DE2620963A1 - PROCESS AND BATH FOR THE PRODUCTION OF A GALVANIC COATING - Google Patents

PROCESS AND BATH FOR THE PRODUCTION OF A GALVANIC COATING

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DE2620963A1
DE2620963A1 DE19762620963 DE2620963A DE2620963A1 DE 2620963 A1 DE2620963 A1 DE 2620963A1 DE 19762620963 DE19762620963 DE 19762620963 DE 2620963 A DE2620963 A DE 2620963A DE 2620963 A1 DE2620963 A1 DE 2620963A1
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Silvester Paul Valayil
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Description

PATENTANWÄLTE
D R. - 1 N G. H. FINCKE
D I P L. - I M G. H. BOHR
DiPL-ING. S. STAEGER
DR. rer. η-ΐ. R. KNEISSL
MÜLLER S TRASSE 31
MÜNCHEN 5
PATENT LAWYERS
D R. - 1 N GH FINCKE
DIP L. - IM GH DRILL
DiPL-ING. S. STAEGER
DR. Rer. η-ΐ. R. KNEISSL
MÜLLER S TRASSE 31
MUNICH 5

Mappe 23 968
M&T Case 1126
Folder 23 968
M&T Case 1126

M & T Chemicals Inc., Greenwich, Conn., USAM&T Chemicals Inc., Greenwich, Conn., USA

Verfahren und Bad zur Herstellung eines galvanischen ÜberzugsMethod and bath for producing a galvanic coating

Priorität USA vom 16.5.1975Priority USA from May 16, 1975

Die Erfindung betrifft verbesserte Verfahren und Bäder zur galvanischen Abscheidung von Eisenlegierungen mit Nickel oder mit Nickel-Kobalt. Die Erfindung betrifft insbesondere die Verwendung eines neuen Additivs zur Verbesserung der galvanischen Abscheidung von eisenhaltigen Nickel- und Nickel-Kobalt-Legierungen. The invention relates to improved methods and baths for electroplating Deposition of iron alloys with nickel or with nickel-cobalt. The invention particularly relates to use a new additive to improve the electrodeposition of iron-containing nickel and nickel-cobalt alloys.

Aufgrund der im Vergleich zu Nickel und Kobalt und deren Salzen erheblich niedrigeren Kosten von Eisen wäre es sehr vorteilhaft, in der Lage zu sein, Nickel- oder Nickel-Kobalt-Legierungen mit Eisen, die einen erheblichen Eisengehalt aufweisen, galvanisch abzuscheiden, wodurch die Kosten für die Metalle und Salze ver-Because of the compared to nickel and cobalt and their salts At a significantly lower cost of iron it would be very beneficial to be able to use nickel or nickel-cobalt alloys Electrodeposited iron, which has a significant iron content, which reduces the costs for the metals and salts.

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mindert werden .würden. Ss hat sich gezeigt, daß von den zwei üblichen Valenzformen des Eisens, nämlich Fe+ und Fe , die Eisen(II)-Form von Fe+ die optimale Form darstellt, um eine galvanische Abscheidung dieser Legierungen zu gestatten, obgleich die Bäder im allgemeinen auch niedrige Konzentrationen von Fe ~- Ionen vertragen. Bei der galvanischen Abscheidung dieser Eisenlegierungen ist jedoch das Problem darin gelegen, daß aufgrund der Anwesenheit von zu hohen Konzentrationen von Fe+ -Ionen, die durch eine Luft- oder anodische Oxidation von Fe+ -Ionen gebildet werden können, diese Fe^-Ionen dazu neigen, als basische Salze auszufallen, die nicht nur in störender Weise dazu neiger., Anodenbeutel und -filter zu verstopfen, sondern auch sich damit gemeinsam abscheiden, wodurch Abscheidungen mit nicht zufriedenstellender Cualität erhalten werden. Diese können nämlich insbesondere in Randgegenden eine Trübung oder lokalisierte Mattierung zeigen. Es kann auch sein, daß - wenn die Konzentration des suspendierten basischen Eisen(lII)salzes zu hoch ist - sich auf der gesamten Oberfläche Mikro-Hügel bilden, was oftmals als "Orangen-Haut" bezeichnet'wird . Das Problem der Ausfällung von basischen Eisen(III)salzen hat daher bislang die Kontrolle der technischen galvanischen Abscheidung von Legierungen von Eisen mit Nickel oder mit Nickel und Kobalt sehr schwierig kontrollierbar gemacht.would be reduced. It has been shown that of the two common valence forms of iron, namely Fe + and Fe, the ferrous form of Fe + is the optimal form to allow electrodeposition of these alloys, although the baths generally also tolerate low concentrations of Fe ~ ions. In the electrodeposition of these iron alloys, however, the problem is that due to the presence of excessively high concentrations of Fe + ions, which can be formed by air or anodic oxidation of Fe + ions, these Fe ^ ions are added tend to precipitate out as basic salts, which not only have a disruptive tendency to clog anode bags and filters, but also separate out together with them, as a result of which deposits of unsatisfactory quality are obtained. This is because these can show cloudiness or localized matting, especially in peripheral areas. It can also be that - if the concentration of the suspended basic iron (III) salt is too high - micro-hills form over the entire surface, which is often referred to as "orange skin". The problem of the precipitation of basic iron (III) salts has made it very difficult to control the technical electrodeposition of alloys of iron with nickel or with nickel and cobalt.

Zur Überwindung der mit der Bildung von basischen Eisen(III)salzen-Ausfällungen verbundenen Probleme sind schon verschiedene Möglichkeiten versucht worden. Die eine Möglichkeit ist die Verwendung eines Reduktionsmittels, das praktisch alle Eisenionen im Fe+ -Zustand hält. Obgleich es solche Reduktionsmittel gibt, neigen doch die meisten dazu, instabil zu sein, störende Reaktionsprodukte zu bilden oder die Abscheidungseigenschaften oder die allgemeine Badkontrolle und das Badverhalten in nachteiliger Weise zu beeinflussen.Various possibilities have already been tried to overcome the problems associated with the formation of basic iron (III) salt precipitates. One option is to use a reducing agent that keeps practically all iron ions in the Fe + state. Although there are such reducing agents, but most tend to be unstable to form reaction products disturbing or affecting the deposition characteristics or the general Bath control and the bath behavior adversely.

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Eine weitere Möglichkeit ist es, in das galvanische Bad ein Additiv einzubringen, das die Eisen(llQ-Ionen durch Komplexbilduns oder Chelierwirkung löslich iracht. Damit ein solches Additiv für diesen Zweck geeignet ist, muß es die folgenden Eigenschaften haben:Another possibility is to add an additive to the electroplating bath to bring in the iron (IIQ ions by complexing or chelating effect is soluble. So that such an additive is suitable for this purpose, it must have the following properties:

1. Es muß gegenüber Elektrolyse-, d.h. reduzierenden (Kathode) und oxidierenden (Anode) Bedingungen relativ stabil sein.1. It must be used against electrolysis, i.e. reducing (cathode) and oxidizing (anode) conditions should be relatively stable.

2. Es muß mit anderen Additiven verträglich sein, die einzeln oder in Kombination als Komverfeinerungsmittel oder als Glanzbildner zugesetzt werden, d.h. es darf das Verhalten dieser anderen Additive nicht nachteilig beeinflussen. 2. It must be compatible with other additives which are added individually or in combination as a grain refiner or as a brightener, ie it must not adversely affect the behavior of these other additives.

3. Es muß relativ billig sein und darf innerhalb seiner zulässigen Konzentrationsgrenzen nicht kritisch sein und3. It must be relatively cheap and not critical within its allowable concentration limits and

4. es muß gegenüber ziemlich weiten Schwankungen der Fe Konzentration im Bad ziemlich gut beständig sein.4. There must be fairly wide fluctuations in the Fe concentration be pretty resistant in the bathroom.

Es gibt zwar einige Komplexbildner, die einige der obigen charakteristischen Eigenschaften haben, doch fehlen ihnen im allgemeinen wiederum andere dieser Eigenschaften.While there are some complexing agents that have some of the characteristics above Have properties, but generally lack others of these properties.

Es wurde nun gefunden, daß Monosaccharide, Oligosaccharide und Polysaccharide günstige Eigenschaften haben, daß sie oxidierbar sind und daß sie komplexbildende Wirkungen gegenüber Eisen(III)-Ionen aufweisen.It has now been found that monosaccharides, oligosaccharides and polysaccharides have favorable properties that they can be oxidized and that they have complex-forming effects on iron (III) ions exhibit.

