DE2511286A1 - Element mit einer zylindrischen magnetischen domaene - Google Patents
Element mit einer zylindrischen magnetischen domaeneInfo
- Publication number
- DE2511286A1 DE2511286A1 DE19752511286 DE2511286A DE2511286A1 DE 2511286 A1 DE2511286 A1 DE 2511286A1 DE 19752511286 DE19752511286 DE 19752511286 DE 2511286 A DE2511286 A DE 2511286A DE 2511286 A1 DE2511286 A1 DE 2511286A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- magnetic
- pattern
- patterns
- pig
- propagation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 claims description 11
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 8
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 102100027203 B-cell antigen receptor complex-associated protein beta chain Human genes 0.000 description 1
- 101710166261 B-cell antigen receptor complex-associated protein beta chain Proteins 0.000 description 1
- 206010033546 Pallor Diseases 0.000 description 1
- 241000139306 Platt Species 0.000 description 1
- 241001619461 Poria <basidiomycete fungus> Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 230000003137 locomotive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
- G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
- G11C19/0808—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation
- G11C19/0816—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure using magnetic domain propagation using a rotating or alternating coplanar magnetic field
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
- G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
- G11C19/0858—Generating, replicating or annihilating magnetic domains (also comprising different types of magnetic domains, e.g. "Hard Bubbles")
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/02—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements
- G11C19/08—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using magnetic elements using thin films in plane structure
- G11C19/0866—Detecting magnetic domains
Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Element mit zylindrischer magnetischer Domäne und insbesondere ein Element mit
zylindrischer magnetischer Domäne, das eine leichte Bildung von Ausbreitungsmustern für zylindrische magnetische Domänen
(magnetische Blasen) erlaubt und das eine verbesserte
Betriebsgrenze schafft.
Wenn eine Platte aus Orthoferrit, Granat od.dgl. monokristallinem
oder amorphem magnetischen Material mit einaxialer magnetischer Anisotropie, das in solcher Weise
gewachsen oder geschnitten wird, daß es eine Achse leichter Magnetisierung orthogonal in bezug auf die Ebene der Platte
hat, einem Yormagnetisierungsfeld orthogonal zur Ebene der
Platte (in der Richtung leichter Magnetisierung) ausgesetzt wird, wird eine zylindrische magnetische Domäne (eine magnetische
Blase) erzeugt« Diese magnetische Blase kann entsprechend einem Msgnetfel&graöienten bewegt werden, siehe
den Aufsata "Domain Behavior in Some transparent Magnetic
C&'Idss" von ReOe Sherwood, JSPC Eemeika imd H.J.Williams,
Journal of Applied Physics, YoI. 3O3 Seiten 215 bis 2259 1959
imd AufsiLts ^Properties and Devices; Application of Magnetic
BcHiain. in Qr-ohofsr.rits'5, Bell. System 'Technical Journal<, YoI046,
Ir* S, Seiten 1901 bis 1S25e
Wsiis des? Tör'fceil dar obigsn SIgensollait dan? magnetisches,
Blaee s^sgems-sz-t iJlscL dLiu rn^rn fixe Anwesenheit odsr Ab=
-WS£8111x31"ά des HJSgIiStIsGh-SH, Blass is, Ä@r Poria ©iaes? biafeo"
ΰΙΓc-_! ^i,. V ι
' — ■ · "^' ■—■— ■--■ ■ ' -■ jij2 - "* ~
50983S/07 2 9
Flächen einer magnetischen Platte gebildet werden und bei denen ein rotierendes Magnetfeld parallel zur Ebene der
magnetischen Platte angelegt wird, wodurch eine Ausbreitung der magnetischen Blase bewirkt wird.
Die Ausbreitungsmuster der magnetischen Blasen sind aus T-I-Mustern,
Y-I-Mustern, Zickzack-Mustern o.dgl. zusammengesetzt,
die aus einem dünnen Permalloyfilm gebildet sind. Die Bildung der Ausbreitungsmuster wird üblicherweise durch
folgende Schritte erreicht: Niederschlag von Permalloy durch Verdampfung direkt auf die magnetische Platte oder
auf einen anormalen Film zum Unterdrücken einer magnetischen Blase, einen SiO2-FiIm, ein Bestimmungsmuster, ein Leitermuster,
einen SiOp-PiIm usw., die auf der magnetischen Platte gebildet werden, Überziehen des Permalloy mit einem
Photowiderstandsmaterial, Aussetzen des Photowiderstandsmaterials
dem Licht über eine Maske mit vorbestimmten Mustern, Entwickeln der Muster, selektives Wegätzen des
Permalloy, um Muster des Permalloyfilms zu bilden,und
Entfernen des verbleibenden Photowiderstandsmaterials.
