DE2614065A1 - POWER TRANSISTOR COMPONENT - Google Patents

POWER TRANSISTOR COMPONENT

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DE2614065A1 DE19762614065 DE2614065A DE2614065A1 DE 2614065 A1 DE2614065 A1 DE 2614065A1 DE 19762614065 DE19762614065 DE 19762614065 DE 2614065 A DE2614065 A DE 2614065A DE 2614065 A1 DE2614065 A1 DE 2614065A1
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Description

Le is tungs trans Is tor-BauelementPower transformer component

Die Erfindung betrifft ein HaIbleiter-Bauelement, insbesondere in Darlington-Transistor-Schaltung, die vorzugsweise zum schnellen Ein- und Ausschalten großer Ströme geeignet ist.The invention relates to a semiconductor component, in particular in darlington transistor circuit, which is preferably is suitable for switching large currents on and off quickly.

Ein Steueranschlui3-Ausschalt-Thyristor oder eine Darlington-Transistor-Schaltung ist bekannt und wird gewöhnlich als Halbleiterschalter verwendet, der das Ein-A us -Schalten einer Schaltung durchführen kann, durch die ein großer Strom von mehr als einigen Ampere abhängig von einem kleinen Signal fließt. Obwohl der Steueranschluß-Ausschalt-Thyristor vorteilhafterweise keine Leistung benötigt, um seinen leitenden oder nichtleitenden Zustand beizubehalten, müssen Stromimpulse entgegengesetzter Polaritäten an seinen Steueranschluß (Gatter) gelegt werden, um ihn jeweils zu zünden bzw. zu löschen. Daher muß eine zusätzliche komplizierte Steuerschaltung verwendet werden, wenn der Steueranschluß-AusschaIt-Thyristor bei einem System eingesetzt wird, das eine einzige Gleichstromquelle hat, wie z. B. eine ZündschaltungA control connection 3 switch-off thyristor or a Darlington transistor circuits are known and commonly used used as a semiconductor switch that can switch a circuit on and off through which a large Current of more than a few amps depending on a small signal flows. Although the control terminal turn-off thyristor advantageously no power is required in order to maintain its conductive or non-conductive state, current pulses must opposite polarities are applied to its control connection (gate) in order to ignite it in each case or to delete. Therefore, an additional complicated control circuit must be used when the control terminal disconnection thyristor is used in a system that has a single source of direct current, such as e.g. B. an ignition circuit

8l-(Al4l5-03)-KoF(8)8l- (Al4l5-03) -KoF (8)

609842/0732609842/0732

26H06526H065

in einem Kraftfahrzeug. Darüber hinaus werfen ein kleiner Stromverstärkungsfaktor für'das Ausschalten und der hohe Spannungsabfall in Vorwärtsrichtung aufgrund des Aufbaues mit vier Schichten mit dem sich ergebenden Leistungsverlust ernste Probleme bei einem derartigen SteueranschluS-AusschaIt-Thyristor auf. Andererseits benötigt die Darlington-Transistor-Schaltung eine Ansteuerleistung, um ihren leitenden Zustand beizubehalten, und der Gleichstrom-Verstärkungsfaktor muß erhöht v/erden, um die Ansteuerleistung zu verringern. Bei einem Darlington-Verstärker ist der gesamte Gleichstrom-Verstärkungsfaktor durch das Produkt der jeweiligen Verstärkungsfaktoren der einzelnen Transistoren gegeben, so daß der Verstärkungsfaktor insgesamt groß gemacht werden kann. In diesem Fall kann jedoch der gesamte Verstärkungsfaktor hinsichtlich der Ladungsfreigabezeit nicht beliebig groß gemacht werden. Hier treten beim Aufbau der Schaltung Schwierigkeiten auf, die nicht miteinander zu vereinbaren sind. Wenn z. B. die zwischen der Basis und dem Emitter eines Transistors angesammelte Ladung schnell freigegeben werden muß, sollte ein Widerstand mit einem möglichst kleinen Widerstands wert zwischen der Basis und dem Emitter des Transistors vorgesehen werden. Wenn jedoch der Stromverstärkungsfaktor des Transistors groß gemacht werden soll, muß andererseits der Widerstand einen hohen Widerstandswert haben, da sonst Strom durch den Kurzschluß mit einem derartigen kleinen Widerstandwert zwischen der Basis und dem Emitter streut und der Stromverstärkungsfaktor zu stark verringert ist.in a motor vehicle. In addition, throw a small current gain factor for power off and high Voltage drop in the forward direction due to the four-layer structure with the resulting loss of power serious problems with such a control terminal disconnect thyristor on. On the other hand, the Darlington transistor circuit requires a control power, to maintain their conductive state, and the DC gain factor must be increased to reduce the drive power. With a Darlington amplifier is the total DC gain multiplied by the product of the respective gain factors given to individual transistors, so that the gain can be made large as a whole. In this case however, the total gain in terms of the charge release time cannot be made arbitrarily large. Difficulties arise here in the construction of the circuit which cannot be reconciled with one another. If z. B. the charge accumulated between the base and emitter of a transistor must be released quickly a resistor with the lowest possible resistance value between the base and the emitter of the transistor are provided. On the other hand, if the current amplification factor of the transistor is to be made large, it must the resistor have a high resistance value, otherwise current through the short circuit with such a small one Resistance value between the base and the emitter scatters and the current amplification factor is reduced too much.