Aufgabe der Erfindung ist es, allgemein die galvanische Abscheidung von Legierungen aus Nickel und Eisen und Legierungen ausThe object of the invention is generally the electrodeposition of alloys of nickel and iron and alloys

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Nickel-Kobalt-Eisen zu verbessern. Insbesondere sollen gemäß der Erfindung Verfahren und Bäder zur Erzeugung von fehlerfreien galvanischen Abscheidungen, die Eisen und Nickel oder Eisen und Nickel und Kobalt enthalten, über einen weiten Bereich von Additivkonzentrationen ohne wesentliche Ausfällung von basischen Eisen(lll)salzen zur Verfügung gestellt werden. Weiterhin wird gemäß der Erfindung bezweckt, Nickel, Kobalt oder Nickel-Kobalt galvanisch abzuscheiden, wobei der Eisengehalt der Abscheidung sehr niedrig ist, im allgemeinen gut unterhalb 1 Gew.-% liegt, und z.3. 0,025% Eisen aufgrund des im Bad als Verunreinigung enthaltenen Eisengehalts beträgt. Ein bevorzugter Bereich des Eisengehalts kann 1 bis 70% sein. Ein sehr bevorzugter Legierungsbereich kann 5 bis 5O?6 Eisen in der galvanischen Abscheidung sein.To improve nickel-cobalt-iron. In particular, according to the invention, methods and baths for producing flawless electrodepositions containing iron and nickel or iron and nickel and cobalt are to be made available over a wide range of additive concentrations without significant precipitation of basic iron (III) salts. A further aim of the invention is to deposit nickel, cobalt or nickel-cobalt by electroplating, the iron content of the deposit being very low, generally well below 1% by weight, and z.3. 0.025% iron due to the iron content in the bath as an impurity. A preferable range of iron content can be 1 to 70% . A very preferred alloy range can be 5 to 50-6 iron in the electrodeposition.

Ein Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines galvanischen Überzugs, welcher Nickel und/oder Kobalt und ebenfalls auch Eisen enthält, bei dem ein elektrischer Strom von einer Anode zu einer Kathode durch ein wäßriges saures galvanisches Bad geleitet wird, das Kobalt- und/oder Nickelverbindungen und ebenfalls auch Eisenverbindungen enthält, um Kobalt-, Nickel- und. Eisenionen zur galvanischen Abscheidung von Kobalt oder Nickel oder von Legierungen dieser beiden Elemente oder von Eisenlegierungen mit einem dieser Elemente oder mit beiden Elementen zu ergeben, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man ein Bad verwendet, welches eine wirksame Menge Borsäure und 2 g/l biw 100 g/l mindestens eines Monosaccharids, Oligosaccharids und/oder wasserhydrolysierbaren Polysaccharids enthält und daß man die galvanische Abscheidung über einen Zeitraum durchführt, der ausreichend ist, daß auf der Oberfläche der Kathode ein fehlerfreier galvanischer Metallüberzug gebildet wird. Saccharide reduzieren die unerwünschten Eisen(IIl)-Ionen zu Elsen(Il)-Ionen und sie verhindern auch die Oxidation von zweiwertigem Eisen zuAn object of the invention is a method for producing an electroplating coating, which nickel and / or cobalt and also contains iron, in which an electric current is passed from an anode to a cathode through an aqueous acidic galvanic Bath is conducted that contains cobalt and / or nickel compounds and also iron compounds in order to remove cobalt, Nickel and. Iron ions for the electrodeposition of cobalt or nickel or of alloys of these two elements or of iron alloys with one of these elements or with both elements, which is characterized in that one a bath is used which contains an effective amount of boric acid and 2 g / l to 100 g / l of at least one monosaccharide, oligosaccharide and / or contains water hydrolyzable polysaccharide and that the electrodeposition is carried out over a period of time which is sufficient to leave a defect-free surface on the cathode galvanic metal coating is formed. Saccharides reduce the unwanted iron (IIl) ions to Elsen (II) ions and they also prevent the oxidation of divalent iron too

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dreiwertigem Eisen. Diese Reduktionskraft ist zum großen Teil auf das Vorhandensein von Aldehyd- oder Ketogruppen in diesen Sacchariden zurückzuführen. Weiterhin "bilden diese Saccharide starke Komplexe mit Fe -Ionen und diese Komplexe bleiben in Lösung. trivalent iron. This reducing power is due in large part to the presence of aldehyde or keto groups in these Attributed to saccharides. Furthermore "these form saccharides strong complexes with Fe ions and these complexes remain in solution.

Typische Beispiele für solche Saccharide sind die folgenden Verbindungen: Typical examples of such saccharides are the following compounds:

Monosaccharide:Monosaccharides:

Glucoseglucose

FructoseFructose

XyloseXylose

ArabinoseArabinose

MannoseMannose

ErythroseErythrosis

Glyceraldehyd etc.Glyceraldehyde etc.

Oligosaccharide:Oligosaccharides:

Maltose Cellobiose Gentiobiose etc.Maltose Cellobiose Gentiobiose etc.

Polysaccharide:Polysaccharides:

LactoseLactose

Stärkestrength

Cellulose.Cellulose.

Die Bäder können auch eine "wirksame Menge von mindestens einer Komponente aus folgenden Gruppen enthalten:The baths can also have an "effective amount of at least one Components from the following groups included:

(a) primären Glanzbildnern;(a) primary brighteners;

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(b) sekundären Glanzbildnern;(b) secondary brighteners;

(c) sekundären Hilfsglanzbildnern; und(c) secondary auxiliary brighteners; and

(d) Mittel gegen Lochfraß.(d) Anti-pitting agents.

Die Substrate, auf die die nickelenthaltenden, kobaltenthaltenden, nickel- und kobaltenthaltenden, nickel- und eisenenthaltenden oder nickel-, kobalt- und eisenenthaltenden erfindungsgemäß hergestellten galvanischen Überzüge aufgebracht werden können, kennen Metalle oder Metallegierungen sein, wie sie üblicherweise mit galvanischen Abscheidungen versehen und in der Galvanotechnik verwendet werden. Beispiele hierfür sind Nickel, Kobalt, Nickel-Kobalt-Legierungen, Kupfer, Zinn, Messing etc. Weitere typische Substratgrundmetalle, aus denen Gegenstände hergestellt werden, die später galvanisiert werden, sind z.B. Eisenmetalle, wie Stahl; Kupfer; Zinn und seine Legierungen, wie mit Blei; Kupferlegierungen, wie Messing, Bronze etc.; Zink, insbesondere in Form von Schalengußgegenständen auf Zinkbasis; die alle Plattierungen von anderen Metallen, z.B. von Kupfer etc., tragen können. Die Grundmetallsubstrate können eine Vielzahl von Oberflächenzuständen je nach dem gewünschten Endaussehen haben; letzteres hängt von solchen Faktoren, wie dem Glanz, der Brillianz, der Einebnung, der Dicke etc. des auf solche Substrate galvanischen Überzugs ab, der Kobalt, Nickel, oder Eisen enthält.The substrates on which the nickel-containing, cobalt-containing, nickel- and cobalt-containing, nickel- and iron-containing or nickel-, cobalt- and iron-containing according to the invention produced galvanic coatings can be applied, know metals or metal alloys, as they are usually provided with galvanic deposits and used in electroplating. Examples are nickel, cobalt, Nickel-cobalt alloys, copper, tin, brass etc. Other typical substrate base metals from which objects are made that are later electroplated are e.g. ferrous metals, like steel; Copper; Tin and its alloys, such as lead; Copper alloys such as brass, bronze, etc .; Zinc, in particular in the form of zinc-based shell castings; all of the platings from other metals, e.g. from copper etc. The parent metal substrates can have a variety of surface conditions depending on the final look desired; the latter depends on such factors as gloss, brilliance, the leveling, the thickness etc. of the electroplating on such substrates Coating that contains cobalt, nickel, or iron.

Die hierin verwendete Bezeichnung "primäre Glanzbildner11 soll galvanische Additiwerbindungen umfassen, wie z.B. die Reaktionsprodukte von Epoxiden mit a-Hydroxyacetylenalkoholen, z.B. diäthoxyliertes 2-Butin-1t4-diol oder dipropoxyliertes 2-Butin-1,4-diol, andere acetylenische Substanzen, N-heterocyclische Substanzen, aktive Schwefelverbindungen, Farbstoffe etc. Spezielle Beispiele für solche galvanischen Additive sind die folgenden Verbindungen:As used herein, "primary brightening agent 11 is intended to include galvanic additive compounds such as reaction products of epoxides with a-Hydroxyacetylenalkoholen such diäthoxyliertes 2-butyn-1 t 4-diol or dipropoxyliertes 2-butyne-1,4-diol, other acetylenic substances , N-heterocyclic substances, active sulfur compounds, dyes, etc. Specific examples of such galvanic additives are the following compounds:

1,4-Di-(ß-hydroxyäthoxy)-2-butin 1,4-Di-(ß-hydroxy-T-chlorpropoxy)-2-butin1,4-di- (ß-hydroxyethoxy) -2-butyne 1,4-di- (ß-hydroxy-T-chloropropoxy) -2-butyne

—7——7—

609848/088 5609848/088 5

1,4-Di-(ß-y-epoxypropoxy)-2-*butir.1,4-di- (β-y-epoxypropoxy) -2- * butir.