Ein solches Ausbreitungsmuster ergibt die folgenden Probleme.
a) Musterspalt (Abstand zwischen den Mustern)
Eine Verringerung des Musterspalts ermöglicht eine leichtere
Ausbreitung.der magnetischen Blase. Im Falle solcher
Ausbreitungsmuster, wie sie in Fig. 1A gezeigt sind', die aus einem T-Muster und einem I-Muster gebildet sind, oder
in dem Falle solcher Zickzack-Muster, wie sie in Fig. 1B gezeigt sind, wird, wenn der Spalt G- zwischen benachbarten
Mustern breit ist, eine magnetische Potentialspitze längs des Spalts G erzeugt, die später mit Bezug auf Fig. 9A und
9B beschrieben wird, was eine Schwierigkeit bei der Ausbreitung der magnetischen Blase ergibt. Wenn der Spalt G-schmal
ist, wird keine magnetische Potentialspitze erzeugt, so daß die Ausbreitung der magnetischen Blase leicht ist.
509839/0729
Das übliche Ausbreitungsmuster ist gedoch derart, wie es
in Pig. 2 gezeigt ist, wobei T- und I-Muster 2 und 3 auf einer magnetischen Platte 1 gebildet werden. Die T- und I-Muster
2 und 3 werden gleichzeitig mittels Ätzen in einem Musterherstellungsprozeß gebildet, so daß es notwendig wird,
um den Spalt G ausreichend zu verkleinern, die Genauigkeit der Maske und des Ätzens wesentlich zu erhöhen. Ein zu
schmaler Spalt G führt zu einer gegenseitigen Kopplung benachbarter Muster und es wird keine Wirkung der Ausbreitung
einer magnetischen Blase erhalten.
b) Magnetische Pole
Im Falle des T-I-Musters, wenn eine magnetische Blase in
der Mitte des oberen Teils des T-Musters liegt, ist eine Aufrechterhaltungskraft aufgrund der Konfigurationsanisotropie
klein. Wenn deshalb ein Antriebsmagnetfeld gestoppt wird, um den Leistungsverbrauch auf einen einmaligen Stopp
zu reduzieren, und wenn dann der Ausbreitungsvorgang wieder gestartet wird,tritt möglicherweise ein Ausbreitungsfehler
auf.
Wird z.B. gemäß Pig. 3 angenommen, daß ein rotierendes
Magnetfeld in einer Richtung a-b-c-d angelegt wird und daß eine magnetische Blase durch ein Magnetfeld a an dem
T-Muster an der Stelle 4 erzeugt wird, wird die magnetische Blase durch ein Magnetfeld b in die Stellung 5 bewegt. Dann
wird die magnetische Blase durch ein Magnetfeld c in die Stellung 6 aus folgendem Grund bewegt. Da nämlich das Magnetfeld
c in der Richtung dem Magnetfeld a entgegengesetzt ist, stößt die Polarität am Punkt 4 die magnetische Blase ab,
während die Polarität am Punkt 6 die magnetische Blase anzieht. Dann wird die magnetische Blase durch ein Magnetfeld
d zur Stelle 7 auf dem I-Muster bewegt. Da die Magnetfelder d und b in der Richtung einander entgegengesetzt
sind, hat auch in diesem PaIIe die Stelle 5 eine Polarität, welche die magnetische Blase abstößt, und die Stelle 7
hat eine Polarität, welche die magnetische Blase anzieht. Wie
509839/0729
vorstehend beschrieben wurde, wird durch das Anlegen der Magnetfelder a bis d die magnetische Blase längs der Stellen
4 bis 7 auf dem Ausbreitungsmuster ausgebreitet.
Wenn die magnetische-n Blasen an den Stellen 4» 6 und 7
vorhanden sind, falls das rotierende Magnetfeld Null gemacht wird, werden die magnetischen Blasen an diesen Stellen durch
die Rückhaltekraft aufgrund der Konfigurationsanisotropie gehalten. Wenn jedoch die magnetische. Blase an der
Stelle 5 liegt, falls das rotierende Magnetfeld Null gemacht ist, wird die Rückhaltekraft aufgrund der Konfigurationsanisotropie
kleiner als diejenigen an den Stellen 4, 6 und 7 und als Ergebnis ist es sehr wahrscheinlich, daß
die magnetische Blase in Richtung der Stelle 4 oder 6 verschoben wird. Wenn das Magnetfeld UuIl gemacht ist,
falls die magnetische Blase an der Stelle 5 zur*"·--!^ehalten
wird, sich jedoch zu der Stelle 4 oder 6 verschiebt, kommt die magnetische Blase aus ihrer Bezugsphase, um eine fehlerhafte
Information zu ergeben, wenn das rotierende Magnetfeld wieder angelegt wird.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein Element mit magnetischer Domäne zu schaffen, das es ermöglicht, daß
der Abstand zwischen Ausbreitungsmustern äquivalent nahe Mull ist, wodurch eine Ausbreitung von magnetischen Blasen
erleichtert wird.
Des weiteren soll die Erfindung ein Element mit magnetischer Domäne schaffen, das leicht hergestellt werden kann, auch
wenn der Musterspalt verringert wird.
Des weiteren soll ein Element mit magnetischer Domäne
geschaffen werden, das sicherstellt, daß die magnetische Blase in einer vorbestimmten Stellung während einer Suspendierung
der Operation der Ausbreitung der magnetischen Blase zurückgehalten wird.
509839/0729
Des weiteren soll ein Element mit zylindrischer magnetischer Domäne geschaffen werden, bei dem ein Ausbreitungsmuster z.B. eines Permalloy-Dünnfilms aus mehreren Sätzen,
die in Schichten auf einer Fläche einer magnetischen Platte gebildet sind, mit einem nichtmagnetischen Film z.B. aus
SiOp, der zwischen die Schichten eingesetzt ist, zusammengesetzt ist.
