drive circuit 71, and the signals of the strip reader 51 are read in a discriminator circuit 54 is introduced via a read circuit 52 and an interface 53. The basic pattern input is in the discriminator circuit 54 discriminated and stored in a memory circuit 55.
Zum Aufzeichnen der Musteranordnung wird die Lage der senkrechten Reiche oder des Stäbchens, auf dem das Grundmuster liegt, für jede waagrechte Reihe bestimmt. Bei Verwendung der in der Fig. 3 gezeigten Musteranordnung wird das in der Fig. 1 gezeigte Grundmuster auf einem Strickstück angeordnet, das 13 Stäbchen A bis M aufweist, und zwar auf der dritten senkrechten Reihe, d. h. auf dem dritten Stäbchen C von links und auf der neunten senkrechten Reihe, d. h. auf dem neunten Stäbchen I von links.To record the pattern arrangement, the position of the vertical lines or rods on which the basic pattern lies is used for each horizontal line Row determined. When using the pattern arrangement shown in FIG the basic pattern shown in Fig. 1 is arranged on a piece of knitting which has 13 wales A to M, on the third vertical row, d. H. on the third double crochet C from the left and on the ninth vertical row, d. H. on the ninth double crochet I from the left.
Die Musteranordnung ist mittels Perforation auf einem Musteranordnungsstreifen 101 gespeichert, wie dies die Fig. 2 zeigt. Auf dem Musteranordnungsstreifen 101 ist aufgezeichnet,mit Bezug auf jede senkrechte Reihe bzw. jedes Stäbchen, ob das Muster angeordnet werden soll oder nicht. Insbesondere wird bei Durchlochung des Musteranordnungsstreifens lOl an einer Stelle, an der das Muster benötigt wird, "1" eingelocht und an einer Stelle, an der das Muster nicht benötigt wird, "0" gelocht. Ih einer in der Fig. 3 gezeigten Ausführungsform ist "0" in zwei senkrechten Reihen gelocht, "1" in drei senkrechten Reihen gelocht, "0" in drei senkrechten Reihen gelocht, "1" in drei senkrechten Reihen gelocht und "0" dann in drei senkrechten Reihen gelocht.The pattern arrangement is by means of perforations on a pattern arrangement strip 101 is stored, as shown in FIG. On the pattern arrangement strip 101 is recorded, with respect to each perpendicular Row or double crochet, whether the pattern should be arranged or not. In particular, when perforating the pattern arrangement strip lOl at a point where the pattern is needed, "1" punched and "0" punched at a point where the pattern is not required. You In an embodiment shown in FIG. 3, "0" is punched in two vertical rows, "1" is punched in three vertical rows, "0" is punched in three vertical rows Rows punched, "1" punched in three vertical rows and "0" then punched in three vertical rows.
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Ein Muster, das von dem in der Fig. 1 gezeigten Muster verschieden ist, kann durch Entwicklung des Grundmusters 10 gebildet werden.A pattern which is different from the pattern shown in Fig. 1, can be formed by developing the basic pattern 10.
Wird z. B. ein entwickeltes Muster 100 gewünscht, wie es in der Fig. 4 gezeigt ist, so wird die Musterentwicklung durch Perforierungen oder Lochungen auf einem Musterentwicklungsstreifen 201 gespeichert. Als Speicherdaten, die auf dem Musterentwicklungsstreifen 201 zu speichern sind, sind die folgenden Daten erforderlich,und sie werden als numerische Werte ausgedrückt, nämlich "gelöschter Zustand (clear) - 0", "Istzustand - 1", "Addition - 3" und "Subtraktion - 5". Weil der vorstehend erwähnte Musteranordnungsstreifen bei dieser Ausführungsform nur die zwei Perforationsarten "0" und "1" enthält, wird der Musteran- t Ordnungsstreifen auch als Musterentwicklungsstreifen verwendet. Es werden insbesondere Musterentwicklungsperforationen oder -lochungen in einer Fläche gebildet, die unterhalb der entsprechenden Musteranordnungsperforationen im Musteranordnungsstreifen 1 liegen. Selbstverständlich können verschiedene Musteranordnungsstreifen und Musterentwickiungs streifen" verwendet werden.Is z. If, for example, a developed pattern 100 is desired, as is shown in FIG. 4, the pattern development is stored on a pattern development strip 201 by means of perforations or holes. As the storage data to be stored on the pattern developing tape 201, the following data are required, and they are expressed as numerical values, namely "cleared state - 0", "current state - 1", "addition - 3" and " Subtraction - 5 ". Because the above-mentioned arrangement pattern strip contains only the two types of perforation is "0" and "1" in this embodiment, the Musteran- t trim strip also be used as a pattern development strips. In particular, pattern development perforations or perforations are formed in an area which lies below the corresponding pattern arrangement perforations in the pattern arrangement strip 1. Of course, various pattern arrangement strips and pattern development strips can be used.
Sind die vorstehend erwähnten Grundmuster, Musteranordnung und Musterentwicklung, festgelegtw orden, und ist das Gesamtmuster des Strickstücks bestimmt worden, wird der Inhalt des Grundmusterstreifens 1, des Musteranordnungsstreifens 101 und des Musterentwicklungsstreifens 201 im Speicherkreis 55 gespeichert.Are the above-mentioned basic patterns, pattern arrangement and pattern development, and is the overall pattern of the knitted piece has been determined, the content of the basic pattern strip 1, the pattern arrangement strip 101 and the pattern developing tape 201 are stored in the memory circuit 55.
Der Speicherinhalt wird über den Streifenleser 51, den Lesekreis 52 und die Schnittstelle 53 in die Diskriminatorschaltung 54 eingegeben. In der Schaltung 54 wird diskriminiert, ob der Eingang das Grundmuster, die Muster anordnung oder die Musterentwicklung ist.The memory content is read via the strip reader 51, the reading circuit 52 and the interface 53 is input to the discriminator circuit 54. In the circuit 54 it is discriminated whether the input has the basic pattern, the Pattern arrangement or the pattern development is.
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Beim Strickvorgang wird in einem (nicht gezeigten) Wagen, der auf einem Strickmechanismus 56 angeordnet ist, und sich nach Erhalt eines Startsignals in Bewegung setzt, die Platinenteilung durch einen auf dem Wagen befestigten Detektor 57 erfaßt, um einen Platinenteilungsdetektorkreis 58 zu betätigen, und es wird ein Signal dieses Kreises 58 durch die Schnittstelle 59 und den Betriebssteuerkreis 60 in den Speicherkreis 55 eingeben. Aufgrund dieses Eingangs oder Eingangs signals wird der Musteranordnungsspeicher bzw. der Musteranordnungsspeicherinhalt an den Betriebssteuerkreis abgegeben. Wenn aufgrund dieses Signals ein Musteranordnungssignal "1" abgegeben wird, wird ein Signal zur Erteilung des Grundmustersignals vom Betriebssteuerkreis in den Speicherkreis 55 ausgegeben,und es wird vom Speicherkreis 55 ein Grundmustersignal "1" ab-1 gegeben. Wird die Musterentwicklung benötigt, gibt der Speicherkreis 55 das Musterentwicklungssignal ab. Diese Befehle werden vom Betriebssteuerkreis 60 gesammelt und ausgegeben an den Nadelwählausgangskreis 61. Der Ausgang des Kreises 61 wird über die Schnittstelle 59 und den Nadelwählantriebskreis 62 an einen Nadelwählbetätiger 63 gegeben, um den Betätiger 63 in der Weise zu betätigen, daß der Nadelwählvorgang synchron mit der Bewegung des Wagens des Strickmechanismus 56 durchgeführt wird.In the knitting process, in a carriage (not shown) which is arranged on a knitting mechanism 56 and starts moving after receiving a start signal, the sinker division is detected by a detector 57 mounted on the carriage to operate a sinker division detection circuit 58, and it a signal of this circuit 58 is input through the interface 59 and the operating control circuit 60 into the memory circuit 55. On the basis of this input or input signal, the pattern arrangement memory or the contents of the pattern arrangement memory are transferred to the operating control circuit. When issued based on this signal a pattern arrangement signal "1", a signal to the grant of the basic pattern signal is output from the operation control circuit in the memory circuit 55, and it is from the memory circuit 55, a pattern signal "1" off one given. When the pattern development is required, the memory circuit 55 outputs the pattern development signal. These commands are collected by the operation control circuit 60 and output to the needle selection output circuit 61. The output of the circuit 61 is given through the interface 59 and the needle selection drive circuit 62 to a needle selection actuator 63 to operate the actuator 63 so that the needle selection operation is synchronized with the Movement of the carriage of the knitting mechanism 56 is performed.
Wenn bei Entwicklung des Musters, wie dies in der Fig. 4 der vorstehenden Ausführungsform gezeigt ist, das Musteranordnungssignal abgegeben wird, wird ein Additionssignal für die Musterentwicklung gleichzeitig mit dem nachfolgenden Platinenteilungssignal abgegeben und ein Istzustandssignal, ein Istzustandssignal, ein Subtraktionssignal, ein Subtraktionssignal und ein Signal für die Vollendung der Musterentwicklung werden dann in Reihenfolge mit nachfolgenden Platinenteilungssignalen abgegeben. Auf diese Weise wird ein Zyklus der Musterentwicklung vollendet.When developing the pattern as shown in Fig. 4 of the above Embodiment is shown, the pattern arrangement signal is output, an addition signal for the pattern development is simultaneously with the subsequent board division signal and an actual state signal, an actual state signal, a subtraction signal, a subtraction signal and a signal for completion of the pattern development then issued in sequence with subsequent board division signals. In this way a cycle of pattern development is completed.
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Werden bei aufeinanderfolgender Bildung der in der Fig. 1 gezeigten Grundmuster verschiedene Signale, wie Additionssignale, Istzustands signale und Subtraktionssignale in entsprechender Weise kombiniert, wie dies vorstehend angegeben ist, lassen sich verschiedene Modifikationen des Grundmusters bilden.Will be shown in Fig. 1 with successive formation Basic pattern different signals, such as addition signals, actual status signals and subtraction signals combined in a corresponding manner, such as As indicated above, various modifications of the basic pattern can be made.
Wird gemäß der Erfindung ein Grundmuster im voraus festgelegt, können durch entsprechende Änderung der Speicher bzw. der Speicherdaten für die Musteranordnung und Muster entwicklung Grundmuster und entwickelte Muster an entsprechende Stellen und mit verschiedenen Variationen oder Modifizierungen der Musteranordnung nach Wahl durch eine derartige Änderung der Musteranordnung angeordnet werden. f If, according to the invention, a basic pattern is specified in advance, basic patterns and developed patterns can be arranged in appropriate locations and with various variations or modifications of the pattern arrangement by changing the pattern arrangement accordingly by changing the memory or the storage data for the pattern arrangement and pattern development will. f
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