DE2414297B2 - Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components - Google Patents

Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components

Info

Publication number
DE2414297B2
DE2414297B2 DE19742414297 DE2414297A DE2414297B2 DE 2414297 B2 DE2414297 B2 DE 2414297B2 DE 19742414297 DE19742414297 DE 19742414297 DE 2414297 A DE2414297 A DE 2414297A DE 2414297 B2 DE2414297 B2 DE 2414297B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
intermediate carriers
plastic tape
semiconductor components
tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19742414297
Other languages
German (de)
Other versions
DE2414297C3 (en
DE2414297A1 (en
Inventor
Hanns- Heinz Peltz
Detlev Schmitter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19742414297 priority Critical patent/DE2414297C3/en
Publication of DE2414297A1 publication Critical patent/DE2414297A1/en
Publication of DE2414297B2 publication Critical patent/DE2414297B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE2414297C3 publication Critical patent/DE2414297C3/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49572Lead-frames or other flat leads consisting of thin flexible metallic tape with or without a film carrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/061Etching masks
    • H05K3/064Photoresists
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4092Integral conductive tabs, i.e. conductive parts partly detached from the substrate

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur teilautomatischen Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente, insbesondere Zwischenträgern zur Herstellung von integrierten Schaltungen in Dual-in-line-Gehäusen oder von * likrogehäusen für Hybridschaltungen.The invention relates to a method for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components , in particular intermediate carriers for the production of integrated circuits in dual-in-line housings or of * micro-housings for hybrid circuits.

Es wurde bereits diskutiert, perforierte Metallbänder für die Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente zu verwenden. Bei diesen Metallbändern lag jedoch eine Normierung, welche der Normierung von optischen Filmen entspricht, nicht vor. Damit wird eine Verwendung von handelsüblichen optischen und mechanischen Vorrichtungen für eine automatisierte Herstellung derartiger Zwischenträger unmöglich. Strebt man eine automatisierte oder teilautomatisierte Herstellung derartiger Zwischenträger an, so müssen hierfür eigens Vorrichtungen entwickelt werden. Die Entwicklungskosten für die erforderlichen Präzisionsvorrichtungen sind bekanntlich hoch und liegen sicherlich höher als die Anschaffungskosten für bereits am Markt befindliche optische Vorrichtungen, die für die automatisierte beziehungsweise teilautomatisierte Herstellung von Zwischenträgern verwendbar sind. Ein automatisiertes beziehungsweise teilautomatisiertes Herstellungsverfahren für Zwischenträger, welches mit perforierten Metallbändern arbeitet, muß deshalb zwangsläufig zu höheren Kosten der Endprodukte führen, als das erfindungsgemäße Herstellungsverfahren. It has already been discussed, perforated metal strips for the production of intermediate carriers for semiconductor components to use. With these metal strips, however, there was one standardization, which was the standardization of optical films does not match. This allows a use of commercially available optical and mechanical devices for an automated production of such intermediate carriers impossible. If one strives for an automated or partially automated production of such intermediate carriers, then must for this purpose devices are developed. The development costs for the necessary precision devices are known to be high and lie certainly higher than the cost of optical devices that are already on the market and that are used for the automated or partially automated production of intermediate carriers can be used. A automated or partially automated manufacturing process for intermediate carriers, which with perforated metal belts, therefore, must inevitably lead to higher costs of the end products lead than the manufacturing method according to the invention.

Weiterhin ist zur Verwendung von Metallbändern zu erwähnen, daß sie im Gegensatz zu dem beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Kunststoffband keine Kleberschicht tragen, Diese Tatsache wirkt sich nachteilig für die danach gefertigten Bauelemente aus, da eine Kleberschicht beim fertigen Bauelement als mechanischer und thermischer Puffer wirkt, welcher die thermische und mechanische Belastbarkeit des fertigen Bauelements heraufsetzt, was wiederum zur Folge hat, daß die Ausfallquote von Bauelementen mit Kleberschicht geringer ist, die elektrische Zuverlässigkeit dieser Bauelemente höher ist,, die thermischen Toleranzen dieser Bauelemente größer sind und ähnliche Vorteile mehr daraus erwachsen. Kurz gesagt, die Verwendung einer Kleberschicht bei derartigen Bauelementen setzt deren Qualität herauf.Furthermore, it should be mentioned that the use of metal strips, in contrast to the Plastic tape used in the method according to the invention does not have an adhesive layer, this fact has a disadvantageous effect on the components manufactured afterwards, as there is an adhesive layer during manufacture Component acts as a mechanical and thermal buffer, which the thermal and mechanical Resilience of the finished component increases, which in turn has the consequence that the failure rate of Components with an adhesive layer is lower, the electrical reliability of these components is higher is ,, the thermal tolerances of these components are larger and similar advantages more from it adult. In short, the use of an adhesive layer in such components sets their Quality up.