Des weiteren soll ein Element mit zylindrischer magnetischer Domäne geschaffen werden, das die Konfigurationsanisotropie
und eine einaxiale magnetische Anisotropie der Ausbreitungsmuster ausnutzt.
Die Erfindung wird beispielhaft anhand der Zeichnung beschrieben, in der sind
Pig. 1'A eine Darstellung sur Erläuterung des Spalts zwischen
T- und !-Mustern,
Pig. 1B eine Darstellung zur Erläuterung des Spalts zwischen
Zickzackmustern,
Pig. 2 eine perspektivische Ansicht der T- und I-Muster,
Pig. 3 eine Darstellung zur Erläuterung der Beziehung zwischen einem rotierenden Magnetfeld und der
Stelle einer magnetischen Blase in dem T-I-Muster,
Pig. 4A bis 4D perspektivische Ansichten zur Erläuterung der Schritte bei der Herstellung des T-I-Musters
gemäß einem Beispiel der Erfindung,
Pig. 5A bis 5D perspektivische Ansichten zur Erläuterung der Schritte bei der Herstellung des T-I-Musters
gemäß einem weiteren Beispiel der
Erfindung,
Pig. 6 eine perspektivische Ansicht zur Erläuterung des Musterspalts bei der Bildung des T-I-Musters,
Pig. 7 eine perspektivische Ansicht zur Erläuterung eines weiteren Beispiels des T-I-Musters nach der Erfindung,
509839/0729
Pig. 8 ein Querschnitt des Beispiels der Pig. 7»
Pig. 9A bis 90 Diagramme zum Erläutern der Beziehung zwischen dem Ausbreitungsmusterspalt und der
* Magnetfeldverteilung,
Pig. 1OA und 10B Diagramme zum Erläutern der Magnetfeldverteilung im Palle der Bildung des T-Musters bei
einem einheitlichen Aufbau und im Palle der Bildung des T-Musters mit Musterelementen,
Pig. 11 bis 13 Darstellungen von Beispielen von Zickzack-Mustern nach der Erfindung,
Pig. 14 eine Darstellung von X-X-Mustern, die gemäß
einem weiteren Beispiel der Erfindung hergestellt sind,
Pig. 15 und 16 Darstellungen von X-T-Mustern, die gemäß
weiteren Beispielen der Erfindung hergestellt sind,
Pig. 17 eine Darstellung von Y-Y-Mustern, die gemäß
einem weiteren Beispiel der Erfindung hergestellt sind,
Pig. 18 eine Darstellung von Y-I-Mustern, die gemäß
einem weiteren Beispiel der Erfindung hergestellt sind,
Pig. 19 eine Darstellung eines weiteren Beispiels der Erfindung, .bei dem dem T-I-Muster eine einaxiale
magnetische Anisotropie gegeben ist,
Pig. 20 und 21 schematiscb.e Darstellungen zum Erläutern des Schrittes, der verwendet wird, um den T-I-Mustern
eine einaxiale magnetische Anisotropie zu geben,
Pig. 22 eine Darstellung eines weiteren Beispiels der Erfindung, das eine größere und eine kleinere Schleife
aufweist,
5 0 9838/0729
Fig. 23 eine Darstellung eines Beispiels eines Sensors
unter Verwendung der Zickzack-Muster,
Mg. 24 eine !Darstellung eines Beispiels eines Replikators
unter Verwendung der Zickzack-Muster und
Fig. 25 eine Darstellung eines Beispiels eines Mukleators
unter Verwendung der Zickzack-Muster.
Fig. 4A bis 4D sind senematische Darstellungen zum Erläutern
des Aufbaus eines Beispiels der Erfindung und der bei dessen Herstellung verwendeten Schritte. In Fig. 4A bezeichnet 10
eine magnetische Platte, die üblicherweise dadurch erhalten wird, daß ein Monokristall mit einaxialer magnetischer
Anisotropie, ..z*B. ein Orthoferrit, ein Granat od.dgl.,
auf einem SiO^-Substrat in der Weise gebildet wird, daß die Achse leichter Magnetisierung senkrecht zur Ebene des
Substrats liegen kann. Im Falle der Bildung von T-I-Mustern auf der magnetischen Platte 10 werden die Muster in T- und
I-Muster eingeteilt und die T- und I-Muster werden individuell
gebildet. ¥ie in Fig. 4B gezeigt ist, werden nämlich nur T-Muster 11 zuerst gebildet und ein nichtmagnetischer
Film 12, z.B. aus SiO2, wird über der Fläche der magnetischen
Platte 10 gebildet, um die T-Muster 11 zu bedecken, wie in Fig. 40 gezeigt ist. Dann werden I-Muster 13 jeweils auf
dem nichtmagnetischen Film 12 entsprechend der Fläche gebildet, die zwischen benachbarten T-Mustern 11 begrenzt ist,
wie in Fig. 4D gezeigt ist. Als Ergebnis werden die T-Muster 11 und die. I-Muster 13 in Schichten gebildet, die durch
den niehtmagnetischen Film 12 voneinander isoliert sind.