Die oben erläuterte Schwierigkeit der Darlington-Transistor-Schaltung beruht auf der Anordnung von Widerständen in den Stromwegen zur Freigabe der Basis-Ladungsträger, und daher wird dieses Problem gelöst, wennThe Darlington transistor circuit difficulty discussed above is based on the arrangement of resistors in the current paths to release the basic charge carriers, and therefore this problem is solved when

6098A?/073?6098A? / 073?

261406b261406b

Halbleiter-Schalt-Bauelemente, wie ζ. B. S cha It trans is tor en, verwendet werden, um die Basis-Ladungsträger freizugeben. Die Erfindung geht von diesem Grundkonzept aus. Darüber hinaus können erfindungsgemäß die Trans istor-Schalter hierzu gleichzeitig bei der Fertigung der Darlington-Transistor-Schaltung hergestellt werden.Semiconductor switching components, such as ζ. B. S cha It trans is tor en, used to release the base charge carriers. The invention is based on this basic concept. In addition, according to the invention, the Trans istor switch this can be produced at the same time as the Darlington transistor circuit is manufactured.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Leistungstransistor-Schaltung mit hohem Stromverstärkungsfaktor und schnellem Ausschaltvermögen anzugeben.It is therefore an object of the invention to provide a power transistor circuit to be specified with high current amplification factor and fast breaking capacity.

Das erfindungsgemäße Leistungstransistor-Bauelement weist auf·The power transistor component according to the invention has

ein N-leitendes Substrat,an N-conductive substrate,

eine N+-leitende Schicht in einer Hauptfläche des N-leitenden Substrats,an N + -type layer in a major surface of the N-type substrate,

eine erste und eine zweite P-leitende Schicht in der anderen Hauptfläche des N-leitenden Substrats,a first and a second P-type layer in the other main surface of the N-conductive substrate,

eine erste und eine zweite N-leitende Schicht in der ersten bzw. der zweiten P-leitenden Schicht,a first and a second N-type layer in the the first or the second P-conductive layer,

eine Einrichtung zum elektrischen Verbinden der zweiten P-leitenden Schicht mit der zweiten N-leitenden Schicht in der ersten P-leitenden Schicht, undmeans for electrically connecting the second P-type layer to the second N-type layer in the first P-type layer, and

eine dritte und eine vierte N-leitende Schicht in der ersten bzw. der zweiten P-leitenden Schicht.third and fourth N-type layers in the first and second P-type layers, respectively.

In einer Weiterbildung der Erfindung ist ein Halbleiter-Bauelement mit einem ersten und einem zweiten Transistor in Darlington-Schaltung vorgesehen, wobei ein erster Halbleiter-Schalter zwischen der Basis und dem Emitter des ersten Transistors und ein zweiter Halbleiter-Schalter zwischen der Basis und dem Emitter des zweiten TransistorsIn ei he n development of the invention is a semiconductor device having a first and a second transistor in Darlington circuit is provided, wherein a first semiconductor switch is connected between the base and the emitter of the first transistor and a second semiconductor switch is connected between the base and the emitter of the second transistor

liest* 609842/07 3 2 reads * 609842/07 3 2

26K06526K065

Die Erfindung sieht also ein Leistungstransistor-Bauelement mit einer Schaltung aus einem ersten, einem zweiten, einem dritten und einem vierten Transistor vor, wobei der erste und der zweite Transistor in Darlington-Schaltung geschaltet sind, während der dritte und der vierte Transistor jeweils zwischen der Basis und dem Emitter des ersten Transistors und zwischen der Basis und dem Emitter des zweiten Transistors liegen, um die Restladungen im ersten und im zweiten Transistor durch diese freizugeben, indem sie abhängig von den Eingangssignalen leitend gemacht werden.The invention thus provides a power transistor component with a circuit of a first, a second, a third and a fourth transistor, wherein the first and second transistors are connected in Darlington, while the third and fourth transistors respectively between the base and the emitter of the first transistor and between the base and the emitter of the second transistor lie to the residual charges in the first and in the second transistor by enabling them by making them conductive depending on the input signals will.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:The invention is explained in more detail below with reference to the drawing. Show it:

Fig. 1 ein elektrisches Schaltbild zur Erläuterung der Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Darlington-Trans is t or -S c ha It ung,Fig. 1 is an electrical circuit diagram to explain the Mode of operation of the Darlington transistor according to the invention,

Fig. 2 ein elektrisches Schaltbild der Darlington-Transistor-Schaltung nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung,Fig. 2 is an electrical circuit diagram of the Darlington transistor circuit according to an embodiment of the invention,

Fig. 3 die Verfahrensschritte zur Herstellung einer herkömmlichen Darlington-Schaltung,3 shows the method steps for producing a conventional Darlington circuit,

Fig. 4 die Verfahrensschritte zur Herstellung der erfindungsgemäßen Darlington-Schaltung, und4 shows the method steps for producing the inventive Darlington pair, and

Fig. 5 A und B Kennlinien der herkömmlichen und der erfindungsgemäßen Darlington-Schaltung in einem Vergleich. 5 A and B show characteristics of the conventional one and that of the invention A comparison of the Darlington pair.