1,4-Di-(ß-hydroxy-iT-butenoxy)-2-l)utin 1,4-Bi- (2' -hydroxy-4l -oxa -6' -heptenoxy ) -2-butin N-1,2-Dichlorpropen3/lpyridiniujnchlorid 2 T 4,6-Trimethyl--N-propargylpyridiniuinbromid N-Allylchinaldiniumbromid1,4-Di- (ß-hydroxy-iT-butenoxy) -2-l) utin 1,4-Bi- (2'-hydroxy-4 l -oxa-6'-heptenoxy) -2-butyne N-1 , 2-dichloropropene3 / pyridinium chloride 2 T 4,6-trimethyl-N-propargylpyridinium bromide N-allyl quinaldinium bromide

2-Butin-1,4-diol2-butyne-1,4-diol

PropargylalkoholPropargyl alcohol

2-Methyl-3-butin-2-ol2-methyl-3-butyn-2-ol

ThiodiproprionitrilThiodiproprionitrile

,CH2CH2CN, CH 2 CH 2 CN

Thioharnstoff
Pheno safranin
Fuchsin.
Thiourea
Phenosafranine
Vixen.

Wenn, sie allein oder in Kombination verwendet werden, dann können die primären Glanzbildner auf dem galvanischen Überzug keine sichtbaren Effekte erzeugen oder sie können halbglänzende, feinkörnige Abscheidungen liefern. Beste Ergebnisse werden jedoch erhalten, wenn primäre Glanzbildner mit einem sekundären Glasbildner, einem sekundären Hilfsglanzbildner oder beiden verwendet werden, um optimale Verhältnisse hinsichtlich des Glanzes der Abscheidung, der Glanzrate, der Einebnung, des Glanzstromdichtebereichs, der Dichtebedeckung bei niedriger Stromstärke etc. zu erhalten.If, they can be used alone or in combination the primary brighteners on the galvanic coating do not produce any visible effects or they can be semi-glossy, deliver fine-grained deposits. However, best results are obtained when primary brighteners are combined with a secondary Glass former, a secondary auxiliary brightener, or both are used in order to achieve optimal conditions with regard to the gloss of the deposit, the gloss rate, the leveling, the gloss current density range, the density coverage at low amperage etc.

Die hierin verwendete Bezeichnung "sekundäre Glanzbildner" soll aromatische Sulfonate, Sulfonamide, Sulfonimide, Sulfinate etc. einschließen. Spezielle Beispiele für solche galvanischen Additive sind die folgenden Verbindungen:As used herein, the term "secondary brighteners" is intended to include aromatic sulfonates, sulfonamides, sulfonimides, sulfinates, etc. lock in. Specific examples of such galvanic additives are the following compounds:

1. Saccharin1. Saccharin

60984 8/0 8 8560984 8/0 8 85

2. Trinatrium-1,3,6-naphthaliritrisulfonat2. Trisodium 1,3,6-naphthaliritrisulfonate

3. Natriumbeiizoliiono sulfcnat
h. Dibenzolsulfonimid
3. Sodium sulphate sulfate
H. Dibenzenesulfonimide

5. Natriumbenzolmono sulfinat.5. Sodium benzene monosulfinate.

Solche galvanischen Additiwerb indungen, die einzeln oder in geeigneten Kombinationen verwendet werden können, haben eine oder mehrere der folgenden Funktionen:Such galvanic additive advertising, individually or in suitable form Combinations that can be used have one or more of the following functions:

1. Die Erzeugung halbglänzender Abscheidungen oder die Erzeugung einer wesentlichen Kornverfeinerung gegenüber den gewöhnlichen, nicht-glänzenden, matten, kernförmigen, nicht-reflektierenden Abscheidungen aus additivfreien Bädern, 1. The production of semi-glossy deposits or the Creation of a significant grain refinement compared to the usual, non-glossy, matt, core-shaped, non-reflective deposits from additive-free baths,

2. die Wirkung als Leitfähigkeitsinittel, wenn sie in Kombination mit anderen Additiven, wie primären Glanzbildnern, verwendet werden,2. The effect as a conductivity agent when used in combination used with other additives, such as primary brighteners,

3. die Kontrolle von inneren Spannungen der Abscheidungen in-dem die Spannungen in günstiger Weise zusammengedrückt werden,3. The control of internal stresses in the deposits by compressing the stresses in a favorable manner will,

4. die Einführung von kontrollierten Schwefelgehalten in die galvanischen Abscheidungen, um die chemische Reaktivität, Potentialunterschiede in zusammengesetzten Überzugssystemen etc. in günstiger Weise zu beeinflussen, wodurch die Korrosionserscheinungen vermindert werden und ein besserer Korrosionsschutz des Grundmetalls erzielt wird etc.4. the introduction of controlled sulfur contents in the electrodeposition in order to reduce the chemical reactivity, To influence potential differences in composite coating systems etc. in a favorable manner, whereby the corrosion phenomena are reduced and a better corrosion protection of the base metal is achieved etc.

Die hierin verwendete Bezeichnung "sekundäre Kilfsglanzbildner" soll aliphatisch^ oder aromatisch-aliphatische, olefinisch oder acetylenisch ungesättigte Sulfonate, Sulfonamide, oder Sulfon-As used herein the term "secondary brighteners" shall be aliphatic ^ or aromatic-aliphatic, olefinic or acetylenically unsaturated sulfonates, sulfonamides, or sulfone

-9-609848/0885 -9-609848 / 0885

imide bezeichnen. Spezielle Beispiele .für solche galvanischen Additive sind die folgenden Verbindungen:denote imide. Specific examples of such galvanic Additives are the following compounds:

1. Natriumallylsulfonat1. Sodium allyl sulfonate

2. Katrium-3-chlcr-2-buten-1-sulfonat2. Sodium 3-chloro-2-butene-1-sulfonate

3. Natriuxc-ß-styrolsulfonat3. Sodium C-β-styrene sulfonate

4. Natriumpropargylsulfonat4. Sodium propargyl sulfonate

- 5. Monoallylsulfamid (H2N-SO2-NH-CH2-CH=CH2)- 5. Monoallylsulfamide (H 2 N-SO 2 -NH-CH 2 -CH = CH 2 )

6. Diallylsulfamid6. Diallylsulfamide

vNH-AllylvNH allyl

XNH-Allyl X NH-allyl

7. Allylsulfonamid7. Allylsulfonamide

Solche Verbindungen haben, wenn sie für sich (was üblich ist) oder in Kombination verwendet werden, alle Funktionen,vie sie für die sekundären Glanzbildner angegeben wurden. Zusätzlich haben sie noch eine oder mehrere der folgenden Funktionen:Such compounds, when used alone (which is common) or in combination, have all the functions of them for the secondary brighteners. They also have one or more of the following functions:

1. Sie wirken so, daß der Lochfraß verhindert oder auf einen Minimalwert zurückgeführt wird (wahrscheinlich, indem sie als Wasserstoffakzeptoren wirken).1. They work in such a way that pitting corrosion is prevented or reduced to a minimum value (probably, by acting as hydrogen acceptors).

2. Sie können mit einem oder mehreren sekundären Glanzbildnern und einem oder mehreren primären Glanzbildnern zusammenwirken, wodurch bessere Raten der Glanzbildung und der Einebnung erhalten werden, als mit einer oder zwei Verbindungen aus allen drei folgenden Klassen erhalten werden können:2. You can use one or more secondary brighteners and one or more primary brighteners work together to give better rates of gloss and leveling than either or two compounds from all three of the following classes can be obtained:

(1) primäre Glanzbildner;(1) primary brighteners;

(2) sekundäre Glanzbildner; und(2) secondary brighteners; and

(3) sekundäre Hilfsglanzbildner, entweder alleine oder in Kombination.(3) auxiliary secondary brighteners, either alone or in combination.