Auch wenn der Abstand zwischen den I- und I-Mustern 11 und
13 2TuIl seto nahekommt, da der nichtmagnetische Film 12
zwischen den Mustern eisige set st ist9 sind diese nicht
miteinander gekoppelt. 25ss weiteren ist bei einem Ätzverfahren
sum Bilden mr der g-Mistei· oder der I-Muster
zwischen benachbarten S-Mustsrn 11 (oder- Σ-Mustern 13) eine
relativ groJSe Fläolis vorgsseäeaj die !©tätlich durch jedes
!"»Mister 13 (oder das? S-Mastsr 11} eingenommen wird?
5Ö3339/072S
und dies mildert die Beschränkungen, denen die Genauigkeit der Herstellung einer Ätzmaske und die Genauigkeit des
Ätzprozesses unterliegen. Es ist aber auch möglich, die I-Muster 11 auf dem nichtmagnetischen PiIm 12 nach der
Bildung der I-Muster 13 zu bilden.
Pig. 5A bis 5D erläutern ein weiteres Beispiel der Erfindung. In Pig. 5A bezeichnet 20 eine magnetische Platte gleichartig
der in Pig. 4A gezeigten Platte. In diesem Palle sind die T-Muster außer den I-Mustern, d.h. den geraden
Mustern, in Musterelemente 21a und 21b aufgelöst. Zuerst v/erden die Musterelemente 21a auf der magnetischen Platte
gebildet, wie in Pig. 5B gezeigt ist, und ein nichtiaagnetischer
PiIm 22 wird auf der magnetischen Platte 20 aufgebracht, um die Musterelemente 21a zn bedecken, wie in
Pig. 5C gezeigt ist. Dann werden die Masterelemente 21b und die I-Muster auf dem nichtmagnetischen PiIm 22 gebildet,
v/ie in Pig. 5D gezeigt ist« Die Musterelemente 21a und 21b formen paarweise einzelne IT-Muster und die Musterelemente
21b und die I-Muster 23 sind in der Porm einander identisch.
Der Aus br eitungsmust erspalt bei diesem Beispiel iet G-, wie
in Pig« 6 gezeigt istρ während der Musterspalt während
der Musterbilctog P ist, wobei die Beziehung G-<^ P besteht.
Dies erlaubt ©ine sehr einfach.® Bildung der Muster 0 Andererseits
werden beim Stawl der Technik die Ausbreituagsiauster
gleichseitig in derselben Ebene gebildet 9 so daß der Aus~
breltiingsimistergpaJlt derselbe wie der -MuBterspa.lt bei der·
Bildung äsp Muster ist« Dies ergibt die Schwierigkeit bei
äer
Pig* 7 ssig'ö perspektivisch ein weiteres Beispiel der Erfin
dung, bei agffi· die Mustsrelemente 21b und die I-Muster 25
zuerst auf aez? magnetischen Platt© 20 niedergeschlagen
v/erden9 wobei der nichtmagnetisch.© Pilro 22 aus.SiO« o.dgl oüber
der ges&M'uen niagnstisohen Platte 20.gebildet wird, um
die Miisterelemeate 21b und die !«-Muster 23 zu bedecken?
509819/0 721
und wobei dann die Musterelemente 21a auf .dem nichtmagnetischen
Film 22 gebildet werden. Pig. 8 zeigt im Schnitt die Anordnung der Fig. 7. Die T-Muster werden jeweils aus den
Musterelementen 21a und 21b zusammengesetzt, die durch, den nich.tmagnetiscb.en PiIm 22 voneinander isoliert sind, und der
nichtmagnetische Film 22 wird auch, zwischen die I-Muster 23
und die Musterelemente 21a der T-Muster eingesetzt.
Fig. 9A, 9B und 90 sind Diagramme zum Erläutern der Beziehung
zwischen dem Ausbreitungsmusterspalt G- und der Magnetfeldverteilung.