In Fig. 1, die eine Schaltung zur Erläuterung des Prinzips der Erfindung zeigt, liegt ein Lastwiderstand 8 zwischen dem Kollektor 2C eines Transistors 2 und der positiven ElektrodeIn Fig. 1, which shows a circuit for explaining the principle of the invention, a load resistor 8 is between the Collector 2C of a transistor 2 and the positive electrode

609842/0732609842/0732

einer Gleichstromquelle 7, während ein Widerstand 9 zur Einspeisung eines Vorstromes zwischen der Basis IB eines Transistors 1 und der positivrn Klemme der Gleichstromquelle 7 vorgesehen und der Emitter 2E des Transistors 2 mit der negativen Klemme der Stromquelle 7 verbunden ist. Die jeweiligen Kollektoren IC und 2C der Transistoren 1 und 2 sind miteinander verbunden, und der Emitter IE des Transistors 1 ist an die Basis 2B des Transistors 2 angeschlossen. Schalter 5 und 6 liegen jeweils zwischen der Basis und dem Emitter des Transistors 1 und zwischen der Basis und dem Emitter des Transistors 2.a direct current source 7, while a resistor 9 to Infeed of a bias current between the base IB of a transistor 1 and the positive terminal of the direct current source 7 is provided and the emitter 2E of the transistor 2 is connected to the negative terminal of the current source 7. The respective collectors IC and 2C of the transistors 1 and 2 are connected to each other, and the emitter IE des Transistor 1 is connected to base 2B of transistor 2. Switches 5 and 6 are between the base and emitter of transistor 1 and between the base and emitter of transistor 2.

Wenn bei diesem Aufbau die Schalter 5 und 6 geöffnet sind, wird ein Leitungsweg zwischen dem Emitter 2E und dem Kollektor 2C des Transistors 2 aufgrund des Bas is-Ansteuer-Vorstromes aufgebaut, der durch die geschlossene Schleife von der Stromquelle 7 über den Widerstand 9, die Basis IB des Transistors 1, den Emitter IE des Transistors 1, die Basis 2B des Transistors 2, den Emitter 2E des Transistors 2 und die Stromquelle 7 fließt, so daß ein Laststrom durch die geschlossene Schleife von der Stromquelle 7 über den Widerstand 8, den Kollektor 2C des Transistors 2, den Emitter 2E des Transistors 2 und dann zur Stromquelle J fließt. Bei diesem Betrieb kann der Basis-Ansteuer-Vorstrom auf einen Wert gleich dem Wert des gewünschten Laststromes geteilt durch <äas Produkt aus den Gleichstrom-Verstärkungsfaktoren der Transistoren 1 und verringerrt werden.If the switches 5 and 6 are opened in this structure, a conduction path is established between the emitter 2E and the collector 2C of the transistor 2 due to the base drive bias current flowing through the closed loop from the current source 7 via the resistor 9, the base IB of the transistor 1, the emitter IE of the transistor 1, the base 2B of the transistor 2, the emitter 2E of the transistor 2 and the current source 7 flows so that a load current flows through the closed loop from the current source 7 via the resistor 8, the collector 2C of the transistor 2, the emitter 2E of the transistor 2 and then to the power source J flows. In this mode of operation, the base drive bias current can be reduced to a value equal to the value of the desired load current divided by the product of the direct current amplification factors of the transistors 1 and 2.

Wenn die Schalter 5 und β beide geschlossen werden,If switches 5 and β are both closed,

6098A2/073?6098A2 / 073?

nachdem gerade der Basisstrom in dem Transistor 1 unterbrochen wurde, werden die Rest-Ladungsträger in den jeweiligen Basisschichten IB und 2B der Transistoren 1 und 2 über die Schalter 5 und 6 freigegeben und verschwinden. Die Transistoren 1 und 2 mit deren mit ihren Emitteranschlüssen kurzgeschlossenen Basisanschlüssen sind dann selbst in deren stetigem Zustand ausgeschaltet.after the base current has just been interrupted in the transistor 1, the remaining charge carriers are in the respective Base layers IB and 2B of transistors 1 and 2 are released via switches 5 and 6 and disappear. The transistors 1 and 2 with their base connections short-circuited with their emitter connections are then turned off even in their steady state.

Auf diese Weise kann eine wirkungsvolle Verringerung des Gleichstrom-Verstärkungsfaktorsaufgrund des umleitenden Stromes durch die anstelle der Schalter 5 und 6 in der herkömmlichen Darlington-Schaltung verwendeten Widerstände während des Ansteuerbetriebs verhindert werden, und die zum Entfernen der Restladungen durch die Kurzschlüsse erforderliche Zeit kann in die transiente Zeit des ausgeschalteten Zustandes gekürzt werden.In this way, an effective reduction in DC gain due to bypassing Current through the used instead of the switches 5 and 6 in the conventional Darlington pair Resistances are prevented during the control operation, and the removal of the residual charges through the short circuits required time can be in the transient time the switched-off state can be shortened.

Die Fig. 2 zeigt ein elektrisches Schaltbild einer Darlington-Schaltung nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung. Einander entsprechende Bauelemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Das hervorragende Merkmal dieser Schaltung liegt in der Anordnung von zwei Transistoren 10 und 11 anstelle der Schalter 5 und 6 in der Grundschaltung der Fig. 1. Der Kollektor IOC des Transistors 10 ist mit der Basis IB des Transistors 1 verbunden. Der Emitter 1OE des Transistors 10 ist an die Basis IE des Transistors 1 angeschlossen. Der Kollektor HC des Transistors 11 ist mit der Basis 2B des Transistors 2 verbunden. Der Emitter HE des Transistors 11 ist an den Emitter 2E des Transistors 2 angeschlossen. Widerstände 12 und 13 sind mit ihren einen Klemmen jeweils mit den Basis-FIG. 2 shows an electrical circuit diagram of a Darlington circuit according to an embodiment of FIG Invention. Components that correspond to one another are provided with the same reference symbols in the figures. The excellent The feature of this circuit is the arrangement of two transistors 10 and 11 instead of switches 5 and 6 in the basic circuit of FIG. 1. The collector IOC of the transistor 10 is connected to the base IB of the transistor 1. The emitter 10E of the transistor 10 is connected to the base IE of the transistor 1. The collector HC des Transistor 11 is connected to base 2B of transistor 2. The emitter HE of the transistor 11 is connected to the Emitter 2E of transistor 2 connected. Resistors 12 and 13 are each connected to the base

609842/07 3 2609842/07 3 2

26H06526H065

Ύ — - Ύ -

anschlüssen ICB und HB der Transistoren 10 und 11 und mit ihren anderen Klemmen miteinander verbunden.connections ICB and HB of transistors 10 and 11 and with their other terminals connected together.