Weiterhin wurde angeregt, unperforierte Kuiststoffbänder zur Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente zu verwenden. Bei einem derartigen Kunststoffband läßt sich bei entsprechender Bearbeitung eine KJeberschicht aufbringen, so daß die eben erwähnten Qualitätsmängel mit diesen Bändern vermeidbar sind.Furthermore, imperforate plastic straps were suggested to use for the production of intermediate carriers for semiconductor components. With such a With appropriate processing, a layer of glue can be applied to plastic tape so that the The quality defects just mentioned can be avoided with these tapes.

Es ist jedoch zweifelhaft, ob eine Automatisierung beziehungsweise Teilautomatisierung der Herstellung von Zwischenträgern mittels unperforierter Bänder überhaupt möglich ist, da der Bandvorschub eine außerordentliche Exaktheit aufweisen muß, welche durch die Erzeugung von Fein- und Feinststrukturen mittels Photomasken und Phototechnik vorgegeben ist Falls eine derartige Automatisierung mit der geforderten Bandvorschubgenauigkeit überhaupt möglich ist, so wäre hierfür zumindest die Entwicklung neuer Vorrichtungen nötig, die einen ganz erheblichen Kostenaufwand mit sich brächte. Die Herstellungskosten derartig gefertigter Zwischenträger wären somit ebenfalls entsprechend hoch.However, it is doubtful whether an automation or partial automation of the production of intermediate carriers by means of imperforate tapes is possible at all, since the tape feed is a must have extraordinary accuracy, which is achieved through the production of fine and very fine structures by means of photo masks and photo technology, if such an automation with the required one is specified If tape feed accuracy is possible at all, at least the development of new devices would be necessary for this necessary, which would entail a very considerable expense. The manufacturing cost such Manufactured intermediate carriers would therefore also be correspondingly high.

Aus der US-PS 37 24 068 ist ein eigens angefertigter Apparat bekannt, bei dem ein perforiertes Kunststoffband zur automatischen Herstellung von Halbleiterbauelementen und von integrierten Schaltungen verwendet wird, in welches Zusatzlöcher für den Transport des Kunststoffbandes ausgestanzt sind und daß mit metallischen Feinstrukturen versehen ist.From US-PS 37 24 068 a specially made apparatus is known in which a perforated plastic band used for the automatic production of semiconductor components and integrated circuits is, in which additional holes are punched out for the transport of the plastic tape and that with metallic fine structures is provided.

Eine spezielle optische Norm ist jedoch zur Perforation der Kunststoffbänder nicht vorgesehen. Dadurch können käuflich erwerialiche optische Apparatüren zum Transport der Kunststolfbander und damit zur Herstelung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen, welche aus Kunststoffbändern gefertigte Zwischenträger aufweisen, nicht verwendet werden.However, no special optical standard is provided for perforating the plastic strips. This enables commercially available optical equipment for the transport of plastic tape and thus for the production of semiconductor components and integrated ones Circuits which have intermediate carriers made from plastic strips are not used will.

« Es wurde auch bereits versucht, für die teilautomatisierte Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente perforierte Kunststoffbänder mit Normen der optisch üblichen Filme zu benützen. Jedoch wurden dazu bisher nur Bandnormen verwendet, die eine um den Faktor 10 bis 20 schlechtere Materialausnutzung des Bandes zulassen, als das beim erfindungsgemäßen Verfahren der Fall ist.«We have already tried for the partially automated Manufacture of intermediate carriers for semiconductor components, perforated plastic strips with standards to use the optically usual films. However, so far only tape standards have been used for this purpose allow a factor of 10 to 20 poorer material utilization of the tape than that of the invention Procedure is the case.