Fig. 9B zeigt gemessene Ergebnisse der Verteilung der Magnetfelder an jeweiligen Punkten auf einer Meßlinie
entsprechend der Richtung eines rotierenden Magnetfeldes Ha, wenn der Spalt G- zwischen den T- und I-Mustern 0,4 mm dick
und 3,5 ram breits wie in Fig. 9A gezeigt ist, im Bereich von
1 bis'4 mm geändert wurde. Sie Kurven a bis d und- a' bis d1
zeigen jeweils Magnetfeldvsrteilimgen in dem Spalt G- in den
Fällen, bei denen der Spalt Q- 1 bis 4 ram ausgewählt wurde und
<äB£ rotierende Magnetfeld Ha in eine horizontale Richtung Ha
aus einer Richtung Ha' gedreht wurde f die in einem Winkel von
ewa 45Ü ü&su genaigt ist9 wie in Mg. 90 gezeigt 1st« Es ergibt
sich, aus äer graphischen Darstellung der Pig. 9B5 daß eine Verringerung
des Spaltes G- die Spitzen der Kurve weniger scharf
maeiito Biss zeigt an* daß», da der Spalt G- enger wird, das
für die Übertragung der magnetischen Blase notwendige Magnetfeld v@3?r-irigsru werden kann φ
Auf diese Weise ks,nn der Spelt G- zwischen den Ausbreitungs»
mustern isiaM· naoli ds;.3 Erfindung ¥errir»g@i?t wer-deii* Auch wenn
gemäß. 3?ig-_ β ζ.Eo der Spalt G- natie ITuIl gewählt wi3?d9 da
der Spalt P während"asr Bildung äer Muster ausreichend breit
Ist, köüiiiöK. die Bildung einer !"soaake und der Itsproseß
leicht a^sgsfülirt v/erfien. Des vj-eiteren schaltet dis Anwesen-Ιιβίΐ
des niclitffiagnetischen Films gwissheii benacfebarten Mastern
die Kögliohkeit Ihr sr- gegenseitiges. Kopplung aus«
Pig. 1OA und 10B sind Darstellungen zum Erläutern der Magnetfeldverteilung im Falle der Bildung der T-Muster
in einem einheitlichen Aufbau und im Falle der Bildung der T-iluster mit Musterelementen 21a und 21b. Sn bezeichnet
die Dicke des nichtraagnetischen Films, der zwischen die Musterelemente 21a und 21b eingesetzt ist. Die Kurven S1
bis S4 bezeichnen die Fälle, bei denen die Dicke Sn des nichtmagnetischen Films mit'0,7 mm, 0,35 mm, 0,10 mm und
0 mm gewählt ist, und ein einzelnes Querstück bezeichnet den Fall, bei dem das T-Muster aus den Musterelementen
21b und 21a zusammengesetzt ist. Wie aus den Kurven in Fig. 10B ersichtlich ist, wird da, wo das
T-Muster aus den Musterelementen 21a und 21b zusammengesetzt ist und der nichtmagnetische Film dazwischen gebildet ist,
die Rückhaltekraft der magnetischen Blase in der Mitte der Spitze des T-Musters, d.h. an der Spitze des Musterelements
21b, erhöht.
Fig. 11 zeigt ein mehrstufiges Zickzack-Muster. Die in gestrichelten und in ausgezogenen Linien gezeigten Musterelemente
sind in verschiedenen Schichten durch den nichtmagnetischen Film voneinander getrennt gebildet, d.h. an
und unter dem nichtmagnetischen Film, wie im Falle der vorangehenden Beispiele.
Fig. 12 zeigt ein anderes Beispiel der Erfindung, bei dem die Zickzack-Must.er abwechselnd in verschiedenen Schichten
mit dem dazwischen eingesetzten nichttnagnetischen Film
gebildet sind, wie durch die gestrichelten und ausgezogenen Linien gezeigt ist.
Fig. 13 zeigt ein weiteres Beispiel der Erfindung* bei dem
durch gestrichelte und ausgesogene Linien bezeichnete gickzaek-Muster
in gleichartiger ¥eise abwechselnd in verschiedenen Sehicliten durch ilen nicb.tB3agnetis-cb.en "Film gebildet
5Λ
u
u
Pig. H zeigt ein weiteres Beispiel der Erfindung für
■X-X-Muster und Pig. 15 und 16 zeigen weitere Beispiele
der Erfindung für I-X-Muster. Pig. 17 und 18 zeigen jeweils
weitere Beispiele der Erfindung für Y-I- und Y-I-Muster. Die Muster in gestrichelten und ausgezogenen linien sind
in verschiedenen Schichten mit dem dazwischen eingesetzten
nichtmagnetischen PiIm gebildet.
Indem des weiteren dem magnetischen PiIm, .z.B. aus Permalloy,
der das Ausbreitungsmuster bildet, eine magnetische Anisotropie gegeben wird, können die Ausbreitungs- und Rückhalteeigenschaften
für die magnetische Blase merklich verbessert v/erden. Wie in Pig. 19 gezeigt ist, wird z.B. den Musterelementen
21b und 23, die in einer ersten Schicht gebildet sind, eine einaxiale magnetische Anisotropie in Richtung
des Pfeiles A gegeben und den Musterelementen 21a, die in einer zweiten Schicht auf dem nichtmagnetischen
PiIm gebildet sind, werden eine einaxiale magnetische Anisotropie in der Richtung des Pfeils B gegeben. In diesem
Pail ist die Richtung, in der sich die magnetische Blase durch das rotierende Magnetfeld ausbreitet, die Richtung
des Musterelements 21a. Da die Achse leichter Magnetisierung des Musterelements 21a mit der Ausbreitungsrichtung übereinstimmt,
breitet sich die magnetische Blase sehr leicht aus.
Da der nichtmagnetische PiIm zwischen den Musterelementen
gebildet ist und da die Achse leichter Magnetisierung des Musterelements 21b in ihrer Längsrichtung liegt, wird am
Schnittpunkt der Musterelemente 21a und 21b die Rückhaltelomf'ü
der magnetischen Blase iss Falle der Abschirmung des
rotierenden magnetischen Feldes aufgrund der Wirkung der
Konfigurationsanisstropi© vn& der magnetischen Anisotropie
arhöht. Wenn das rotissem&e magnetische Feld wieder
angelegt *,fird9 bestellt daisgeiaäS die Möglichkeit, daß eine
fehlerhafte Information erzeugt wirdο
5 0 9 8 3
Wenn dem I-Muster 23 eine einaxiale magnetische Anisotropie
in der Richtung des Pfeils B gegeben wird, bewegt sich die magnetische Blase nicht längs des I-Musters, was die Ausbreitung
der magnetischen Blase sicherstellt.
Pig. 20 und 21 sind schematische Darstellungen zum Erläutern des Schrittes zum Erzeugen der einaxialen magnetischen Anisotropie
in !Längsrichtung des Musters. Zuerst wird Permalloy durch Vakuumverdampfung in einem Magnetfeld H1 direkt auf
einer magnetischen Platte aus Orthoferrit, Grana.t o.dgl.
oder nach der Bildung eines Ulms zum Unterdrücken einer anormalen Blase, eines SiOp-Eilms,eines Bestimtimngsmusters,
eines leitfähigen Musters»eines SiO9-FiImS usw. niedergeschlagen,
wie in 3?ige 20 gezeigt ist, und ein Seil des
I-Musters und ein Seil des I-Musters v/erden durch. Photoätzen
gebildet« Da die Längsrichtungen dieser Muster in Richtung des Magnetfeldes 111 liegen-, werden Muster mit einaxialer
magnetischer Anisotropie in dieser Richtung gebildet. Dann wird der nichtmagnetisch© Film, aoB. aus ^i^2s ^er ^er
gesaratenMagnetplatte mittels Zerstäubung o.dgle gebildet«
In diesem Falle ist zu beachten, daß die Temperatur nicht
erhöht wird, da die einaxiale magnetische Anisotropie des
Musters bei hohen Temperaturen verschwindet«,
Als nächstes wind. Permalloy durch. Takaunnrerdämpfung auf dem
nich.tiaagnetiscb.eEL Filia in einem Magnetfeld H2 niedergeschlagen
una ein Teil fies T-Muster-s wird durch. Phot oat sen ge-=
bildet, wie in 3F±g. 21 gezeigt ist«, Da di© Längsrichtung
dieses K&sters mit äor Richtung" des Magnetfeldes H2 überaia«= stimmt
j hat das Muster eine einaxiale Anisotropie in dieser
Richtung c I'olglloh ist das 5-Muster aus Musterelementen
zusammengesetzt3 öle eine magnetische Anisotropie orthogonal
in bezug aufeinander aufweisen«
Hinsichtlich, nicht nur des vorstehend erwähnten T-I-Musters9
sondern auch, der 1-1°, der Zickzack- -od. dgl »Muster ist es
auch möglich^ diese in Muster aufzuteilen, die sich in denselben
Richtungen erstrecken um Musterelemente mit einaxialer
509839/0729
-H-
magnetischer Anisotropie in deren Längsrichtung zu bilden und um Musterelemente mit einaxialer magnetischer Anisotropie
in verschiedenen Richtungen in Schichten durch den dazwischen gebildeten nichtmagnetischen Ulm zu bilden.
Es treten EaIIe auf, bei denen es bevorzugt ist, eine
einaxiale Anisotropie nicht in Längsrichtung des Musterelements, sondern in einer anderen Richtung zu erzeugen.
Pig. 22 zeigt ein weiteres Beispiel der Erfindung, das bei einem Element mit zylindrischer magnetischer Domäne mit
einem Aufbau mit größerer und kleinerer Schleife'angewendet
ist. JSine kleinere Schleife 51 besteht aus !-Mustern
53 und S-Mustern 54, die in einer ersten Schichten gebildet sind, und weist eine einaxiale magnetische Anisotropie in
Richtung sieg Pfeiles in gesijrionslten Linien 5OA auf. Sine
größere Schleife 52 bestellt ans I-Mustsm 55 und E-Mustern
56 eines zweiten Schicht und ein Übergangsgateinuster 5?
ist BXLQh in der zweit-sn Schicht gebildet ο Diese Muster haben
s5rie 3inaxiale magnetische Anisotropie in Richtung des
Pfeils in gestrichelten linien 5ÖB* In der größeren Schleife
52 sind an geeigneten Stellen ein G-enerator für magnetische
Blasen und ein !Detektor für magnetische Blasen angeordnet,
Sie nicht gezeigt sind. Die magnetische Blase wird in Richtung
ä®B Pfeils mit ausgesogenen Linien ausgebreitete- Die
kleinere Schleife 51 ist irdt &sv größeren Schleife 52 durch,
das tJbergangsgatesTister 57 gekoppelte Die in öer größeren
Sohleife 52 €-rs3ugte magnstische Blas© w.trd auf die kleinere
Schleife 51 übertragenff in dsr di@ magnetisch,® Blas© in
Riohteag des Pfeils In ausgesogenen linien bewegt wlz-äc,
Kuduroh. eine laforisationsspeiohemng auggefühx-t i»i±?2üc Ba die
einaziale magnetlsolie Anisotropie in Richtung der Aiisbrel=
tnng der magnetischen Blase erzeugt wird5 ist in diesem lall
die Ausbreitung der magnetischen Blass- leicht und eine unstabile
Bewegung der magnetischen Blase kann unterdrückt
v/erden.