-10-609848/0885 -10-609848 / 0885

ίο -ίο -

3. Sie können durch eine katalytische Vergiftung etc. die Kathodenoberfläche konditionieren, so daß die Verbrauchsraten der zusammenwirkenden Additive (üblicherweise des Typs der primären Glanzbildner) erheblich vermindert werden, wodurch der Betrieb wirtschaftlicher und besser kontrollierbar wird.3. You can die from catalytic poisoning etc. Condition the cathode surface so that the consumption rates of the interacting additives (usually of the type of the primary brighteners) can be reduced considerably, making the operation more economical and becomes more controllable.

In die Klasse der sekundären Hilfsglanzbildner können auch Ionen oder Verbindungen von bestimmten Metallen und von Metalloiden, wie Zink, Cadmium, Selen etc., eingeordnet werden, die - obgleich sie derzeit im allgemeinen nicht verwendet werden - schon dazu eingesetzt worden sind, um den.Glanz der Abscheidung etc. zu verstärken. Andere zusammenwirkende Additive organischer ZIatur, die geeignet sein können, sind die Hydroxysulfonatverbindungen der US-PS 3 697 391, d.h. typischerweise Natriusiforinaldehydbisulfit, dessen Funktion darin besteht, die Bäder gegenüber Konzentrationen der primären Glanzbildner verträglicher zu machen, wodurch die Verträglichkeit gegenüber Metallverunreinigungen, z.B. von Zink etc., erhöht wird.Ions can also be included in the class of secondary auxiliary brighteners or compounds of certain metals and of metalloids, such as zinc, cadmium, selenium, etc., which - although they are currently not generally used - already have been used to reduce the gloss of the deposit, etc. to reinforce. Other interacting additives of organic nature, which may be suitable are the hydroxysulfonate compounds U.S. Patent 3,697,391, i.e. typically sodium formaldehyde bisulfite, Its function is to make the baths more compatible with concentrations of the primary brighteners make, whereby the compatibility with metal impurities, e.g. zinc etc., is increased.

Die hierin verwendete Bezeichnung "Mittel gegen Lochfraß" soll Materialien (zusätzlich zu den sekundären Hilfsglanzbildnern und davon verschieden) bezeichnen, die die Gaslochfraßbildung verhindern oder auf einen Minimalwert zurückführen. Ein Mittel zur Verhinderung des Lochfraßes kann auch in der Weise wirken, daß es die Bäder gegenüber Verunreinigungen, wie Ölen, Fetten etc. besser verträglich macht, was durch ihre emulgierende, dispergierende und lösende etc. Wirkung auf solche Verunreinigungen geschieht, wodurch der Erhalt von fehlerfreieren Abscheidungen gefördert wird. Mittel gegen den Lochfraß sind fakultative Additive, die gegebenenfalls in Kombination mit einer oder mehreren Komponenten aus der Gruppe primäre Glanzbildner, sekundäre Glanzbildner und sekundäre Hilfsglanzbildner verwendet werdenAs used herein, the term "anti-pitting agents" is intended to refer to materials (in addition to the secondary auxiliary brighteners and different therefrom) which prevent gas pitting or reduce it to a minimum value. A means to prevent pitting corrosion can also act in such a way that it protects the baths against impurities such as oils and fats etc. makes it easier to tolerate, which is due to their emulsifying, dispersing and dissolving, etc. action occurs on such impurities, thereby obtaining flawless deposits is promoted. Agents against pitting are optional additives, optionally in combination with one or more Components from the group of primary brighteners, secondary brighteners and secondary auxiliary brighteners can be used

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können. Bevorzugte Mittel gegen den Lochfraß sind z.B. Natriumlaurylsulfat, Natriumlauryläthersulfat und ITatriumdialkylsulfosuccinate. can. Preferred agents against pitting corrosion are e.g. sodium lauryl sulfate, Sodium lauryl ether sulfate and ITodium dialkyl sulfosuccinate.

Typische nickelenthaltende, kobaltenthaltende und nickel-kobaltenthaltende Badzusaminensetzungen, die in Kombination mit wirksamen Kengen von etwa 2 g/l bis 100 g/l Monosaccharid-, Oligosaccharid- und Polysaccharidverbindungen und wirksamen Mengen von etwa 0,005 bis 0,2 g/l primären Glanzbildnern,mit etwa 1,0 bis 30 g/l sekundären Glanzbildnem, mit etwa 0,5 bis 10 g/l sekundärer Hilfsglanzbildner und mit etwa 0,05 bis 1 g/i Mitteln gegen Lochfraß verwendet werden, werden untenstehend näher beschrieben.Typical nickel-containing, cobalt-containing, and nickel-cobalt-containing Bath compositions that are effective in combination with Kengen from about 2 g / l to 100 g / l monosaccharide, oligosaccharide and polysaccharide compounds and effective amounts of about 0.005 to 0.2 g / L primary brighteners, with about 1.0 up to 30 g / l secondary gloss builders, with about 0.5 to 10 g / l secondary auxiliary brightener and with about 0.05 to 1 g / l agents used against pitting are described in more detail below.

Typische wäßrige nickelenthaltende galvanische Bäder (die in Kombination mit wirksamen Mengen der zusammenwirkenden Additive verwendet werden können) sind beispielsweise die folgenden Mischungen, in. denen, wenn nichts anderes angegeben ist, alle Konzentrationen als g/l angegeben sind:Typical aqueous nickel-containing electroplating baths (which in combination with effective amounts of the cooperating additives can be used) are for example the following mixtures, in which, unless otherwise stated, all concentrations are given as g / l:

Wäßrige galvanische Nickelbäder Tabelle IAqueous galvanic nickel baths Table I.

Komponente minimaler maximaler bevorzug-Component minimum maximum preferred

Gehalt Gehalt ter Gehalt Salary salary

Nickelsulfat Nickelchlorid Borsäure pH (elektrometrisch)Nickel sulfate nickel chloride boric acid pH (electrometric)

Das Verhältnis von Nickelionen zu Eisenionen in dem vorstehend beschriebenen Bad beträgt etwa 1 : 1 bis etwa 50 : 1.The ratio of nickel ions to iron ions in the bath described above is from about 1: 1 to about 50: 1.

-12-609848/0885 -12-609848 / 0885

5050 500500 300300 7,57.5 8080 4545 10 -10 - 5555 4545 33 55 44th

Ein typisches galvanisches Nickelfcad vom STilfan-ttyp, d-~s für die Erfindung verwendet werden kann, kann die folge"cen Komponenten enthalten:A typical STilfan-ttype galvanic nickel cad, d- ~ s for The invention can be used the following components contain:

Tabelle TITable TI

Komponentecomponent

minimaler raxir.aler tevorzupr-Gehalt Geh?It ""er Gi-' minimum raxir.aler tevorzupr-salary Geh? It "" er Gi- '

I - _■; J- οI - _ ■; J- ο

ITickelsulfanat jickelchlorid Borsäure pH (elektrornetrisch)ITickelsulfanate jickel chloride boric acid pH (electrometric)

5050 400400 4545 1,51.5 6060 4545 1010 55 *55 * 44th 33 55

Das Verhältnis von Kickelionen zu Eisenionen in dem vorstehend beschriebenen Bad beträgt etwa 1 : 1 bis etwa 50 : 1.The ratio of kickel ions to iron ions in the above described bath is about 1: 1 to about 50: 1.

Sin typisches chloridfreies Nickelbad vom Sulfattyp, das zur Durchführung der Erfindung verwendet werden kann, kann die folgenden Komponenten enthalten:A typical chloride-free sulphate-type nickel bath used for Can be used to practice the invention, the following can be used Components include:

Tabelle IIITable III

Komponentecomponent

minimaler maximaler bevorzu~- Gehalt Gehalt ter Gehalt minimum maximum preferred ~ - Salary salary

Ilickelsulfat Ecrsäure pH (elektrcmetrisch)Ilickelsulfat Ecric acid pH (electrcmetric)

5050 55 50c50c /-•-00/ - • -00 3,53.5 1010 5555 4545 2,2, 44th 3 Ms3 Ms

Ein typisches ehloridfreies galvanisches Nickelbad vom Sulfarr.attyp, das für die Durchführung dieserErfindung verwendet werden kann, kann die folgenden Komponenten enthalten:A typical chloride-free galvanic nickel bath of the sulfarate type, used in the practice of this invention can contain the following components:

-x'j--x'j-

609848/088 5609848/088 5

IMSPSCTEDIMSPSCTED

Tabelle IVTable IV

Komponente ' minimaler maxir-sler bevorzus:-Component 'minimum maxir-sler preferred: -

Gehalt Gehalt ter Ge-Salary salary

:-;ickelsulfaraat 50 ^C 2 350: -; ickelsulfaraat 50 ^ C 2 350

Borsäure 10 55 ^5Boric acid 10 55 ^ 5

ρ Ε (elektr©metrisch) 2,5 4 ~ bis 3,5ρ Ε (electr © metric) 2.5 4 ~ to 3.5

Das Verhältnis von Nickelionen zu Eisenionen in de*n vorstehend beschriebenen Bad beträgt etwa 1:1 bis etwa 50 : 1.The ratio of nickel ions to iron ions in the above described bath is about 1: 1 to about 50: 1.