Wenn bei dieser Anordnung eine vorbestimmte Spannung an die Verbindungsstelle der Widerstände 12 und 13 gelegt wird, wird ein Strom zur Basis HB des Transistors 11 über den Widerstand 13 abgegeben, um den Transistor 11 leitend zu machen. Dann wird der Transistor 10 aufgrund des durch den Widerstand 12, die Basis lOB und den Emitter 10E des Transistors 10 sowie den Kollektor HC und den Emitter HE des Transistors 11 fließenden Stromes leitend. Auf diese Weise sind die Basis und der Emitter des Transistors 1 durch den Transistor 10 und die Basis und der Emitter des Transistors 2 durch den Transistor 11 kurzgeschlossen. Wenn die an der Verbindungsstelle der Widerstände 12 und 13 liegende Spannung entfernt wird, wird der Ansteuerstrom durch die Transistoren 10 und 11 unterbrochen, und daher sind die Kurzschlußwege aufgehoben. Demgemäß wird die Schaltung der Fig. 2 mit der Schaltung der Fig. 1 bei geöffneten Schaltern und 6 identisch. In der Schaltung der Fig. 2 können die Schalter, d.h. die Transistoren 10 und H, gleichzeitig geöffnet und geschlossen werden, so daß das anhand der Fig. erläuterte Prinzip auch mit der Schaltung der Fig. 2 erzielt wird.With this arrangement, when a predetermined voltage is applied to the junction of the resistors 12 and 13 is, a current is delivered to the base HB of the transistor 11 via the resistor 13 to make the transistor 11 conductive close. Then the transistor 10 is due to the resistance 12, the base 10B and the emitter 10E of the The transistor 10 and the collector HC and the emitter HE of the transistor 11 are conductive. To this Way are the base and emitter of transistor 1 through transistor 10 and the base and emitter of the Transistor 2 short-circuited by transistor 11. If the lying at the junction of the resistors 12 and 13 Voltage is removed, the drive current through the transistors 10 and 11 is interrupted, and therefore the Short-circuit paths canceled. Accordingly, the circuit of FIG. 2 with the circuit of FIG. 1 with the switches open and 6 identical. In the circuit of Fig. 2, the switches, i.e. transistors 10 and H, can operate simultaneously Are opened and closed, so that the principle explained with reference to the figure is also achieved with the circuit of FIG will.

Die Anordnung der Schaltung der Fig.2 mit einzelnen Bauelementen macht die Herstellung aufwendig und die sich ergebende Schaltung für einen freien Einsatz zu kompliziert.The arrangement of the circuit of Figure 2 with individual components makes the production expensive and the resulting circuit too complicated for free use.

Die Fig. 3 und 4 zeigen die Verfahrensschritte zur Herstellung zusammengesetzter Festkörper-Schaltungen, die3 and 4 show the process steps for producing composite solid-state circuits which

609842/0732609842/0732

26U065 - 8 - 26U065 - 8 -

frei von den oben erläuterten Nachteilen sind. Die Fig. 3 zeigt die Verfahrensschritte zur Herstellung einer herkömmlichen Pestkörper-Darlington-Schaltung, und die Fig.4 zeigt die Verfahrensschritte zur Herstellung eines erfindungsgemäßen zusammengesetzten Festkörper-Transistor-Schalt-Bauelements. Die Verfahrensschritte (a), (b), (c) und (d) in den jeweiligen Fig. 3 und 4 sind gleich und werden daher gemeinsam erläutert.are free from the disadvantages discussed above. 3 shows the process steps for producing a conventional one Pestkörper-Darlington pair, and Fig.4 shows the method steps for producing a composite solid-state transistor switching component according to the invention. The method steps (a), (b), (c) and (d) in the respective FIGS. 3 and 4 are the same and are therefore explained together.

Im Verfahrensschritt (a) in den Fig.3 und 4 wird ein N-leitendes Substrat 14 aus z. B. Si behandelt, um als Träger der herzustellenden Festkörper-Schaltung zu dienen.In process step (a) in FIGS. 3 and 4, a N-type substrate 14 made of e.g. B. Si treated to serve as a carrier of the solid-state circuit to be manufactured.

Im Verfahrensschritt (b) in den Fig.3 und 4 wird eine N+-leitende Schicht 15 im Substrat 14 durch Dotierung mit einem N-leitenden Störstoff mittels z. B. Diffusion gebildet. In process step (b) in the 3 and 4, a N + type layer 15 in substrate 14 by doping with an N-type impurity by z. B. Diffusion formed.

Im Verfahrensschritt (c) in den Fig. 3 und 4 wird eine P-leitende Schicht 16 im Substrat 14 durch Dotierung eines P-leitenden Störstoffes mittels z. B. Diffusion gebildet.In method step (c) in FIGS. 3 and 4, a P-conductive layer 16 is in the substrate 14 by doping a P-conductive contaminant by means of z. B. Diffusion formed.

Im Verfahrensschritt (d) der Fig.3 und 4 wird ein Graben 17, dessen Boden die Innenseite der N-leitenden Schicht 14 erreicht, auf der Seite der P-leitenden Schicht 16 eingebracht, um diese in Teile l6A und 16b zu trennen. Danach wird ein SiO2-FiIm 18 mittels Oberflächenoxydation erzeugt. Der SiOp-FiIm 18 dient nicht nur als elektrische Isolierschicht, sondern auch als Schutzfilm.In method step (d) of FIGS. 3 and 4, a trench 17, the bottom of which reaches the inside of the N-conductive layer 14, is made on the side of the P-conductive layer 16 in order to separate it into parts 16A and 16b. A SiO 2 film 18 is then produced by means of surface oxidation. The SiOp-FiIm 18 serves not only as an electrical insulating layer, but also as a protective film.

Die Verfahrensschritte (e), (f) und (g) in Fig. 3 und die Verfahrensschritte (e), (f) und (g) in Fig. 4 sind inThe method steps (e), (f) and (g) in Fig. 3 and the method steps (e), (f) and (g) in Fig. 4 are in

609842/07 3 2609842/07 3 2

26U06526U065

der chemischen Behandlung gleich, jedoch in ihrem (geometrischen) Muster voneinander verschieden. Zunächst werden die Herstellung und der Betrieb der herkömmlichen Darlington-Schaltung anhand der Fig. 3 näher erläutert.the same as the chemical treatment, but different from one another in their (geometric) pattern. First will be the production and operation of the conventional Darlington pair is explained in more detail with reference to FIG.

Im Verfahrensschritt (e) der Fig. 3 wird ein Teil des SiO2-Filmes 18 mittels z. B. des Photowiderstandsverfahrens (Fotoresistverfahren) oder chemischen Ätzens entfernt, und es werden gleichzeitig N-leitende Schichten 19 und 20 durch Diffusion eines N-leitenden Störstoffes gebildet. In process step (e) of Fig. 3, a part of the SiO 2 film 18 by means of z. B. the photoresist method (photoresist method) or chemical etching removed, and N-conductive layers 19 and 20 are simultaneously formed by diffusion of an N-conductive impurity.

Im Verfahrensschritt (f) der Fig. 3 werden Aluminiumelektroden 21 bis 25 auf vorbestimmten Stellen mittels Vakuumabscheidung mit einer Maskentechnik hergestellt.In method step (f) of Fig. 3, aluminum electrodes 21 to 25 are at predetermined locations by means Vacuum deposition made with a mask technique.

Im Verfahrensschritt (g) der Fig. 3 werden die Elektroden 22 und 23 durch eine Leitung verbunden, und die Elektroden 21, 24 und 25 werden jeweils mit einem Emitteranschluß 28, einem Basisanschluß 29 und einem Kollektoranschluß 30 ausgestattet. Mittels Vakuumabscheidung mit einer Maskentechnik werden auch eine Widerstandsschicht 26 zwischen den Elektroden 21 und 22 und eine Widerstandsschicht 27 zwischen den Elektroden 23 und 24 gebildet.In method step (g) of FIG. 3, the electrodes 22 and 23 connected by a lead, and the electrodes 21, 24 and 25 each come with an emitter terminal 28, a base connection 29 and a collector connection 30. Using vacuum deposition with a Masking technique, a resistive layer 26 between the electrodes 21 and 22 and a resistive layer 27 are also used formed between the electrodes 23 and 24.

Damit sind zwei NPNN+-Transistoren in longitudinaler Anordnung, durch den Graben 17 getrennt, in Darlington-Schaltung verbunden. Die Transistoren teilen die N+-leitende Schicht als ihren Kollektorbereich. Der Teil rechts vom Graben 17 in der Zeichnung entspricht dem Transistor 1 in Fig. 1 und der Teil links vom Graben 17 in der Zeichnung dem Transistor in Fig. 1. Die N-leitende Schicht 20 und die P-leitendeTwo NPNN + transistors are thus connected in a longitudinal arrangement, separated by the trench 17, in a Darlington circuit. The transistors share the N + layer as their collector area. The part to the right of the trench 17 in the drawing corresponds to the transistor 1 in FIG. 1 and the part to the left of the trench 17 in the drawing corresponds to the transistor in FIG. 1. The N-conducting layer 20 and the P-conducting layer

6098 4 2/07326098 4 2/0732

26U065 - ίο - 26U065 - ίο -

Schicht 16A. dienen jeweils als Emitter IE und als Basis IB. Die N-leitende Schicht I9 und die P-leitende Schicht 16b dienen jeweils als Emitter 2E und als Basis 2B. Wie oben erläutert wurde, sind der Emitter IE und die Basis 2B miteinander durch eine Leitung verbunden. Auf diese Weise bilden die Transistoren eine Darlington-Schaltung. Die Widerstandsschichten 27 und 28 sind jeweils zwischen den Basisanschlüssen und den Emittern der Transistoren vorgesehen und dienen anstelle der Schalter 5 und 6 der Fig. 1 zur Freigabe der Restladungen.Layer 16A. each serve as an emitter IE and as a base IB. The N-type layer 19 and the P-type layer 16b each serve as an emitter 2E and a base 2B. As explained above, the emitter is IE and the base is 2B connected to each other by a line. In this way the transistors form a Darlington pair. The resistance layers 27 and 28 are provided between the base terminals and the emitters of the transistors, respectively and serve instead of the switches 5 and 6 of FIG. 1 to release the residual charges.

Wenn eine Spannung richtig zwischen dem Basisanschluß des einen Transistors und dem Emitteranschluß 28 des anderen Transistors angelegt wird, werden Minoritätsladungsträger (d. h. in diesem Fall Elektronen) in die Basisschichten I6A und 16b der Transistoren injiziert, so daß die verstärkten Ströme zu den Emittern I9 und 20 über die in Sperrichtung vorgespannten Basis-Kollektor-PNN+-Übergänge (I6A - 14 - 15, 16b - 14 - 15) fließen. Auf diese Weise kann eine zu einem gewöhnlichen Transistor ähnliche Arbeitsweise erzielt werden.If a voltage is properly applied between the base terminal of one transistor and the emitter terminal 28 of the other transistor, minority charge carriers (i.e. electrons in this case) are injected into the base layers I6A and 16b of the transistors, so that the amplified currents to the emitters I9 and 20 Flow via the base-collector PNN + transitions (I6A - 14 - 15, 16b - 14 - 15), which are biased in the reverse direction. In this way, an operation similar to that of an ordinary transistor can be achieved.

Im folgenden werden die Herstellung und der Betrieb eines erfindungsgemäßen HaIbleiter-Bauelements näher beschrieben.The following are the manufacture and operation of a Semiconductor component according to the invention described in more detail.

Im Verfahrensschritt (e) der Fig. 4 werden N-leitende Schichten I9, 20, 31 und 32 gleichzeitig mittels Diffusion von N-leitendem Störstoff gebildet.In method step (e) of FIG. 4, N-conductive layers 19, 20, 31 and 32 are formed simultaneously by means of diffusion formed by N-conductive impurities.

Im Verfahrensschritt (f) der Fig.4 werden vier Teile des SiOg-Filmes entfernt, um Elektroden 22, 24, 34 und 36 aufIn process step (f) of Figure 4, four parts of the SiOg film removed to electrodes 22, 24, 34 and 36

609842/0732609842/0732

26H06526H065

- li -- li -

den P-leitenden Schichten 16A und 16b zu bilden. Darüber hinaus werden Elektroden 21, 23, 33, 35 und 25 jeweils auf den N-leitenden Schichten 19, 20, 31 und 32 und der N+-leitenden Schicht 15 hergestellt.the P-type layers 16A and 16b. In addition, electrodes 21, 23, 33, 35 and 25 are formed on the N-type layers 19, 20, 31 and 32 and the N + -type layer 15, respectively.

Im Verfahrensschritt (g) der Fig. 4 werden die Elektroden 33, 22 und 23 miteinander durch eine Leitung verbunden, und die Elektroden 35 und 24 werden miteinander durch einen anderen Leitungsdraht verbunden. Die Elektroden 21, 24, 34, 36 und 25 werden jeweils mit einem Emitteranschluß 28, einem Basisanschluß 29, einem zweiten Basisanschluß 37* einem dritten Basisanschluß 38 und einem Kollektoranschluß 30 versehen. In method step (g) of FIG. 4, the electrodes 33, 22 and 23 are connected to one another by a line, and the electrodes 35 and 24 are connected to each other by another lead wire. The electrodes 21, 24, 34, 36 and 25 are each provided with an emitter connection 28, a base connection 29, a second base connection 37 * a third base terminal 38 and a collector terminal 30 are provided.

Bei dieser Anordnung bilden zusätzlich zu den beiden Vierschicht-NPNN+-Transistoren (20 - I6A - 14 - I5, 19 - 16b - 14 - 15) entsprechend den Transistoren 1 und 2 in Fig. 1 die N-leitende Schicht 32 auf der P-leitenden Schicht I6A und die Elektrode 36 auf der P-leitenden Schicht I6A zwischen den N-leitenden Schichten 20 und 32 laterale Transistoren zusammen mit der N-leitenden Schicht 20, und die N-leitende Schicht 31 und die Elektrode 34 bilden einen anderen lateralen Transistor zusammen mit der N-leitenden Schicht 19.In this arrangement, in addition to the two four-layer NPNN + transistors (20 - I6A - 14 - I5, 19 - 16b - 14 - 15), corresponding to transistors 1 and 2 in FIG -conductive layer I6A and the electrode 36 on the P-conductive layer I6A between the N-conductive layers 20 and 32 lateral transistors together with the N-conductive layer 20, and the N-conductive layer 31 and the electrode 34 form another lateral Transistor together with the N-conductive layer 19.

Insbesondere teilen der laterale Transistor aus den Schichten 32 - I6A - 20 und der dem Transistor 1 entsprechende Transistor den Emitterbereich 20, wobei dieser laterale Transistor der Transistor 10 in Fig. 2 ist. Der laterale Transistor aus den Schichten 31 - 16b - 19 und der dem Transistor 2 entsprechende Transistor teilen den Emitter-In particular, the lateral transistor from the layers 32 - 16A - 20 and the one corresponding to the transistor 1 share Transistor the emitter region 20, this lateral transistor being the transistor 10 in FIG. The lateral The transistor from layers 31 - 16b - 19 and the transistor corresponding to transistor 2 share the emitter

6Ό9842/07326Ό9842 / 0732

2614 0 62614 0 6

bereich I9, wobei dieser laterale Transistor der Transistor in Fig. 2 ist. Die N-leitenden Schichten 32 und 3I sind jeweils die Kollektoren der Transistoren 10 und 11. Die N-leitende Schicht 32 ist mit der Basis des Transistors 1 verbunden, während die N-leitende Schicht 3I und die Basis des Transistors 2 miteinander verbunden sind. Die so gebildete Anordnung ist durch die Schaltung in Fig. 2 dargestellt. Die Elektroden 36 und 34 entsprechen jeweils den Anschlüssen lOB und HB in Fig. 2 und sind mit dem zweiten und dritten Basisanschluß 37 und 38 versehen. Im Verfahrensschritt (g) der Fig. 4 sind die Anschlüsse 37 und 38 als Außenanschlüsse dargestellt; es sind jedoch auch andere Ausführungsformen möglich. Ein Widerstandsfilm kann z. B. mittels Vakuumaufdampfung auf einem Teil des SiOp-Filmes vorgesehen werden, wobei dieser Film den Anschluß 37 mit dem Anschluß 38 verbindet und ein Außenanschluß in der Mitte des Widerstandsfilmes vorgesehen ist. In diesem Fall kann die gesamte Schaltung der Fig. 2 entsprechend dem Verfahren zur Fertigung einer herkömmlichen Darlington-Schaltung insgesamt hergestellt werden.area I9, this lateral transistor being the transistor in Fig. 2 is. The N-type layers 32 and 3I are the collectors of the transistors 10 and 11, respectively. The N-conductive layer 32 is connected to the base of the transistor 1 connected while the N-type layer 3I and the base of the transistor 2 are connected to one another. The arrangement thus formed is illustrated by the circuit in FIG. The electrodes 36 and 34 correspond to, respectively Connections IOB and HB in Fig. 2 and are with the second and third base terminal 37 and 38 are provided. In the process step (g) of Figure 4, terminals 37 and 38 are shown as external terminals; however, there are others too Embodiments possible. A resistive film can e.g. B. by means of vacuum evaporation on part of the SiOp film may be provided, this film connecting terminal 37 to terminal 38 and an external terminal in the middle of the resistance film is provided. In this case it can the entire circuit of FIG. 2 according to the method for manufacturing a conventional Darlington circuit as a whole getting produced.

Die Fig. 5A und 5B zeigen in einem Vergleich Kennlinien der Halbleiter-Bauelemente, die in den jeweiligen letzten Verfahrensschritten (e) der Fig. 3 und 4 dargestellt sind, wobei die Fig. 5A den sich mit dem Kollektorstrom ändernden Gleichstrom-Verstärkungsfaktor zeigt und die Fig. 5B die sich mit dem Basisstrom ändernde Ladungs-Freigabezeit bei einem Schaltbetrieb mit hohem Kollektorstrom (6A) darstellt.FIGS. 5A and 5B show characteristic curves in comparison of the semiconductor components which are shown in the respective last process steps (e) of FIGS. 3 and 4, FIG. 5A being the changing with the collector current Shows the DC gain factor and FIG. 5B shows the charge release time, which varies with the base current, for a Represents switching operation with high collector current (6A).

Wie aus den Fig. 5A und 5B folgt, ist der Gleichstrom-Verstärkungsfaktor des erfindungsgemäßen Bauelements im Vergleich zum Verstärkungsfaktor des herkömmlichen Bauelements stark verbessert, wobei die Ladungs-Freigabezeit, die dieAs follows from Figures 5A and 5B, the DC gain is of the component according to the invention compared to the gain factor of the conventional component greatly improved, with the charge release time that the

609842/073?609842/073?

26H06526H065

Schaltgeschwlndigkeit stark beeinflußt, bei der Erfindung wesentlich kurzer als beim herkömmlichen Bauelement ist. Da darüber hinaus das erfindungsgemäße Bauelement einen großen Gleichstrom-Verstärkungsfaktor hat, kann ein gewisser Kollektorstrom durch einen kleineren Basisstrom ein- und ausgeschaltet werden, als dieser beim herkömmlichen Bauelement erforderlich ist, um den gleichen Kollektorstrom zu steuern. Dies bedeutet, daß die Ladungs-Freigabezeit weiter verringert werden kann.Switching speed strongly influenced in the invention is much shorter than the conventional component. In addition, since the component according to the invention has a large DC gain factor, a certain collector current can flow in and out through a smaller base current be switched off than this is required in the conventional component to the same collector current to control. This means that the charge release time can be further reduced.

Bei dem oben erläuterten Ausführungsbeispiel der Erfindung werden die jeweiligen Wege zwischen den Basisanschlüssen und den Emittern des ersten und des zweiten Transistors gleichzeitig durch bipolare Transistoren ein- und ausgeschaltet; die bipolaren Transistoren können jedoch durch Feldeffekttransistoren ersetzt werden, die den Vorteil einer großen Eingangsimpedanz haben.In the embodiment of the invention explained above become the respective paths between the base terminals and the emitters of the first and the second transistor switched on and off simultaneously by bipolar transistors; however, the bipolar transistors can through Field effect transistors are replaced, which have the advantage of a large input impedance.

Bei der Erfindung verschwinden die Restladungsträger in den Basisbereichen schnell, da die Basis-Emitter-Vorspannungen der Transistoren in Darlington-Schaltung schnell positiv umgeschaltet werden können, und es kann ein hoher Stromverstärkungsfaktor erzielt werden,da die Basis-Emitter-Nebenwege während der leitenden Periode unterbrochen sind.In the case of the invention, the residual charge carriers disappear fast in the base regions because the base-emitter biases of the Darlington transistors are fast can be switched positively, and a high current gain factor can be achieved, since the base-emitter bypasses are interrupted during the conducting period.

Der erfindungsgemäße Trans istor-Schalter mit den gewünschten Kennlinien kann ohne jeden neuen Herstellungsschritt und ohne zusätzlichen Aufwand gefertigt werden,da sein Herstellungsverfahren gegenüber dem herkömmlichen Transistor keine zusätzlichen Schritte erfordert.The inventive Trans istor switch with the desired Characteristic curves can be used without any new manufacturing step and can be manufactured without additional effort, since its manufacturing process is compared to the conventional Transistor requires no additional steps.

Wie aus dem Ausführungsbeispiel der Fig.2 und 4 hervorgeht, werden NPN-Transistoren als Schalter zur EntfernungAs can be seen from the embodiment of Figures 2 and 4, NPN transistors are used as switches for removal

609842/0732609842/0732

26H06526H065

der in der Darlington-Schaltung angesammelten Ladungen verwendet. Es wird z. B. ein Schalter hoher Geschwindigkeit mit einer Darlington-Schaltung verwendet, um den Primärstrom zur Zündanlage eines Kraftfahrzeugs zu steuern. Die Stromquelle eines Kraftfahrzeugs ist gewöhnlich eine Ein-Richtungs-Stromquelle mit geerdeter negativer Klemme. Die Schaltung, bei der die Basisanschlüsse und die Emitter des ersten und des zweiten Transistors in Darlington-Schaltung durch NPN-Transistoren kurzgeschlossen sind, ist sehr einfach steuerbar, da die NPN-Transistoren betrieben werden, wenn eine positive Spannung an den Basisanschlüssen liegt.of the charges accumulated in the Darlington pair. It is z. B. a high speed switch with a darlington pair used to make the primary current to control the ignition system of a motor vehicle. The power source of an automobile is usually one Unidirectional power source with negative terminal grounded. The circuit in which the base connections and the Emitter of the first and the second transistor in Darlington connection short-circuited by NPN transistors is very easy to control because the NPN transistors are operated when a positive voltage is applied to the Base connections.

609842/0732609842/0732

Claims (5)

26H06526H065 - 15 Patentansprüche - 15 claims Γ 1. Leistungstransistor-Bauelement,mitΓ 1. Power transistor component, with einem N-leitenden Substrat,an N-conductive substrate, einer N+-leitenden Schicht in einer Hauptfläche des N-leitenden Substrats,an N + -conductive layer in a major surface of the N -conductive substrate, einer ersten und einer zweiten P-leitenden Schicht in der anderen Hauptfläche des N-leitenden Substrats,a first and a second P-type layer in the other main surface of the N-conductive substrate, einer ersten und einer zweiten N-leitenden Schicht in der ersten bzw. der zweiten P-leitenden Schicht, undfirst and second N-type layers in the first and second P-type layers, respectively, and einer Einrichtung zum elektrischen Verbinden der zweiten P-leitenden Schicht mit der zweiten N-leitenden Schicht in der ersten P-leitenden Schicht,means for electrically connecting the second P-type layer to the second N-type layer in FIG the first P-type layer, ge k e nnzelchnet durchnot counted individually eine dritte und eine vierte N-leitende Schicht (32 bzw. 31) in der ersten bzw. der zweiten P-leitenden Schicht (16A bzw. 16b) (Fig. 4g).a third and a fourth N-conductive layer (32 and 31, respectively) in the first and the second P-conductive layer (16A or 16b) (Fig. 4g). 2. Leistungstransistor-Bauelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte N-leitende Schicht (31) mit einer Elektrode (23) auf der zweiten P-leitenden Schicht (16b) durch einen äußeren Leiter verbunden ist (Pig.4g).2. Power transistor component according to claim 1, characterized in that the fourth N-conductive layer (31) is connected to an electrode (23) on the second P-conductive layer (16b) by an external conductor (Pig.4g). 3. Le ist ungs trans ist or-Baue lerne nt nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine zweite und eine dritte Elektrode (35, 24) auf der dritten N-leitenden Schicht (32) bzw. der ersten P-leitenden Schicht (16A.) vorgesehen und miteinander durch ein äußeres Verbindungsglied verbunden sind (Fig. 4g).3. Le is ungs trans is or-Baue learn nt according to claim 2, thereby characterized in that a second and a third electrode (35, 24) on the third N-type layer (32) and the first P-type layer (16A.) Are provided and connected to each other by an external connecting member (Fig. 4g). 609842/0732609842/0732 26H065 - ιό - 26H065 - ιό - 4. HaIbleiter-Bauelement mit einem ersten und einem zweiten Transistor in Darlington-Schaltung, dadurch gekennzeichnet, daß ein erster HaIbleiter-SchaIter (10) zwischen der Basis (IB) und dem Emitter (IE) des ersten Transistors (1) und ein zweiter Halbleiter-Schalter (11) zwischen der Basis (2B) und dem Emitter (2E) des zweiten Transistors (2) liegen (Fig. 2).4. Semiconductor component with a first and a second Transistor in Darlington circuit, characterized in that a first semiconductor switch (10) between the base (IB) and the emitter (IE) of the first transistor (1) and a second semiconductor switch (11) between the base (2B) and the emitter (2E) of the second transistor (2) are (Fig. 2). 5. Halbleiter-Bauelement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der erste und der zweite Halbleiter-Schalter (10, 11) NPN-Transistoren sind.5. Semiconductor component according to claim 4, characterized in that that the first and the second semiconductor switch (10, 11) are NPN transistors. 609842/073?609842/073? LeerseiteBlank page
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3533478A1 (en) * 1984-09-21 1986-04-10 Sgs Microelettronica S.P.A., Catania MONOLITHICALLY INTEGRATED SEMICONDUCTOR POWER DEVICE

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