509839/0729
Pig. 23, 24 und 25 zeigen weitere Beispiele der Erfindung in jeweiliger Anwendung bei einem Sensor, einem Replikator
und einem Mukleator, die Zickzack-Muster verwenden. Weiße und schwarze Muster sind in verschiedenen Schichten gebildet,
die durch den nichtmagnetischen PiIm voneinander isoliert sind. Der oben erwähnte Sensor besteht aus Zickzack-Mustern
in oberen und unteren Schichten, die durch den dazwischen gebildeten nichtmagnetischen PiIm getrennt sind,
und der Spalt zwischen benachbarten Mustern ist im wesentlichen Mull, so daß der Sensor ein Ausgangssignal erzeugt,
das doppelt so groß wie das Signal ist, das mit einem bekannten Sensor derselben- Abmessung erhalten wird.
Wie vorangehend beschrieben wurde, sind bei der Erfindung
die Ausbreitungsmuster in mehrere Mustersätze aufgeteilt und die einzelnen Muster werden in Schichten auf einer Seite
einer magnetischen Platte gebildet, wobei sie durch den nichtmagnetischen PiIm voneinander getrennt sind, so daß
der Musterspalt nahe Hull gewählt werden kann und folglich das antreibende Magnetfeld reduziert werden kann. Des v/eiteren
ist es möglich, Ausbreitungsmuster zu erhalten, die eine leichte Ausbreitung einer magnetischen Blase mit einem
Durchmesser von etwa 1 /u ermöglichen.
Des weiteren ist bei der Bildung des Ausbreitungsmusters der Abstand zwischen Musterelementen jeder Schicht größer als
der Abstand zwischen den Ausbreitungsmustern, wie er letztlich erhalten werden soll, und die Musterelemente können mittels
Photoätzen gebildet \ιβτδ.@Ώ.* Auch wenn kein Spalt zwischen
den oberen und unteren Musterns die durch den nichtmagnetischen
PiIm voneinander getrennt sind«, besteht5 sind die
Ausbreitungsmuster nicht miteinander"gekoppelt«, Im Palle eines
T-Mustera aus Mustereleiaenten5 äie auf imö unter dem nicb.tmagnetisetien
Film gebildet sind5 .steig-·; öss weiteren die Rtlokhaltslcraft
der magnetischen Blase am Schnittpunkt der Mu'sterelesaents
an. ¥®nn dem Musterelement ein® sinassiale.magnetische
5 0 9839/07
Anisotropie gegeben wird, erhöht sich die Rückhaltekraft
der magnetischen Blase weiter-. Wenn dem Ausbreitungsmuster eine einaxiale magnetische Anisotropie in Ausbreitungsrichtung
der magnetischen Blase gegeben wird, kann die magnetische Blase mit geringer magnetischer Feldstärke
ausgebreitet werden.
509839/0729
Claims (4)
- (i.) Element mit zylindrischer magnetischer Domäne, in dem eine magnetische Blase, die durch Anlegen eines Vormagnetisierungsfeldes an eine magnetische Platte erzeugt wird, durch Anlegen eines rotierenden Magnetfeldes parallel zur Ebene der magnetischen Platte längs Ausbreitungsmustern bewegt wird, die aus magnetischem Material auf der Fläche der magnetischen Platte entsprechend der Richtung des rotierenden magnetischen Feldes gebildet sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbreitungsinuster der magnetischen Blase a.us mehreren Sätzen, die in Schichten auf einer Seite der magnetischen Platte gebildet sind, mit einem zwischen den Schichten gebildeten nichtmagnetischen Film zusammengesetzt sind.
- 2. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbreitungsmuster mit Ausnahme von geraden Mustern aus Musterelementen zusammengesetzt sind, die in Schichten mit einem dazwischen eingesetzten nichtmagnetisehen Film gebildet sind.
- 3. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetischen Filme, welche die Ausbreitungsmuster bilden, eine einaxiale magnetische Anisotropie aufweisen.