Es wird ersichtlich, daß die obigen Bäder auch Verbindungen in Mengen enthalten können, die außerhalb der angegebene:: bevorzugter-, minimalen und maximalen Bereiche liegen können, doch wird ein bester und wirtschaftlicher Betrieb normalerweise dann erhalten, wenn die Verbindungen in den Bädern in cen angegebener: Mengen enthalten sind. Ein besonderer Vorteil der chloridfreien Eäder der obigen Tabellen III und IV besteht darin, (Ϊ5β die erhaltenen Abocheidungen praktisch zugfestigkeitsfrei sind und daß rie eine Hochgeschwindigkeitsplattierung unter .Anwerdung von Kochgeschwindigkeitsanoden gestatten.It will be appreciated that the above baths may contain compounds in amounts that may be outside of the specified :: more preferred, minimum and maximum ranges, but best and economical operation will normally be obtained when the compounds in the baths are in cen specified: quantities are included. A particular advantage of the chloride-free versions of Tables III and IV above is that the aboard coatings obtained are practically free of tensile strength and that they allow high-speed plating with the use of boiling-speed anodes.

Nachfolgend sind wäßrige galvanische Kobaltbäder und Kobalt-Nickel-Bäder angegeben, in denen die Kombination von wirksamen Kengen veη einem oder mehreren Additiven gemäß der Erfindung günstige Ergebrisse ergibt.The following are aqueous electroplating cobalt baths and cobalt-nickel baths indicated in which the combination of effective Kengen veη one or more additives according to the invention gives favorable results.

609848/0885 Orkwal inspected609848/0885 Orkwal inspected

_ 14 -_ 14 -

Wäßrige galvanisch^ Kobaltbader.und Kobalt-Nickel-I^cer (Alle Konzentrationen ?irid, wenn nichts anderes s-v'.~·?~ geber., in g/l angegeben) Aqueous zinc (~ irid All concentrations? Unless otherwise s- v '. ·? ~ Giver., In g / l indicated) ^ Kobaltba der.und cobalt-nickel-I ^ cer

i<.obaltbaa;i <.obaltbaa; maxiaaler
Gehalt
maximum
salary
350350 4CO4CO All-Chlorid-Kobalt-Bad:All-chloride-cobalt bath: 500500 Geh»!";Go »!";
»

»
2525th .7 '3 '.'ΟΓΖ i-1 ^--
-1--„ „ r^V,; -; +
.7 '3'.'ΟΓΖ i- 1 ^ - -
-1-- "" r ^ V ,; -; +
CoSO4-7H2OCoSO 4 -7H 2 O 4CO4CO 350350 225225 CoCl2-6H2OCoCl 2 -6H 2 O 5050 jl-jj l -j 2525th :cc: cc CoCl2-6H2OCoCl 2 -6H 2 O 7575 5050 7575 55 1010 toto H3SO3 H 3 SO 3 5050 Kobalt-Nickel-Legierungsbad:Cobalt-nickel alloy bath: 5050 SuIfamatkobalt-Bad:SuIfamat cobalt bath: 400400 1010 4545 Kobaltbad:Cobalt bath: NiSO4*7H20NiSO 4 * 7H 2 0 Co(O7SNH2)2 Co (O 7 SNH 2 ) 2 7575 5050 CoSO4-7H2OCoSO 4 -7H 2 O 500500 CoSO4'7H2OCoSO 4 '7H 2 O CoCl2-SH2OCoCl 2 -SH 2 O 5050 5050 55 LOOLOO NaClNaCl 5050 NiCl2-6H2ONiCl 2 -6H 2 O H-J30-TH-J30-T ~~ 55 3030th 3 's> 3 's> 5050 H3EC3 H 3 EC 3 1010 1010 4545 Kobaltbad itit hohen ChloridgehaltCobalt bath with high chloride content CoSO4-7HpOCoSO 4 -7HpO 5050 225225 CcCl2-SH2OCcCl 2 -SH 2 O 1010 225225 H3BO3 H 3 BO 3 4545 5050 3CO3CO 1010 8080 6060 L5 L 5 300300 4545 2?02? 0 cOcO 4545

Das Verhältnis von Nickelionen zu Eisenionen in der vorstehend genannten Bädern beträgt etwa 1 : 1 bis etwa 50 : Λ The ratio of nickel ions to iron ions in the abovementioned baths is about 1: 1 to about 50: Λ

6 0 9 8 4 8 / 0 8 8 S °RJGiNAL 6 0 9 8 4 8/0 8 8 S ° RJGiNAL

Bevorzugte ga3.vanische Eobaltbäder können mindestens etwa ^O g/l CcCIp*-HoO und typischere/eise 20 bis 50 g/l CoCIp *6TTr.O enthalten. Weitere Verbindungen, die ein Kit den Bad vertr-i.-r.isHPS Kation besitzen (d.h. ein Kation, das aen Betrieb des T'^os nicht stört), die mindestens 7,5 g/l Chloridionen, Cl" ^vo:rcu-sv-eise eir5 Kiniirurj von etwa 9 g/l Cl") ergeben, können en τη::'5IIs verve r.d et werden.Preferred ga3.vanische Eobaltbäder can at least about ^ O g / l * CcCIp -HoO more typical and / else 20 to 50 g / l CoCIp 6 T T r .O contain *. Other compounds a kit the bath vertr-i.-r.isHPS cation own (ie, a cation which aen operation of T '^ os does not interfere), at least 7.5 g / l chloride ions, Cl "^ vo: rcu-sv-eise eir 5 Kiniirurj of about 9 g / l Cl ") can be verd et τη :: '5 IIs.

Der pH-Wert aller oben angegebenen wäßrigen Kicl-ielb·;IzT1 Kotaltbäder, Nickel-Kobalt-Eäder und I?ickel-Kobalt-Ei-er,-2*ider kann während der Galvanisierung be.1 'werten von 2,5 bis 5,C- vorzugsweise etvra 3jO bis 4,0, gehalten werden. Während des letriebs des Bades steigt der pH-~Wert normalerweise an und er >arn nit Säuren,z.B. Salzsäure und Schwefelsäure etc., wieder eingestellt werden.The pH of all of the above-mentioned aqueous Kicl-ielb ·; IzT 1 Kotaltbäder, Nickel-Cobalt-Eäder and I? Ickel-Cobalt-Eggs, -2 * ider can be.1 'during the electroplating be.1' values from 2.5 to 5, C- preferably about 3jO to 4.0, being held. While the bath is in operation, the pH value normally rises and it cannot be readjusted with acids, e.g. hydrochloric acid and sulfuric acid, etc.

Der Betriebstenrpera'curbereich für die cbigen Bäder kann etwa J<0 bis 7CC betragen, vrcbei Temperaturen im Bereich vcn 4f> bis 65 "C bevorzugt werden.The operating temperature range for the large baths can be about J <0 to 7CC, at temperatures in the range of 4f> to 65 "C are preferred.

"•ta"• ta

Eine Durchbewegung der obigen Bäder während des Galvanisierens kann darin bestehen, daß man die Lösung umpurrrpt, den. ?Iathodenstab bewegt und/oder eine Luftdurchbewegung durchführt. Bei Anwendungen, bei denen die Abscheidung von eisenhaltigen Legierungen aus Bädern, in denen Eisen verwiegend irr Ei ε er. (II ^Zustand (zweiwertig) vorliegt, umfaflt wird, wird es bevorzugt, eine sehr milde Durchbewegung, d.h. Bewegung des Kathocenstabes, anzuwenden, um die Luftoxidation der Eisen(II)-Ionen in Eieen-(III)-Ionen auf einen Mininalwert zurückzuführen.A movement of the baths above during electroplating can consist of recirculating the solution, the. ? Cathode rod moves and / or performs an air movement. In applications where the deposition of ferrous alloys from baths in which iron weighs in wrong eggs. (II ^ state (bivalent) is present, it is preferred to use a very gentle agitation, i.e. movement of the catholic rod, apply to the air oxidation of iron (II) ions in iron (III) ions to be attributed to a minimum value.

Für die galvanische Abscheidung von binären oder ternsren Legierungen, z.B. Nickel-Kobalt- und Nickel-Eisen- oder Uickel-Kobalt-Eisen-Legierungen, können die Anoden aus den getrennten betreffenden Metallen bestehen, die geeigneterweise lsi Bad inFor the electrodeposition of binary or ternary alloys, e.g. nickel-cobalt and nickel-iron or nickel-cobalt-iron alloys, the anodes may consist of the separate metals in question, suitably lsi bath in

-16-60984 8/0885-16-60984 8/0885

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

Form von Stangen, Streifen oder kleinen Stücken in Titannetren aufgehängt sind. In solchen Fällen wird das Verhältnis der Anc~ aer.oberf lachen, der einzelnen Ketalle so eingestellt, do 2 ?ε der reveils gewünschten Legierungszu^arrciensetzung dor Käthe-I? entspricht. Zur galvanischen Abscheidung von binären eier ternären Legierungen kann nan auch als Anoden Legierungen der betreffenden I-Ietalle in einen solchen in Gewichtsprozent ausgedrückten Gewichtsverhältnis der einzelnen Metalle, daß das in Gewichtsprozent ausgedrückte Verhältnis der gleichen Metalle m den gewünschten Kathcdenlegierungsabscheidungen erhalten wird, verwenden. Dierre zwei Arten von Anoiensysteven führen irn allgemeinen zu einar ziemlich konstanten Konzentration der Bad~etall~ ionen für die jeweiligen Metalle. Wenn bei einer festen Metallverhältnis der Anodenlegierungen UngleichmäBigkeiten der Badionen auftreten, dann können gelegentliche Einstellungen gerächt werden, indem man die einzelnen Metallsalze in entsprechenden Korrektions^ergen zusetzt. Alle Anoden sind geeigneterweise mit Tuch- cder Kunststoffbeuteln gewünschter Forosität bedeckt, um eine Einführung von Metallteilchen, von Anodenschlamm und dergleichen in das Bad auf einen Minimalwert zurückzuführen, welche mechanisch oder elektrophoretisch zu der Kathode wandern könnten und rauhe kathodische Abscheidungen ergeben könnten.In the form of rods, strips or small pieces suspended in titanium bars. In such cases, the ratio of the anc ~ is aer.oberf laugh, the individual Ketalle set to do 2? Ε of reveils desired alloy additions ^ arrciensetzung dor Kathe I? is equivalent to. For the galvanic deposition of binary egg-ternary alloys, nan can also use as anode alloys of the respective metals in such a weight ratio of the individual metals expressed in percent by weight that the ratio of the same metals expressed in percent by weight is obtained in the desired cathode alloy deposits. These two types of anoic systems generally lead to a fairly constant concentration of the bath metal ions for the respective metals. If irregularities of the bath ions occur with a fixed metal ratio of the anode alloys, then occasional adjustments can be avenged by adding the individual metal salts in appropriate corrective amounts. All anodes are suitably covered with cloth or plastic bags of the desired shape to minimize introduction of metal particles, anode sludge and the like into the bath which could mechanically or electrophoretically migrate to the cathode and result in rough cathodic deposits.

Die Erfindung wird in den Beispielen erläutert. Beispiel 1 The invention is illustrated in the examples. example 1

Ein galvanisches Nickelbad wurde hergestellt, indem die folgenden Bestandteile mit Wasser zu den angegebenen Konzentrationen (in g/l, wenn nichts anderes angegeben ist) vermischt wurden:A nickel electroplating bath was prepared by adding the following ingredients with water to the indicated concentrations (in g / l, unless otherwise stated) were mixed:

KISO^·7H2OKISO ^ 7H 2 O

Konzentration (g/l) • 6CConcentration (g / l) • 6C

6098 48/0885 origwal Ispeoted6098 48/0885 origwal Ispeoted

H3BO3 ^5H 3 BO 3 ^ 5

Eisen(II)sulfat (FeSO^-7H2O) 40Iron (II) sulfate (FeSO ^ -7H 2 O) 40

Reaktionsprodukt von Butindiol mit 2 KoIReaction product of butynediol with 2 KoI

Äthylenoxid 50 mg/1Ethylene oxide 50 mg / 1

Natriumsaccharinat (0,6 Hol H2O) <k,0Sodium saccharinate (0.6 Hol H 2 O) <k, 0

Natriumallylsulfonat 2,3Sodium allyl sulfonate 2,3

Fructose 20Fructose 20

PH 3,3PH 3.3

Sine polierte Messingtafel wurde mit einem horizontalen einzigen Durchlauf vcn Schmirgel mit 2/0 Korn angerissen, wodurch sir.e Bandbreite von etwa 1 cm im Abstand von etwa 2,5 cm von Boden der Tafel erhalten wurde. Nach dem Reinigen der Tefel mit Einschluß der Verwendung einer dünnen Cyanidkupfers/uflage zur Gewährleistung einer ausgezeichneten physikalischen und chemischen Reinheit wurde diese in einer Kull-Zelle ir.it 267 r.l 10 min lang mit einer Zeilεtron?stärke von 2 A und bei einer Temperatur von 50 C und unter Anwendung einer Magnetrührung galvanisiert. Die resultierende Abscheidung war gleichförmig feinkörnig, gut eingeebnet und hatte ein glänzendes Aussehen. Es war eine ausgezeichnete Duktilität und eine gute Bedeckung bei niedrig sr Stromdichte vorhanden.A polished brass plaque was scratched with a single horizontal pass of 2/0 grain emery, whereby a band width of about 1 cm was obtained at a distance of about 2.5 cm from the bottom of the plate. After cleaning the surface, including the use of a thin cyanide copper layer to ensure excellent physical and chemical purity, it was stored in a Kull cell for 10 minutes at a cell strength of 2 A and at a temperature of 50 C and galvanized using a magnetic stirrer. The resulting deposit was uniformly fine grained, well leveled, and had a glossy appearance. There was excellent ductility and good coverage at low sr current density.

2^ispiel 22 ^ i game 2

Beispiel Nr. 1 wurde wiederholt, wobei 40 g/l Saccharose, d.h. ein Disaccharid anstelle von Fructose mit den gleichen Ergebnis.-sen verwendet wurden.Example No. 1 was repeated using 40 g / l sucrose, i.e. a disaccharide, instead of fructose with the same results were used.

Beispiel_ 3 Example_ 3

Beispiel Kr. 1 wurde wiederholt, wobei 40 g/l Glucose, d.h. ein ;-"or.csaccharid anstelle von Fructose mit den gleichen Ergebnissen verwendet wurden.Example Kr. 1 was repeated using 40 g / l of glucose, i.e. a; - "or.csaccharide instead of fructose with the same results were used.

-i860 $"8 48/0885 OB,r^^^-^-i860 $ "8 48/0885 OB, r ^^^ - ^

Beispiel 4Example 4

Beispiel Nr. 1 wurde wiederholt, wobei 20 g/l Lactose., d.h. ein Disaccharid anstelle von Fructose mit den gleicher. Ergebnissen verwendet wurden.Example No. 1 was repeated, using 20 g / l lactose., I.e. a disaccharide instead of fructose with the same. Results were used.

Beispiel 5Example 5

Ein Nickel-Eisen-Bad wurde hergestellt, indem die folgenden Bestandteile mit Wasser zu den angegebenen Konsent-rsticrsn vermischt wurden:A nickel-iron bath was made by mixing the following ingredients with water to the indicated consents became:

O JOO g/lO JOO g / l

2pO 60 '■/! 2 pO 60 '■ /!

Borsäure 45 g/lBoric acid 45 g / l

Natriumallylsulfonat 2,3 f/l Sodium allyl sulfonate 2.3 f / l

Saccharin 4,0 ^/ISaccharin 4.0 ^ / l

FeSO4-YH2O 10,0 $/lFeSO 4 -YH 2 O $ 10.0 / l

Glucose 10,0 g/lGlucose 10.0 g / l

Proparg3rlalkohol 20 mg-/lProparg3r alcohol 20 mg / l

PE 3,cPE 3, c

Temperatur 54°C„Temperature 54 ° C "

Die resultierende Abscheidung war glänzend, ziemlich gut eir-re ebnet und duktil.The resulting deposit was glossy, fairly good eir-re paved and ductile.

Beispiel 6Example 6

Ein Nickel-Eisen-Bad wurde hergestellt, inden; die folgenden Bestandteile zu den angegebenen Konzentrationen six Wasser vermischt wurden: A nickel-iron bath was made indene; the following components six water were mixed to the specified concentrations:

NiSO4-6H2O -00 fr/1 NiSO 4 -6H 2 O -00 fr / 1

60 srjl 60 srjl

609848/0885609848/0885

2020th 55 g/lg / l 4545 JJ g/ig / i QQ 3 g/l3 g / l 44th ττ O p/lO p / l IG,IG, 5/15/1 4040 O r-«r/lO r- «r / l

FeSO4*7H20FeSO 4 * 7H 2 0

Borsäure Natriuraallylsulfcnat Saccharin Stärke EutindiolBoric acid sodium allyl sulfate Saccharin starch eutindiol

Das Bad wurde filtriert und in einer Kull-Zelle getestet. Die Abscheidung war glänzend und eingeebnet. Die Buktilitst war schlecht.The bath was filtered and tested in a Kull cell. the Deposit was glossy and leveled. The Buktilitst was bad.

Beispiel 7Example 7

Ein Nickel-Sisen-Bad wurde hergestellt, indea die folgenden Bestandteile zu den angegebenen Konzentrationen mit i^.??sr vermischt wurden:A nickel-iron bath was made using the following ingredients mixed with i ^. ?? sr to the specified concentrations became:

;00 g/l 60 g/l; 00 g / l 60 g / l

FeSO4.7H2O 40 g/lFeSO 4 .7H 2 O 40 g / l

Borsäure 40 g/lBoric acid 40 g / l

Matriumallylsulfonat 2,5 g/lSodium allyl sulfonate 2.5 g / l

Saccharin 4,0 g/lSaccharin 4.0 g / l

Galactose 10,0 g/lGalactose 10.0 g / l

2,3-Dichlorpropenpyridiniumchlorid 20,0 mg/1 PH 3,52,3-dichloropropene pyridinium chloride 20.0 mg / l PH 3.5

Temperatur 5^0CTemperature 5 ^ 0 C

Die resultierende Abscheidung war glänzend, duktil und sie hatte eine mäßige Einebnung.The resulting deposit was glossy, ductile, and had moderate planarization.

Beispiel 8 Ex iel 8

Sin Ilickel-Eisen-Bad wurde hergestellt, indem die folgenden Be-Sin Ilickel Iron Bath was made by doing the following

-20-609848/0885 -20- 609848/0885

INSPECTEDINSPECTED

standteile zu den angegebenen Konzentrationen ~dt Wasser vermischt wurden:components at the specified concentrations ~ dt water mixed became:

KiSO^-OH2O JCC g/lKiSO ^ -OH 2 O JCC g / l

0 6C s/l0 6C s / l

2020th g/lg / l 4545 ? g/l? g / l 2,2, 0 p/l0 p / l 0 g/l0 g / l 10,10, 0 rng/l0 rng / l 40,40,

FeSO4"7H2OFeSO 4 "7H 2 O

Borsäure Natriumallylsuifonai Saccharin Dextrose ButindiolBoric acid sodium allylsuifonai Saccharin dextrose butynediol

Die resultierende Abscheidung war glänzend, gut eingeebnet und duktil.The resulting deposit was glossy, well leveled, and ductile.

Zeispiel 9Example 9

Beispiel Ur. 8 wurde wiederholt, jedoch wurde die Menge von FeSO/-7H2O auf 40 g/l erhöht. Die resultierende Abscheidung war glänzend, eingeebnet und sie hatte eine schlechte Duktilität.Example Ur. 8 was repeated, but the amount of FeSO / -7H 2 O was increased to 40 g / l. The resulting deposit was glossy, planarized, and had poor ductility.

Beispiel 10Example 10

Ein Nickel-Eisen-Bad wurde hergestellt, indem die folgenden Bestandteile zu den angegebenen Konzentrationen niit Vfasser vermischt wurden:A nickel-iron bath was made by adding the following ingredients mixed with a drum to the specified concentrations became:

NiSO4-6H2O 300 g/lNiSO 4 -6H 2 O 300 g / l

NiCl2-6H2O 60 g/lNiCl 2 -6H 2 O 60 g / l

FeSO4-7H2O ^O g/l FeSO 4 -7H 2 O ^ O g / l

Natriumallylsulfonat 2,ΐ g/lSodium allyl sulfonate 2, ΐ g / l

Saccharin 4,0 g/l Addukt von Butindiol mit 2 Mol Propylerxoxid 20,0 mg/lSaccharin 4.0 g / l adduct of butynediol with 2 mol propyl oxide 20.0 mg / l

Saccharose 20,0 g/lSucrose 20.0 g / l

609848/0885609848/0885

ORIGINAL iMSPECTHDORIGINAL iMSPECTHD

Die resultierende Abscheidung war mäßig eingeebnet, glänzend und duktil.The resulting deposit was moderately leveled, glossy and ductile.

Beispiel 11Example 11

Beispiel Kr. 10 wurde wiederholt, wobei ein Gemisch von. 10 g/i Glucose und 10 g/l Erythorbinsäure anstelle von Stärke verwendet wurde. Die resultierendeAbscheidung war glänzend, mäßig eingeebnet und duktil.Example Kr. 10 was repeated using a mixture of. 10 g / i Glucose and 10 g / l erythorbic acid used instead of starch became. The resulting deposit was glossy, fair leveled and ductile.

Beispiel 12Example 12

Beispiel Kr. 10 wurde wiederholt, wobei ein Gemisch s-.us 10 g/l Dextrose und 10 g/l Natriurcgluconat anstelle von Sts»:e vewen· det wu.rde. Die resultierende Abscheidung war glänzen/!, duktil und eingeebnet.Example Kr. 10 was repeated, a mixture s-.us 10 g / l Dextrose and 10 g / l sodium gluconate instead of Sts »: e vewen · it would. The resulting deposit was glossy / !, ductile and leveled.

Beispiel ^ 5Example ^ 5

Beispiel Kr. 10 wurde wiederholt, wobei ein Gemisch c-.us 10 g/l Glucose und 10 g/l Natriumcitrat verwendet wurde. Die Abscheidung war duktil, glänzend und gut eingeebnet.Example Kr. 10 was repeated using a mixture c-.us 10 g / l glucose and 10 g / l of sodium citrate was used. The deposit was ductile, glossy, and well leveled.

^Jf INAL IMSPECTED^ Jf INAL IMSPECTED

609848/0885 '609848/0885 '

Claims (1)

P a t e η t a η s ό γ ü eheP a t e η t a η s ό γ ü ehe 1, Verfahren zur Herstellung eines galvanischer. Überzugs, der Nickel und/oder Kobalt und ebenfalls Sisen enthält, bei dem Strom von einer Anode zu einer Kathode durch ein -·,-£.? ri "es s nur es galvanisches Bad geleitet wird, welches Kicke Iv er-tir,±\:n~an, Kobaltverbindungen und/oder Eisen(II)-Verbindungen e;v":h"ilt, υ.Ώ Ionen für die galvanische Abscheidung von Nickel, Eotrlt, ?C~.kkel-Kobalt-Legierungen, Nickel-Eisen-Legierungen oder I'ickel-Kobalt-Eisen-Legierungen zu liefern, dadurch g e k e η η zeichnet, daß nan ein Bad verwendet, vrelches eine wirksame I-Tenge Borsäure und 2 g/l bis 100 g/l wenigstens eines Konosaccharids, Oligosaccharids und/oder Polysaccharide enthi-'lt,-1, method of making a galvanic. Coating containing nickel and / or cobalt and also sisen in the current from an anode to a cathode through a - ·, - £.? ri "s only it is conducted galvanic bath, which kicke Iv er-tir, ± \: n ~ an, cobalt compounds and / or iron (II) compounds e; v": h "ilt, υ.Ώ ions for the electrodeposition of nickel, Eotrlt,? C ~ .kkel-cobalt alloys, nickel-iron alloys or nickel-cobalt-iron alloys, thereby g eke η η denotes that nan uses a bath, vrelches a effective I-Tenge boric acid and 2 g / l to 100 g / l at least one conosaccharide, oligosaccharide and / or polysaccharide contains, 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , da3 man ein Bad verwendet, velchos als nickelverbindungen Nickelsulfat und ?Ji ekel Chlorid enthalt.2. The method according to claim 1, characterized in that a bath is used, velchos as nickel compounds Contains nickel sulfate and? Ji disgusting chloride. 3 ♦ Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e r. η zeichnet , daß man ein Bad verwendet, welches als Hikkelverbindungen Kickelsulfamat und.Nickelchlorid enthä3 ♦ Method according to claim 1, characterized g e k e r. η draws that one uses a bath, which is used as a hook connection Contains kickelsulfamate and nickel chloride lt»lt » 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Bad verwendet, welches als Kobaltverbindungen Kobaltsulfat und Kobaltchlorid enthält,4. The method according to claim 1, characterized in that a bath is used which is used as cobalt compounds Contains cobalt sulphate and cobalt chloride, 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Bad verwendet, vrelchsn als Ko baltverbindungen Kobaltsulfamat und Kobaltchlorid enthält.5. The method according to claim 1, characterized in that a bath is used, vrelchsn as Ko balt compounds contains cobalt sulfamate and cobalt chloride. 6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ηεη ein Bad verwendet, welche3 eis Ei5en(II)-Verbindung Eisen(II)sulfat oder Eisen(II)chi erJd ent hält.6. The method according to claim 1, characterized in that ηεη uses a bath containing 3 ice egg (II) compound iron (II) sulfate or iron (II) chi erJd ent. 609848/0885 - > BAD 609848/0885 -> BAD 7 - Verfahren nach. Anspruch 1, dadurch g e ;< e r. n-7 - Procedure according to. Claim 1, characterized in that g e; < e r. n- zeichnet, daß man ein Bad verwendet, velshüs «Is Honosaccharid Glucose enthält.draws that a bath is used, velshüs «is honosaccharide Contains glucose. 8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k ε η η -8. The method according to claim 1, characterized in that g e k ε η η - zeichnet , daß me.n ein Bad verwerdet, vslchs- els Konosaccharid Fructose enthält.draws that I am wasting a bath, rather than conosaccharide Contains fructose. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g s I·: e η η -5. The method according to claim 1, characterized in that g s I: e η η - zeichnet, daß man ein Bad verwendet, welches als ITencsaccharid Xylose enthält.draws that one uses a bath, which as ITencsaccharid Contains xylose. 0O. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Bad verwendet, welches als Ko- noε accharid Arabinose enthält,0O. Process according to claim 1, characterized in that a bath is used which contains arabinose as con no ε accharide, 11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Bad verwendet, welches als I-Ioncsaccharid Mannose enthält.11. The method according to claim 1, characterized in that there is used a bath which is used as I-Ioncsaccharid Contains mannose. 12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Bad verwendet, welches als Γ·1ο-nosaccharid Erythrose enthält.12. The method according to claim 1, characterized in that a bath is used, which as Γ · 1ο-nosaccharide Contains erythrosis. 13· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Bad verwendet, welches als Moncsaccharid Glyceraläehyd enthält.13. Process according to Claim 1, characterized in that a bath is used which is used as a monocaccharide Contains glyceraldehyde. 14. Verfahren nach.Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Bsd verwendet, welches als Ol.igosaccharid Maltose enthält.14. The method nach.Anspruch 1, characterized in that a Bsd is used, which as Ol.igosaccharid Contains maltose. 15 - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man ein Bad verwendet, welches als Oligosaccharid Cellobiose enthält.15 - The method according to claim 1, characterized in that that one uses a bath, which as an oligosaccharide Contains cellobiose. -24-609848/0885-24-609848 / 0885 I1S. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , άΰ.3 man ein Ead verwendet, ve 1 ehe? sis GIigosaccharid Gentiobiose enthält.I 1 S. Method according to claim 1, characterized in that άΰ.3 one uses an Ead, ve 1 ehe? sis contains glycosaccharide gentiobiose. 17. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Sad verwendet, "reiches als Polysaccharid Lactose enthält.17. The method according to claim 1, characterized in that one uses a Sad, "rich as a polysaccharide Contains lactose. 18. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man ein Bad verwendet, -welches als PoIysaccharid Stärke enthält.18. The method according to claim 1, characterized in that a bath is used -which is used as a polysaccharide Contains starch. "9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ican ein Bad verwendet, welches als FoIypacche.rid Cellulose enthält."9. The method according to claim 1, characterized in that ican uses a bath which is used as FoIypacche.rid Contains cellulose. 20. Wäßriges galvanisches Bad mit einem Gehalt an nickelverbindungen, Kobaltverbindungen und/oder Eisen(II) -Verbindungen,uro Ionen für die galvanische Abscheidung von Nickel, ?Iobalt, ITikkel-Kobalt-Legierungen, Nickel-Eisen-Legierungen oder Nickel-Kobalt-Eisen-Legierungen zu ergeben, dadurch gekennzeichnet, daß es weiterhin Borsäure und wenigstens ein Monosaccharxd, Oligosaccharid und/oder Polysaccharid in einzelner oder kombinierter Konzentration von 10 g/l bis 50 g/l enthält. 20. Aqueous galvanic bath with a content of nickel compounds, Cobalt compounds and / or iron (II) compounds, uro Ions for the galvanic deposition of nickel,? Iobalt, ITikkel-cobalt alloys, Nickel-iron alloys or nickel-cobalt-iron alloys to give, characterized in that there is also boric acid and at least one Contains monosaccharide, oligosaccharide and / or polysaccharide in single or combined concentrations of 10 g / l to 50 g / l. 21. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Nickelverbindungen Nickelsulfat und ITickelchlorid enthält.21. Bath according to claim 20, characterized in that that there are nickel sulfate and nickel chloride as nickel compounds contains. 22. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Nickelverbindungen Nickelsulfamat und Nikkeichlorid enthält.22. Bath according to claim 20, characterized in that that it contains nickel sulfamate and nickel chloride as nickel compounds. —25——25— 609848/0885609848/0885 23. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Kobaltverbindungen Kobaltsulf'it und. Kobaltchlorid enthält.23. Bath according to claim 20, characterized in that it is cobalt sulf'ite and cobalt compounds. Cobalt chloride contains. 24. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Kobaltverbindungen Kobaltsulf^rr-at und. Kobaltchlorid enthält.24. Bath according to claim 20, characterized in that it is cobalt sulfate and rr-ate as cobalt compounds. Cobalt chloride contains. 25. Sad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Eisen(Il)-Verbindung Eisen(II)sulfat und
Eisen(II)chlorid enthält.
25. Sad according to claim 20, characterized in that it is the iron (II) compound and iron (II) sulfate
Contains iron (II) chloride.
26. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid Glucose enthält. 26. Bath according to claim 20, characterized in that it contains glucose as the monosaccharide. 27. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid Fructose enthält.27. Bath according to claim 20, characterized in that that it contains fructose as a monosaccharide. 28. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid Xylose enthält.28. Bath according to claim 20, characterized in that that it contains xylose as a monosaccharide. 29. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid Arabinose enthält.29. Bath according to claim 20, characterized in that that it contains arabinose as a monosaccharide. 30. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid Mannose enthält. 30. Bath according to claim 20, characterized in that it contains mannose as the monosaccharide. 31. Bad nach Anspruch 20, dadurch g e k e η r; ζ e i c h net , daß es als Konosaccharid Er3rfchrose enthält.31. Bath according to claim 20, characterized in that geke η r; ζ does not prove that it contains er3c rose as a conosaccharide. 32. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß es als Monosaccharid GIyceraldehyc"."enthält. 32. Bath according to claim 20, characterized in that it contains glyceraldehyde "." As the monosaccharide. -26--26- 609848/088S609848 / 088S 33. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekenrzeicb. net, da*? es als OliiXcsaccharid Kai to se enthält.33. Bath according to claim 20, characterized gekenrzeicb. net, there *? it contains kai to se as OliiXcsaccharide. 54. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeich54. Bath according to claim 20, characterized r. e t , daß es als Oiigosaccharid Cellobiose er.thiiö»r. e t that it is cellobiose as oligosaccharide er.thiiö » 35. Bad nach Anspruch 20, dadurch ge k e r. r- ζ e i c h net, daß es als Oiigosaccharid Gentiohiosa enthalt.35. Bath according to claim 20, characterized ge ke r. r- ζ does not show that it contains gentiohiosa as oligosaccharide. 36. Bad nach Anspruch 20, dadurch g e k e η η ζ e i c h net, daß es als Polysaccharid Lactose enthält.36. A bath according to claim 20, characterized Eke g η η ζ e i net, that it contains as polysaccharide lactose. 37. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeich. net, daß es als Polysaccharid Stärke enthält.37. Bath according to claim 20, characterized. net that it contains starch as a polysaccharide. 38. Bad nach Anspruch 20, dadurch gekennzeich net, daß es als Polysaccharid Cellulose enthält.38. Bath according to claim 20, characterized net that it contains cellulose as a polysaccharide. ,.-,- < <E [>;PL ING. H. BOHR , .-, - <<E [>; PL ING. H. BOHR 609848/0885 /609848/0885 /
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