Da die Kosten des Bandmaterials erheblich sind, führt eine Fertigung von Halbleiterbauelementen mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens zu einer Reduktion der Herstellungskosten, verglichen mit den Kosten der bisher bekannten Herstellungsmethoden.Since the cost of the strip material is considerable, a production of semiconductor components by means of the leads method according to the invention to a reduction in manufacturing costs compared to the costs of previously known manufacturing methods.

Gleichzeitig mit der besseren Materialausnutzung von Kunststoffbändern geht außerdem eine Miniaturi-Simultaneously with the better utilization of the material of plastic straps, miniaturization is also possible.

*><> sierung der Zwischenträger sowie der darauf befindlichen Feinstrukturen ebenfalls um den Faktor 10 bis 20 einher. Bei einer Verkleinerung von Feinstrukturen im angeführten Maße werden die technischen Grenzen zur Herstellung von Feinstrukturen nach üblichen Ätzverfahren überschritten, weshalb bisher eine Perforation von Kunststnffbändern nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A, nicht angewendet wurde, obwohl der Vorteil einer Verwendung von handelsüblichen optischen*> <> sization of the intermediate carriers and those on them Fine structures also by a factor of 10 to 20. When reducing fine structures in The dimensions given are the technical limits for the production of fine structures using conventional etching processes exceeded, which is why so far a perforation of plastic tapes according to DIN 15 851, sheet 2, Form A, was not applied, although the advantage of using commercially available optical

Apparaten zur Herstellung von Halbleiterbauelementen und integrierten Schaltungen klar ersichtlich istApparatus for manufacturing semiconductor devices and integrated circuits can be clearly seen

Nachdem der Entwicklungstrend für Halbleiterbauelemente auf eine Miniaturisierung der Abmessungen hinstrebt, leistet das erfindungsgemäße Verfahren zur teilautomatisierten Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente auch für diese Entwicklung einen erheblichen Beitrag. Weiterhin eröffnet sich die Möglichkeit, Zwischenträger, weiche nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt werden, dank der Miniaturisierung der Abmessungen, erstmals zum Einbau als Zwischenträger in Dual-in-line-Gehäusen zu verwenden. Außerdem bewirkt die Miniaturisierung der Zwischenträger und damit auch der Halbleiterbauelemente bei der erfindungsgemäßen Verwendung von perforierten Kunststoffbändern eine höhere Packungsdichte beim Einbau derart gefertigter Halbleiterbauelemente in gedruckte Schaltungen.After the development trend for semiconductor devices strives for a miniaturization of the dimensions, the inventive method makes for partially automated production of intermediate carriers for semiconductor components also for this development a significant contribution. Furthermore, there is the possibility of intermediate carriers, soft according to the invention Process are produced, thanks to the miniaturization of the dimensions, for the first time to the To be used as an intermediate support in dual-in-line housings. In addition, the miniaturization of the Intermediate carriers and thus also the semiconductor components when using according to the invention perforated plastic tapes a higher packing density when installing semiconductor components manufactured in this way in printed circuits.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur teilautomatisierten Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente anzugeben, wobei eine bessere Materialausnutzung als bisher üblich gewährleistet, eine Miniaturisierung von Feinstrukturen auf Kunststoffbändern, die Ober die üblichen technischen Grenzen hinausgeht, sowie eine Miniaturisierung der hiermit gefertigten Halbleiterbauelemente sichergestellt ist und die Herstellungskosten für hiernach gefertigte Halbleiterbauelemente gesenkt werden.The object of the invention is to provide a method for the partially automated production of intermediate carriers for semiconductor components, whereby a better material utilization than usual ensures, a miniaturization of fine structures on plastic tapes, the over the usual technical Goes beyond limits, as well as ensuring miniaturization of the semiconductor components manufactured with it and the manufacturing costs for semiconductor components manufactured in accordance with this can be reduced.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A perforiertes und in S-8-Bänder gesplittetes Kunststoffband (1, 11) verwendet wird, wobei der Reihe nach auf das Kunststoffband ein Epoxydharzkleber aufkaschiert wird, aus dem Kunststoffband Zusatzlöcher (13, 23) ausgestanzt werden, auf das Kunststoffband einseitig eine Kupferfolie und dann beidseitig eine Photolackschicht aufgebracht wird, weiterhin kupferseitig mittels Photomasken und Phototechnik den gewünschten Feinstrukturen (24) entsprechend öffnungen in der Photolackschicht erzeugt werden, auf den so freigelegten Teilen der Kupferfolie Zinn galvanisch abgeschieden wird, der Photolack anschließend von der Kupferseite entfernt wird, das Kupfer bis auf die verzinnten Teile der Kupferfolie weggeätzt wird und der Photolack auf der der Kupferseite abgewandten Seite des Kunststoffbandes entfernt wird.This object is achieved according to the invention in that a perforated according to DIN 15 851, Sheet 2, Form A and plastic tape (1, 11) split into S-8 tapes is used, in which case the An epoxy resin adhesive is laminated on the plastic tape, additional holes (13, 23) from the plastic tape be punched out, a copper foil on one side of the plastic tape and then a photoresist layer on both sides is applied, the desired copper side by means of photo masks and photo technology Fine structures (24) corresponding to openings in the photoresist layer are generated on the exposed Parts of the copper foil tin is electrodeposited, the photoresist then from the Copper side is removed, the copper is etched away down to the tinned parts of the copper foil and the photoresist on the side of the plastic tape facing away from the copper side is removed.

Diese Erfindung bringt folgende Vorteile: eine Reduktion der Herstellungskosten durch Materialeinsparung, Miniaturisierung von Zwischenträgern und hiermit gefertigten Halbleiterbauelementen, Verwendbarkeit der erfindungsgemäß gefertigten Zwischenträger zum Einbau in Dual-in-line-Gehäuse, Erreichung einer größeren Lagegenauigkeit der Feinstrukturen auf dem Kunststoffband sowie einer höheren Packungsdichte beim Einbau von Halbleiterbauelementen mit erfindungsgemäß gefertigten Zwischenträgern in ge druckte Schaltungen.This invention has the following advantages: a reduction in manufacturing costs through material savings, Miniaturization of intermediate carriers and semiconductor components manufactured with them, usability the intermediate carrier manufactured according to the invention for installation in dual-in-line housings, achievement a greater positional accuracy of the fine structures on the plastic tape as well as a higher packing density when installing semiconductor components with intermediate carriers manufactured according to the invention in ge printed circuits.

Ein weiterer Vorteil besteht darin, spezielle genormte optische Einrichtungen zur teilautomatisierlen Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente zu verwenden, so daß ein erheblicher Anteil von Entwicklungskosten für diesbezügliche Apparate eingeAnother advantage is the use of special standardized optical devices for partially automated production to use of intermediate carriers for semiconductor components, so that a significant proportion of Development costs for related apparatus

spart wird.saves.

Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert Es zeigtThe invention is explained in more detail below with reference to the drawing

Fig. 1 eine Draufsicht auf ein nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A perforiertes Band,1 is a plan view of a tape perforated in accordance with DIN 15 851, sheet 2, form A,

Fig.2 eine Draufsicht auf ein nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A, perforiertes Band mit ausgestanzten Zusatzlöchern,2 shows a plan view of a DIN 15 851, Sheet 2, form A, perforated tape with additional punched holes,

Fig.3 eine Draufsicht auf einen vergrößert dargestellten Teil eines S-8-Bandes mit Feinstrukturen.3 shows a plan view of an enlarged illustration Part of an S-8 tape with fine structures.

Fig. I stellt eine Draufsicht auf ein nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A, perforiertes Band 1 dar. Die Löcher 2 dieser Perforation sind form- und anordnungsgerecht auf dem Band 1 dargestelltFig. I shows a plan view of a according to DIN 15 851, Sheet 2, form A, perforated tape 1. The holes 2 of this perforation are of the correct shape and arrangement shown on tape 1

Fig.2 stellt die Draufsicht auf ein perforiertes Band 11 dar, welches außer der S-8-Perforation nach DIN 15 851, Blatt 2, mit den Löchern 12 noch Zusatzlöcher 13 aufweist die aus dem Band ausgestanzt wurden. Die strichpunktierten Linien 14 stellen die Linien dar, längs deneii das dargestellte Band 11 in S-8-Bänder gesplittet wird. Die beiden äußeren S .■■■ · Perforationszeilen 15 übernehmen bis zum Splitten c'es Bandes in S-8-Bänder den Bandtransport2 shows the top view of a perforated band 11 which, in addition to the S-8 perforation according to DIN 15 851, sheet 2, with the holes 12 also has additional holes 13 which were punched out of the band. The dash-dotted lines 14 represent the lines along which the illustrated tape 11 is split into S-8 tapes. The two outer S. ■■ ■ · perforation lines 15 take over the transport of the tape until the tape is split into S-8 tapes

Fig.3 ist eine Draufsicht auf ein vergrößert dargestelltes Teil eines S-8-Bandes 21, mit S-8-Perforationslöchern 22, einem Zusatzloch 23 und mit auf den Film aufgebrachten Feinstrukturen 24.3 is a plan view of an enlarged part of an S-8 tape 21, with S-8 perforation holes 22, an additional hole 23 and with fine structures 24 applied to the film.

Im folgenden soll ein spezielles Ausführungsbeispiel näher erläutert werden:A special embodiment is to be explained in more detail below:

Es sollen Zwischenträger für Halbleiterbauelemente, zum Beispiel Zwischenträger zur Herstellung von integrierten Schaltungen in Dual-in-line-Gehäusen oder von Mikrogehäusen für Hybridschaltungen, teilautomatisch mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt werden. Dazu wird von einem 16 mm, 32 mm oder 35 mm Kunststoffilrn, zum Beispiel Polyimidfilm ausgegangen, der mit einer Kunststoffkleberschicht, zum Beispiel einer Epoxydharzkleberschicht von 25 μπι Dicke versehen ist In diesem Film wird eine S-8-Perforation nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A eingebracht. Außerdem werden Zusatzlöcher 13, wie in F i g. 2 dargestellt, ausgestanzt. Auf den so vorbereiteten Film wird eine Kupferfolie so auflaminiert, daß die beiden äußeren S-8-Perforationszeilen 15 (siebe F i g. 2) von der Kupferfolie nicht überdeckt werden. Anschließend wird auf den Film beidseitig Photolack aufgezogen. Mittels Photomasken und Phototechnik werden kupferseitig auf den Film Feinstrukturen aufgebracht. In diesen Feinstrukturen wird galvanisch Zinn abgeschieden. Anschließend wird der Photolack kupferseitig entfernt, das Kupfer bis auf die verzinnten Kupferbahnen der Feinstrukturen 24 (siehe F i g. 3) weggeätzt Nach Entfernen des Phctolacks auf der Rückseite des Films 2>'hält man das erfindungsgemäße Kunststoffband. Ein anschließendes Splitten in S-8-Bänder entlang den Linien 14(siehe ? i g. 2) ermöglicht die Verwendung von S-8-genormten optischen Vorrichtungen für die weitere Verarbeitung dieses Bandes, zum Beispiel für die drahtlose Montage von Halbleiterbauelementen auf dem so genormten Zwischenträgerband. Durch einfaches Abschneiden vom S-8-Band erhält man schließlich die endgültige Form des Zwischenträgers.There should be intermediate carriers for semiconductor components, for example intermediate carriers for the production of integrated circuits in dual-in-line housings or in micro-housings for hybrid circuits, semi-automatic be prepared with the aid of the method according to the invention. This is done by a 16 mm, 32 mm or 35 mm plastic film, for example polyimide film, with a plastic adhesive layer, for example an epoxy resin adhesive layer of 25 μm Thickness is provided. An S-8 perforation according to DIN 15 851, sheet 2, form A is made in this film brought in. In addition, additional holes 13, as shown in FIG. 2 shown, punched out. To the one prepared in this way A copper foil is laminated on the film in such a way that the two outer S-8 perforation lines 15 (see Fig. 2) are not covered by the copper foil. Photoresist is then applied to both sides of the film. Using photo masks and photo technology, fine structures are applied to the film on the copper side. In Tin is electrodeposited on these fine structures. Then the photoresist becomes copper-sided removed, the copper etched away down to the tinned copper tracks of the fine structures 24 (see FIG. 3) After removing the Phctolack on the back of the film 2> 'one holds the plastic tape according to the invention. A subsequent splitting into S-8 bands along the lines 14 (see? I g. 2) enables the use of S-8 standardized optical devices for the further processing of this tape, for example for the wireless assembly of semiconductor components on the standardized intermediate carrier tape. By simple Cut off the S-8 tape to finally get the final shape of the intermediate carrier.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (1)

Patentanspruch:Claim: Verfahren zur teilautomatischen Herstellung von Zwischenträgern für Halbleiterbauelemente, insbesondere Zwischenträgern zur Herstellung von integrierten Schaltungen in Dual-in-line-Gehäuse oder von Mikrogehäusen für Hybridschaltungen, dadurch gekennzeichnet, daß ein nach DIN 15 851, Blatt 2, Form A perforiertes und in S-8-Bänder gesplittetes Kunststoffband (1, 11) verwendet wird, wobei der Reihe nach auf das Kunststoffband ein Epoxydharzkleber aufkaschiert wird, aus dem Kunststoffband Zusatzlöcher (13, 23) ausgestanzt werden, auf das Kunststoffband einseitig eine Kupferfolie und dann beidseitig eine Photolackschicht aufgebracht wird, weiterhin kupferseitig mittels Photomasken und Phototechnik den gewünschten Feinstrukturen (24) entsprechende Öffnungen in der Photolackschicht erzeugt werden, auf den so freigelegten Teilen der Kupferfolie Zinn galvanisch abgeschieden wird, der Photolack anschließend von der Kupferseite entfernt wird, das Kupfer bis auf die verzinnten Teile der Kupferfolie weggeätzt wird und der Photolack auf der der Kupferseite angewandten Seite des Kunststoffbandes entfernt wird.Method for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components, in particular Intermediate carriers for the production of integrated circuits in dual-in-line packages or of micro-housings for hybrid circuits, characterized in that a perforated according to DIN 15 851, sheet 2, form A and in S-8 tapes split plastic tape (1, 11) is used, with the An epoxy resin adhesive is laminated on the plastic tape, additional holes (13, 23) from the plastic tape are punched out, a copper foil on one side of the plastic tape and then on both sides Photoresist layer is applied, still on the copper side corresponding to the desired fine structures (24) by means of photo masks and photo technology Openings are produced in the photoresist layer on the thus exposed parts of the copper foil tin is galvanically deposited, the photoresist is then removed from the copper side, the Copper is etched away down to the tinned parts of the copper foil and the photoresist on the Copper side applied side of the plastic tape is removed.
DE19742414297 1974-03-25 1974-03-25 Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components Expired DE2414297C3 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19742414297 DE2414297C3 (en) 1974-03-25 1974-03-25 Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19742414297 DE2414297C3 (en) 1974-03-25 1974-03-25 Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2414297A1 DE2414297A1 (en) 1975-10-02
DE2414297B2 true DE2414297B2 (en) 1979-05-17
DE2414297C3 DE2414297C3 (en) 1980-01-17

Family

ID=5911081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742414297 Expired DE2414297C3 (en) 1974-03-25 1974-03-25 Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2414297C3 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3147729A1 (en) * 1981-12-02 1983-06-09 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München INTERMEDIATE CARRIER TAPE WITH WIRING ELEMENTS FOR FITTING WITH CHIP COMPONENTS
DE3522852A1 (en) * 1985-06-26 1987-01-08 Gao Ges Automation Org Process for fabricating an intermediate carrier for semiconductor bodies
AT411197B (en) * 2001-02-16 2003-10-27 Datacon Semiconductor Equip METHOD FOR MOUNTING, HOLDING OR REMOVING A WAFER AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1052912A (en) * 1975-07-07 1979-04-17 National Semiconductor Corporation Gang bonding interconnect tape for semiconductive devices and method of making same
DE2760435C2 (en) * 1977-06-03 1989-01-26 Nec Corp., Tokio/Tokyo, Jp
DE2725260A1 (en) * 1977-06-03 1978-12-14 Nippon Electric Co Frame and conductor system for semiconductor component prodn. - has conductor strip holder with frame whose inner edge surrounds semiconductor receptacle
DE2752655A1 (en) * 1977-09-23 1979-06-07 Blaupunkt Werke Gmbh Electronic-component assembly for automated mass-production - has component in hole in support foil closed on one side by metal-plane heat sink
DE3019207A1 (en) * 1980-05-20 1981-11-26 GAO Gesellschaft für Automation und Organisation mbH, 8000 München CARRIER ELEMENT FOR AN IC CHIP
DE3029667A1 (en) * 1980-08-05 1982-03-11 GAO Gesellschaft für Automation und Organisation mbH, 8000 München CARRIER ELEMENT FOR AN IC COMPONENT
DE3033900C3 (en) * 1980-09-09 1994-12-15 Siemens Ag Caseless circuit module and method for its manufacture
US4689719A (en) * 1980-09-25 1987-08-25 Siemens Aktiengesellschaft Housing-free vertically insertable single-in-line circuit module
US4549247A (en) * 1980-11-21 1985-10-22 Gao Gesellschaft Fur Automation Und Organisation Mbh Carrier element for IC-modules
DE3123241C2 (en) * 1981-06-11 1984-08-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Method for producing a plate-shaped switching module
DE3235675A1 (en) * 1982-09-27 1984-03-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR CHIP FILM CARRIERS
DE3235702C2 (en) * 1982-09-27 1985-01-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Process for the production of film carriers for semiconductor chips
JPS61196564A (en) * 1985-02-25 1986-08-30 シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト Film carrier integrated circuit and manufacture thereof
JPS61196546A (en) * 1985-02-25 1986-08-30 シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト Film carrier integrated circuit and manufacture thereof
EP0218849A1 (en) * 1985-09-12 1987-04-22 Siemens Aktiengesellschaft Support tape for a film-mounted circuit
DE3608410A1 (en) * 1986-03-13 1987-09-17 Siemens Ag Production of fine structures for semiconductor contacts
DE3731787C2 (en) * 1987-09-22 2000-11-16 Aeg Ges Moderne Inf Sys Mbh Arrangement of several ICs on a strip of insulating material
US6495397B2 (en) * 2001-03-28 2002-12-17 Intel Corporation Fluxless flip chip interconnection