- 4. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Ε-Muster aus geraden Mustereleraenten, die in Schichten mit einem dazwischen eingesetzten nichtma'gnetischen Film gebildet sind, zusammengesetzt ist, wobei jedes Musterelement eine einaxiale magnetische Anisotropie in seiner Längsrichtung aufweist *509 8 3 9/0729
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2938774A JPS5651433B2 (de) | 1974-03-14 | 1974-03-14 | |
| JP49051499A JPS50144345A (de) | 1974-05-09 | 1974-05-09 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2511286A1 true DE2511286A1 (de) | 1975-09-25 |
| DE2511286B2 DE2511286B2 (de) | 1978-03-23 |
| DE2511286C3 DE2511286C3 (de) | 1978-11-23 |
Family
ID=26367581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE2511286A Expired DE2511286C3 (de) | 1974-03-14 | 1975-03-14 | Verschiebungsmuster für magnetische Blasendomäneneinrichtungen |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4086661A (de) |
| DE (1) | DE2511286C3 (de) |
| FR (1) | FR2264361B1 (de) |
| GB (1) | GB1471134A (de) |
| NL (1) | NL170675C (de) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4198691A (en) * | 1976-05-21 | 1980-04-15 | Rockwell International Corporation | Compact exchange switch for bubble domain devices |
| NL7608003A (nl) * | 1976-07-20 | 1978-01-24 | Philips Nv | Magnetische inrichting met domeinen. |
| US4415990A (en) * | 1979-08-31 | 1983-11-15 | Rockwell International Corporation | Complementary bi-level magnetic bubble propagation circuit |
| JPS5712477A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-22 | Hitachi Ltd | Magnetic bubble generator |
| EP0067170A4 (de) * | 1980-11-24 | 1985-07-01 | Western Electric Co | Magnetblasenspeicher. |
| US4357682A (en) * | 1980-11-24 | 1982-11-02 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Conductorless transfer for magnetic bubble memories |
| US4511995A (en) * | 1983-06-29 | 1985-04-16 | Burroughs Corporation | Detector-dummy detector combination which is integrated as a single element of reduced size |
| FR2593955B1 (fr) * | 1986-02-05 | 1988-05-20 | Sagem | Dispositif de memorisation a bulles magnetiques |
| FR2608304B2 (fr) * | 1986-02-05 | 1989-03-31 | Sagem | Dispositif de memorisation a bulles magnetiques |
| US7516985B2 (en) * | 2004-03-11 | 2009-04-14 | Delphi Technologies, Inc. | Multi piece bearing for telescoping steering column assembly |
| US20050200111A1 (en) * | 2004-03-11 | 2005-09-15 | Cymbal William D. | Multi piece bearing for telescoping steering column assembly |
| CN104993247A (zh) * | 2015-06-01 | 2015-10-21 | 东南大学 | 各向异性双极化幻觉与隐身人工电磁表面 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3699551A (en) * | 1970-10-20 | 1972-10-17 | Bell Telephone Labor Inc | Domain propagation arrangement |
| US3689901A (en) * | 1971-05-06 | 1972-09-05 | Bell Telephone Labor Inc | Magnetic domain detector arrangement |
-
1975
- 1975-03-07 US US05/556,402 patent/US4086661A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-03-12 FR FR7507691A patent/FR2264361B1/fr not_active Expired
- 1975-03-14 NL NLAANVRAGE7503100,A patent/NL170675C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-03-14 DE DE2511286A patent/DE2511286C3/de not_active Expired
- 1975-03-14 GB GB1087775A patent/GB1471134A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4086661A (en) | 1978-04-25 |
| FR2264361B1 (de) | 1981-05-29 |
| FR2264361A1 (de) | 1975-10-10 |
| NL7503100A (nl) | 1975-09-16 |
| GB1471134A (en) | 1977-04-21 |
| DE2511286B2 (de) | 1978-03-23 |
| DE2511286C3 (de) | 1978-11-23 |
| NL170675C (nl) | 1982-12-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3885397T2 (de) | Mikrowellenplattenantenne, insbesondere für Dopplerradar. | |
| DE2511286A1 (de) | Element mit einer zylindrischen magnetischen domaene | |
| DE102015218247A1 (de) | Arraysubstrat, Bildungsverfahren für dasselbe und Anzeigevorrichtung | |
| DE2553754A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines magnetischen einzelwanddomaenensystems mit hoher domaenenpackungsdichte | |
| DE2523985A1 (de) | Magnetischer einzelwanddomaenenspeicher | |
| DE2732282A1 (de) | Magnetische speicherschicht | |
| DE2256996C3 (de) | Magnetische Anordnung | |
| DE1764378A1 (de) | Randschichtdiodenmatrix und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE2342923C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Zweiphasen-Ladungsverschlebeanordnung und nach diesem Verfahren hergestellte Zweiphasen-Ladungs Verschiebeanordnung | |
| EP1195820A2 (de) | Integrierte magnetoresistive Schaltungsanordnung | |
| DE69018202T2 (de) | Mehrspur-aufnahmemagnetkopf mit kompakter matrixartiger struktur. | |
| DE3142949A1 (de) | Josephson-element und verfahren zu seiner herstellung | |
| DE102012201458A1 (de) | Magnetoresistive vorrichtung und verfahren zum herstellen derselben | |
| DE2734027C3 (de) | Fortbewegungselement magnetische Blasendomänen | |
| EP3907477B1 (de) | Magnetische positionsmesseinrichtung | |
| DE2539795C3 (de) | Generator zur Erzeugung magnetischer Blasendomänen | |
| DE1303462B (de) | ||
| DE19755961A1 (de) | Gekoppelte Leitung und Verfahren zum Herstellen derselben | |
| DE10259634A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kontakten auf einem Wafer | |
| DE2048710A1 (de) | Antennenanordnung | |
| DE19834234C2 (de) | Integrierter Halbleiterchip mit Füllstrukturen | |
| DE102018207127A1 (de) | Verfahren zum Ankontaktieren einer metallischen Kontaktfläche in einer Leiterplatte und Leiterplatte | |
| DE2457162A1 (de) | Magnetische schaltung fuer magnetische zylindrische einzelwanddomaenen | |
| EP3574532B1 (de) | Metall-isolator-graphen diode | |
| DE2629069A1 (de) | Magnetdomaenen-weiterleitung durch feldzugriff |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: REINLAENDER, C., DIPL.-ING. DR.-ING., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |