DE2753643A1 - IMAGE DISPLAY DEVICE IN FLAT DESIGN WITH ELECTRON BEAM GUIDE - Google Patents

IMAGE DISPLAY DEVICE IN FLAT DESIGN WITH ELECTRON BEAM GUIDE

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DE2753643A1
DE2753643A1 DE19772753643 DE2753643A DE2753643A1 DE 2753643 A1 DE2753643 A1 DE 2753643A1 DE 19772753643 DE19772753643 DE 19772753643 DE 2753643 A DE2753643 A DE 2753643A DE 2753643 A1 DE2753643 A1 DE 2753643A1
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Thomas Lloyd Credelle
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RCA Corp
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RCA Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J31/00Cathode ray tubes; Electron beam tubes
    • H01J31/08Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
    • H01J31/10Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
    • H01J31/12Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
    • H01J31/123Flat display tubes
    • H01J31/124Flat display tubes using electron beam scanning

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  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

RCA 67 646 ARCA 67 646 A

U.S. Serial No: 746,213 , ,. _ ?**"*«"»»·US Serial No: 746,213,,. _ ? ** "*« "» »·

Piled: December 1, 1976 ψ· Dr. Dieter ν. BezoldPiled: December 1, 1976 ψ Dr. Dieter ν. Bezold

Dipl. - Ing. Petsr SchoteDipl. - Ing.Petsr Schote

Dipl.-Ing. Wolfgang HouslerDipl.-Ing. Wolfgang Housler

8 München 83, Postlach 6606688 Munich 83, Postlach 660668

RCA Corporation New York, N.Y., V.St.ν.A.RCA Corporation New York, N.Y., V.St.ν.A.

Bildwiedergabegerät in Flachbauweise mit ElektronenstrahlführungImage display device in flat design with electron beam guidance

Die Erfindung bezieht sich auf Bildwiedergabegeräte in Flachbauweise, die mit Einrichtungen zum Abtasten ihres Bildschirms durch einen Elektronenstrahl versehen sind. Die Erfindung betrifft insbesondere ein Gerät dieser Gattung, das eine Führungsanordnung enthält, um den Strahl zu begrenzen und zu führen und ihn selektiv aus der Führung herauszuziehen.The invention relates to image display devices in flat design, those with facilities for scanning their screen are provided by an electron beam. The invention relates in particular to a device of this type, which has a guide arrangement contains to limit and guide the beam and selectively pull it out of the guide.

Die derzeitigen kommerziellen Kathodolumineszenz-Bildröhren, wie sie z.B. für Fernsehzwecke verwendet werden, enthalten gewöhnlich einen senkrecht vom Schirm fortragenden Hals und Trichter und haben daher eine verhältnismäßig große Tiefenabmessung senkrecht zum Schirm.The current commercial cathodoluminescent picture tubes, such as those used for television purposes usually contain a neck and funnel perpendicular to the screen and therefore have a relatively large depth dimension perpendicular to the screen.

Seit langem besteht der Wunsch, die Tiefe oder Dicke solcher Bildgeräte zu vermindern, um eine praktisch flache Bauweise zuThere has long been a desire to reduce the depth or thickness of such imaging devices to make them practically flat

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bekommen. Aus der USA-Patentschrift 2 928 0-14 ist eine Struktur bekannt, die mit geführtem Strahl arbeitet und aus einem dünnen kastenähnlichen Kolben besteht, von dessen großen Flächen die eine als Frontplatte dient, auf der ein Leuchtstoffschirm aufgebracht ist. An der einen Seite des Schirms, im allgemeinen in einer der Ecken, befindet sich ein Strahlerzeugungssystem (Elektronenkanone) in derartiger Anordnung, daß es ein Bündel ("Strahl") von Elektronen auf einen praktisch parallel zum Schirm laufenden Weg quer durch das Gerät sendet. Ablenkelemente sorgen dafür, daß der Strahl selektiv auf aufeinanderfolgende Punkte des Schirms abgelenkt werden kann, um den Schirm in der gewünschten Weise abzutasten. Die Ablenkelemente haben im allgemeinen die Form von Metallfilmelektroden, die an der Rückwand und an den Seiten des Röhrenkolbens aufgebracht sind.receive. From U.S. Patent 2,928 0-14 there is a structure known, which works with a guided beam and consists of a thin box-like piston, of the large areas one serves as a front plate on which a fluorescent screen is upset. A beam generating system is located on one side of the screen, generally in one of the corners (Electron gun) in such a way that there is a bundle ("beam") of electrons at one practically parallel to the Screen sends a running path across the device. Deflectors ensure that the beam selectively on successive Points of the screen can be deflected to scan the screen in the desired manner. Have the deflectors generally in the form of metal film electrodes applied to the back wall and sides of the bulb.

Das Prinzip des geführten Strahls bringt Probleme, wenn man flache Bildröhren mit großflächigen Schirmen herstellen \ill, z.B. mit Schirmen in der Größenordnung von 75 x 100 cm. Bei derart großen Geräten muß auf irgend eine Weise für eine innere Abstützung gesorgt werden, damit der evakuierte Kolben nicht zusammenbricht. In einem Gerät mit innerem Stützaufbau ist die Begrenzung und Führung des Elektronenstrahls aber kritischer als in einem Gerät ohne solchen Stützaufbau, da vermieden werden muß, daß die stützende Struktur den gewünschten Abtastbetrieb des Strahls längs des Schirms nicht stört oder behindert. Außerdem werden bei den mit geführtem Strahl arbeitenden Flachbildröhren des in der USA-Patentschrift 2 928 014- gezeigten Typs hohe Spannungen benötigt, um den Elektronenstrahl abzulenken. Eine Aufgabe der Erfindung besteht somit darin, ein solches Bildwiedergabegerät so auszulegen, daß es mit niedrigeren Spannungen arbeitet und dennoch eine zufriedenstellende Begrenzung und Führung des Strahls gewährleistet.The principle of the guided beam causes problems when manufacturing flat picture tubes with large screens \ ill, e.g. with umbrellas in the order of 75 x 100 cm. With such large devices must be provided in some way for internal support so that the evacuated piston does not collapses. In a device with an internal support structure, however, the limitation and guidance of the electron beam is more critical than in an apparatus without such a support structure, since the supporting structure must be avoided from the desired scanning operation of the beam along the screen does not interfere or obstruct. In addition, flat tubes working with a guided beam of the type shown in U.S. Patent 2,928,014 high voltages are required to deflect the electron beam. An object of the invention is thus to provide such To design an image display device so that it operates at lower voltages and yet has a satisfactory limit and guidance of the beam is guaranteed.

Die Erfindung geht aus von einem Bildwiedergabegerät der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 beschriebenen Gattung und löst die gestellte Aufgabe durch Merkmale, wie sie im Kennzeichnungsteil des Anspruchs 1 angegeben sind. Ein erfindungsgemäßes BiId-The invention is based on an image display device in the preamble of claim 1 described genus and solves the problem posed by features such as those in the characterizing part of claim 1 are specified. An image according to the invention

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wiedergabegerät in Flachbauweise enthält sonach einen evakuierten Kolben mit einer vorderen Wand, längs dessen innerer Oberfläche sich ein Leuchtstoffschirm erstreckt. Im Gerät befindet sich eine Einrichtung zum Erzeugen eines oder mehrerer Elektronenstrahlen und zum Lenken jedes Strahls auf einem Weg, der im Großen und Ganzen parallel zur Vorderwand und über dieselbe läuft. Längs des Strahlweges sind Einrichtungen angeordnet, die dem Strahl eine im wesentlichen wellige Bahn geben und es andererseits erlauben, den Strahl an verschiedenen ausgewählten Punkten längs seines Weges aus dem Weg heraus auf den Leuchtstoffschirm abzulenken. Längs des Strahlweges befinden sich ferner Einrichtungen, um die Elektronen seitlich auf einen relativ schmalen Strahl zu begrenzen.playback device in flat design therefore contains an evacuated one A bulb having a front wall along the inner surface of which a phosphor screen extends. In the device there is a means for generating one or more electron beams and for directing each beam a path that runs largely parallel to and across the front wall. There are devices along the beam path arranged, which give the beam a substantially wavy path and on the other hand allow the beam at different deflect selected points along its path out of the way onto the phosphor screen. Along the In the beam path there are also devices to limit the electrons laterally to a relatively narrow beam.

Die Erfindung wird nachstehend an Ausführungsbeispielen anhand von Zeichnungen näher erläutert.The invention is explained in more detail below using exemplary embodiments with reference to drawings.

Fig. 1 zeigt perspektivisch und teilweise aufgeschnitten ein flaches Bildwiederg; bcgerät mit einer Anordnung zur Strahlführung;Fig. 1 shows, in perspective and partially cut away, a flat image representation; bcgerät with an arrangement for Beam guidance;

Figuren 2a und 2bFigures 2a and 2b

veranschaulichen in schematischen Darstellungen die Wirkungsweise einer Ausführungsform der Strahlführung nach Fig. 1;illustrate in schematic representations the mode of operation of an embodiment of the beam guidance according to Fig. 1;

Figuren 3a, 3b und 3cFigures 3a, 3b and 3c

veranschaulichen in schematischen Darstellungen die Wirkungsweise einer anderen Ausführungsform der Strahlführung nach Fig. 1;illustrate in schematic representations the mode of operation of another embodiment of the beam guidance according to Fig. 1;

Fig. U- zeigt einen Querschnitt durch einen Teil des Bildwiedergabegeräts nach Fir> 1, wobei man nach unten in die Kanäle des Geräts blickt und eine Ausführungsform der Strahlführung erkennt; U- shows a cross section through part of the image display device according to Fir> 1, looking down into the channels of the device and recognizing an embodiment of the beam guidance;

Fig. 5 offenbart mit einem ähnlichen Querschnitt wie Fig. 4 eine andere Ausführungsform der Strahlführung; 809823/0806FIG. 5 discloses with a similar cross section as FIG. 4 another embodiment of the beam guide; 809823/0806

Fig. 6 offenbart in einem ähnlichen Querschnitt wie Fig. 4 eine dritte Ausführungsform der Strahlführung, die in einem flachen Bildwiedergabegerät verwendet werden kann;Fig. 6 discloses in a similar cross-section to FIG. 4, a third embodiment of the beam guide, the can be used in a flat screen display device;

Fig. 7 zeigt an einer angeschnittenen perspektivischen Darstellung eine vierte Ausführungsform der Strahlführung, die in einem flachen Bildwiedergabegerät verwendet werden kann ;'Fig. 7 shows a sectioned perspective illustration a fourth embodiment of the beam guide used in a flat picture display device can ;'

Figuren 8 bis 13Figures 8 to 13

zeigen in ähnlichen Schnittansichten wie die Fig. 4 andere Ausführungsformen von Strahlführungen, die in dem Bildwiedergabegerät nach Fig. 1 verwendet werden können.show, in sectional views similar to FIG. 4, other embodiments of beam guides which are shown in FIG the image display device according to Fig. 1 can be used.

In der Fig. 1 ist das in flacher Bauweise ausgeführte und mit einer Strahlführung versehene Bildwiedergabegerät allgemein mit 10 bezeichnet. Das Gerät 10 umfaßt einen evakuierten Kolben 12, der typischerweise aus Glas besteht und einen Bilderzeugungsteil 14 sowie einen Strahlerzeugungsteil 16 aufweist. Der Bilderzeugungsteil 14 hat eine rechteckige Vorderwand 18 und eine dazu im Abstand parallel verlaufende rechteckige Rückwand 20. Vorderwand 18 und Rückwand 20 sind über Seitenwände 22 miteinander verbunden. Die Vorderwand 18 und die Rückwand 20 sind so bemessen, daß sie der gewünschten Größe des Bildschirms entsprechen, z.B..75 x 100 cm. Ihr gegenseitiger Abstand beträgt typischerweise etwa 2,5 bis 7»5 cm·In Fig. 1, the flat design and provided with a beam guide image display device is generally included 10 designated. The apparatus 10 includes an evacuated piston 12, typically made of glass, and an imaging portion 14 and a beam generating part 16. The image forming part 14 has a rectangular front wall 18 and a Rectangular rear wall 20 running parallel to this at a distance. Front wall 18 and rear wall 20 are connected to one another via side walls 22 tied together. The front wall 18 and the rear wall 20 are dimensioned so that they correspond to the desired size of the screen, e.g. 75 x 100 cm. Their mutual distance is typically about 2.5 to 7 »5 cm ·

Zwischen der Vorderwand 18 und der Rückwand 20 ist eine Vielzahl beabstandeter und im wesentlichen zueinander paralleler Stützwände 24 befestigt, die sich in vertikaler Richtung erstrecken. Die Stützwände 24 geben dem evakuierten Kolben 12 den inneren Halt gegen den äußeren Atmosphärendruck und unterteilen den Bilderzeugungsteil 14 in eine Vielzahl vertikaler Kanäle In jedem der Kanäle 26 befindet sich eine Strahlführung. Auf der Innenseite der Vorderwand 18 befindet sich ein LeuchtstoffschirmBetween the front wall 18 and the rear wall 20 are a plurality of spaced apart and substantially parallel to one another Supporting walls 24 attached, which extend in the vertical direction. The support walls 24 give the evacuated piston 12 the internal hold against the external atmospheric pressure and divide the image forming part 14 into a plurality of vertical channels A beam guide is located in each of the channels 26. A fluorescent screen is located on the inside of the front wall 18

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Der Strahlerzeugungsteil 16 bildet eine Fortsetzung des Bilderzeugungsteils 14 und erstreckt sich entlang den benachbarten Einmündungen der Kanäle 26 an deren einem Ende. Der Strahlerzeugungsteil kann irgend eine geeignete Gestalt haben, um die darin enthaltene jeweilige Strahlkanonenstruktur zu umschließen, und er kann in irgend einer bekannten Weise konstruiert sein, um einen Strahl von Elektronen wahlweise in Jeden der Kanäle zu senden. Das Strahlerzeugungssystem kann z.B. aus einer Vielzahl einzelner Elektronenkanonen bestehen, von denen jeweils eine an einem Ende jedes der Kanäle 26 sitzt, um in jeden der Kanäle einen gesonderten Elektronenstrahl zu lenken.The beam generating part 16 forms a continuation of the image generating part 14 and extends along the adjacent junctions of the channels 26 at one end thereof. The beam generating part may be of any suitable shape to enclose the particular beam gun structure contained therein, and it can be constructed in any known manner to selectively direct a beam of electrons into each of the channels to send. The beam generation system can for example consist of a large number of individual electron guns, each of which one at one end of each of the channels 26 for directing a separate electron beam into each of the channels.

Das Strahlsystem kann in anderer Ausführung auch eine einzige Elektronenkanone sein, die an einem Ende des Strahlerzeugungsteils 16 sitzt und einen Elektronenstrahl quer über die Enden der Kanäle 26 richtet, der mit Hilfe von längs des Strahlerzeugungsteils 16 sitzenden Ablenkelektroden selektiv in jeden der Kanäle 26 hinein ablenkbar ist. Ein solches Strahlsystem ist in der oben erwähnten USA-Patentschrift 2 928 014 beschrieben.The jet system can also be a single one in another design Be an electron gun that sits at one end of the beam generating part 16 and an electron beam across the ends of channels 26, which by means of deflection electrodes located along the beam generating part 16 selectively into each of the Channels 26 is deflectable into it. Such a jet system is described in U.S. Patent No. 2,928,014 mentioned above.

Ein weiteres im vorliegenden Fall -verwendbares Strahlsystem enthält eine linienförmige Kathodenanordnung, die längs des Strahlerzeugungsteils 16 euer über die Enden der Kanäle 26 läuft und einzelne Bündel von Elektronen selektiv den Kanälen entlangsenden kann. Ein Strahlsystem dieses Typs ist in der USA-Patentschrift 2 858 464· beschrieben.Contains another jet system that can be used in the present case a linear cathode arrangement, which runs along the beam generating part 16 your over the ends of the channels 26 and can send individual bundles of electrons selectively along the channels. A jet system of this type is shown in the United States patent 2,858,464.

Durch eine Seitenwand 22 des Kolbens 12 greift ein Anschlußstück 27 mit mehreren Anschlußdrähten oder -stiften, über die das Strahlsystem und andere innerhalb des Kolbens 12 liegende Teile des Geräts elektrisch mit geeigneten Betätigungs- und Versorgungsschaltungen außerhalb des Kolbens 12 verbunden werden können.Through a side wall 22 of the piston 12, a connecting piece 27 engages with a plurality of connecting wires or pins through which the Blasting system and other parts of the device located within the piston 12 electrically with suitable actuation and supply circuits outside of the piston 12 can be connected.

Die in jedem der Kanäle 26 sitzende Strahlführung arbeitet mit der sogenannten Slalom-Fokussierung, wie sie von J.S. Cook u.a. in einem Artikel "Slalom Focusing" beschrieben ist, der in "Proceedings of the IRE", Band 45, November 1957 (Seiten 1517-1522)The beam guidance located in each of the channels 26 works with what is known as slalom focusing, as described by J.S. Cook et al. in an article "Slalom Focusing" which is described in "Proceedings of the IRE", Volume 45, November 1957 (pages 1517-1522)

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veröffentlicht wurde. Die dort beschriebene Slalom-FoKussierung bedient sich einer Vielzahl beabstandeter paralleler Drähte oder Stäbe, die in einer gemeinsamen Ebene mitten zwischen zwei parallelen Platten angeordnet sind. Die Drähte oder Stäbe sind gegenüber den Platten positiv aufgeladen. Das dadurch erzeugte elektrostatische Feld ist so beschaffen, daß ein Elektronenstrahl, der in den Zwischenraum zwischen den Platten längs der Ebene der Stäbe oder Drähte gerichtet wird, eine wellige oder schlangenlinienförmige Bahn durch die Anordnung der Stäbe oder Drähte beschreibt. Eine solche Struktur bringt zwar eine Begrenzung des Strahls auf seinen erwünschten Weg, sie sorgt jedoch nicht dafür, daß der Strahl an ausgewählten Punkten aus der Struktur herausgezogen wird, wie es beim Gegenstand der vorliegenden Erfindung erfordert wird.has been published. The slalom focus described there makes use of a multitude of spaced parallel wires or rods that lie in a common plane midway between two parallel plates are arranged. The wires or rods are positively charged with respect to the plates. The resulting electrostatic field is such that an electron beam enters the space between the plates longitudinally the plane of the rods or wires is directed, a wavy or serpentine path through the arrangement of the rods or describes wires. Such a structure brings a limitation of the beam on its desired path, it ensures but not for pulling the beam out of the structure at selected points, as is the case with the subject matter of FIG present invention is required.

In der Fig. 2a ist schematisch eine Ausführungsform der Strahlführung dargestellt, die allgemein mit 29 bezeichnet ist und im Bildwiedergabegerät 10 verwendet werden kann, um den Elektronenstrahl zu fokussieren und selektiv abzulenken. Die Strahlführung 29 besteht aus einer ersten Gruppe beabstandeter paralleler Drähte 30, die in einer gemeinsamen Ebene zwischen einer Masseebene 32 und einer zweiten Gruppe beabstandeter paralleler Drähte 34 verlaufen, die ihrerseits ebenfalls in einer gemeinsamen Ebene parallel zur Masseebene J2 sind . Die Drähte 30 der ersten Gruppe liegen näher an der Masseebene 32 als die Drähte 34- der zweiten Gruppe. Die zweite Gruppe enthält genau so viele Drähte 34- wie die erste Gruppe Drähte 30 enthält, und jeder der Drähte 34- liegt direkt über jeweils einem anderen der Drähte 30 und läuft diesem Draht parallel· Beim Betrieb dieser Ausführungsform einer Strahlführung wird an jeden der Drähte 30 der ersten Gruppe ein Potential +Vq gelegt, das positiv gegenüber der Masseebene 32 ist. An jeden der Drähte 34- der zweiten Gruppe wird ein Potential gleichen Betrags aber negativer Polarität -Vq gelegt. Hierdurch wird zwischen den beiden Drahtgruppen eine O-Volt-Ebene gebildet, die parallel zur Masseebene 32 verläuft und in der Zeichnung mit der gestrichelten Linie 36 angedeutet ist. Ein in die Strahlführung gerichteter Strahl von ElektronenIn Fig. 2a, an embodiment of the beam guide is shown schematically, which is generally designated 29 and can be used in the image display device 10 to focus and selectively deflect the electron beam. The beam guide 29 consists of a first group of spaced parallel wires 30 which run in a common plane between a ground plane 32 and a second group of spaced parallel wires 34 which in turn are also in a common plane parallel to the ground plane J2. The wires 30 of the first group are closer to the ground plane 32 than the wires 34- of the second group. The second group contains exactly as many wires 34 - as the first group contains wires 30, and each of the wires 34 - lies directly over each other of the wires 30 and runs parallel to this wire 30 of the first group, a potential + Vq is placed, which is positive with respect to the ground plane 32. A potential of the same magnitude but negative polarity -Vq is applied to each of the wires 34- of the second group. As a result, a 0-volt plane is formed between the two wire groups, which runs parallel to the ground plane 32 and is indicated in the drawing by the dashed line 36. A beam of electrons directed into the beam guidance

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-X--X-

/IO/ IO

folgt also, ähnlich wie bei der von Cook u.a. beschriebenen Anordnung, einer welligen Bahn, die sich zwischen den Drähten 30 der ersten Gruppe hindurchwindet, wie es mit der gepfeilten Linie 38 dargestellt ist.thus follows, similar to that described by Cook et al Arrangement, a wavy path that winds between the wires 30 of the first group, as it is with the arrow Line 38 is shown.

Um den Elektronenstrahl gemäß der Darstellung in Fig. 2b aus der Strahlführung 29 herauszuziehen, wird ein Draht 30a der ersten Gruppe auf ein niedriges Gleichspannungspotential V-ß geschaltet, das geringer ist als +Vq, und der entsprechende Draht 3^-a der zweiten Gruppe wird auf ein positives Gleichspannungspotential Vg geschaltet. Hierdurch ändert sich das elektrostatische Feld derart, daß der Strahl von der Masseebene 32 fortgelenkt wird und die Strahlführung 29 zwischen zwei Drähten der zweiten Drahtgruppe 34- verläßt, wie es die Linie 38a zeigt. Durch Umschalten der Potentiale an verschiedenen Paaren benachbarter Drähte der beiden Drahtgruppen 30 und 34 kann also der Elektronenstrahl an ausgewählten Punkten längs der Strahlführung 29 aus dieser Führung herausgelsnkt werden.To the electron beam as shown in Fig. 2b To pull out the beam guide 29, a wire 30a is the first group to a low DC voltage potential V-ß which is less than + Vq, and the corresponding wire 3 ^ -a of the second group is switched to a positive DC voltage potential Vg switched. This changes the electrostatic Field such that the beam is deflected away from the ground plane 32 and the beam guide 29 between two wires the second group of wires 34- exits, as shown by line 38a. By switching the potentials on different pairs of adjacent wires of the two wire groups 30 and 34, the Electron beam be gelsnkt at selected points along the beam guide 29 from this guide.

In der Fig. 3a ist eine andere Form einer im Wiedergabegerät verwendbaren Strahlführung insgesamt mit 40 bezeichnet. Die Strahlführung 40 enthält ähnlich wie die Strahlführung 29 in Fig. 2a eine erste Gruppe beabstandeter paralleler Drähte 42, die in einer Ebene zwischen einer Masseebene 44 und einer zweiten Gruppe beabstandeter paralleler Drähte 46 verlaufen, welche ihrerseits in einer gemeinsamen Ebene parallel zur Masseebene verlaufen. Bei der Strahlführung 4o ist jedoch die Anzahl der Drähte 46 der zweiten Gruppe größer als die Anzahl der Drähte 42 der ersten Gruppe, wobei die Drähte 42 der ersten Gruppe mitten zwischen der Masseebene 44 und den Drähten 46 der zweiten Gruppe liegen.In FIG. 3 a, another form of a beam guide that can be used in the playback device is designated as a whole by 40. the Similar to the beam guide 29 in FIG 2a shows a first group of spaced-apart parallel wires 42 which lie in a plane between a ground plane 44 and a second Group of spaced parallel wires 46 which in turn run in a common plane parallel to the ground plane get lost. In the case of the beam guide 4o, however, the number of wires 46 of the second group is greater than the number of wires 42 of the first group, with the wires 42 of the first group midway between the ground plane 44 and the wires 46 of the second group lie.

Beim Betrieb der Strahlführung 40 liegt jeder der Drähte 42 der ersten Gruppe auf einem Potential +Vq, das positiv gegenüber der Masseebene 44 ist, während sowohl die Masseebene 44 als auch die Drähte 46 der zweiten Gruppe auf O-Potential liegen. Hierdurch entsteht ein derartiges elektrostatisches Feld, daß ein in dieWhen the beam guide 40 is in operation, each of the wires 42 of the first group is at a potential + Vq, which is positive with respect to the Ground plane 44 is, while both the ground plane 44 and the wires 46 of the second group are at 0 potential. Through this creates such an electrostatic field that a into the

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Strahlführung gelenkter Elektronenstrahl einer Schlangenlinie durch die Drähte 46 der ersten Gruppe folgt, wie es die gepfeilte Linie 48 zeigt.The beam guidance of the guided electron beam follows a serpentine line through the wires 46 of the first group, as is the arrowed one Line 48 shows.

Um den Elektronenstrahl aus der Führung 40 herauszuziehen, werden zwei benachbarte Drähte 46a und 46b der zweiten Gruppe gemäß der Darstellung in Fig. 3b auf ein positives Gleichspannungspotential V£ geschaltet, das ungefähr gleich +VQ ist. Hierdurch wird der Elektronenstrahl zu den Drähten der zweiten Gruppe 46 hin abgelenkt. Der Strahl läuft zwischen den beiden positiv geladenen Drähten 46a und 46b hindurch und verläßt die Strahlführung 40, wie es die Linie 48a in Fig. 3b zeigt. Durch Umschalten verschiedener Paare benachbarter Drähte der zweiten Gruppe 46 auf ein positives Potential kann also der Elektronenstrahl an ausgewählten Punkten längs der Strahlführung 40 aus dieser Führung herausgelenkt werden.In order to pull the electron beam out of the guide 40, two adjacent wires 46a and 46b of the second group are switched to a positive direct voltage potential V £ , which is approximately equal to + V Q , as shown in FIG. 3b. This deflects the electron beam towards the wires of the second group 46. The beam passes between the two positively charged wires 46a and 46b and leaves the beam guide 40, as shown by the line 48a in FIG. 3b. By switching different pairs of adjacent wires of the second group 46 to a positive potential, the electron beam can thus be deflected out of this guide at selected points along the beam guide 40.

Die Fig. 3c veranschaulicht eine andere Art, in der die Strahlführung 40 zum selektiven Herausziehen des Elektronenstrahls betrieben werden kann. Bei dieser Betriebsart wird einer der Drähte (42a) der ersten Gruppe auf ein negatives Potential -VE geschaltet, das nicht so negativ wie -Vq ist. Hierdurch ändert sich das auf den Elektronenstrahl wirkende elektrostatische Feld derart, daß der Strahl zu den Drähten 46 der zweiten Gruppe hin abgelenkt wird. Der Elektronenstrahl läuft dann zwischen zwei Drähten 46a und 46c der zweiten Gruppe hindurch aus der Strahlführung 40 heraus, wie es die durchgezogene Linie 48b zeigt. Wenn der besagte eine Draht 42a der ersten Gruppe auf ein Potential geschaltet wird, das negativer als -VE ist, dann lenkt die auf den Strahl wirkende elektrostatische Kraft den Strahl weiter vom Draht 42a weg. Dies führt dazu, daß der Elektronenstrahl die Strahlführung 40 zwischen zwei anderen Drähten 46a und 46b der zweiten Gruppe verläßt, wie es die gestrichelte Linie 48c zeigt. Durch Änderung des Betragn des den Drähten 42 der ersten Gruppe angelegten negativen Potentials kann also der Elektronenstrahl in unterschiedlichem Maße abgelenkt werden, um ihn an verschiedenen ausgewählten Positionen zwischen jeweils anderen be-3c illustrates another way in which the beam guide 40 can be operated to selectively extract the electron beam. In this mode of operation, one of the wires (42a) of the first group is switched to a negative potential -V E , which is not as negative as -Vq. This changes the electrostatic field acting on the electron beam in such a way that the beam is deflected towards the wires 46 of the second group. The electron beam then runs out of the beam guide 40 between two wires 46a and 46c of the second group, as shown by the solid line 48b. If said one wire 42a of the first group is switched to a potential which is more negative than -V E , then the electrostatic force acting on the beam deflects the beam further away from the wire 42a. As a result, the electron beam leaves the beam guide 40 between two other wires 46a and 46b of the second group, as shown by the dashed line 48c. By changing the amount of the negative potential applied to the wires 42 of the first group, the electron beam can thus be deflected to different degrees in order to move it at different selected positions between each other.

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nachbarten Drähten 4-6 innerhalb des Bereichs zwischen benachbarten Drähten 4-2 der ersten Gruppe aus der Strahlführung 4-0 herauszuziehen. Diese Betriebsart der Strahlführung 4-0 gestattet somit ein Herausziehen des Elektronenstrahls an einer größeren Anzahl verschiedener Positionen, als es mit der Strahlführung 29 nach Fig. 2 oder mit der in Fig. 5b gezeigten Betriebsart der Strahlführung 4-0 möglich ist.adjacent wires 4-6 within the area between adjacent Pull wires 4-2 of the first group out of the beam guide 4-0. This operating mode of the beam guidance 4-0 is permitted thus pulling out the electron beam at a greater number of different positions than with the beam guide 29 according to FIG. 2 or with the operating mode shown in FIG. 5b the beam guidance 4-0 is possible.

Die Fig. 4- zeigt einen Teil der in Fig. 3 dargestellten Strahl- ' führung 4-0 innerhalb des Bildwiedergabegeräts 10. Da der Elektronenstrahl längs durch jeden der Kanäle 26 laufen muß, muß die Strahlführung außerdem Kittel enthalten, um den Strahl im Kanal 26 seitlich in einer Richtung parallel zu den Drähten 4-2 zu begrenzen, damit vermieden wird, daß die Stützwände 24- den Fluß des Elektronenstrahls stören oder behindern. In jedem der Kanäle 26 des Bildwiedergabegeräts 10 ist die Masseebene 4-4- der Strahlführung ein Film aus einem elektrisch leitenden Material an der Innenfläche der Rückwand 20 des Kolbens 12. Die Drähte 4-2 der ersten Draht gruppe werden von den Stützwänden 24- gehalten und laufen durch diese hindurch, wobei sich jeder der Drähte 4-2 durch alle Kanäle 26 erstreckt. Die Drähte 4-2 sind in Längsrichtung der Kanäle 26 beabstandet und verlaufen alle in einer gemeinsamen Ebene parallel zur Rückwand 20. Die Drähte 4-6 der zweiten Drahtgruppe werden ebenfalls von den Stützwänden 24- gehalten und laufen durch diese hindurch, wobei sich jeder der Drähte 4-6 durch alle Kanäle 26 erstreckt. Die Drähte 4-6 sind in Längsrichtung der Kanäle 26 beabstandet und liegen in einer gemeinsamen Ebene zwischen den Drähten 4-2 der ersten Gruppe und der Vorderwand 18. In jedem der Kanäle 26 befindet sich an der Stützwand 24- jeweils am Ort zwischen der Masseebene 4-4- und den Drähten 4-2 der ersten Gruppe ein erstes Paar von Seitenbegrenzungselektroden 50 aus Metallfilm. Diese ersten Seitenbegrenzungselektroden 50 erstrecken sich bis zur Masseebene 4-4-, so daß sie elektrisch mit dieser Ebene verbunden sind. Sie halten jedoch Abstand von den Drähten 4-2 der ersten Gruppe. An den Stützwänden 24- jeweils am Ort zwischen den Drähten 4-2 der ersten Gruppe und den Drähten 4-6 der zweiten Gruppe befindet sich einFig. 4- shows part of the beam 'shown in Fig. 3 guide 4-0 within the image display device 10. Since the electron beam must pass longitudinally through each of the channels 26, the beam guide must also include gowns to keep the beam in the channel 26 laterally in a direction parallel to wires 4-2, this avoids that the support walls 24- the river disturb or hinder the electron beam. In each of the channels 26 of the image display device 10, the ground plane 4-4 is the beam guide a film of an electrically conductive material on the inner surface of the rear wall 20 of the piston 12. The wires 4-2 of the first wire group are held by the support walls 24- and run through them, with each of the wires 4-2 extends through all channels 26. The wires 4-2 are longitudinal of the channels 26 and all run in a common plane parallel to the rear wall 20. The wires 4-6 of the second group of wires are also held by the support walls 24- and run through them, each of the Wires 4-6 extending through all channels 26. The wires 4-6 are spaced in the longitudinal direction of the channels 26 and lie in a common plane between the wires 4-2 of the first group and the front wall 18. In each of the channels 26 is located on the support wall 24- in each case at the location between the ground plane 4-4- and the Wires 4-2 of the first group have a first pair of side delimitation electrodes 50 made of metal film. These first side limiting electrodes 50 extend to ground plane 4-4- so that they are electrically connected to this plane. They do, however, keep a distance from wires 4-2 of the first group. On the retaining walls 24- each at the place between the wires 4-2 of the first Group and wires 4-6 of the second group is one

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zweites Paar von Seitenbegrenzungselektroden 52 aus Metallfilm. Biese zweiten Seitenbegrenzungselektroden 52 halten Abstand zu den Drähten 42 und 46 sowohl der ersten als auch der zweiten Gruppe. Sowohl die Elektroden 50 als auch die Elektroden 52 sind durchgehende Streifen, die über die gesamte Länge der Kanäle laufen.second pair of side limit electrodes 52 made of metal film. Hold these second side limiting electrodes 52 Distance from wires 42 and 46 of both the first and second groups. Both the electrodes 50 and the Electrodes 52 are continuous strips that run the entire length of the channels.

Beim Betrieb des Wiedergabegeräts 10 liegen jeder Draht 46 der zweiten Drahtgruppe, die Masseebenen 44, das erste Paar der Seitenbegrenzungselektroden 50 und das zweite Paar der Seitenbegrenzungselektroden 52 auf Nullpotential, während alle Drähte 42 der ersten Drahtgruppe auf einem Potential +Vq liegen, das positiv gegenüber den Masseebenen 44 ist. Der vom Strahlerzeugungsteil 16 des Geräts 10 längs jedes der Kanäle 26 gerichtete Elektronenstrahl folgt somit einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 42 der ersten Gruppe, wie es weiter oben in Verbindung mit der in Pig. 3 veranschaulichten Strahlführung beschrieben wurde. Die zwischen den Drähten 42 und den Seitenbegrenzungselektroden 50 und 52 entstehenden elektrischen Felder üben auf die Elektronen des Elektronenstrahls elektrostatische Kräfte in der Richtung gemäß den Pfeilen 54 in Pig. 4 aus, so daß die Elektronen in den Mittelbereich des Kanals 26 gezwungen werden. Hierdurch wird der Strahl auf den zentralen Teil des Kanals 26 begrenzt, so daß der Strahl nicht mit den Stützwänden zusammenstößt. Indem man das Potential zweier benachbarter Drähte 46 der zweiten Drahtgruppe positiver macht (wie es in Verbindung mit Pig. 3b beschrieben wurde) oder indem man einen der Drähte 42 der ersten Drahtgruppe auf ein negatives Potential schaltet (wie es in Verbindung mit Pig. 3c beschrieben wurde), wird der Elektronenstrahl von der Masseebene 44 weggelenkt, so daß er aus der Strahlführung in Richtung auf die Vorderwand 18 heraustritt und auf den Leuchtstoffschirm 28 trifft, der auf positivem Potential gegenüber der strahlerzeugenden Kanonenstruktur liegt. Es ist also möglich, entlang jedem der Kanäle einen begrenzten Elektronenstrahl zu senden und den Strahl an verschiedenen ausgewählten Orten der Länge der Kanäle 26 zum Leuchtstoffschirm 28 hin abzulenken. Durch Erzeugung von längslaufenden Elektronenstrah-When the playback device 10 is in operation, each wire 46 of the second wire group, the ground planes 44, is the first pair of Side limiter electrodes 50 and the second pair of side limiter electrodes 52 at zero potential, while all wires 42 of the first wire group are at a potential + Vq, the is positive with respect to the ground planes 44. The one from the beam generating part 16 of the device 10 along each of the channels 26 directed electron beam thus follows a wavy path through the arrangement of wires 42 of the first group, as described above in connection with that in Pig. 3 illustrated beam guidance has been described. Those between wires 42 and the side limit electrodes 50 and 52 generated electric fields exert electrostatic forces on the electrons of the electron beam in the direction indicated by arrows 54 in Pig. 4 off so that the electrons are forced into the central region of the channel 26. This causes the beam to hit the central part of the Channel 26 limited so that the beam does not collide with the support walls. By looking at the potential of two adjacent wires 46 makes the second group of wires more positive (as described in connection with Pig. 3b) or by removing one of the wires 42 of the first wire group switches to a negative potential (as described in connection with Pig. 3c), the The electron beam is deflected away from the ground plane 44 so that it emerges from the beam guide in the direction of the front wall 18 and hits the phosphor screen 28, which is at positive potential opposite the beam-generating cannon structure. So it is possible to have a limited electron beam along each of the channels and send the beam towards the phosphor screen 28 at various selected locations along the length of the channels 26 distract. By generating longitudinal electron beam

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len in den verschiedenen Kanälen 26 und durch Änderung der Ablenkorte der Strahlen läßt sich eine horizontale und vertikale Abtastung des Leuchtstoffschirme 28 erreichen, um ein Bild auf der Vorderwand 18 des Geräts 10 darzustellen.len in the various channels 26 and by changing the deflection locations of the rays can be achieved a horizontal and vertical scanning of the fluorescent screen 28 to an image the front wall 18 of the device 10.

In einer speziellen Ausführungsform der Strahlführung 40 können die Drähte 42 und 46 einen Durchmesser von z.B. 0,15 nun haben. Der Abstand zwischen den Drähten 42 der ersten Gruppe kann 1,5 mm betragen, während die Drähte 46 der zweiten Gruppe um jeweils 0,5 mm voneinander beabstandet sein können. Die zweite Drahtgruppe 46 kann in einem Abstand von 1,5 mm von der Masseebene 44 liegen. Indem man die Drähte 46 der zweiten Gruppe, die Masseebene 44 und die Begrenzungselektroden auf Nullpotential legt, die Drähte 42 der ersten Gruppe auf ein Potential von +300 Volt und die Kathode des Strahlsystems auf -30 Volt legt, wird erreicht, daß ein in die Führung 40 gerichteter Elektronenstrahl einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 42 der ersten Drahtgruppe folgt. Der Strahl läßt aich aus der Strahlführung 40 herausziehen, irdem man entweder zwei benachbarte Drähte 46 der zweiten Drahtgruppe auf ein Potential von ungefähr +300 Volt legt oder einen der Drähte 42 der ersten Gruppe auf ein Potential von ungefähr -100 Volt legt.In a particular embodiment of the beam guide 40, the wires 42 and 46 can now have a diameter of 0.15, for example. The distance between the wires 42 of the first group can be 1.5 mm, while the wires 46 of the second group by each 0.5 mm apart. The second wire group 46 can be at a distance of 1.5 mm from the ground plane 44 lying. By placing the wires 46 of the second group, the ground plane 44 and the limiting electrodes at zero potential, the wires 42 of the first group to a potential of +300 volts and the cathode of the beam system to -30 volts is achieved, that a directed into the guide 40 electron beam a wavy path through the arrangement of the wires 42 of the first Wire group follows. The beam can be pulled out of the beam guide 40 by either connecting two adjacent wires 46 of the second group of wires to a potential of approximately +300 volts or one of the wires 42 of the first group to a potential of about -100 volts.

In Fig. 5 ist eine Strahlführung 55 dargestellt, die gegenüber der Strahlführung 40 nach Fig. 4 etwas modifiziert ist. Die Strahlführung 55 in jedem der Kanäle 26 unterscheidet sich von derjenigen nach Fig. 4 nur dadurch, daß die Stützwände 24 lediglich Seitenbegrenzungselektroden 50 der ersten Gruppe tragen. Beim Betrieb dieser Ausführungsform üben die elektrostatischen Felder zwischen den Drähten 42 der ersten Gruppe und den Seitenbegrenzungselektroden 50 und der Masseebene 44, die den Elektronenstrahl auf den zentralen Teil des Kanals 26 begrenzen, ihre Kräfte auf den Elektronenstrahl nur während derjenigen Zeit aus, in welcher der Elektronenstrahl zwischen der ersten Drahtgruppe 42 und der Masseebene 44 hindurchläuft, wie es mit den Pfeilen angedeutet ist. Da diese begrenzenden Kräfte dem Elektronenstrahl jedoch während etwa einer Hälfte der Länge seiner Wanderung längsIn Fig. 5, a beam guide 55 is shown, the opposite the beam guide 40 according to FIG. 4 is slightly modified. The beam guide 55 in each of the channels 26 differs from 4 only in that the support walls 24 only carry side delimitation electrodes 50 of the first group. In operation of this embodiment, the electrostatic fields exert between the wires 42 of the first group and the side limiting electrodes 50 and the ground plane 44, which limit the electron beam to the central part of the channel 26, their Forces on the electron beam only during the time in which the electron beam passes between the first group of wires 42 and the ground plane 44, as indicated by the arrows is indicated. However, since these limiting forces move the electron beam along for about half the length of its travel

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des Kanals 26 angelegt werden, reichen sie aus, den Elektronenstrahl von den Stützwänden 24 fortzuhalten.of the channel 26 are applied, they are sufficient, the electron beam to keep away from the support walls 24.

Die Fig. 6 veranschaulicht eine andere Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Bildwiedergabegeräts· Dieses insgesamt mit 110 bezeichnete Gerät ist von ähnlicher Struktur wie das Bildwiedergabegerät 10 nach Pig. 1, nur daß die innere Oberfläche der Rückwand 120 mit einer Vielzahl paralleler Rillen 121 versehen ist, die eine gebogene (z.B. halbkreisförmige) Querschnittsform haben. Die Stützwände 124, die zwischen der Vorderwand 118 und der Rückwand 120 befestigt sind, verlaufen längs auf den zwischen den Rillen 121 befindlichen Rippen, so daß sich jede der Rillen längs eines gesonderten der Kanäle erstreckt. Die Drähte 142 der ersten Drahtgruppe laufen durch die Stützwände 124 hindurch, und zwar dort, wo die Stützwände 124 in die Rückwand 120 übergehen. Die aus Metallfilm bestehenden Masseflächen 144 sind auf die Oberflächen der Rillen 121 aufgebracht, so daß jede der Masseflächen 144 praktisch U-förmig gebogen ist und mit ihren Rändern von den Drähten 142 der ersten Gruppe beabstandet ist. Die Drähte 146 der zweiten Drahtgruppe laufen jeweils an Orten zwischen der ersten Drahtgruppe 142 und der Vorderwand 118 durch die Stützwände 124 hindurch. Auf der inneren Oberfläche der Vorderwand 118 ist ein Leuchtstoff schirm 128 aufgebracht.Figure 6 illustrates another embodiment of one Image display device according to the invention · This device, denoted as a whole by 110, is of a similar structure to the image display device 10 after Pig. 1, except that the inner surface of the rear wall 120 is provided with a plurality of parallel grooves 121 that have a curved (e.g., semicircular) cross-sectional shape. The support walls 124 that are between the front wall 118 and the rear wall 120 are attached, run longitudinally on the ribs located between the grooves 121, so that each of the grooves extends along a separate one of the channels. The wires 142 of the first wire group pass through the support walls 124 through, namely where the support walls 124 merge into the rear wall 120. Those made of metal film Ground planes 144 are applied to the surfaces of the grooves 121 so that each of the ground planes 144 is practically U-shaped is bent and has its edges spaced from the wires 142 of the first group. The wires 146 of the second wire group pass through the support walls 124 at locations between the first group of wires 142 and the front wall 118, respectively. On the inner surface of the front wall 118, a phosphor screen 128 is applied.

Die Bildwiedergabeeinrichtung 110 arbeitet in der gleichen Weise, wie es oben in Verbindung mit dem in Fig. 4 gezeigten Gerät 10 beschrieben wurde. Die zwischen den U-förmig gebogenen Masseflächen 114 und den Drähten 142 entstehenden elektrischen Felder verursachen elektrostatische Kräfte, wie sie mit den Pfeilen 158 dargestellt sind, so daß der Elektronenstrahl beim Hindurchlauf zwischen den Drähten 142 der ersten Gruppe und der Massefläche auf den zentralen Bereich des Kanals 126 begrenzt wird. Hier hat also die Massefläche 144 gleichzeitig auch die Funktion der Seitenbegrenzungselektroden, so daß dem Elektronenstrahl während etwa der Hälfte der Länge seines Weges durch den Kanal 126 Seitenbegrenzungskräfte angelegt werden, ähnlich wieThe image display device 110 operates in the same manner as that shown above in connection with that shown in FIG Device 10 has been described. The electrical generated between the U-shaped curved ground planes 114 and the wires 142 Fields cause electrostatic forces, as shown by arrows 158, so that the electron beam when Passage between the wires 142 of the first group and the ground plane is limited to the central area of the channel 126 will. Here, the ground plane 144 also has the function of the side delimitation electrodes, so that the electron beam side-limiting forces are applied during approximately half the length of its path through channel 126, similar to

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es bei der in Fig. 5 gezeigten Ausführungsform der Strahlführung der Fall ist, nur daß man im vorliegenden Fall ohne Begrenzungselektroden an den Stützwänden 124 auskommt·it in the embodiment of the beam guide shown in Fig. 5 is the case, only that in the present case one can get by without limiting electrodes on the supporting walls 124

Die Fig. 7 zeigt ein Bildwiedergabegerät mit einer andere ausgebildeten Strahlführung. Dieses insgesamt mit 210 bezeichnete Gerät hat eine Vorderwand 218 und eine Rückwand 220 sowie beabstandete Stützwände 224, die zwischen Vorderwand und Rückwand verlaufen und eine Vielzahl von Kanälen 126 bilden. Auf der inneren Oberfläche der Rückwand 220 befindet sich eine erste metallene Masseplatte 266, die in ihrer zur Vorderwand 218 weisenden Oberfläche eine Vielzahl beabstandeter und im wesentlichen paralleler Rillen 268 enthält. Jede der Rillen 268 hat gebogene (z.B. halbkreisförmige) Querschnittsform und läuft in dieselbe Richtung wie die Kanäle 226 zwischen den Stützwänden 224. In einigen der Rillen 268 liegen langgestreckte Abstandsstäbe 270 aus elektrisch isolierendem Material wie z.B. Glas, wobei zwischen jedem Paar benachbarter Abstandsstäbe 270 mindestens eine Rille 268 ohne Abstandsstab ist. Die Abstandsstäbe 270 haben einen Durchmesser, der etwas größer als die Tiefe der Rillen 268 ist, so daß die Stäbe ein wenig aus den Rillen 268 herausstehen. Eine Gruppe beabstandeter paralleler Drähte 242 läuft quer über die Abstandsstäbe 270 in Berührung mit diesen. Da die Abstandsstäbe 270 über die Rillen 268 herausragen, bleiben die Drähte 242 auf Abstand zu der ersten Masseplatte 266.Fig. 7 shows an image reproducing apparatus having a different one Beam guidance. This device, designated as a whole by 210, has a front wall 218 and a rear wall 220 as well as spaced apart ones Support walls 224 between the front wall and rear wall run and form a plurality of channels 126. On the inner surface of the back wall 220 is a first metal ground plane 266, which in their surface facing the front wall 218 a plurality of spaced apart and substantially of parallel grooves 268. Each of the grooves 268 has an arcuate (e.g., semicircular) cross-sectional shape and runs in the same direction as the channels 226 between the support walls 224. In some of the grooves 268 are elongated spacer bars 270 made of electrically insulating material such as glass, with at least is a groove 268 with no spacer bar. The spacer bars 270 have a diameter that is slightly larger than the depth of the Grooves 268 is so that the rods protrude a little from the grooves 268. A set of spaced parallel wires 242 runs across the spacer bars 270 in contact with them. Since the spacer bars 270 protrude beyond the grooves 268, remain the wires 242 spaced from the first ground plane 266.

Auf der zur Vorderwand 218 weisenden Seite der Drähte 242 befindet sich eine zweite metallene Masseplatte 272, die der ersten metallenen Masseplatte 266 parallel liegt. Die zweite Masseplatte 272 hat auf ihrer zur ersten Masseplatte 266 weisenden Oberfläche eine Vielzahl beabstandeter paralleler Rillen 274. Die Rillen 274 haben gebogene (z.B. halbkreisförmige) Querschnitteform, sind alle gleich lang und liegen entsprechenden Rillen der ersten Masseplatte 266 gegenüber. In denjenigen der Rillen 274, die den mit Abstandsstäben 270 versehenen Rillen 268 gegenüberliegen, befinden sich ebenfalls langgestreckte AbstandsstSbe 276 aus einem elektrisch isolierenden Material wie z.B. Glas. Die Abstandsstäbe 276 haben einen Durchmesser, der etwas größerLocated on the side of the wires 242 facing the front wall 218 a second metal ground plane 272, which is parallel to the first metal ground plane 266. The second Ground plane 272 has a plurality of spaced parallel grooves 274 on its surface facing the first ground plane 266. The grooves 274 have an arcuate (e.g., semicircular) cross-sectional shape, are all of the same length and are opposite to corresponding grooves of the first ground plane 266. In those of the grooves 274, which are opposite the grooves 268 provided with spacer bars 270, are also elongated spacer bars 276 made of an electrically insulating material such as glass. The spacer bars 276 have a diameter that is slightly larger

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als die Tiefe der Rillen 274 ist, so daß sie leicht aus den Rillen 274· herausstehen. Die Abstandsstäbe 276 berühren die Drähte 242, so daß die zweite Masseplatte 272 im Abstand von den Drähten 242 gehalten wird.than the depth of the grooves 274 so that they protrude slightly from the grooves 274 ·. The spacer bars 276 touch the Wires 242 so that the second ground plane 272 is spaced from the wires 242.

Die zweite Masseplatte 272 ist von einer Vielzahl von öffnungen 273 durchbrochen. Die Offnungen fluchten jeweils in Reihen längs der Böden der Rillen 274. Jede der Öffnungen 278 ist in Längsrichtung der Rillen 274 länglich ausgebildet und liegt in einem Zwischenraum zwischen den Drähten 242. Die Stützwände 224 liegen zwischen der Vorderwand 218 und der zweiten Masseplatte 272 und sind längs denjenigen Rillen der Masseplatte angeordnet, welche die Abstandsstäbe 270 und 276 enthalten, so daß eine mechanische Stütze zwischen der Vorderwand 218 und der Rückwand 220 gebildet wird. Bei der dargestellten Ausführungsform des Wiedergabegeräts 210 laufen längs jedes der Kanäle 226 zwischen den Stützwänden 224 drei Paare gegenüberliegender Rillen 268 und 274, es ist aber auch möglich, die Stützwände 224 enger nebeneinander oder weiter auseinander anzuordnen, um eine beliebige gewünschte Anzahl von gegenüberliegenden Rillen längs jedes Kanals zu haben. Die Rillen 268 und 274 können auch eine rechteckige anstelle einer gebogenen Querschnittsform haben, um ihren beabsichtigten Zweck zu erfüllen. Die Masseplatten 266 und 272 können auch als ebene Metallplatten ausgebildet sein, von deren Oberfläche eine Vielzahl beabstandeter paralleler Vorsprünge oder Rippen vorstehen, um praktisch ein Äquivalent zu den Rillen zu bilden. An der Innenfläche der Vorderwand 118 in jedem der Kanäle 226 befindet sich ein Leuchtstoffschirm 228.The second ground plane 272 is of a plurality of openings 273 broken. The openings are each aligned in rows along the bottoms of the grooves 274. Each of the openings 278 is elongated in the longitudinal direction of the grooves 274 and lies in one Space between the wires 242. The support walls 224 lie between the front wall 218 and the second ground plane 272 and are disposed along those grooves of the ground plane which contain the spacer bars 270 and 276 so that mechanical support between the front wall 218 and the rear wall 220 is formed. In the illustrated embodiment of the playback device 210, each of the channels 226 run between the Support walls 224 three pairs of opposing grooves 268 and 274, but it is also possible to arrange the support walls 224 closer to each other or further apart to create any to have desired number of opposing grooves along each channel. The grooves 268 and 274 can also have a rectangular instead of an arcuate cross-sectional shape around their to fulfill its intended purpose. The ground plates 266 and 272 can also be designed as flat metal plates, of which Surface a plurality of spaced parallel projections or ribs protrude to be practically equivalent to the grooves form. A phosphor screen 228 is located on the inner surface of the front wall 118 in each of the channels 226.

Beim Betrieb des Bildwiedergabegeräts 10 liegen die Masseplatten 266 und 272 beide auf Nullpotential und die Drähte 242 auf einem positiven Potential. Somit folgt ein in den Raum zwischen jeweils zwei gegenüberliegenden Rillen 268 und 274 gerichteter Elektronenstrahl einer welligen oder schlangenlinienförmigen Bahn durch die Anordnung der Drähte 242. Die Rillen 268 und 274 bilden ein elektrostatisches Feld, das den Strahl auf im wesentlichen die Mittellinie der Rillen begrenzt, ähnlich wie es oben für die inWhen the image display device 10 is in operation, the ground planes are located 266 and 272 both at zero potential and wires 242 at positive potential. Thus one follows in the space between each two opposing grooves 268 and 274 directed electron beam through a wavy or serpentine path the arrangement of the wires 242. The grooves 268 and 274 form an electrostatic field which the beam on substantially the Center line of the grooves bounded, similar to that above for the in

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Fig. 6 gezeigte Strahlführung beschrieben wurde, nur daß im vorliegenden Pail der Strahl den Seitenbegrenzungskräften auf der gesamten Länge seiner welligen Bahn unterliegt. Durch Umschalten ausgewählter Exemplare der Drähte 242 auf ein negatives Potential wird der Elektronenstrahl zur zweiten Masseplatte hin abgelenkt und verläßt die Strahlführung durch eine der öffnungen 278 in einer Weise, wie sie oben in Verbindung mit der in Pig. 3c veranschaulichten Betriebsart beschrieben wurde. Da die öffnungen 278 länglich sind, kann man durch Änderung des Betrags des an die jeweiligen Drähte 242 gelegten Potentials den Ablenkwinkel variieren, so daß der Elektronenstrahl den Leuchtstoffschirm 228 an verschiedenen Orten treffen kann.Fig. 6 shown beam guide has been described, only that in present pail of the beam to the lateral limit forces is subject to the entire length of its wavy path. By switching selected copies of wires 242 to negative Potential the electron beam is deflected towards the second ground plate and leaves the beam guidance through one of the openings 278 in a manner as described above in connection with the in Pig. 3c illustrated mode of operation. Since the openings 278 are elongated, changing the The amount of potential applied to the respective wires 242 varies the deflection angle so that the electron beam hits the phosphor screen 228 can meet in different places.

Die Pig. 8 zeigt eine andere, erfindungsgemäße Ausführungsform einer fokussierenden Strahlführung. Die fokussierende Führung nach Fig. 8 enthält eine erste Gruppe von Drähten 242 zwischen einer ersten und einer zweiten Masseebene 344 und 346. Die erste Masseebene 344 ist gebildet durch eine Vielzahl beabstandeter paralleler Metallfilmstr reifen auf der inneren Oberfläche der Rückwand 320, die sich längs des Kanals erstrecken. Jeder der Metallstreifen läuft entlang einem gesonderten Strahlweg· Zwischen den Metallstreifen der ersten Masseebene 344 befinden sich Seitenbegrenzungselektroden 350. Die Seitenbegrenzungselektroden 350 sind Metallfilme auf der inneren Oberfläche der Rückwand 320 und laufen in Längsrichtung der Kanäle im Abstand von den Metallfilmstreifen der ersten Masseebene 344· Die zweite Masseebene 346 ist durch ein Drahtnetz gebildet, das sich über den Drähten 242 der ersten Drahtgruppe erstreckt und im wesentlichen parallel zur Rückwand 320 liegt. Die zweite Masseebene 346 kann alternativ auch eine zweite Gruppe von Drähten sein, ähnlich wie sie in den Figuren 4, 5 und 6 gezeigt ist, oder eine Metallplatte mit öffnungen, wie sie in Fig. 7 gezeigt ist.The Pig. 8 shows another embodiment according to the invention of a focusing beam guide. The focusing leadership 8 includes a first group of wires 242 between first and second ground planes 344 and 346. The first Ground plane 344 is formed by a plurality of spaced parallel strips of metal film on the inner surface the rear wall 320 extending along the channel. Each of the metal strips runs along a separate beam path Side limitation electrodes 350 are located between the metal strips of the first ground plane 344. The side limitation electrodes 350 are metal films on the inner surface of the Back wall 320 and run in the longitudinal direction of the channels at a distance from the metal film strips of the first ground plane 344 · the second Ground plane 346 is formed by a wire mesh that extends over the wires 242 of the first wire group and substantially is parallel to the rear wall 320. The second ground plane 346 can alternatively also be a second group of wires, similar to that shown in FIGS. 4, 5 and 6, or a metal plate with openings, as shown in FIG.

Beim Betrieb der fokussierenden Führung nach Fig. 8 liegen die Drähte 342 der ersten Gruppe auf einem Potential, das gegenüber der ersten und der zweiten Masseebene 344 und 346 positiv ist. Somit folgt ein an jedem der Metallstreifen der ersten Masse-When operating the focusing guide according to FIG. 8, the wires 342 of the first group are at a potential that is opposite the first and second ground planes 344 and 346 is positive. Thus, on each of the metal strips of the first ground

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ebene 344 in die fokussierende Führung gerichteter Elektronenstrahl einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 342 der ersten Gruppe, wie es oben erläutert wurde. Die Seitenbegrenzungselektroden 350 liegen alle auf einem Potential, das etwas niedriger als das Potential der ersten Masseebene 344 ist. Die Potentialdifferenz zwischen den Seitenbegrenzungselektroden 350 und der ersten Hasseebene 344 erzeugt elektrostatische Kräfte, wie sie mit den Pfeilen 354 angezeigt sind. Diese Kräfte halten die Elektronen im Strahl in seitlicher Richtung zusammen, wenn der Strahl in Längsrichtung entlang dem entsprechenden Metallstreifen der ersten Masseebene 344· wandert.plane 344 directed electron beam into the focusing guide an undulating path through the arrangement of the wires 342 of the first group, as explained above. The side limit electrodes 350 are all on a potential that is slightly lower than the potential of the first ground plane 344. The potential difference between the side limit electrodes 350 and the first hatch level 344 generates electrostatic Forces as indicated by arrows 354. These Forces hold the electrons in the beam together in a lateral direction when the beam is longitudinally along the corresponding one Metal strips of the first ground plane 344 · migrates.

Die in Fig. 9 gezeigte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Strahlführung enthält eine erste Gruppe beabstandeter paralleler koplanarer Drähte 242, die zwischen einer ersten und einer zweiten Masseebene 444 und 446 quer durch die Kanäle laufen. Die erste Masseebene 444 ist durch einen Metallfilm auf der inneren Oberfläche der Rückwand 420 gebildet. Die zweite Masseebene 446 kann gebildet sein durch ein sich quer und längs durch die Kanäle erstreckendes Drahtnetz oder durch eine Vielzahl beabstandeter paralleler koplanarer Drähte, die quer durch die Kanäle laufen (wie es in den Figuren 4, 5 und 6 gezeigt ist), oder aber durch eine Vielzahl beabstandeter paralleler koplanarer Drähte, die in Längsrichtung der Kanäle laufen. Seitenbegrenzungselektroden 450 laufen entlang der zweiten Masseebene 246, und zwar in Längsrichtung der Kanäle und beidseitig der Strahlwege. Die metallenen Begrenzungselektroden 450 sind Drähte, deren Durchmesser größer ist als der Durchmesser der die zweite Masseebene 446 bildenden Drähte, so daß die metallenen Begrenzungselektroden 450 von der zweiten Masseebene 446 in Richtung auf die Drähte 442 der ersten Gruppe vorstehen.The embodiment of a beam guide according to the invention shown in FIG. 9 contains a first group of spaced parallel ones coplanar wires 242 running across the channels between first and second ground planes 444 and 446. The first Ground plane 444 is formed by a metal film on the inner surface of rear wall 420. The second ground plane 446 can be formed by a wire mesh extending transversely and longitudinally through the channels or by a plurality of spaced apart ones parallel coplanar wires running across the channels (as shown in Figures 4, 5 and 6), or through a plurality of spaced parallel coplanar wires running the length of the channels. Side limiting electrodes 450 run along the second ground plane 246, specifically in the longitudinal direction of the channels and on both sides of the beam paths. The metal limiting electrodes 450 are wires, the diameter of which is larger than the diameter of the wires forming the second ground plane 446, so that the metal confinement electrodes 450 from the second ground plane 446 towards the wires 442 of the first group.

Beim Betrieb der Strahlführung nach Fig. 9 liegen die Drähte 442 der ersten Gruppe auf einem positiveren Potential als die erste und die zweite Masseebene 444 und 446. Ein längs dem Kanal gerichteter Elektronenstrahl folgt also wie oben beschrieben einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 442 der ersten Gruppe. Die Seitenbegrenzungselektroden 450 haben dasselbe Poten-During operation of the beam guide according to FIG. 9, the wires 442 lie of the first group at a more positive potential than the first and second ground planes 444 and 446. One directed along the channel As described above, the electron beam follows a wavy path through the arrangement of the wires 442 of the first Group. The side limit electrodes 450 have the same potential

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tial wie die zweite Masseebene 446. Da die Seitenbegrenzungselektroden 450 aus der zweiten Masseebene 446 heraus vorstehen, werden zwischen diesen Elektroden und den Drähten 442 der ersten Gruppe elektrostatische Kräfte erzeugt, wie sie mit den Pfeilen 454 angezeigt sind. Diese Kräfte begrenzen die Elektronen in seitlicher Richtung auf den Strahl, wenn dieser den Kanal entlangläuft.tial like the second ground plane 446. Since the side delimitation electrodes 450 protrude from the second ground plane 446, electrostatic forces are generated between these electrodes and the wires 442 of the first group, as with the Arrows 454 are indicated. These forces limit the electrons to the side of the beam as it travels along the channel.

Die in Fig. 10 gezeigte Ausführungsform einer erfindungsgemSßen fokussierenden Führung enthält eine erste Gruppe beabstandeter paralleler koplanarer Drähte 542, die zwischen einer ersten und einer zweiten Masseebene 54-4 und 546 quer durch den Kanal laufen. Die erste Masseebene 544 ist durch einen Metallfilm auf der inneren Oberfläche der Rückwand 520 gebildet. Die zweite Masseebene 546 ist gebildet durch eine Vielzahl paralleler koplanarer Drähte, die in Längsrichtung des Kanals laufen und in Querrichtung des Kanals beabstandet sind. Auch hier sind Seitenbegrenzungselektroden 550 vorgesehen, die sich in Längsrichtung der Kanäle beidseitig der Strahlwege erstrecken. Die Seitenbegrenzungselektroden 55O sind Drähte, die koplanar mit der zweiten Masseebene 546 liegen und zwischen den die zweite Maeseebene bildenden Drähten laufen, aber im Abstand zu diesen Drähten.The embodiment of an inventive device shown in Fig. 10 The focusing guide includes a first set of spaced parallel coplanar wires 542 interposed between a first and a second ground plane 54-4 and 546 across the channel to run. The first ground plane 544 is formed by a metal film on the inner surface of the rear wall 520. The second Ground plane 546 is formed by a plurality of parallel coplanar wires running the length of the channel and in Transverse direction of the channel are spaced. Here, too, side delimitation electrodes 550 are provided, which extend in the longitudinal direction the channels extend on both sides of the beam paths. The side boundary electrodes 55O are wires that are coplanar with the second ground plane 546 and between which the second ground plane forming wires run, but at a distance from these wires.

Beim Betrieb der Strahlführung nach Fig. 10 liegen die Drähte 542 der ersten Gruppe auf einem Potential, das höher ist als das Potential der ersten und der zweiten Maseeebene 544 und 546. Somit folgt ein in die Strahlführung gerichteter Elektronenstrahl einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 542 der ersten Gruppe. Die Seitenbegrenzungselektroden 550 liegen auf einem etwas niedrigeren Potential als die zweite Maseeebene 546· Hierdurch entstehen die mit den Pfeilen 554 angezeigten elektrostatischen Kräfte, mit denen die Elektronen in seitlicher Richtung auf den Strahl begrenzt oder zusammengehalten werden, wenn der Strahl durch die Führung lftuft. Diese fokussierende Führung ist in ihrem Aufbau und in ihrer Wirkungeweise ähnlich der in Fig. 8 gezeigten Führung, nur daß im vorliegenden Fall die Seitenbegrenzungselektroden entlang der zweiten Masseebene stattWhen operating the beam guide according to FIG. 10, the wires 542 of the first group are at a potential which is higher than the potential of the first and second ground planes 544 and 546. Thus, an electron beam directed into the beam guide follows a wavy path through the arrangement of the wires 542 of FIG first group. The side limiting electrodes 550 are at a slightly lower potential than the second ground plane 546 This creates the electrostatic forces indicated by the arrows 554, with which the electrons are limited or held together in the lateral direction of the beam when the jet airs through the guide. This focusing leadership is similar in structure and mode of operation to the guide shown in FIG. 8, except that in the present case the side delimitation electrodes take place along the second ground plane

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entlang der ersten Masseebene laufen. Infolgedessen werden die Seitenbegrenzungskräfte dem Strahl dann angelegt, wenn er zwischen den Drähten der ersten Gruppe und der zweiten Masseebene hindurchläuft, und nicht wenn er zwischen den Drähten der ersten Gruppe und der ersten Masseebene hindurchläuft·run along the first ground plane. As a result, the side limiting forces are applied to the beam when it is between the wires of the first group and the second ground plane passes through it, and not when it passes between the wires of the first group and the first ground plane

Die in Fig. 11 gezeigte Ausführungsform einer erfindungsgemäßen ! fokussierenden Führung enthält eine erste Gruppe beabstandeter paralleler koplanarer Drähte 642, die quer durch die Kanäle laufen, und zwar im Raum zwischen einer ersten Masseebene 644 und einer zweiten Gruppe von Drähten 64-6, welche dieselbe Funktion wie eine zweite Masseebene erfüllen. Die erste Masseebene 644 iet gebildet durch einen Metallfilm auf der inneren Oberfläche der Rückwand 620. Die zweite Drahgruppe 646 enthält eine Vielzahl paralleler koplanarer Drähte, die in Längsrichtung der Kanäle laufen und in Querrichtung der Kanäle beabstandet sind. Die Drähte 646 erstrecken sich längs gegenüberliegender Seiten (d.h. beidseitig) des Weges, den der Elektronenstrahl längs des Kanals nimmt. Im Raum zwischen den Drähten 646 der zweiten Gruppe und dem Leuchtstoffschirm 628 auf der inneren Oberfläche der Vorderwand 618 erstreckt sich ein Metallgitter 648 quer über den Kanal. Das Metallgitter 648 kann ein Film auf dem Leuchtstoffschirm 628 sein. Wenn jedoch das Metallgitter 648 vom Leuchtstoffschirm beabstandet ist, sollte es eine Vielzahl von Durchgangsöffnungen aufweisen, damit die Elektronenstrahlen durch das Gitter hindurch zum Leuchtstoffschirm gelangen können.The embodiment shown in Fig. 11 of an inventive! The focusing guide includes a first set of spaced parallel coplanar wires 642 running across the channels in the space between a first ground plane 644 and 642 a second group of wires 64-6 which perform the same function as a second ground plane. The first ground plane 644 iet formed by a metal film on the inner surface the rear wall 620. The second wire group 646 includes a plurality of parallel coplanar wires that run in the longitudinal direction of the channels and are spaced apart in the transverse direction of the channels. the Wires 646 extend along opposite sides (i.e., on both sides) of the path the electron beam takes along the channel takes. In the space between the wires 646 of the second group and the phosphor screen 628 on the inner surface of the front wall 618, a metal mesh 648 extends across the channel. The metal grid 648 can be a film on the phosphor screen 628. However, if the metal grid 648 from the fluorescent screen is spaced, it should have a plurality of through openings to allow the electron beams to pass through the grid can get to the fluorescent screen.

Im Betrieb der Ausführungsform nach Fig. 11 liegen die Drähte 642 der ersten Gruppe auf einem Potential,das gegenüber der ersten Masseebene 644 und gegenüber den Drähten 646 der zweiten Gruppe positiv ist. Das an die Drähte 646 der zweiten Gruppe gelegte Potential ist so gewählt, daß das zwischen den Drähten 646 der zweiten Gruppe und den Drähten 642 der ersten Gruppe gebildete Kraftfeld äquivalent einem Feld ist, das man durch eine Masseebene erzielen würde, so daß ein in die fokussierende Richtung gerichteter Elektronenstrahl einer welligen Bahn durch die Anordnung der Drähte 642 der ersten Gruppe folgt. Das Metallgitter 648 wird auf ein Potential gelegt, das hoch positiv gegen-In operation of the embodiment according to FIG. 11, the wires 642 of the first group are at a potential which is opposite the first ground plane 644 and opposite the wires 646 of the second Group is positive. The potential applied to wires 646 of the second group is chosen to be that between the wires 646 of the second group and the wires 642 of the first group is equivalent to a field that is generated by a Would achieve ground plane, so that an electron beam directed in the focusing direction a wavy path through the Arrangement of wires 642 of the first group follows. The metal grid 648 is placed on a potential that is highly positive with respect to

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über dem an die Drähte 64-6 der zweiten Gruppe gelegten Potential ist. Die Potentialdifferenz zwischen den Drähten 646 der zweiten Gruppe einerseits und sowohl der ersten Drahgruppe als auch der Gitterplatte 648 andererseits erzeugt die mit den Pfeilen 654 angezeigten elektrostatischen Kraftfelder, mit denen die Elektronen im Strahl zusammengehalten werden, wenn der Strahl längs der fokussierenden Führung läuft.is above the potential applied to wires 64-6 of the second group. The potential difference between the wires 646 of the second group on the one hand and both the first wire group and the grid plate 648 on the other hand generated with the Arrows 654 indicated electrostatic force fields with which the electrons in the beam are held together as the beam travels along the focusing guide.

Bei den in den Figuren 5» 6, 8, 9, 10 und 11 gezeigten Strahlführungen wird der seitliche Zusammenhalt (d.h. die seitliche Begrenzung) der Elektronen im Strahl während nur einer Hälfte jeder Periode der welligen Strahlbahn erzwungen. In der Strahlführung nach den Figuren 5» 6 und 8 erfolgt die seitliche Begrenzung nur, wenn der Strahl zwischen den Drähten der ersten Gruppe und der ersten Hasseebene hindurchläuft. In den Strahlführungen nach den Figuren 9» 10 und 11 erfolgt die seitliche Begrenzung nur, wenn der Strahl zwischen der ersten Drahtgruppe und der zweiten Masseebene hindurchläuft· Durch Kombination dieser verschiedenen Typen von Strahlführungen ist es möglich, eine seitliche Begrenzung während der gesamten Periode der Strahlbahn zu erreichen, d.h. auf beiden Seiten der ersten Drahtgruppe· So zeigt die Fig. 12 ein Ausführungsbeispiel, bei dem die Strahlführung nach Fig. 8 mit der Strahlführung nach Fig. 11 kombiniert ist. Bei dieser Kombination hat man eine erste Masseebene 744 bestehend aus einer Vielzahl beabstandeter paralleler Metallfilmstreifen, die sich auf der inneren Oberfläche der Rückwand 720 befinden und sich längs der Kanäle erstrecken. Zwischen diesen Metallfilmstreifen 744 sind auf der Innenfläche der Rückwand 720 Seitenbegrenzungselektroden 750 vorhanden. Eine zweite Masseebene und Seitenbegrenzungselektroden sind gebildet durch eine Vielzahl beabstandeter paralleler Drähte 746, die in Längsrichtung der Kanäle laufen, und eine im Raum zwischen den Drähten 746 und der Vorderwand 718 des Kolbens liegende Gitterplatte 748. Wie es oben in Verbindung mit den Figuren 8 und 11 beschrieben wurde, halten die Seitenbegrenzungselektroden 750 die Elektronen im Strahl in seitlicher Richtung zusammen, wenn der Strahl zwischen den Drähten 742 der ersten Gruppe und der er-In the case of the beam guides shown in FIGS. 5, 6, 8, 9, 10 and 11, the lateral cohesion (i.e. the lateral Limitation) of the electrons in the beam during only one half of each period of the wavy beam path. In the beam guidance according to FIGS. 5, 6 and 8, the lateral limitation occurs only when the beam is between the wires of the first Group and the first Hasse level runs through it. In the beam guides according to FIGS. 9-10 and 11, the lateral Limitation only when the beam passes between the first group of wires and the second ground plane to achieve lateral limitation during the entire period of the beam path, i.e. on both sides of the first group of wires · So FIG. 12 shows an embodiment in which the beam guide according to FIG. 8 is combined with the beam guide according to FIG. 11 is. In this combination, one has a first ground plane 744 consisting of a plurality of spaced parallel strips of metal film extending on the inner surface of the backplane 720 are located and extend along the channels. Between these metal film strips 744 are on the inner surface of the back wall 720 side delimitation electrodes 750 available. A second ground plane and side boundary electrodes are formed by a A plurality of spaced parallel wires 746 running the length of the channels and one in the space between the wires 746 and the front wall 718 of the piston lying grid plate 748. As described above in connection with Figures 8 and 11, the side boundary electrodes 750 hold the Electrons in the beam collide in a lateral direction when the beam is between the wires 742 of the first group and the first

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sten Masseebene 744 hindurchlauft, während die Drähte 746 für die seitliche Begrenzung der Elektronen sorgen, wenn der Strahl zwischen den Drahten 742 der ersten Gruppe und den Drähten 746 hindurchläuft.first ground plane 744 passes while the wires 746 ensure the lateral limitation of the electrons when the beam between the wires 742 of the first group and the Wires 746 runs through it.

Bei der in Fig. 13 gezeigten fokussierenden Führung werden die in Fig. 11 dargestellten Seitenbegrenzungsmittel auf beiden Seiten der ersten Drahtgruppe 842 eingesetzt. An der inneren Oberfläche, der Rückwand 820 befindet sich ein Metallfilmgitter 844, und zwischen diesem Gitter 844 und der ersten Drahtgruppe 842 befindet sich eine zweite Drahtgruppe 845. Die Drähte 845 der zweiten Gruppe laufen parallel und im Abstand zueinander in Längsrichtung der Kanäle, und zwar auf gegenüberliegenden Seiten der Strahlwege. Zwischen den Drähten 842 der ersten Gruppe und der Torderwand 818 des Gerätekolbens befindet sich ein Metallgitter 848, und zwischen der ersten Drahtgruppe 842 und dem Gitter 848 liegt eine dritte Gruppe von Drähten 846. Die Drähte 846 der dritten Gruppe laufen in Längsrichtung des Kanals und zwar jeweils einer entlang einem gesonderten der Drähte 845· Beim Betrieb dieser Strahlführung liegen die Drähte 842 der ersten Gruppe auf einem Potential, das sowohl gegenüber den Drähten 845 der zweiten Gruppe als auch gegenüber den Drähten 846 der dritten Gruppe positiv ist. Das Gitter 844 liegt auf wesentlich positiverem Potential als die Drähte 845 der zweiten Gruppe, und das Gitter 848 liegt auf wesentlich positiverem Potential als die Drähte 846 der dritten Gruppe. Die relativen Potentiale der Drähte 842 und 845 führen dazu, daß zwischen der ersten Drahtgruppe 842 und sowohl der zweiten Drahtgruppe 845 als auch der dritten Drahtgruppe 846 ein elektrostatisches Feld erzeugt wird, das einen in die fokussierende Führung eingeschossenen Elektronenstrahl dazu bringt, eine wellige Bahn durch die Anordnung der Drähte der ersten Gruppe zu beschreiben. Wie es oben in Verbindung mit Fig. 11 beschrieben wurde, führt die Potentialdifferenz zwischen der zweiten Drahtgruppe 845 und dem Gitter 844 und der dritten Drahtgruppe 846 und dem Gitter 848 zu elektrostatischen Feldern, welche die Elektronen in seitlicher RichtungIn the focusing guide shown in Fig. 13, the side delimitation means shown in FIG. 11 are used on both sides of the first wire group 842. At the inner surface, the rear wall 820 is a metal film grid 844, and between this grid 844 and the first Wire group 842 is a second wire group 845. The Wires 845 of the second group run parallel and at a distance to each other in the longitudinal direction of the channels, on opposite sides of the beam paths. Between the wires 842 the first group and the door wall 818 of the device piston is a metal grid 848, and between the first Wire group 842 and the grid 848 is a third group of wires 846. The wires 846 of the third group run in Longitudinal direction of the channel, one in each case along a separate one of the wires 845 · When this beam guide is in operation the wires 842 of the first group are at a potential which is opposite to the wires 845 of the second group as is also positive towards wires 846 of the third group. The grid 844 is at a significantly more positive potential than the wires 845 of the second group, and the grid 848 is at a substantially more positive potential than the wires 846 of FIG third group. The relative potentials of the wires 842 and 845 result in that between the first wire group 842 and both the second wire group 845 and the third wire group 846 an electrostatic field is generated that one electron beam shot into the focusing guide causes a wavy path to be described by the arrangement of the wires of the first group. How it relates above was described with Fig. 11, the potential difference between the second wire group 845 and the grid 844 and leads the third wire group 846 and the grid 848 to electrostatic fields, which the electrons in the lateral direction

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auf den Strahl begrenzen, wenn der Strahl längs der Führung läuft.limit to the beam when the beam travels along the guide.

Mit der Erfindung wird also ein flaches Bildwiedergabegerät geschaffen, welches in einzelnen Kanälen eines evakuierten Kolbens Strahlführungen enthält, die ait Slalom-Fokussierung arbeiten, um Elektronenstrahlen längs der Kanäle zu führen. Die Strahlführungen sind mit Einrichtungen versehen, die bei« Durchgang des Strahls durch die Führungen für eine seitliche Begrenzung der Elektronen ia Strahl sorgen, ua die Querschnittsabmessung des Strahls beizubehalten. Die Strahlführungen enthalten außerdem Einrichtungen, ua den Strahl an verschiedenen Orten längs des Kanals zua Leuchtstoffschira des Wiedergabegerät* hin abzulenken.With the invention, a flat image display device is created, which in individual channels of an evacuated Piston beam guides contain ait slalom focusing work to guide electron beams along the channels. The beam guides are provided with devices which, when the beam passes through the guides, ensure a lateral limitation of the electron ia beam, among other things, to maintain the cross-sectional dimension of the beam. The beam guides also contain facilities, including the beam at different locations along the channel to a fluorescent lampshade of the display device * to distract.

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Claims (10)

- 22T-- 22T- PatentansprücheClaims Elektronengerät zur Bildwiedergabe, bestehend aus einem evakuierten Kolben mit einer Rückwand und einer davon beabstandeten Vorderwand, auf deren innerer Oberfläche ein Leuchtstoffschirm aufgebracht ist, ferner mit einem Strahlsystem zum Erzeugen eines Strahls von Elektronen und zum Richten des Strahls auf einen Weg, der im wesentlichen parallel zur Vorderwand über diese Wand hin verläuft, sowie mit längs des Strahlweges angeordneten Lenkeinrichtungen, um dem Strahl auf seinem Weg eine zum Leuchtstoffschirm hin und von diesem fort schwingende wellige Bahn zu geben und den Strahl selektiv aus ausgewählten Orten längs seines Weges aus dem Weg herauszulenken, wobei die besagten Lenkeinrichtungen eine Gruppe beabstandeter paralleler elektrischer Leiter umfassen, die im wesentlichen parallel zur Vorderwand verlaufen, sowie Anordnungen zur Bildung von Hasseebenen, die im Abstand von den besagten Leitern auf deren beiden Seiten liegen und im wesentlichen parallel zu den Leitern verlaufen, wobei die Anordnung zur Bildung derjenigen Masseebene, die aif der dem Schirm zugewandten Seite der Leiter liegt, mit Offnungen versehen ist, durch die der Strahl im Falle seiner Ablenkung treten kann, gekennzeichnet durch eine Seitenbegrenzungseinrichtung, bei der sich entlang jeder Seite des Strahlweges ein Leiter (50; 266, 350; 450; 550) erstreckt, um die Elektronen in seitlicher Richtung auf einen relativ schmalen Strahl zu begrenzen.Electron device for image reproduction, consisting of a evacuated flasks having a rear wall and a front wall spaced therefrom, on the inner surface of which Phosphor screen is applied, further with a beam system for generating a beam of electrons and for Directing the beam on a path which runs essentially parallel to the front wall over this wall, and with steering devices arranged along the beam path, to give the beam a wavy path oscillating towards and away from the fluorescent screen on its path to give and selectively steer the beam out of the way of selected locations along its path, the said steering means comprise a set of spaced parallel electrical conductors extending substantially parallel to the front wall and arrangements for forming planes of conduct spaced from and substantially spaced from said conductors on either side thereof run parallel to the conductors, the arrangement being provided with openings to form that ground plane which is on the side of the conductors facing the screen, through which the beam can pass in the event of its deflection, characterized by a side limiting device in which a conductor (50; 266, 350; 450; 550) extends along each side of the beam path, around the To limit electrons in a lateral direction to a relatively narrow beam. 2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Kolben eine Vielzahl beabstandeter und im wesentlichen paralleler Stützwände (24; 12*; 224...) enthält, die sich im wesentlichen senkrecht zwischen Vorder- und Rückwand (18, 20; 118, 120; 218, 220...) erstrecken und eine Vielzahl von Kanälen (26; 126, 226.·.) bilden; daß die Elektronen in Form einer2. Apparatus according to claim 1, characterized in that the piston a plurality of spaced apart and substantially parallel support walls (24; 12 *; 224 ...) which extend substantially perpendicularly between the front and rear walls (18, 20; 118, 120; 218, 220 ...) and form a plurality of channels (26; 126, 226. ·.); that the electrons are in the form of a 809823/0806809823/0806 - 23 -- 23 - Vielzahl einzelner Strahlen erzeugt und längs der Kanäle gesendet werden; daß die Lenzeinrichtungen (42, 44, 46; 142, 144, 146; 242, 268, 272; 342, 344, 346...) längs jedes der Kanäle angeordnet sind; daß sich bei der Seitenbegrenzungseinrichtung entlang jeder Seite jedes Strahlwegs ein Leiter (50; 266; 350; 450; 550...) erstreckt, um die Elektronen in jedem Strahl in seitlicher Richtung zu begrenzen. Large number of individual rays generated and along the channels be sent; that the bilge devices (42, 44, 46; 142, 144, 146; 242, 268, 272; 342, 344, 346 ...) along each the channels are arranged; that in the side delimiter there is each beam path along each side a conductor (50; 266; 350; 450; 550 ...) extends to confine the electrons in each beam in a lateral direction. 3. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Masseebene, die auf der der Rückwand (320) zugewandten Seite der zu den Lenkeinrichtungen gehörenden Leiter (342) liegt, aus einer Vielzahl von Metallfilmen (344) besteht, die sich an der inneren Oberfläche der Rückwand befinden und sich in Längsrichtung entlang den Kanälen erstrecken, wobei jeder der Metallfilme entlang einem gesonderten Strahlweg verläuft, und daß die Seitenbegrenzungsleiter (350) Metallfilme an der inneren Oberfläche der Rückwand sind, wobei sich entlang jeder Seite jedes M^sseebene-Metallfilms (344) ein solcher Seitenbegrenzungs-Metallfilm (350) erstreckt.3. Apparatus according to claim 2, characterized in that the ground plane, which lies on the side of the ladder (342) belonging to the steering devices facing the rear wall (320) a plurality of metal films (344) located on the inner surface of the backplane and in Extend longitudinally along the channels, with each of the metal films running along a separate beam path, and in that the side boundary conductors (350) are metal films on the inner surface of the backplane, running along them one on each side of each ground plane metal film (344) Side boundary metal film (350) extends. 4. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Masseebene, die auf der der Rückwand (820) zugewandten Seite der zu den Lenkeinrichtungen gehörenden Leiter (842) liegt, und die Seitenbegrenzungseinrichtung einen sich über die innere Oberfläche der Rückwand erstreckenden Metallfile (844) und eine Vielzahl beabstandeter paralleler Drähte (845) enthalten, die sich in Längsrichtung jedes Kanals im Raum zwischen der Rückwand und den besagten Leitern erstrecken.4. Apparatus according to claim 2, characterized in that the ground plane, which lies on the side of the ladder (842) belonging to the steering devices facing the rear wall (820), and the side delimitation means a metal file (844) extending over the inner surface of the rear wall and include a plurality of spaced parallel wires (845) extending the length of each channel in the space between the rear wall and said ladders extend. 5. Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Seitenbegrenzungsleiter (450; 550) zwischen den zu den Lenkeinrichtungen gehörenden Leitern (442; 542) und dem Leuchtstoffschirm liegen.5. Apparatus according to claim 2, characterized in that the side boundary ladder (450; 550) between the conductors (442; 542) belonging to the steering devices and the fluorescent screen lie. 6. Gerät nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß die Seitenbegrenzungsleiter (450; 550) beabstandete parallele Drähte6. Apparatus according to claim 5 »characterized in that the side boundary ladder (450; 550) spaced parallel wires 809823/0806809823/0806 - 24 -- 24 - sind, die sich in Längsrichtung der Kanäle erstrecken.which extend in the longitudinal direction of the channels. 7. Gerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Masseebene, die auf der dem Schirm zugewandten Seite der zu den Lenkeinrichtungen gehörenden Leiter (442; 542) liegt, eine leitende Anordnung (446; 546) ist, die sich quer durch die Kanäle und in Längsrichtung der Kanäle erstreckt, und daß die Seitenbegrenzungsdrähte (450; 550) entlang dieser leitenden Anordnung laufen.7. Apparatus according to claim 6, characterized in that the ground plane, which is on the side facing the screen of the conductors (442; 542) belonging to the steering devices, one conductive structure (446; 546) extending across the Channels and extends in the longitudinal direction of the channels, and that the side boundary wires (450; 550) are conductive along them Arrangement run. 8. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Seitenbegrenzungsdrähte (450) von der die besagte Masseebene bildenden Anordnung (446) in Richtung auf die zu den Lenkeinrichtungen gehörenden Leiter (442) vorstehen.8. Apparatus according to claim 7, characterized in that the side boundary wires (450) of which the said ground plane projecting arrangement (446) in the direction of the ladder belonging to the steering devices (442). 9. Gerät nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Anordnung (546), welche die besagte Masseebene bildet, aus einer Vielzahl koplanarer Drähte besteht, die sich in Längsrichtung der Kanäle erstrecken und in Querrichtung der Kanäle beabstandet sind, und daß die Seitenbegrenzungsdrähte (550) in derselben Ebene wie die Drähte der besagten leitenden Anordnung (546) liegen, jedoch von diesen Drähten beabstandet sind.9. Apparatus according to claim 7, characterized in that the conductive Arrangement (546), which forms said ground plane, consists of a plurality of coplanar wires which extend in The channels extend longitudinally and are spaced in the transverse direction of the channels, and that the side boundary wires (550) lie in the same plane as the wires of said conductive arrangement (546), but from these wires are spaced. 10. Elektronengerät zur Bildwiedergabe, dadurch gekennzeichnet, daß es im wesentlichen so ausgebildet ist, wie es in einer der Figuren 8 bis 13 dargestellt ist·10. Electronic device for image reproduction, characterized in that it is designed essentially as it is in a of Figures 8 to 13 is shown. 80982 3 /08 OR80982 3/08 CO
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