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3147729A1 (en) * 1981-12-02 1983-06-09 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München INTERMEDIATE CARRIER TAPE WITH WIRING ELEMENTS FOR FITTING WITH CHIP COMPONENTS
DE3522852A1 (en) * 1985-06-26 1987-01-08 Gao Ges Automation Org Process for fabricating an intermediate carrier for semiconductor bodies
AT411197B (en) * 2001-02-16 2003-10-27 Datacon Semiconductor Equip METHOD FOR MOUNTING, HOLDING OR REMOVING A WAFER AND DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD

Also Published As

Publication number Publication date
DE2414297C3 (en) 1980-01-17
DE2414297A1 (en) 1975-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2414297C3 (en) Process for the semi-automatic production of intermediate carriers for semiconductor components
DE2810054C2 (en) Electronic circuit arrangement and method for its manufacture
DE3125518C2 (en) Method of making a thin wiring assembly - US Pat
DE3019207C2 (en)
DE1465606B1 (en) Closed housing for electronic components with an insulating body and electrical lines embedded with this body, as well as a method for its production
DE2920012B1 (en) ID card with IC module and method for producing such an ID card
EP0999583B1 (en) Increasing stability of a substrate by a supporting element
DE4203114C2 (en) Method of manufacturing a tape carrier device for semiconductor devices
EP0521502A1 (en) Procedure for setting-in a carrier member
DE3608410C2 (en)
AT514564B1 (en) Method for contacting and rewiring
EP0009610A1 (en) Method for producing testable semiconductor miniature containers in strip form
DE3442803A1 (en) Hybrid circuit on a flexible carrier material, and a method for its production
EP0192818B1 (en) Chip-type plastic foil wound capacitor
DE1123723B (en) Process for producing printed circuits
DE3110351A1 (en) METHOD FOR THE PRODUCTION OF ELECTRIC LAYER CAPACITORS WITH GLOW POLYMERIZED LAYERS AS DIELECTRICS
DE3834361C2 (en)
DE2751680A1 (en) SWITCH MATRIX, IN PARTICULAR TRANSPARENT SWITCH MATRIX, FOR KEY AREA DEVICES
DE4326424A1 (en) Process for the production of TAB film supports
DE1166935B (en) Method for producing masks on semiconductor bodies
DE4321804A1 (en) Process for the production of small components
DE69218336T2 (en) Process for producing an electrically conductive contact
DE3842572A1 (en) Method for producing a soldering comb for the electrical and mechanical connection of printed circuit boards
DE3235702C2 (en) Process for the production of film carriers for semiconductor chips
DE3522852A1 (en) Process for fabricating an intermediate carrier for semiconductor bodies

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee