DE2364178A1 - RADIATION-SENSITIVE RECORDING MATERIAL FOR THE PRODUCTION OF POSITIVELY WORKING FLAT PRINT PLATES - Google Patents

RADIATION-SENSITIVE RECORDING MATERIAL FOR THE PRODUCTION OF POSITIVELY WORKING FLAT PRINT PLATES

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DE2364178A1
DE2364178A1 DE19732364178 DE2364178A DE2364178A1 DE 2364178 A1 DE2364178 A1 DE 2364178A1 DE 19732364178 DE19732364178 DE 19732364178 DE 2364178 A DE2364178 A DE 2364178A DE 2364178 A1 DE2364178 A1 DE 2364178A1
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment

Description

Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung positiv arbeitender Flachdruckplatten.Radiation-sensitive recording material for manufacture positive working planographic printing plates.

Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung positiv arbeitender Flachdruckplatten, bestehend aus einem Schichtträger und mindestens einer hierauf aufgetragenen strahlungsempfindlichen Schicht aus einem strahlungsempfindlichen Acrylat-Diazochinoncopolymeren.The invention relates to a radiation-sensitive recording material for the production of positive-working planographic printing plates, consisting of a substrate and at least one on top applied radiation-sensitive layer made of a radiation-sensitive acrylate-diazoquinone copolymer.

Es ist bekannt, z.B. aus der GB-PS 1 267 005, zur Herstellung von positiven Reliefs und Photoresistmassen Copolymere zu verwenden, die erhalten iverden durch vollständige Veresterung eines Copolymeren aus Metliylmethacrylat und Hydroxyäthylmethacrylat mit einem großen Überschuß an 2-Diazo-1-naphthol-4-sulfonylchlorid. Dabei wurde eine praktisch vollständige Veresterung der Hydroxylgruppen als notwendig erachtet, da es bekannt war, daß Diazochinonpolymere mit freien Hydroxylgruppen durch Belichtung quervernetzt werden können. Es wurde angenommen, daß freie, nicht phenolische Hydroxylgruppen mit den Keten- oder Carbonsäuregruppen zu reagieren vermögen, welche bei der Belichtung aus den Diazochinongruppen erzeugt werden und zwar unter Erzeugung quervernetzender Zentren. Diesbezügliche Angaben finden sich beispielsweise in der US-PS 3. 502 470.It is known, for example from GB-PS 1 267 005, to use copolymers for the production of positive reliefs and photoresist materials, which are obtained by complete esterification of a copolymer from methyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate with a large excess of 2-diazo-1-naphthol-4-sulfonyl chloride. Included Virtually complete esterification of the hydroxyl groups was deemed necessary as it was known that diazoquinone polymers can be crosslinked with free hydroxyl groups by exposure to light. It was believed to have free, non-phenolic hydroxyl groups able to react with the ketene or carboxylic acid groups which are generated from the diazoquinone groups on exposure with the creation of cross-linking centers. Information on this can be found, for example, in US Pat 3,502 470.

Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß Copolymere aus Methylmethacrylat- und Hydroxyäthylmethacrylateinheiten, in denen die beiden Einheiten in etwa äquimolaren Verhältnissen vorliegen und die mit 2-Diazo-1-naphthol-4-sulfonylchlorid verestert wurden und zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten verwendet werden, nur solche Platten von schlechten Abriebcharakteristika liefern. Es wurde gefunden, daß das Verhältnis von Methylmethacrylat zu Hydroxyäthylmethacrylat auf mindestens 75 % erhöht werden muß, um ausreichende Abriebcharakteristika zu erreichen und daß zur Erzielung bestmöglicher Abriebcharakteristika Copolymere verwendet werden müssen, deren Grundgerüst zu mindestens 80 MoI-I aus Methylmethacrylateinheiten besteht. Es hat sich gezeigt, daßThe invention was based on the finding that copolymers of methyl methacrylate and hydroxyethyl methacrylate units, in which the two units are present in approximately equimolar proportions and which have been esterified with 2-diazo-1-naphthol-4-sulfonyl chloride and are used to produce positive-working printing plates, only provide panels with poor abrasion characteristics. It has been found that the ratio of methyl methacrylate to hydroxyethyl methacrylate must be increased to at least 75% in order to achieve sufficient abrasion characteristics and that to achieve the best possible abrasion characteristics, copolymers must be used whose basic structure consists of at least 80 mol-I of methyl methacrylate units. It has been shown that

40982 8/078840982 8/0788

die Abriebcharakteristika nicht dadurch verbessert werden, daß die Veresterungsreaktion so gesteuert wird, daß freie Hydroxylgruppen in dem lichtempfindlichen Polymeren verbleiben. Des weiteren hat sich gezeigt, wenn nur ein Bruchteil der Hydroxylgruppen, z.B. 1/10 der Hydroxylgruppen nicht verestert wird, ein merkliches Verschmieren der Druckplatten zu beobachten ist.the attrition characteristics are not improved by controlling the esterification reaction to remove free hydroxyl groups remain in the photosensitive polymer. It has also been shown that if only a fraction of the hydroxyl groups, e.g. 1/10 of the hydroxyl groups are not esterified, a noticeable smearing of the printing plates can be observed.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein strahlungsempfindlich.es Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung positiv arbeitender Flachdruckplatten oder lithographischer Druckplatten anzugeben, die durch verbesserte Abriebcharakteristika ausgezeichnet sind und bei der Verwendung nicht zum Verschmieren (scumming) neigen und welche des weiteren durch eine gute Entwickelbarkeit gekennzeichnet sind.The object of the invention is to provide a radiation-sensitive recording material for the production of positive-working planographic printing plates or lithographic printing plates to indicate the are characterized by improved abrasion characteristics and are not prone to scumming when in use, and which are further characterized by good developability.

Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß sich zur Herstellung von Druckplatten und Photoresistmassen in hervorragender Weise Copolymere eignen, die auf Mol-Basis aufgebaut sind zu:The invention was based on the knowledge that to manufacture of printing plates and photoresist compositions in excellent Way copolymers that are built up on a mole basis are suitable for:

1. mindestens 75 % aus wiederkehrenden Alkylacrylateinheiten;1. at least 75 % of recurring alkyl acrylate units;

2. 10 bis 22 I wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinondiazidsäureestereinheiten; 2. 10 to 22 I acryloyloxyalkylquinonediazidic acid ester repeating units;

3. 1 bis 7 I wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten und3. 1 to 7 I repeating acryloyloxyalkylcarboxylate units and

4. bis zu 4 % wiederkehrenden Hydroxyalkylacrylateinheiten.4. up to 4 % repeating hydroxyalkyl acrylate units.

Kennzeichnend für die zur Herstellung der Flachdruckplatten verwendeten Polymeren ist, daß zu ihrer Herstellung kein großer Überschuß an Diazochinon-Reaktionskomponente erforderlich ist, und daß es des weiteren nicht erforderlich ist, daß sämtliche freien Hydroxylgruppen vollständig durch Diazochinonreste verestert werden. Characteristic of those used to manufacture the planographic printing plates Polymers is that a large excess of diazoquinone reactant is not required for their preparation, and that it is furthermore not necessary that all free hydroxyl groups are completely esterified by diazoquinone radicals.

Gegenstand der Erfindung ist somit ein strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung positiv arbeitender Flachdruckplatten oder lithographischer Druckplatten, bestehend aus einem Schichtträger und mindestens einer hierauf· aufgetragenenThe invention thus provides a radiation-sensitive recording material for the production of positive-working Planographic printing plates or lithographic printing plates, consisting of a layer support and at least one coated thereon

409828/0788409828/0788

strahlungsempfindlichen Schicht aus einem strahlungsempfindlichen Acrylat-Diazochinoncopolymeren, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncöpolymer enthält, das aufgebaut ist auf MoI-I Basis zu:radiation-sensitive layer made of a radiation-sensitive Acrylate-diazoquinone copolymers, which is characterized in that the radiation-sensitive layer is an acrylate-diazoquinone copolymer which is built up on a MoI-I basis to:

1. 75 bis 87 Ϊ aus wiederkehrenden Alkylacrylateinheiten;1. 75 to 87 Ϊ from recurring alkyl acrylate units;

2. 10 bis 22 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinondiazidsäureestereinheiten; 2. 10 to 22 % of acryloyloxyalkylquinonediazidic acid ester repeating units;

3..1 bis 7 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten und3..1 to 7 % from recurring acryloyloxyalkylcarboxylate units and

4. bis zu 4 % aus wiederkehrenden Hydroxy alkylaerylateiiihei ten.4. up to 4 % from recurring hydroxyalkylaerylateiiihei th.

Unter "positiven" Druckplatten sind hier solche Druckplatten gemeint, welche oleophile Druckfarbe in den nicht exponierten Bezirken aufnehmen.Under "positive" printing plates are meant here such printing plates, which take up oleophilic printing ink in the unexposed areas.

Die zur Herstellung von Druckplatten und Photoresistmassen geeigneten strahlungsempfindlichen Acrylat-Diazochinoncopolymeren der Erfindung können durch Additionspolymerisation der entsprechenden Monomeren hergestelltThose suitable for making printing plates and photoresist compositions Radiation-sensitive acrylate-diazoquinone copolymers of the invention can by addition polymerization of the corresponding Monomers produced

Vorzugsweise werden zur Herstellung der strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien Copolymere verwendet, bei denen mindestens 75 MoI-I, vorzugsweise mindestens 78 Mol-% der wiederkehrenden Einheiten aus Alkylacrylatestereinheiten, z.B. Alkylacrylateinheiten der folgenden Formel I bestehen:For the production of the radiation-sensitive recording materials, copolymers are preferably used in which at least 75 mol%, preferably at least 78 mol% of the recurring Units consist of alkyl acrylate ester units, e.g. alkyl acrylate units of the following formula I:

H R1 HR 1

f ff f

H C=OH C = O

O R2 OR 2

worin bedeuten:where mean:

409828/0788409828/0788

R^ ein Methylrest oder ein Wasserstoffatom und R2 ein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen.R ^ is a methyl radical or a hydrogen atom and R 2 is an alkyl radical having 1 to 6 carbon atoms.

Überraschenderweise xmrde gefunden, daß ein solch hoher Anteil an kurzkettigen Alkylacrylatestereinheiten in den Copolymeren zu vorteilhaften Abriebcharakteristika führt, so daß ausgehend von den Copolymeren Druckplatten außerordentlich langer Lebensdauer hergestellt werden können, d.h. Druckplatten, von denen sich unter Anwendung normaler Druckbedingungen mindestens 100 Abzüge herstellen lassen, ohne daß dabei eine merkliche Verschlechterung der Qualität der letzten Abzüge gegenüber den zuerst hergestellten Abzügen infolge Zerstörung der Druckplatte zu beobachten ist.Surprisingly, xmrde found that such a high proportion on short-chain alkyl acrylate ester units in the copolymers leads to advantageous abrasion characteristics, so that starting of the copolymers printing plates can be produced with extremely long life, i.e. printing plates from which at least 100 prints can be made using normal printing conditions without any noticeable deterioration the quality of the last prints compared to the prints made first as a result of the destruction of the printing plate is.

Beispielsweise können die wiederkehrenden Einheiten der Formel I bestehen aus Methylmethacrylat-, Äthylmethacrylat-, n-Propylacrylat-, n-Butylmethacrylat-, t-Butylacrylat-, Isoamylmethacrylat-, Cyclohexylmethacrylat- oder n-Hexylmethacrylateinheiten.For example, the repeating units of the formula I can consist of methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, isoamyl methacrylate, Cyclohexyl methacrylate or n-hexyl methacrylate units.

Der Rest der wiederkehrenden acrylischen oder methacrylischen Einheiten ^l^x^iijl^jrxjcxzciafiuisxxBxxicixslxrkcX^KXiiK» Hydroxyalkylacrylateinheiten,xsxBxiBXtx welche wiederum zum größten Teil weiterverestert werden.The rest of the repeating acrylic or methacrylic Units ^ l ^ x ^ iijl ^ jrxjcxzciafiuisxxBxxicixslxrkcX ^ KXiiK »hydroxyalkyl acrylate units, xsxBxiBXtx which in turn are largely further esterified.

Um die Polymeren strahlungsempfindlich zu machen, werden 10 bis 22 MoI-I der wiederkehrenden Einheiten der Copolymeren weiter verestert und zwar mit einem sauren Chinondiazid, z.B. einer ortho- oder para-Chinondiazidsulfonsäure oder einer ortho- oder para-Chinondiazidcarbonsäure. In order to make the polymers radiation-sensitive, 10 to 22 mol-I of the repeating units of the copolymers are further esterified with an acidic quinonediazide such as an ortho- or para-quinonediazide sulfonic acid or an ortho- or para-quinonediazide carboxylic acid.

Die wiederkehrenden strahlungsempfindlichen Einheiten der Copolymeren können in vorteilhafter Weise aus wiederkehrenden Einheiten der folgenden Formel II bestehen:The repeating radiation-sensitive units of the copolymers can advantageously consist of recurring units of the following formula II:

40 9828/078840 9828/0788

H R1 HR 1

ι.ι.

II (r- CII (r- C

O-R3-O-X-DOR 3 -OXD

worin bedeuten:where mean:

R einen Methylrest oder ein Wasserstoffatom; R einen Alkylenrest mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen;R is a methyl radical or a hydrogen atom; R is an alkylene radical having 2 to 6 carbon atoms;

0-X einen Säureesterrest, z.B. einen Sulfonylrest der Formel0-X is an acid ester residue, e.g. a sulfonyl residue of the formula

00

II iiII ii

—(-. 0-S —)— oder einen Carboxylrest der Formel —£-0-0 —)— und- (-. 0-S -) - or a carboxyl radical of the formula - £ -0-0 -) - and

Il
0
D einen Chinondiazidrest.
Il
0
D is a quinonediazide residue.

Demzufolge können in vorteilhafter Weise die wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinondiazidsäureestereinheiten bestehen aus:As a result, the recurring Acryloyloxyalkylquinonediazidic acid ester units consist of:

2-Methacryloyloxyäthy1-o-chinondiazidsulfonat-; Z-Methacryloyloxyäthyl-o-chinondiazidcarboxylat-; 2-Methacryloyloxyäthyl-p-chinondiazidsulfonat-; Z-Acryloy.loxyäthyl-o-chinondiazidsulfonat-; Z-Methacryloyloxyäthyl-p-chinondiazidcarboxylat-; 2-Acryloyloxyäthyl-p-chinondiazidsulfonat-; S-Acryloyloxypropyl-o-chinondiazidsulfonat-; S-Methacryloyloxypropyl-o-chinondiazidcarboxylat-; 4-Methacryloyloxybutyl-o-chinondiazidsulfonat-; 4-Acryloyloxybutyl-p-chinondiazidcarboxylat-; S-Methacryloyloxyamyl-o-chinondiazidsulfonat- und ö-Methacryloyloxyhexyl-o-chinondiazidcarboxylateinheiten,2-methacryloyloxyäthy1-o-quinonediazidesulfonat-; Z-methacryloyloxyethyl-o-quinonediazidecarboxylate; 2-methacryloyloxyethyl-p-quinonediazidesulfonate-; Z-Acryloy.loxyäthyl-o-quinonediazide sulfonate; Z-methacryloyloxyethyl-p-quinonediazidecarboxylate; 2-acryloyloxyethyl-p-quinonediazidesulfonate-; S-acryloyloxypropyl-o-quinonediazide sulfonate-; S-methacryloyloxypropyl-o-quinonediazidecarboxylate-; 4-methacryloyloxybutyl-o-quinonediazide sulfonate-; 4-acryloyloxybutyl-p-quinonediazidecarboxylate-; S-methacryloyloxyamyl-o-quinonediazide sulfonate and ö-methacryloyloxyhexyl-o-quinonediazidecarboxylate units,

Die Chinondiazidreste, die Bestandteil der erfindungsgemäß verwendeten Copolymeren sind, können eine voneinander sehr verschie-The quinonediazide radicals that are part of those used according to the invention Copolymers can have a very different

409828/0788409828/0788

dene Konstitution aufweisen, vorausgesetzt nur, daß die Chinondiazidgruppe lichtempfindlich ist.have dene constitution, provided only that the quinonediazide group is sensitive to light.

Als besonders vorteilhaft haben sich ortho-Chinondiazide der Benzolreihe mit einer oder mehreren o-Chinondiazidresten erwie-' s en, ζ.B.:Ortho-quinonediazides of the benzene series with one or more o-quinonediazide radicals have proven to be particularly advantageous. s en, ζ.B .:

o-Benzochinondiazid; 1,2-Naphthochinon-1-diazid; 1,2-Naphthochinon-2-diazid; 7-Methoxy-1,2-naphthochinon-2-diazid; 6-Nitro-1,2-naphthochinon-2-diazid; 5-(Carboxymethyl)-I,2-naphthochinon-idiazid; 2,3-Phenanthrenchinon-2-diazid; 9,10-Phenanthrenchinon-10-diazid und 3,4-Chrysenchinon-3-diazid.o-benzoquinonediazide; 1,2-naphthoquinone-1-diazide; 1,2-naphthoquinone-2-diazide; 7-methoxy-1,2-naphthoquinone-2-diazide; 6-nitro-1,2-naphthoquinone-2-diazide; 5- (carboxymethyl) -1, 2-naphthoquinone idiazide; 2,3-phenanthrenequinone-2-diazide; 9,10-phenanthrenequinone-10-diazide and 3,4-chrysenequinone-3-diazide.

Überraschenderweise würde gefunden, daß, wenn 1 bis 7 MoI-I der wiederkehrenden Einheiten der Acrylat-Copolymeren wiederkehrende Hydroxyalkylacrylateinheiten sind, die des weiteren mit einer Carbonsäure verestert werden, eine unerwartete Verbesserung der Entwickelbarkeit dieser Copolymeren erreicht wird, wenn sie zur Herstellung von Druckplatten und Photoresistmassen verwendet werden. In unerwarteter Weise hat sich des weiteren gezeigt, daß die erfindungsgemäßen Druckplatten keine oder höchstens nur sehr geringe Tendenz zum Verschmieren aufweisen und zwar sogar dann, wenn bis zu 4 MoI-I der wiederkehrenden Einheiten der Copolymeren aus wiederkehrenden Hydroxyalkylacrylateinheiten bestehen. Es hat sich gezeigt, daß durch die Einführung von wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten in die Acrylat-Copolymeren es nicht länger erforderlich ist, eine praktisch vollständige Veresterung der Hydroxyalkylacrylateinheiten mit einer Chinondiazidsäure zu bewirken, wie dies bisher als erforderlich angesehen wurde. Dies macht es wiederum möglich, auf die Verwendung eines großen Überschusses an Chinondiazidsäure bei der Herstellung der Copolymeren zu verzichten.Surprisingly, it has been found that if 1 to 7 MoI-I der Repeating units of the acrylate copolymers are repeating hydroxyalkyl acrylate units, which are furthermore with a Carboxylic acid, an unexpected improvement in the developability of these copolymers is achieved when they are used for Manufacture of printing plates and photoresist compositions can be used. Furthermore, it has unexpectedly been found that the printing plates according to the invention have no or at most only very few Have a tendency to smear, even if up to 4 mol-I of the repeating units of the copolymers are made repeating hydroxyalkyl acrylate units exist. It has been shown that by introducing recurring acryloyloxyalkylcarboxylate units in the acrylate copolymers it is no longer necessary for a practically complete esterification of the To effect hydroxyalkyl acrylate units with a quinonediazidic acid, as previously considered necessary. this again makes it possible to use a large excess of quinonediazidic acid in the preparation of the copolymers to renounce.

In vorteilhafter Weise weisen die wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten eine Struktur entsprechend der folgenden Formel III auf:The recurring acryloyloxyalkylcarboxylate units advantageously have has a structure according to the following formula III:

409828/07409828/07

H R1 HR 1

H C=O-H C = O-

O-R3-O-C-R4 OR 3 -OCR 4

worin R und R die bereits angegebene Bedeutung haben und R ein Kohlenwasserstoffrest oder ein Halokohlenwasserstoffrest mit jeweils bis zu ZO Kohlenstoffatomen, vorzugsweise 10 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellt.where R and R have the meanings already given and R a hydrocarbon residue or a halohydrocarbon residue each having up to ZO carbon atoms, preferably 10 or fewer carbon atoms.

In vorteilhafter Weise bestehen die Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten der Formel III beispielsweise aus:The acryloyloxyalkylcarboxylate units are advantageously made of the formula III for example from:

2-Methacryloyloxyäthylacetat-; 2-Methacryloyloxyäthylpropionat-; 2-Acryloyloxyäthylbutyrat-; 2-Methacryloyloxyäthylcaproat-; 2-Methacryloyloxyäthylmyris tat-; 2-Methacryloyloxyäthylbenzoat-; 2-Acryloyloxyäthyl-a-naphthoat-; 3-Acryloyloxypropylstearat-; S-Acryloyloxypropylacetat-; S-Methacryloyloxypropylcaprylat-; S-Acryloyloxypropylarachidat-; 4-Acryloyloxybutylacetat-; 4-Methacryloyloxybutylbutyrat-; 4-Äcryloyloxybutyllaurat-; 4-Methacryloyloxybutylbenzoat-; ö-Methacryloyloxyhexylacetat-; 6-Methacryloyloxyhexylbütyiat-; 6-Acryloyloxyhexylstearat- und 6-Acryloyloxyhexylbenzoateinheiten. 2-methacryloyloxyethyl acetate-; 2-methacryloyloxyethyl propionate; 2-acryloyloxyethyl butyrate; 2-methacryloyloxyethylcaproate- ; 2- Methacryloyloxyäthylmyris tat-; 2-methacryloyloxyethyl benzoate; 2-acryloyloxyethyl-a-naphthoate-; 3-acryloyloxypropyl stearate; S-acryloyloxypropyl acetate-; S-methacryloyloxypropyl caprylate; S-acryloyloxypropyl arachidate-; 4-acryloyloxybutyl acetate-; 4-methacryloyloxybutylbutyrate-; 4-acryloyloxybutyl laurate; 4-methacryloyloxybutyl benzoate-; δ-methacryloyloxyhexyl acetate-; 6-methacryloyloxyhexylbutylate-; 6-acryloyloxyhexyl stearate and 6-acryloyloxyhexyl benzoate units.

Die Carboxylatreste der wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten können in entsprechender Weise aus Resten halogenierter Säuren bestehen, d.h. die Carboxylatreste können beispielsweise aus Resten der Fluoressigsäure, Chloressigsäure, Bromessigsäure, Jodessigsäure, Dichloressigsäure, Trichloressigsäure, a-Chlorpropionsäure, ß-Chlorpropionsäure, 4-Jodbuttersäure oder p-Brombenzoesäure bestehen.The carboxylate residues of the acryloyloxyalkylcarboxylate repeating units can consist in a corresponding manner of residues of halogenated acids, i.e. the carboxylate residues can, for example from residues of fluoroacetic acid, chloroacetic acid, bromoacetic acid, iodoacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, α-chloropropionic acid, ß-chloropropionic acid, 4-iodobutyric acid or p-bromobenzoic acid exist.

Wie bereits dargelegt, ist es nicht erforderlich, einen ÜberschußAs already stated, it is not necessary to have an excess

4 0 9828/07884 0 9828/0788

an der vergleichsweise teuren Chinondiazidreaktionskomponente zu verwenden, um eine praktisch vollständige Veresterung sämtlicher Hydroxyalkylacrylateinheiten zu gewährleisten.to use on the comparatively expensive quinonediazide reaction component to virtually complete esterification of all Ensure hydroxyalkyl acrylate units.

Ein nicht zu erwartender Vorteil der Erfindung ist es, daß die zur Herstellung der Flachdruckplatten und Photoresists verwendbaren Licht-empfindlichen Acrylat-Copolymeren bis zu 4 Mol-% wiederkehrende Hydroxyalkylacrylateinheiten enthalten können, ohne daß dadurch die Druckfarbeaufnahme- und Druckfarbezurückhalt-Eigenschaften der Copolymeren nachteilig beeinträchtigt werden.An unexpected advantage of the invention is that it can be used to make the planographic printing plates and photoresists Light-sensitive acrylate copolymers up to 4 mol% can contain recurring hydroxyalkyl acrylate units without thereby impairing the printing ink absorption and printing ink retention properties the copolymers are adversely affected.

Infolgedessen können die erfindungsgemäß verwendeten Copolymeren außer den wiederkehrenden Einheiten der Formeln I, II und III zusätzlich z.B. wiederkehrende Einheiten der folgenden Formel IV aufweisen: .As a result, the copolymers used in the present invention In addition to the recurring units of the formulas I, II and III, there are also, for example, recurring units of the following formula IV exhibit: .

H R1 HR 1

ft x ft x

iv —e- c—c iv - e c - c

t !t!

H C=OH C = O

0-R3-0H0-R 3 -0H

worin R und R die bereits angegebene Bedeutung haben.where R and R have the meanings already given.

In typischer Weise können die wiederkehrenden Einheiten der Formel IV beispielsweise aus den folgenden Verbindungen erzeugt werden (infolgedessen auch die Stamm- oder Vorläuferverbindungen für die wiederkehrenden Einheiten der Formeln. II und III):Typically, the repeating units of the formula IV can be generated, for example, from the following compounds (consequently also the parent or precursor compounds for the recurring units of the formulas. II and III):

2-Hydroxyäthylmethacrylat; 2-Hydroxypropylacrylat; 3-Hydroxypropylmethacrylat; 5-Hydroxypentylacrylat; 6-Hydroxyhexylacrylat und 2-Hydroxyhexylmethacrylat.2-hydroxyethyl methacrylate; 2-hydroxypropyl acrylate; 3-hydroxypropyl methacrylate; 5-hydroxypentyl acrylate; 6-hydroxyhexyl acrylate and 2-hydroxyhexyl methacrylate.

Die erfindungsgemäß verwendbaren strahlungsempfindlichen Acrylat-Copolymeren lassen sich nach den üblichen bekannten Vinyl-Polymeri-The radiation-sensitive acrylate copolymers which can be used according to the invention can be according to the usual known vinyl polymer

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sationsmethoden herstellen. So kann die Herstellung der Polymeren beispielsweise in der Masse oder in der Lösung erfolgen oder durch eine Emulsionspolymerisation oder sogenannte "Bead"-Polymerisation, vorzugsweise in Gegenwart eines üblichen Polymerisationsinitiators.Establish sation methods. So can the manufacture of the polymers take place, for example, in bulk or in solution or by emulsion polymerization or so-called "bead" polymerization, preferably in the presence of a customary polymerization initiator.

So können zur Herstellung der Copolymeren zunächst Alkylacrylate, wie sie zur Erzeugung der wiederkehrenden Einheiten der Formel I benötigt werden, und Hydroxyalkylacrylate, wie sie zur Herstellung der wiederkehrenden Einheiten der Formel IV benötigt werden, miteinander umgesetzt werden und zwar unter Erzeugung von Copolymeren, die im wesentlichen aus wiederkehrenden Einheiten der Formeln I und IV bestehen. Daraufhin können die freien Hydroxylgruppen der wiederkehrenden Einheiten der Formel IV verestert werden und zwar unter Verwendung einer geeigneten Carbonsäure und einer Chinondiazidsäure unter Ausbildung von wiederkehrenden Einheiten der Formeln II und III. Andererseits können Carbonsäuren und/oder Chinondiazidsäuren auch mit den Alkylacrylaten und Hydroxyalkylacrylaten umgesetzt werden, wenn die Copolymerisation erfolgt. ·Thus, first of all, alkyl acrylates, as required to produce the repeating units of the formula I, and hydroxyalkyl acrylates as required for production of the repeating units of the formula IV are required, are reacted with one another, namely with the production of copolymers, which essentially consist of recurring units of the formulas I and IV. Then the free hydroxyl groups of the repeating units of the formula IV are esterified using a suitable carboxylic acid and a quinonediazidic acid with the formation of recurring units of the formulas II and III. On the other hand, carboxylic acids can and / or quinonediazidic acids are also reacted with the alkyl acrylates and hydroxyalkyl acrylates when the copolymerization he follows. ·

Die Verhältnisse der verschiedenen wiederkehrenden Einheiten im End-Copolymeren"lassen sich durch Verwendung entsprechender Mengen an Reaktionskomponenten während der Copolymerisation erreichen.The ratios of the various repeating units in the final "copolymer" can be determined by using appropriate amounts of reaction components during the copolymerization.

Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, die lichtempfindlichen Copolymere ausgehend von Copolymerisaten aus Hydroxyäthylmethacrylat und Methylmethacrylat herzustellen, da diese beiden Monomeren einander sehr ähnliche Polymerisationsgeschwindigkeiten aufweisen. Dies bedeutet, daß Copolymere aus Hydroxyäthylmethacrylat und Methylmethacrylat besonders leicht herzustellen sind, da bei der Herstellung von Copolymeren aus Hydroxyäthylmethacrylat und Methylmethacrylat leicht Polymerisate erhalten werden, in denen das Verhältnis von wiederkehrenden Hydroxyäthylmethacrylateinheiten zu Methylmethacrylateinheiten im Verhältnis zu den Konzentrationen der Ausgangsmonomeren bei der Polymerisationsreaktion steht.It has proven to be particularly advantageous to use the light-sensitive Copolymers based on copolymers of hydroxyethyl methacrylate and methyl methacrylate, since these two monomers have very similar polymerization rates exhibit. This means that copolymers of hydroxyethyl methacrylate and methyl methacrylate are particularly easy to prepare, as in the preparation of copolymers from hydroxyethyl methacrylate and methyl methacrylate polymers are easily obtained in which the ratio of repeating hydroxyethyl methacrylate units to methyl methacrylate units in relation to the concentrations of the starting monomers in the polymerization reaction.

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Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung von strahlungsempfindlichen Copolyiaeren mit einem Molekül ar gewi ent von 5000 bis 20000 erwiesen, obgleich auch solche mit geringerem und grösserem Molekulargewicht verwendet werden können.The use of radiation-sensitive devices has proven to be particularly advantageous Copolymers with a molecular weight of 5000 up to 20,000, although there are also some with lesser and greater Molecular weight can be used.

Sofern nicht anderweitig angegeben, werden hier die Molekulargewichte der Copolymeren angegeben als die Polystyroläquivalenten durchschnittlichen Molekulargewichtsζahlen (polystyrene equivalent number average molecular weights), bestimmt nacn der Gel-Permeations- Chromatographie, wie sie z.B. beschrieben wird in dem Buch von H. Determann, "Gel-Chromatography", 2. Ausgabe, Springer-Verlag, N.Y. , 1969 und in der Zeitschrift "Journal of Polymer Science", .Teil A-2,Bd.6 (1968, Seiten 1567 - 1579.Unless otherwise indicated, molecular weights are used here of copolymers reported as the polystyrene equivalents average molecular weight numbers (polystyrene equivalent number average molecular weights), determined using gel permeation chromatography, as described, for example, in the book by H. Determann, "Gel-Chromatography", 2nd edition, Springer-Verlag, N.Y. , 1969 and in the journal "Journal of Polymer Science", Part A-2, Vol. 6 (1968, pp. 1567-1579.

Es ist bekannt, daß die Molekulargewichte und Inherent-Viskositäten von Polymeren in. solcher Beziehung zueinander stehen, daß Polymere sowohl durch ihr Molekulargewicht·als auch' ihre Inherent-Viskosität gekennzeichnet tverden können.It is known that the molecular weights and inherent viscosities of polymers are related to one another in such a way that polymers both by their molecular weight and their inherent viscosity marked.

Als besonders vorteilhaft hat sich die Verwendung solcher strahlungsempfindlicher Copolymerer erwiesen, deren Inherent-Viskosität bei 0,05 bis 0,25 liegt, wobei die Inherent-Viskosität - sofern nichts anderes angegeben wird - bestimmt wird unter Verwendung von einem Gram Copolymer pro dl 1,2-Dichloräthan bei 25 C, z.B. nach der in der Zeitschrift "Journal of Colloid Science", Band 1 (1946), Seiten 261 - 269 von H. CPJ\.GC angegebenen Methode.The use of such radiation-sensitive copolymers whose inherent viscosity has proven to be particularly advantageous is 0.05 to 0.25, the inherent viscosity - if nothing else is stated - it is determined using one gram copolymer per dl 1,2-dichloroethane at 25 ° C, e.g. according to the method given in the journal "Journal of Colloid Science", Volume 1 (1946), pages 261-269 by H. CPJ \ .GC.

Beschichtungsmassen zur Herstellung erfindungsgemäßer Aufzeichnungsmaterialien lassen sich in üblicher bekannter Weise herstellen durch Dispergieren oder Lösen der entsprechenden Polymeren in einem Lösungsmittel oder Lösungsmittelgemisch, das mit den strahlungsempfindlichen Copolymeren nicht reagiert, wenigstens nicht innerhalb der Zeitspanne, während der das bzw. die Lösungsmittel mit den Polymeren in Kontakt stehen, wobei gilt, daß das oder die verwendeten Lösungsmittel auch nicht zerstörend auf den Schichtträger einwirken sollen, der zur Herstellung der Aufzeichnungs-Coating compositions for the production of recording materials according to the invention can be prepared in a conventional manner by dispersing or dissolving the corresponding polymers in a solvent or solvent mixture that is compatible with the radiation-sensitive Copolymers does not react, at least not within the period of time during which the solvent (s) are in contact with the polymers, it being understood that the solvent or solvents used also do not have a destructive effect on the substrate should act, which is necessary for the production of the recording

materiaiien verwendet wird.materiaiien is used.

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Typische Lösungsmittel, die zur Herstellung der Beschichtungs massen verwendet werden können, sind beispielsweise:Typical solvents used to make the coating Masses that can be used are, for example:

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n-Propanol; MethylathyIketon; 1,2-Äthylendichlorid; 1-Nitropropan; n-Butylacetat; Cyclohexan; Hydroxyäthylacetat; Cyclohexanon; Methylisobutylketon; Toluol;" Diacetonalkohol; Dioxan; Isobutanol; Acetonitril; 2-Äthoxyäthanol; Aceton; 4-Butyrolacton; 2-Methoxyäthylacetat; 2-Methoxyäthanol sowie Mischungen dieser Lösungsmittel. n-propanol; Methyl ethyl ketone; 1,2-ethylene dichloride; 1-nitropropane; n-butyl acetate; Cyclohexane; Hydroxyethyl acetate; Cyclohexanone; Methyl isobutyl ketone; Toluene; "diacetone alcohol; dioxane; isobutanol;" Acetonitrile; 2-ethoxyethanol; Acetone; 4-butyrolactone; 2-methoxyethyl acetate; 2-methoxyethanol and mixtures of these solvents.

Die im Einzelfalle, günstigste Konzentration an strahlungsempfindlichen Copolymeren in der Beschichtungslösung hängt von dem im Einzelfalle verwendeten strahlungsempfindlichen Copolymeren ab, wie auch von dem Schichtträger und der angewandten Beschichtungsmethode. Als besonders zweckmäßig hat es sich erwiesen, wenn die zur Beschichtung verwendeten Beschichtungslösungen etwa 1 bis 50 Gew.-I, vorzugsweise etwa 2 bis 10 Gew.-% des strahlungsempfindlichen Copolymeren enthalten. Jedoch können die Copolymeren gegebenenfalls auch in höheren Konzentrationen angewandt werden.The most favorable concentration of radiation-sensitive in individual cases Copolymers in the coating solution depend on the radiation-sensitive copolymers used in the individual case, as well as the substrate and the coating method used. It has proven to be particularly expedient if the coating solutions used for coating are about 1 to 50 Weight-I, preferably about 2 to 10% by weight of the radiation-sensitive Contain copolymers. However, the copolymers can optionally also be used in higher concentrations.

Den Beschichtungsmassen körinen des weiteren üblichen bekannte Zusätze einverleibt werden, z.B. Farbstoffe und/oder Pigmente, falls farbige Reliefbilder erhalten werden sollen mit dem Ziel, die Erkennung der Bilder zu erleichtern. Hierzu haben sich beispielsweise Alizarinfarbstoffe und Azofarbstoffe als besonders geeignet erwiesen.The coating compositions also have customary known properties Additives are incorporated, e.g. dyes and / or pigments, if colored relief images are to be obtained with the aim of to facilitate the recognition of the images. Alizarin dyes and azo dyes, for example, have proven to be particularly suitable for this purpose proven.

Des weiteren können beispielsweise solche Pigmente wie Victoria Blau (Color-Index Pigment Blau I), Palomar Blau (Color Index Pigment Blau 15) und Watchung Rot B (Color Index Pigment Rot 48) verwendet werden.Pigments such as Victoria Blue (Color Index Pigment Blue I), Palomar Blue (Color Index Pigment Blue 15) and Watchung Red B (Color Index Pigment Red 48) are used will.

Eine Methode, die eine besonders leichte Erkennung von Bildbezirken ermöglicht, besteht in der Verwendung eines Auskopiermaterials mit einem inerten Farbstoff.A method that makes it particularly easy to recognize image areas allows, consists in the use of a print-out material with an inert dye.

So erzeugt beispielsweise ein grünfarbiger inerter Farbstoff, wie z.B. Alizarin Cyanin Grün GHN Cone. (Color Index Säure Grün 25) in Kombination mit einem Azid-Auskopiermaterial, z.B. Diazido-For example, a green-colored inert dye, such as Alizarin Cyanine Green GHN Cone. (Color Index acid green 25) in combination with an azide copy material, e.g. diazido

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,stilbendisulf onsäure, Dinatriumsalz ein grünfarbiges Auskopierbild auf einem blaugrünen Hintergrund., stilbene disulphonic acid, disodium salt a green-colored copy on a blue-green background.

Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien können ganz allgemein übliche bekannte Auskopierfarbstoffe verwendet werden. Als besonders vorteilhafte Auskopierfarbstoffe haben sich jedoch Cyanin-Auskopierfarbstoffe erwiesen, wie sie beispielsweise in der US-PS 3 619 194 beschrieben werden.For the production of the recording materials according to the invention It is possible to use generally customary, known copy-out dyes. As particularly advantageous copy-out dyes however, cyanine print-out dyes such as those described in US Pat. No. 3,619,194 have been found.

Außer Farbstoffen und Pigmenten können den Beschichtungsmassen übliche andere bekannte Zusätze einverleibt werden, welche beispielsxveise dazu dienen, die Filmbildungseigenschaften der Beschichtungsmassen zu verbessern und/oder die Beschichtungseigenschaften, die Adhäsion der Beschichtungen auf den Schichtträgern, die mechanische Festigkeit, Stabilität und dergleichen.In addition to dyes and pigments, other known additives which are customary, for example, can be incorporated into the coating compositions serve to improve the film-forming properties of the coating compositions and / or the coating properties, the adhesion of the coatings to the substrate, the mechanical strength, stability and the like.

Die Entwickelbarkeit der Flachdruckplatten kann gelegentlich vermindert werden, wenn die strahlungsempfindliche Schicht während der Exponierung übermäßig erhitzt wird, was beispielsweise der Fall sein kann, wenn wiederholte Exponierungen erfolgen. Um die Entwickelbarkeit von Platten zu verbessern, welche auf höhere Temperaturen erhitzt werden, kann es vorteilhaft sein, den Beschichtungsmassen solche Zusätze, wie beispielsweise Borsäure und/oder Antioxydationsmittel, z.B. Benzotriazol, Hydrochinon und dergleichen, und/oder Polyole, z.B. L(-)-Rhamnose, Glycerin oder Mannose und/oder Carbonsäuren, z.B. Oxalsäure, Malonsäure, Sebacinsäure, Adipinsäure, Bernsteinsäure, Phthalsäure, Isophthalsäure, Citronensäure und/der Butantetracarbonsäure zuzusetzen.The developability of the planographic printing plates may occasionally be reduced if the radiation-sensitive layer is excessively heated during exposure, e.g. This can be the case if repeated exposures take place. In order to improve the developability of plates, which on higher Temperatures are heated, it can be advantageous to add additives such as boric acid to the coating compositions and / or antioxidants, e.g. benzotriazole, hydroquinone and the like, and / or polyols, e.g. L (-) - rhamnose, glycerin or mannose and / or carboxylic acids, e.g. oxalic acid, malonic acid, sebacic acid, adipic acid, succinic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Add citric acid and / of the butanetetracarboxylic acid.

Gelegentlich kann auch eine Alterung der Platte zu einer gewissen Verminderung der Entwickelbarkeit führen. Um eine solche Tendenz zu vermeiden, können den Beschichtungsmassen beispielsweise Schwermetallsalze von Carbonsäure zugesetzt werden, beispielsweise Calcium-, Magnesium-, Strontium-, Cobalt-, Mangan- und Zinksalze von Carbonsäuren, wie beispielsweise Zinksalicy.lat, Zinkacetat, Zinkpropionat, Zinkacetylacetonat, Zinkformiat und Zinkbenzoat.Occasionally, aging of the plate can also lead to a certain reduction in developability. To such a tendency To avoid, heavy metal salts, for example, can be added to the coating compounds of carboxylic acid are added, for example calcium, magnesium, strontium, cobalt, manganese and zinc salts of carboxylic acids such as zinc salicylate, zinc acetate, zinc propionate, zinc acetylacetonate, zinc formate and zinc benzoate.

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Selbstverständlich werden die beschriebenen Zusätze nur in vergleichsweise geringen Konzentrationen oder untergeordneten Konzentrationen verwendet, d»h. die Konzentration derartiger Zusätze macht in der Regel nicht mehr als 5 Gew.-I der erzeugten strahlungsempfindlichen Schicht aus.Of course, the described additions are only used in comparatively low concentrations or subordinate concentrations are used, i. e. the concentration of such Additives generally make up no more than 5% by weight of the radiation-sensitive layer produced.

der strahlungsempfindlichen Schichtenthe radiation-sensitive layers

Als besonders vorteilhaft hat es sich erwiesen, wenn zur Erzeugung/ den Beschichtungsmassen außer dem polymeren Chinondiazid zusätzlich mindestens ein anderes filmbildendes polymeres Harz oder Polymer zugesetzt wird. Dieses zusätzliche Polymer oder Polymerharz ist in typischer Weise nicht strahlungsempfindlich» obgleich auch Mischungen von strahlungsempfindlichen Polymeren oder Harzen verwendet v/erden können. Das zweite Polymer wird dabei in vorteilhafter Weise derart aus der zur Verfügung stehenden Reihe von Polymeren ausgewählt^ daß es in dem zur Herstellung der Beschichtungslösung verwendeten Lösungsmittel löslich ist. Die im Einzelfalle günstigste Konzentration an einem solchen Polymeren kann sehr verschieden sein» Als zweckmäßig hat es sich in der Regel erwiesen, dieses zweite Polymer oder harz in Konzentrationen von etwa 0,2 bis 5,0 Gew.-Teilen Harz pro Gewichtsteil polymeres Chinondiazid zu verwenden. Als besonders vorteilhaft zur Herstellung von Druckplatten hat es sich erwiesen, 0,2 bis 1,0 Gew.-Teile zweites Polymer oder harz pro Gewichtsteil polymeres Chinondiazid zu verwenden.It has proven to be particularly advantageous if for the generation / the coating compositions in addition to the polymeric quinonediazide at least one other film-forming polymeric resin or polymer is added. This additional polymer or polymer resin is typically not radiation sensitive »although it is also Mixtures of radiation-sensitive polymers or resins are used v / can ground. The second polymer is advantageously selected from the available series of Polymers selected ^ that it is used in the preparation of the coating solution solvent used is soluble. The most favorable concentration of such a polymer in the individual case can can be very different »As a rule, it has proven to be useful to use this second polymer or resin in concentrations of about 0.2 to 5.0 parts by weight of resin per part by weight of polymer Use quinonediazide. It has proven to be particularly advantageous for the production of printing plates to use 0.2 to 1.0 parts by weight to use second polymer or resin per part by weight of polymeric quinonediazide.

Besonders vorteilhafte filmbildende Polymere oder Harze, die nicht strahlungsempfindlich sind und sich zur Herstellung der strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien der Erfindung eignen, sind Phenolharze, die als Novolacke und Resolharze bekannt geworden sind und beispielsweise in Kapitel XV des Buches "Synthetic Resins in Coatings" von H.P. Preuss, Koyes Development Corporation (1965), Pearl River, New York, näher beschrieben werden. Geeignete G-Kresol-Formaldehydharze können beispielsweise nach Verfahren hergestellt werden, wie sie aus der DT-PS 281454 bekannt sind. Derartige Harze haben sich als besonders vorteilhaft erwiesen.Particularly advantageous film-forming polymers or resins that are not Are radiation-sensitive and are used to produce the radiation-sensitive Suitable recording materials of the invention are phenolic resins, which have become known as novolaks and resole resins and, for example, in Chapter XV of the book "Synthetic Resins in Coatings" by H.P. Preuss, Koyes Development Corporation (1965), Pearl River, New York. Suitable G-cresol-formaldehyde resins can, for example, by process as they are known from DT-PS 281454. Such resins have proven particularly advantageous.

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Phenolische Harze des beschriebenen Typs lassen sich durch Kondensation von Phenol mit Formaldehyd herstellen, ganz allgemein durch Reaktion einer phenolischen Verbindung mit zwei oder drei reaktionsfähigen Wasserstoffatomen in einem aromatischen Ring mit einem Aldehyd oder einer Aldehyd liefernden Verbindung, welche eine Phenol-Aldehydkondensationsreaktion einzugehen vermögen.Phenolic resins of the type described can be broken down by condensation of phenol with formaldehyde, generally by reacting one phenolic compound with two or three reactive hydrogen atoms in an aromatic ring with an aldehyde or an aldehyde-yielding compound which is capable of entering into a phenol-aldehyde condensation reaction.

Beispiele für besonders geeignete phenolische Verbindungen sind: Kresol, Xylenol, Äthylphenol, Buty!phenol, Isopropylmethoxyphenol, Chlorphenol, Resorcinol, Hydrochinon, Naphthol und 2,2-Bis(phydroxyphenyl)propan. Examples of particularly suitable phenolic compounds are: cresol, xylenol, ethylphenol, buty! Phenol, isopropylmethoxyphenol, Chlorophenol, resorcinol, hydroquinone, naphthol and 2,2-bis (phydroxyphenyl) propane.

Beispiele für besonders geeignete Aldehyde sind Formaldehyd, Acetaldehyd, Acrolein, Crotonaldehyd und Furfural, tin Beispiel für eine einen Aldehyd in Freiheit setzende Verbindung ist das 1,3,5-Trioxan, Auch sind Ketone und Aceton zur Kondensation mit den phenolischen Verbindungen geeignet.Examples of particularly suitable aldehydes are formaldehyde, acetaldehyde, Acrolein, crotonaldehyde and furfural, tin example of a compound that releases an aldehyde is 1,3,5-trioxane, Ketones and acetone are also suitable for condensation with the phenolic compounds.

Die besonders geeigneten phenolischen Harze sind solche, die in Wasser und Trichloräthylen unlöslich sind, sich jedoch leicht in üblichen organischen Lösungsmitteln, wie z.B. MethyläthyIketon, Aceton, Methanol und Äthanol lösa*. Phenolharze mit einer besonders vorteilhaften Kombination von Eigenschaften sind solche, die ein durchschnittliches Molekulargewicht von etwa 350 bis 40000 aufweisen.The particularly suitable phenolic resins are those which are insoluble in water and trichlorethylene, but easily dissolve in common organic solvents such as methyl ethyl ketone, Acetone, methanol and ethanol solu *. Phenolic resins with a Particularly advantageous combination of properties are those that have an average molecular weight of about 350 to Have 40,000.

Andere geeignete filmbildende Harze sind beispielsweise solche aus chlorinierten Biphenylen, modifiziertes Kolophonium, Copolymere aus Maleinsäureanhydrid mit Styrol oder Vinylmethylather, Vinylidenchlorid-Acrylnitrilcopolymere, Terpolymere aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril mit Acrylsäure oder Itaconsäure, PoIyacrylsäuren, Methylmethacrylat-Methacrylsäurecopolymere, Celluloseester, z.B. Celluloseacetatstearat und dergleichen.Other suitable film-forming resins are, for example, those made from chlorinated biphenyls, modified rosin, copolymers from maleic anhydride with styrene or vinyl methyl ether, Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymers, terpolymers of vinylidene chloride and acrylonitrile with acrylic acid or itaconic acid, polyacrylic acids, Methyl methacrylate-methacrylic acid copolymers, cellulose esters, e.g., cellulose acetate stearate and the like.

Strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien lassen sich nachRadiation-sensitive recording materials can be used

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üblichen bekannten Methoden herstellen durch Auftragen der strahlungsempfindlichen Polymeren aus Lösungsmitteln oder Lösungsmittelgemischen auf Schichtträger beispielsweise durch Sprühbeschichtung, durch Tauchbeschichtung, durch Wirbelbeschichtung oder durch Beschichtungsmittelauftragswalzen.Manufacture conventional known methods by applying the radiation-sensitive Polymers from solvents or solvent mixtures on a substrate, for example by spray coating, by dip coating, by whirl coating or by coating agent application rollers.

Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien können die üblichen bekannten Schichtträger verwendet werden, z.B. Schichtträger aus Papier oder mit Polyäthylen oder Polypropylen beschichtetem Papier, Schichtträger aus Pergament oder auch aus Tuch, Schichtträger aus Folien aus Metallen, wie beispielsweise Aluminium, Kupfer, Magnesium und Zink, schließlich Schichtträger aus Glas und mit Metallen beschichtetem Glas, z.B. mit Chrom, Chromlegierungen,, Stahl, Silber, Gold und Platin beschichtetem Glas* ferner Schichtträger aus üblichen synthetischen Polymeren, z.B. Poly(alkylmethacrylaten), z.B. Poly(methy!methacrylate Schichtträgern aus Polyesterfolien,, z.B. aus Polyäthylenterephthalat, ferner aus Polyvinylacetalen, Polyamiden, z.B. vom Nylontyp. Des weiteren können die Schichtträger beispielweise bestehen aus Folien aus Celluloseestern, z.B. Cellulosenitrat, Celluloseacetat, Celluloseacetatpropionat und Celluloseacetatbutyrat. For the production of the recording materials according to the invention The usual known supports can be used, e.g. supports made of paper or with polyethylene or polypropylene coated paper, layer support made of parchment or cloth, layer support made of foils made of metals, such as Aluminum, copper, magnesium and zinc, finally substrates made of glass and glass coated with metals, e.g. Coated with chrome, chrome alloys, steel, silver, gold and platinum Glass * also supports made of conventional synthetic polymers, e.g. poly (alkyl methacrylates), e.g. poly (methy! Methacrylate) Substrates made of polyester foils, e.g. made of polyethylene terephthalate, also made of polyvinyl acetals, polyamides, e.g. of the nylon type. Furthermore, the layer supports can, for example consist of films made of cellulose esters, e.g. cellulose nitrate, cellulose acetate, cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate.

Besonders vorteilhafte typische Schichtträger für strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien nach der Erfindung sind solche"aus Zink, anodisiertem Aluminium, aufgerauhtem oder gekörntem Aluminium, Kupfer und in besonderer Weise hergestellte übliche Metall- und Papierschichtträger, Schichtträger aus oberflächlich hydrolysieren Celluloseesterfolien, ferner Schichtträger aus Polymeren, wie beispielsweise Polyolefinen, Polyestern und Polyamiden.Particularly advantageous typical layer supports for radiation-sensitive Recording materials according to the invention are those "made of zinc, anodized aluminum, roughened or grained Aluminum, copper and customary metal and paper layers produced in a special way, layer carriers made of superficial hydrolyze cellulose ester films, as well as polymer layers such as polyolefins and polyesters and polyamides.

In vorteilhafter Weise können die. Schichtträger sogenannte Haftschichten oder Haft vermittelnde Schichten aufweisen, z.B. solche aus Polymeren, Copolymeren und Terpolymeren des Vinylidenchlorides mit Acrylmonomeren, .z.B.. Acrylonitril und Methylacrylat und unge-Advantageously, the. So-called adhesive layers or have adhesion-promoting layers, for example those made from polymers, copolymers and terpolymers of vinylidene chloride with acrylic monomers, e.g. acrylonitrile and methyl acrylate and un-

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Sättigten Dicarbonsäuren, z.B. Itaconsäure, wie auch ferner aus Carboxymethylcellulose und Polyacrylamiden sowie anderen Polymeren. Saturated dicarboxylic acids, e.g. itaconic acid, as well as further from Carboxymethyl cellulose and polyacrylamides and other polymers.

In vorteilhafter Weise kann der Schichtträger des weiteren gegebenenfalls eine sogenannte Filter- oder Lichthofschutzschicht aus einem gefärbten Polymeren aufweisen, welche die zur ExponierungIn an advantageous manner, the layer support can furthermore optionally have a so-called filter or antihalation layer made of a colored polymer, which is used for exposure

diethe

verwendete Strahlung absorbiert, nachdem sie/strahlungsempfindliche Schicht passiert hat, wobei derartige Schichten eine unerwünschte Reflexion vom Schichtträger vermeiden. Eine Schicht aus einem gelben Farbstoff in einem polymeren Bindemittel, das z.B. aus einem der erwähnten Polymeren bestehen kann, das zur Herstellung einer Haftschicht verwendet werden kann, stellt beispielsweise eine besonders wirksamhafte Lichthofschutzschicht dar, wenn zur Belichtung der strahlungsempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien ultraviolettes Licht verwendet wird.used radiation after being absorbed / sensitive to radiation Layer has passed, such layers avoid unwanted reflection from the substrate. One layer off a yellow dye in a polymeric binder, which can consist, for example, of one of the polymers mentioned, which is used for production An adhesive layer can be used, for example, is a particularly effective antihalation layer if for exposing the radiation-sensitive recording materials ultraviolet light is used.

Die strahlungsempfindlichen Schichten können in üblichen bekannten Schichtstärken aufgetragen werden, wobei die im Einzelfalle günstigste Schichtstärke von verschiedenen Faktoren abhängen kann, z.B. den Verwendungszweck der Schicht, dem im Einzelfalle verwendeten strahlungsempfindlichen Polymeren und der Natur anderer Komponenten, die in der strahlungsempfindlichen Schicht vorhanden ■ sein kann. In typischer Weise können die strahlungsempfindlichen Schulten beispielsweise eine Schichtstärke von etwa 0,000127 bis 0,00762 mm oder darüber haben, wobei sich im Falle von Druckplatten besonders Schichtstärken von etwa 0,000635 bis etwa 0,00254 mm als besonders vorteilhaft erwiesen haben.The radiation-sensitive layers can be conventionally known Layer thicknesses are applied, whereby the most favorable layer thickness in individual cases can depend on various factors, E.g. the purpose of the layer, the one used in the individual case radiation-sensitive polymers and the nature of other components present in the radiation-sensitive layer ■ can be. Typically, the radiation-sensitive Schulten, for example, have a layer thickness of about 0.000127 to 0.00762 mm or more, which in the case of printing plates particularly layer thicknesses of about 0.000635 to about 0.00254 mm have proven particularly advantageous.

Nach dem Auftragen der lichtempfindlichen Schicht werden die beschichteten Schichtträger getrocknet, gegebenenfalls bei erhöhter Temperatur zum Zwecke der Entfernung noch vorhandenen Lösungsmittels. After the photosensitive layer has been applied, the coated Layer support dried, optionally at an elevated temperature for the purpose of removing any solvent still present.

Die erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterialien können nach üblichen bekannten Verfahren belichtet werden, z.B. durch ein trans- ' The recording materials according to the invention can be exposed by customary known processes, for example by a trans- '

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parentes Negativ oder. Diapositiv,und zwar mittels einer Lichtquelle, die -aktinische. Strahlung ausstrahlt, vorzugsweise eine an ultraviolettem Licht reiche Strahlung. Als Lichtquellen können beispielsweise Kohlebogenlampen verwendet werdens ferner Quecksilberdampflampen , fluoreszierendes Licht ausstrahlende Lampen, Wolframfadenlampen oder auch Laserstrahler.parent negative or. Slide, using a light source, the actinic one. Emits radiation, preferably radiation rich in ultraviolet light. As light sources, for example, carbon arc lamps s can be further used mercury vapor lamps, fluorescent light-emitting lamps, tungsten filament lamps or laser emitter.

Die belichteten Aufzeichnungsmaterialien können dann in üblicher bekannter Weise entwickelt werden, und zwar beispielsweise durch Überfließenlassen, Eintauchen oder Abschwabbern mit einem Lösungsmittel oder Lcaingsmittelgemiscn, welches eine unterschiedliche Lösungskraft auf die exponierten und nicht-exponierten Bezirke ausübt.The exposed recording materials can then be used in a conventional manner can be developed in a known manner, for example by flowing over, dipping or wiping with a solvent or Lcaingsmittelgemiscn, which a different Exercise solving power on the exposed and non-exposed areas.

In vorteilhafter Weise werden als Lösungsmittel zur Entwicklung der belichteten Schichten alkalische Lösungen verwendet, z.B. wäßrige alkalische Lösungen, die gegebenenfalls einen oder mehrere kurzkettige Alkohole und/oder Ketone enthalten können. Die im Einzelfalle günstigste Alkalinität der Entwicklungslösungen hängt dabei von dem im Einzelfalle verwendeten polymeren Chinondiazid, von den gegebenenfalls vorhandenen anderen Harzen und Polymeren, sowie gegebenenfalls dem Verhältnis der verschiedenen Komponenten der lichtempfindlicnen Schichten zueinander ab.Advantageously used as a solvent for development of the exposed layers used alkaline solutions, for example aqueous alkaline solutions, which optionally contain one or more may contain short-chain alcohols and / or ketones. The most favorable alkalinity of the developing solutions in each individual case depends of the polymeric quinonediazide used in the individual case, of any other resins and polymers that may be present, as well as, where appropriate, the ratio of the various components of the light-sensitive layers from one another.

Die zur Entwicklung verwendeten Entwicklungslösungen können gegebenenfalls Farbstoffe und/oder Pigmente und/oder Härtungsmittel enthalten.The development solutions used for development can optionally Contain dyes and / or pigments and / or hardeners.

Nach Einwirkenlassen der Entwicklungslösung kann das entwickelte Bild abgespült werden, z.B. mit destilliertem Wasser, worauf es getrocknet wird, gegebenenfalls bei erhöhten Temperaturen.After allowing the developing solution to take effect, the developed image can be rinsed off, e.g. with distilled water, whereupon it is dried, optionally at elevated temperatures.

Die auf diese Weise erhaltenen Bilder können dann in üblicher bekannter Weise nachbehandelt werden, entsprechend ihrem Verwen-The images obtained in this way can then be used in the usual are post-treated in a known manner, according to their use

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dungszweck, z.B. mittels desensibilisierend wirkenden Ätzlösungen, einem Plattenlack, im Falle der Verwendung einer Druckplatte und mit einem sauren oder basischen Ätzmittel oder Plattierungsbad im Falle der Verwendung eines Resists.purpose, e.g. by means of desensitizing etching solutions, a plate varnish, in the case of using a printing plate and with an acidic or basic etchant or plating bath in the case of using a resist.

Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen. The following examples are intended to illustrate the invention in more detail.

BeispieleExamples

Eine Lösung aus einem Monomeren zur Erzeugung von wiederkehrenden Einheiten der Formel I, in diesem Falle Methylmethacrylat, und eine Lösung eines Monomeren zur Erzeugung wiederkehrender Einheiten der Formel IV, im vorliegenden Falle 2-Hydroxyäthylmetliacrylat sowie 2,2f-Azobis(2-methylpropionitril) als Polymerisationsinitiator in einem Monomer-Lösungsmittel wurden zu einem Reaktionslösungsmittel hinzugegeben, das unter einer Sticks toffatmosphäre auf Rückflußtemperatur erhitzt worden war» Die Mischung wurde dann unter einer Stickstoffdecke auf Rückflußtemperatur erhitzt.A solution of a monomer to produce recurring units of the formula I, in this case methyl methacrylate, and a solution of a monomer to produce recurring units of the formula IV, in the present case 2-hydroxyethyl methyl acrylate and 2,2 f -azobis (2-methylpropionitrile) polymerization initiator in a monomer solvent were added to a reaction solvent which had been refluxed under a nitrogen atmosphere. The mixture was then refluxed under a nitrogen blanket.

Das auf diese Weise erzeugte Copolymer war nicht strahlungsempfindlich, da es keine wiederkehrenden Einheiten der Formeln II und III aufwies.The copolymer produced in this way was not sensitive to radiation, because it had no repeating units of formulas II and III.

In mehreren Versuchen wurden mehrere verschiedene Copolymere aus Einheiten der Formeln I und IV hergestellt. Diese Copolynteren werden im folgenden als Ausgangscopolymere bezeichnet.In several attempts several different copolymers were made Units of formulas I and IV are produced. These copolymers are referred to below as starting copolymers.

Die Herstellungsbedingungen für die verschiedenen Ausgangscopolymeren sind in der folgenden Tabelle I zusammengestellt.The manufacturing conditions for the various starting copolymers are compiled in Table I below.

In der folgenden Tabelle steht DCÄ für 1,2-Dichloräthan und MÄK für Methyläthylketon.In the following table, DCÄ stands for 1,2-dichloroethane and MÄK for methyl ethyl ketone.

Das Ausgangscopolymer G wurde unter Verwendung von 2-Hydroxyäthy1-The starting copolymer G was made using 2-Hydroxyäthy1-

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tete

acrylat anstelle von 2-Hydroxyäthylmethacrylat hergestellt.acrylate produced instead of 2-hydroxyethyl methacrylate.

Im Falle der Tabelle I, in welcher die einzelnen Monomeren und Reactionslösungsmittel nicht aufgeführt werden, wurden alle Stoffe zusammengegeben» bevor sie erhitzt wurden.In the case of Table I, in which the individual monomers and Reaction solvents are not listed, all substances were put together »before they were heated.

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Tabelle ITable I.

Ausgangsco
polymer
Output co
polymer
Ausgangs-Mono
mere in g
cn civ)
Output mono
mers in g
cn civ)
162,5162.5 Initiator in gInitiator in g
AA. 275275 130130 8,48.4 BB. 300300 542542 4,24.2 CC. 14581458 10411041 2020th DD. 28032803 5050 : 57,8: 57.8 EE. 175175 86,786.7 .2,25.2.25 FF. 333333 4,24.2

Monomer-Lösungsmittel Brhitzungsdauer in Reaktions-Lösungsmittel StundenMonomer-solvent heating time in reaction solvent hours

H I J KH I J K

100100

23,2"23.2 "

170,2170.2 40,540.5 162,7162.7 33,833.8 400,5400.5 67,667.6 500,6500.6 67,667.6

1,21.2

2,092.09

1,961.96

9,319.31

11,31 DCÄ-33O ml
DCÄ-16 7O ml
11.31 DCE-330 ml
DCÄ-16 70 ml

DCÄ-330 ml
DCÄ-16 80 ml
DCÄ-330 ml
DCÄ-16 80 ml

MÄK-3000 g
MÄK-3000 g
MÄK-3000 g
MÄK-3000 g

.MÄK-11,5 34 ml.MÄK-11.5 34 ml

N.A.N / A.

DCÄ-1015 mlDCÄ-1015 ml

I)CA-333 ml
DCÄ-16 70 ml
I) CA-333 ml
DCÄ-16 70 ml

DCÄ-100 ml
DCÄ-500 ml
DCÄ-100 ml
DCÄ-500 ml

MÄK-790 ml
MÄK-735 ml
MAK-1745 ml
MÄK-2125 ml
MÄK-790 ml
MÄK-735 ml
MAK-1745 ml
MÄK-2 125 ml

2o 16 162o 16 16

N.A.N / A.

17 1617 16

1818th

18 18 18 1818 18 18 18

2-Hydroxyäthylacrylat2-hydroxyethyl acrylate

Die AusgangscopοIymereη können in üblicher bekannter tteise durch Zusatz eines Nichtlösungsmittels, Waschen und Trocknen isoliert werden. The starting copolymers can be isolated in a conventional manner by adding a nonsolvent, washing and drying.

Wie sich aus der folgenden Tabelle II ergibt, hat es sich in den meisten Fällen als vorteilhaft erwiesen, das zur Veresterung der Aus gangscopolymeren verwendete Säurechlorid der Reaktionsmischung zuzugeben, welche bei der Herstellung der Ausgangscopolymeren anfällt, wobei der Reaktionsmischung in vorteilhafter Weise so viel Triäthylamin zugesetzt wird, wie zur Neutralisation der Chlorwasserstoffsäure erforderlich ist, welche als Nebenprodukt bei der Veresterungsreaktion anfällt.As can be seen from the following Table II, it has proven to be advantageous in most cases to esterify the Acid chloride used in the reaction mixture from common copolymers to add, which is obtained in the production of the starting copolymers, as much triethylamine as is used to neutralize the hydrochloric acid is advantageously added to the reaction mixture is required, which is obtained as a by-product in the esterification reaction.

Ein strahlungsempfindliches Säurechlorid und ein Säurechlorid, das nicht strahlungsempfindlich ist, werden in aufeinanderfolgenden Verfahrensstufen eingeführt.A radiation-sensitive acid chloride and an acid chloride that is not sensitive to radiation, be in consecutive Process stages introduced.

Im vorliegenden Falle bestand das strahlungsempfindliche Säurechlorid aus 1,Z-Naphthochinon-Z-diazid-S-sulfonylchlorid, wohingegen das nicht-strahlungsempfindliche Säurechlorid aus Benzoylchlorid bestand.In the present case, the radiation-sensitive acid chloride existed from 1, Z-naphthoquinone-Z-diazide-S-sulfonyl chloride, whereas the non-radiation-sensitive acid chloride from benzoyl chloride duration.

Die erste Stufe der Veresterungsreaktion, während welcher lediglich das strahlungsempfindliche Säurechlorid vorhanden war, erfolgte unter Rühren bis zur vollständigen Umsetzung. Dann wurde das nichtstrahlungsempfindliche Säurechlorid zugegeben, wobei das Rühren fortgesetzt wurde, bis die Veresterungsreaktion beendet war. Die Reaktionsmischung wurde dann auf Raumtemperatur gebracht, worauf das angefallene Triäthylaminhydrochlorid durch Abfiltrieren entfernt wurde. Daraufhin würde das strahlungsempfindliche Copolymer aus dem Filtrat durch Zusatz eines Nicht-Lösungsrdttels ausgefällt, abfiltriert, gewaschen und getrocknet.The first stage of the esterification reaction, during which only the radiation-sensitive acid chloride was present, was carried out with stirring until the reaction was complete. Then the non-radiation sensitive Acid chloride was added, stirring continued until the esterification reaction was complete. the The reaction mixture was then brought to room temperature, whereupon the resulting triethylamine hydrochloride was removed by filtration became. The radiation-sensitive copolymer would then precipitated from the filtrate by adding a non-solvent, filtered off, washed and dried.

In der beschriebenen Weise wurden mehrere Copolymere hergestellt, wobei die einzelnen Herstellungsbedingungen in der folgenden Tabelle II aufgeführt sind.Several copolymers were prepared in the manner described, The individual production conditions are listed in Table II below.

40 9 828/0 7 8840 9 828/0 7 88

Ausgangs copolym.er,Starting copolym.er, Gesamte Reakti-Total reactivity Lösungsmittelsolvent ReaktionsmischungReaction mixture Wasser 15,2 1Water 15.2 1 TabeTab lie IIlie II Reaktions dauerResponse time Stufestep Strahlungs-Radiation II. verwendete Mengeamount used onsmis'ehJungonsmis'ehJung zur Isolierungfor isolation 1538 g der Reak-1538 g of the react Triäthyl-Triethyl Verhältnis vonratio of ZeitTime Stufestep empfindlisensitive inin Gesamte ReaktiTotal Reacti des lichtempof the light temp tionsmischungtion mix IsopropylalkoholIsopropyl alcohol amin (g)amine (g) lichtempfindphotosensitive 1,1, ches Copolyches copoly IIII onsmischungonmixture findlichen Polysensitive poly Gesamte ReakEntire reac 10 110 1 lichem Säure-acidic 2.2. mermer 7850 g der7850 g the meren in Liternmers in liters tionsmischungtion mix IsopropylalkoholIsopropyl alcohol chlorid zu nicht-chloride to non- IIIIII Gesamte ReakEntire reac 17 117 1 empfindlichemsensitive Std.+5 CHrs. + 5 C A:A: IsopropylalkoholIsopropyl alcohol tionsmischungtion mix IsopropylalkoholIsopropyl alcohol Säurechlorid in gAcid chloride in g 44th Std.+50CHrs. + 5 0 C IVIV 17 117 1 80 g der Reak80 g of the reac 6 16 1 150150 301/17,5301 / 17.5 1616 Std,+5 CHrs, + 5 C B:B: IsopropylalkoholIsopropyl alcohol tionsmischungtion mix DestilliertesDistilled 44th Std.+20CHrs. + 2 0 C VV 17 117 1 819,3 der Reak-819.3 of the react Wasser 9 I Water 9 I. 120120 241/14,0241 / 14.0 1616 C:C: Wasser 87 1Water 87 1 tionsmischungtion mix . Destilliertes. Distilled 1616 Std.+50CHrs. + 5 0 C VIVI 756,7 g der Reak756.7 g of the reac Wasser 9 1Water 9 1 23 823 8 527/-527 / - •Std,+50C• hours, + 5 ° C D:D: tionsmischungtion mix DestilliertesDistilled 1616 Std. O0CHrs. O 0 C VIIVII epep 1852 g der Reak1852 g the reac Wasser 13 1Water 13 1 5151 129/33,6129 / 33.6 44th Std. O0CHrs. O 0 C OOOO E:E: tionsmischungtion mix DestilliertesDistilled 44th C·*. J * r Or*
OtO« +3n^
C *. J * r Or *
OtO " + 3 n ^
VIIIVIII
OOOO 2257 g der Reac2257 g of the Reac Wasser 13 1Water 13 1 46,646.6 92,8/5,492.8 / 5.4 1616 Std,+50CHrs, + 5 0 C F:Q: ti ons mis chungmeasurement 44th Std. O0CHrs. O 0 C • IX• IX ÖÖ 8181 161/9,3161 / 9.3 1616 Std,+50CHrs, + 5 0 C cx>cx> G;G; 44th ,5 Std,+70C, 5 hours, + 7 0 C XX OOOO 14,114.1 31,4/2,031.4 / 2.0 1616 Std.+70CHrs. + 7 0 C H:H: 15,15, ,5 Std,+ 70C, 5 hours, + 7 0 C XIXI 24,524.5 54,9/2,654.9 / 2.6 55 ,5 Std,+70C, 5 hours, + 7 0 C I;I; 15,15, Std,+60CHrs, + 6 0 C 27,227.2 59,1/3,4559.1 / 3.45 5,5, J;J; 1616 Std.+70C ·Hrs. + 7 0 C 55,155.1 1 33/-1 33 / - K;K; 1616 55,255.2 133/-133 / -

Die Augbeuten, Inherent-Viskositäten und Molekulargewichte für einige der hier gestellten strahlungsempfindlichen Copolymeren sind in der folgenden Tabelle III zusammengestellt.The yields, inherent viscosities and molecular weights for some of the radiation-sensitive copolymers presented here are compiled in the following Table III.

Die Molekulargewichte und Inherent-Viskositäten wurden in der bereits beschriebenen Weise ermittelt, sofern nichts anderes angegeben ist. Wie sich aus den Daten der Tabelle ergibt, liegen die Molekulargewichte und Inherent-Viskositäten sämtlicher der aufgeführten strahlungsempfindlichen Copolymeren innerhalb der als bevorzugt angegebenen Bereiche.The molecular weights and inherent viscosities have been reported in the as described, unless otherwise stated. As can be seen from the data in the table, the Molecular weights and inherent viscosities of all of the radiation-sensitive copolymers listed within the range as preferred specified areas.

TabelleTabel IIIIII Ausbeute
in g
yield
in g
Strahlungsempfind
liches Copolymer
Radiation Sensitivity
Lich copolymer
Inherent-
Vis kositat
Inherent
Viscosity
Molekular
gewicht
Molecular
weight
543543
II. 0,130.13 ++ 53705370 IIII 0,140.14 ++ 19251925 IIIIII 0,160.16 523523 IVIV 0,110.11 91009100 255255 VV 0,200.20 2670026700 508508 VIVI 0,200.20 ++ 575,3575.3 χ"χ " 0,160.16 71007100 669,1669.1 XIXI 0,100.10 83008300

+ nicht bestimmt+ not determined

Die Verhältnisse der wiederkehrenden Einheiten zueinander sind in Mol-! in der folgenden Tabelle IV aufgeführt. Die wiederkehrenden Einheiten werden dabei als wiederkehrende Einheiten (I), (II), (III) und (IV) bezeichnet, und zwar in Übereinstimmung mit den früher angegebenen allgemeinen Formeln. In der folgenden Tabelle IV ist auch das Copolymer XII aufgeführt. Dies Copolymer wurde wie die anderen Copolymeren hergestellt. Es unterscheidet sich von den anderen Copolymeren lediglich in den Konzentrationsverhältnissen der wiederkehrenden Einheiten. The ratios of the recurring units to one another are in mol! listed in Table IV below. The recurring Units are used as recurring units (I), (II), (III) and (IV), in accordance with the general formulas given earlier. In the following table IV, the copolymer XII is also listed. This copolymer was made like the other copolymers. It makes a difference differs from the other copolymers only in the concentration ratios of the repeating units.

4 09828/07884 09828/0788

Tabelle IVTable IV

Strahlungs-
empfindli
ches Copoly
mer
Radiation
sensitive
ches copoly
mer
Wiederkehrende
CD (Π)
Recurring
CD (Π)
4545 Einheiten -
(III)
Units -
(III)
Mol-%
CIV)
Mol%
CIV)
Entwickelbar-
keit
Developable-
speed
gut
gut
Well
Well
DruckverhaltenPressure behavior Abriebeigen
schaften
Abrasives
societies
XIIXII 5050 2828 55 schlechtbad gut
gut
gut
Well
Well
Well
verschmiertsmeared - + +- + +
II. 68,868.8 22,522.5 3,13.1 0,10.1 ππ gutWell ttdd schlechtbad IIII 7575 10,610.6 2,52.5 -- mäßigmoderate schlechtbad geringes Ver
schmieren
low ver
lubricate
mäßigmoderate
IIIIII 77,877.8 12,1
16,3
12.1
16.3
-- 11,611.6 ItIt schlechtbad verschmiertsmeared gutWell
2860728607 IV
V
IV
V.
77,8
81,8
77.8
81.8
15
15,0+
10
15th
15.0+
10
6,1
1,9
6.1
1.9
4,C4, C kein Verschmie
ren
kein Verschmie
ren
no smear
ren
no smear
ren
Il
tt
Il
dd
8/07888/0788 VI
VII
VIII
VI
VII
VIII
83,3
83,3
85
83.3
83.3
85
12,112.1 1,7
1,7+
1
1.7
1.7+
1
44th kein Verschmie
ren
kein Verschmie
ren
kein Verschmie
ren
no smear
ren
no smear
ren
no smear
ren
tt
Cf
Il
Il
dd
Cf
Il
Il
IXIX 86,386.3 1111 1.31.3 0,30.3 kein Verschmie
ren
no smear
ren
1111
XX ' 89'89 99 -- -- kein Verschmie
ren
no smear
ren
ItIt
XIXI 9191 -- -- kein Verschmie
ren
no smear
ren
ttdd

+ Hergestellt unter Verwendung von 2-Hydroxyäthylacrylat nicht untersucht+ Made using 2-hydroxyethyl acrylate not examined

OOOO

Die in der Tabelle IV aufgeführten strahlungsempfindlichen Copolymeren wurden in der im folgenden beschriebenen Weise zu Flachdruckplatten· verarbeitet: .The radiation-sensitive copolymers listed in Table IV were made into planographic printing plates in the manner described below:.

Ausgehend von den in Tabelle IV aufgeführten Copolymeren wurden strahlungsempfindliche Beschichtungsmassen durch Vermischen der in der folgenden Tabelle V aufgeführten bestandteile hergestellt, wobei die einzelnen Beschichtungsmassen sich nur durch das im Einzelfalle verwendete strahlungsempfindliche Copolymer unterschieden.Starting from the copolymers listed in Table IV, radiation-sensitive coating compositions were prepared by mixing the The components listed in Table V below are produced, the individual coating compositions only differing in each individual case used radiation-sensitive copolymer differentiated.

Tabelle VTable V

Strahlungsempfindliches Copolymer 6,0 gRadiation sensitive copolymer 6.0 g

Kresol-Formaldehydharz. (Alnovol 429 K) 3,0 gCresol-formaldehyde resin. (Alnovol 429 K) 3.0 g

Alizarin-Cyanin Grün (GUN Konz.) .0,3 gAlizarin-Cyanine Green (GUN Conc.). 0.3 g

2-Methoxyäthanol -34,0 ml2-methoxyethanol -34.0 ml

2-Methoxyäthylacetat 34,0 ml2-methoxyethyl acetate 34.0 ml

ilethyläthylketon 2 7,0 mlethyl ethyl ketone 2 7.0 ml

1,2-Dichloräthan 42,0ml1,2-dichloroethane 42.0 ml

Diacetonalkohol ' 4,0 mlDiacetone alcohol '4.0 ml

Die strahlungsempfindlichen Copolymeren und die hieraus hergestellten Druckplatten erwiesen sich als unempfindlich gegenüber gelbem Licht und Licht von längeren Wellenlängen. Infqlge-dessen konnten die Copolymeren und Platten, sofern nichts anderes angegeben wird, bei gelbem Licht verarbeitet werden.The radiation-sensitive copolymers and those produced from them Printing plates were found to be insensitive to yellow light and light of longer wavelengths. Infqlge-of that could the copolymers and sheets, unless otherwise specified, are processed in yellow light.

Die Herstellung der Aufzeichnungsmaterialien erfolgte dadurch, daß die einzelnen Beschichtungsmassen nach dem Wirbelbeschichtungsverfahren auf aufgerauhte, mit Phosphorsäure anodisierte Aluminiumschichtträger mit einer PoIyacrylamidhaftschicht aufgetragen wurden, Nach ihrer Herstellung wurden die einzelnen Platten 20 Stunden lang bei 6O0C inkubiert, um dadurch die Effekte zu simulieren, die in der Praxis beim Aufbewahren der Druckplatten auftreten.The manufacture of the recording materials was carried out characterized in that the individual coating compositions according to the spin coating method on roughened, anodized with phosphoric acid aluminum substrate were coated with a PoIyacrylamidhaftschicht, after its preparation, the individual plates were incubated at 6O 0 C for 20 hours to thereby simulate the effects, which occur in practice when storing the printing plates.

Daraufhin wurden die Druckplatten bildweise einem transparenten Diapositiv 4 Minuten lang exponiert, und zwar unter Verwendung einer Kohlebogenlampe mit 215 28 Ix. Die Platten wurden dann durch Abschwabbern mit einer wässrig alkalischen Lösung der in der folgenden Tabelle VI angegebenen Zusammensetzung entwickelt.The printing plates then became imagewise transparent Slide exposed for 4 minutes using a carbon arc lamp with 215 28 Ix. The panels were then wiped off developed with an aqueous alkaline solution of the composition given in Table VI below.

0 9 828/07880 9 828/0788

Tabelle VI T able VI

Triethanolamin 10 mlTriethanolamine 10 ml

Isopropylalkohol 30 mlIsopropyl alcohol 30 ml

Natriumliydroxyd 0,5 gSodium hydroxide 0.5 g

Wasser 60 mlWater 60 ml

Im Falle von Platten, die gemäß Tabelle IV eine schlechte Entwickelbarkeit haben, hat es sich als sehr schwierig erwiesen, sämtliches s'trahlungs empfindliches Polymer aus den exponierten Bezirken zu entfernen, ohne dabei die strahlungsempfindliche Schicht in den Bildbezirken, d.h. nicht-exponierten. Bezirken, nicht zu beschädigen. Im Falle von Platten mäßiger Entwickelbarkeit hat es sich als schwierig erwiesen, sämtliches exponiertes Polymer vollständig zu entfernen. Im Falle von Platten guter Entwickelbarkeit ließ sich das Polymer aus den exponierten Bezirken während des Ent- \tficklungsprozesses gut und leicht entfernen.In the case of plates showing poor developability according to Table IV it has proven very difficult to remove all of the radiation-sensitive polymer from the exposed Areas to be removed without removing the radiation-sensitive layer in the image areas, i.e. non-exposed areas. Districts, not to damage. In the case of plates with poor developability, it has been found difficult to completely remove all of the exposed polymer to remove. In the case of plates with good developability, the polymer could be removed from the exposed areas during development. removal process well and easily.

Die entwickelten Platten wurden dann einem Sehne11-Abriebtest unterworfen, indem Unterlagen entweder unter die Druckplatte oder das Offset-Drucktuch der Druckplatte gebracht wurden, um einen abnorm hohen Platten-Drucktuchdruck zu erzeugen. Der Abrieb wurde auf diese S'veise durch einen Faktor von mindestens 2,5 erhöht, d.h. eine Platte, von der sich normalerweise TOO 000 Abzüge unter normalen Druckbedingungen herstellen lassen, eignet sich nicht zur Herstellung von mehr als 40 000 Abzügen unter den Bedingungen des' Schnell-Abriebtestes. The developed panels were then subjected to a Sehne11 abrasion test, by placing documents under either the printing plate or the offset printing blanket of the printing plate to avoid an abnormal to produce high plate blanket printing. The abrasion was increased on this s'veise by a factor of at least 2.5, i.e. one Plate from which TOO 000 prints can normally be made under normal printing conditions is not suitable for production of more than 40,000 copies under the conditions of the 'rapid abrasion test.

Die Abriebcharakteristika wurden dabei wie folgt definiert.The abrasion characteristics were defined as follows.

Schlechte Abriebeigenschaften 40 000 AbzügePoor abrasion properties 40,000 prints

Mäßige Abriebeigenschaften 40 000 - 60 000 AbzügeModerate abrasion properties 40,000 - 60,000 prints

Gute Abriebeigenschaften 60 000 AbzügeGood abrasion properties. 60,000 prints

Die in der Tabelle IV aufgeführten Abriebeigenschaften entsprechen diesen Kriterien.The abrasion properties listed in Table IV correspond these criteria.

Das in der Tabelle IV aufgeführte Druckverhalten ergab sich aus derThe printing behavior listed in Table IV resulted from the

4.098.28/074.098.28 / 07

Verschmierung der Hintergrundbezirke während des Druckes. Das Verschmieren ist dabei einmal^fur den Grad der Abscheidung von Druckfarbe in den Hintergrundbezirken, d.h. den exponierten Bezirken der Platten. Während Platten mit einem geringen Verschnvierungsgrad zur Herstellung von Druckbildern geeignet sind, wird im allgemeinen in den meisten Fällen doch angestrebt, Druckplatten zu erhalten, die nicht verschmieren.Background areas smeared during printing. The smear is once ^ for the degree of deposition of printing ink in the background areas, i.e. the exposed areas of the panels. While plates with a low degree of blending are suitable for the production of printed images, in most cases the aim is to obtain printing plates, that don't smear.

Aus den in Tabelle IV zusammengestellten Daten ergibt sich, daß Druckplatten, die unter Verwendung von strahlungsempfindlichen Copolymeren mit weniger als 75 MoI-I wiederkehrenden Linheitender Formel I hergestellt wurden, schlechte Abrieb- oder schlechte Abnutzungseigenschaften aufweisen. Um besonders vorteilhafte Abriebeigenschaften zu erhalten, ist das Vorhandensein von etwa 78 MoI-I wiederkehrender Einheiten der Formel I erforderlich. Da erhöhte Konzentrationen an wiederkehrenden Einheiten der Formel I diese Druckplatteneigenschaften verbessern, gibt es kein wirkliches maximales Verhältnis an xviederkehrenden Einheiten der Formel I, was die Abriebeigenschaften anbelangt. Sehr hohe Konzentrationen an wiederkehrenden Einheiten der Formel I verhindern jedoch das Vorhandensein ausreichender Konzentrationen an den übrigen wiederkehrenden Einheiten, die zur Erzielung einer guten Entwickelbarkeit vorhanden sein sollen. So hat sich gezeigt, daß in der Praxis die wiederkehrenden Einheiten der Formel I nicht mehr als 87 MoI-I der wiederkehrenden Einheiten ausmachen sollen.From the data summarized in Table IV it can be seen that printing plates made using radiation sensitive copolymers with less than 75 MoI-I recurring linear units Formula I have poor abrasion or wear properties exhibit. To have particularly advantageous abrasion properties obtain is the presence of about 78 MoI-I repeating units of the formula I required. Since increased concentrations of recurring units of the formula I these To improve printing plate properties, there is no real max Ratio of x repeating units of the formula I, what the As far as abrasion properties are concerned. However, very high concentrations of recurring units of the formula I prevent their presence sufficient concentrations of the other repeating units that are available to achieve good developability meant to be. It has been shown that in practice the recurring units of the formula I do not exceed 87 mol-I of should make up recurring units.

Wie sich des weiteren aus Tabelle IV ergibt, werden die Druckeigenschaften der Druckplatten nachteilig beeinflußt, wenn in den Polymeren wiederkehrende Einheiten der Formel IV vorliegen und keine wiederkehrenden Einheiten der Formel III. Des weiteren wird ein Verschmieren beobachtet, und zwar selbst beim Vorliegen von wiederkehrenden Einheiten der Formeln III und IV, wenn wiederkehrende Einheiten der Formel II in Konzentrationen von mehr als Z2,5 Mol-% vorhanden sind. Mit Konzentrationen von unter 2 2 MoI-I an wiederkehrenden Einheiten der Formel II und geringen Mengen an wiederkehrenden Einheiten der Formel III, z*B/ 1 MoI-I, können bis zu 4 MoI-IAs can also be seen from Table IV, the printing properties of the printing plates are adversely affected if recurring units of the formula IV and no recurring units of the formula III are present in the polymers. Furthermore, smearing is observed, even in the presence of repeating units of the formulas III and IV, if repeating units of the formula II are present in concentrations of more than 2.5 mol % . With concentrations of less than 2 2 MoI-I of recurring units of the formula II and small amounts of recurring units of the formula III, eg * B / 1 MoI-I, up to 4 MoI-I

409828/0788409828/0788

wiederkehrender Einheiten der Formel IV vorhanden sein, ohne daß hierdurch ein nachteiliger Effekt auf die druckplatten ausgeübt wird.repeating units of the formula IV may be present without this has an adverse effect on the printing plates.

Wie sich aus der Tabelle IV ergibt, sind zur Erzielung einer guten Entwickelbarkeit bestimmte Verhältnisse von wiederkehrenden Einheiten der Formel II und der Formel III erforderlich.As can be seen from Table IV, in order to achieve a good Developability certain ratios of recurring units the formula II and the formula III required.

Bei Verwendung von Polymeren ohne wiederkehrende Einheiten der Formel II werden nicht-strahlungsempfindliche und nicht-entwickelbare Platten erhalten. Überraschend ist jedoch, daß bei Verwendung von Polymeren mit sehr hohen Konzentrationen an wiederkehrenden Einheiten der Formel II von beispielsweise über 22,5 MoI-I die Entwickelbarkeit der Platten schlechter wird. Im Falle von Polymeren mit 22,5 MoI-I an wiederkehrenden Einheiten der Formel II sowie im Falle des Vorhandenseins von wiederkehrenden Einheiten der Formel III wird eine mäßige Entwickelbarkeit beobachtet. Bei nur 10 MoI-I wiederkehrenden Einheiten der Formel II und lediglich einem MoI-I von wiederkehrenden Einheiten der Formel III zeigen die Platten eine gute Entwickelbkrke.it. ivird andererseits die Konzentration von wiederkehrenden Einheiten der Formel II bei etwa -10 MoI-I belassen und liegen keine i\riederkehrenden Einheiten der Formel III vor, so ist die Entwickelbarkeit der Platten schlecht.If polymers without repeating units of the formula II are used, they become non-radiation-sensitive and non-developable Panels preserved. It is surprising, however, that when using polymers with very high concentrations of recurring Units of the formula II of, for example, over 22.5 mol-I the The developability of the plates becomes worse. In the case of polymers with 22.5 mol-I of recurring units of the formula II and if repeating units of the formula III are present, moderate developability is observed. With only 10 The plates show MoI-I repeating units of the formula II and only one MoI-I of repeating units of the formula III a good development platform. i, on the other hand, becomes the concentration of recurring units of the formula II are left at about -10 mol-I and there are no recurring units of the formula III before, the plate developability is poor.

Den Ergebnissen der Tabelle IV ist somit zu entnehmen, daß vorteilhafte Flachdruckplatten langer Lebensdauer unter Verwendung von strahlungsempfindlichen Copolymeren erhalten werden können, die bestehen zu 75 bis 87 MoI-I aus wiederkehrenden Alkylacrylatein- . heiten (I), zu 10 bis 22 MoI-I aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinondiazidsäureestereinheiten (II), zu 1 bis 7 MoI-I aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten (III) und bis zu 4 MoI-I aus wiederkehrenden Hydroxyalkylacrylateinhei-ten (IV).The results in Table IV can thus be seen that advantageous Long-life planographic printing plates can be obtained using radiation-sensitive copolymers, which consist of 75 to 87 mol-I of recurring alkyl acrylate. units (I), to 10 to 22 mol-I of repeating acryloyloxyalkylquinonediazidic acid ester units (II), to 1 to 7 MoI-I from recurring acryloyloxyalkylcarboxylate units (III) and up to 4 MoI-I from repeating hydroxyalkyl acrylate units (IV).

Als besonders vorteilhafte Copolymere haben sich solche erwiesen, die zu mindestens 78 MoI-I aus wiederkehrenden Einheiten der Formel IParticularly advantageous copolymers have proven to be those which have at least 78 mol-I of repeating units of the formula I.

409828/0788409828/0788

bestehen und höchstens zu etwa 17 MoI-0S aus wiederkehrenden Einheiten der Formel II.consist and at most about 17 mol 0 S from recurring units of the formula II.

um den nachteiligen Effekt von Hydroxylgruppen enthaltenden wiederkehrenden Einheiten in strahlungsempfindlichen Copolymeren ohne wiederkehrende Einheiten der Formel III zu veranschaulichen, und um des weiteren die Tolorierbarkeit von Hydroxylgruppen enthaltenden wiederkehrenden Einheiten zu veranschaulichen, wenn wiederkehrende Einheiten der Formel III vorhanden sind, wurden zwei verschiedene strahlungsempfindliche Copolymere hergestellt und in der beschriebenen Weise zu Flachdruckplatten verarbeitet.to the adverse effect of repeating hydroxyl groups To illustrate units in radiation-sensitive copolymers without repeating units of the formula III, and in addition to the tolorability of hydroxyl groups To illustrate repeating units, when repeating units of Formula III are present, two different ones have been made produced radiation-sensitive copolymers and processed in the manner described to form planographic printing plates.

Die wiederkehrenden Einheiten (I), (II), (III) und (IV) waren identsich mit denen der Copolymeren der Tabelle IV und die Platten unterschieden sich nicht wesentlich von denen der Tabelle IV, die in gleicher Weise hergestellt wurden. Die Zusammensetzung der strahlungsempfindlichen Copolymeren und das Verhalten der hergestellten Druckplatten in der Druckpresse ergibt sich aus der folgenden Tabelle VII.The repeating units (I), (II), (III) and (IV) were identical to those of the copolymers of Table IV and the plates did not differ significantly from those of Table IV, the were made in the same way. The composition of the radiation-sensitive The following table shows copolymers and the behavior of the printing plates produced in the printing press VII.

TabelleTabel 15
11,8
15th
11.8
1,61.6 VIIVII Verhalten auf
Druckpresse
Behavior on
Printing press
derthe
Platten-
Nr.
Plates-
No.
Strahlungsempfindliches
(D (ID (HI)
Radiation sensitive
(D (ID (HI)
Copolymer
'(IVj
Copolymer
'(IVj
geringes Verse
ausgezeichnet
Verschmieren
minor verse
excellent
Smear
:hmiere
- kein
: hmiere
- no
A
B
A.
B.
83,4
83,4
83.4
83.4
1,6
3,2
1.6
3.2

Wie sich aus den Daten der Tabelle VII ergibt, tritt im Falle der Verwendung eines Copolymeren mit 1,6 MoI-0J wiederkehrender Einheiten der Formel IV ein geringes Verschmieren auf, wohingegen ein ausgezeichnetes Verhalten auf der Druckpresse dann erhalten wird, wenn die Menge an wiederkehrenden Einheiten der Formel IV verdoppelt wird und wenn wiederkehrende Einheiten der Formel III vorhanden sind. Diese Gegenüberstellung veranschaulicht eindeutig die der Erfindung zugrunde liegende Erkenntnis, daß strahlungsempfindliche Copolymere mit wiederkehrenden Einheiten der Formel · 111 die Herstellung von Druckplatten mit überlegenem Druckverhalten ermöglichen und daß da-As is apparent from the data of Table VII, occurs in the case of using a copolymer with 1.6 MOI 0 J recurring units of the formula IV a low smearing, whereas an excellent performance on the printing press obtained when the amount of repeating units of the formula IV is doubled and if repeating units of the formula III are present. This comparison clearly illustrates the knowledge on which the invention is based that radiation-sensitive copolymers with recurring units of the formula 111 enable the production of printing plates with superior printing behavior and that

409828/0788409828/0788

bei beträchtliche Konzentrationen an wiederkehrenden Linheiten der Formel IV toleriert werden können, ohne nachteilige Effekte auf das Verhalten der Druckplatten.with considerable concentrations of recurring lines of formula IV can be tolerated without adverse effects on the performance of the printing plates.

In einer weiteren Versuchsreihe wurden weitere Druckplatten unter Verwendung der in der Tabelle IV aufgeführten Polymeren hergestellt, wobei jedoch diesmal zur Herstellung der Druckplatten Besen ich tungs mass en der in der folgenden Tabelle VIII aufgeführten Zusammensetzung verwendet wurden:In a further series of tests, further printing plates were produced using the polymers listed in Table IV, This time, however, for the production of the printing plates, the brushing dimensions listed in Table VIII below Composition were used:

Tabelle VIIITable VIII

Strahlungsempfindliches Copolymer * ' 6,0 gRadiation sensitive copolymer * 6.0 g

Kresol-Formaldehydharz (Alnovol 429K) 3,0 gCresol formaldehyde resin (Alnovol 429K) 3.0 g

Alizarin-Cyanin Grün 0,1 gAlizarin Cyanine Green 0.1 g

2-iiethoxyäthanol 34,0 ml2-iiethoxyethanol 34.0 ml

2-Methoxyäthylacetat 34,0 ml2-methoxyethyl acetate 34.0 ml

Hethylathy!keton 27,0 mlEthylathy! Ketone 27.0 ml

1,2-Dichloräthan 42,0ml1,2-dichloroethane 42.0 ml

Diacetonalkohol 4,0 mlDiacetone alcohol 4.0 ml

Zinksalicylat 0,2 gZinc salicylate 0.2 g

Borsäure 0,3 gBoric acid 0.3 g

Benzotriazol . 0,2 gBenzotriazole. 0.2 g

L(-)-Rhamnose 0,2 g 1,3, 3-Trimethy"1-1' - (N-methylanilino) - 4', 6 ' -L (-) - rhamnose 0.2 g 1,3, 3-trimethy "1-1 '- (N-methylanilino) - 4', 6 '-

di-p-tolyl-indo-21— pyridocarbocyaninperchlorat 0,1 gdi-p-tolyl-indo-2 1 -pyridocarbocyanine perchlorate 0.1 g

Nach der Exponierung der Platten wurden auf diese sichtbare Auskopierbilder auf einen grünen Hintergrund sichtbar, und zwar auf Grund des Vorhandenseins des Cyanin-Auskopierfarbstoffes. Kurden die Platten successive reexponiert, ohne Einschaltung von Abkühlperioden, so blieben die Platten leicht entwickelbar, wohingegen entsprechende Platten, die ohne Verwendung der Kombination von Borsäure, Benzotriazol und L(-)-Rhamnose hergestellt vrurden, etwas schwieriger zu entwickeln waren, wenn sie unter den gleichen Bedingungen exponiert wurden.After the plates were exposed, print-out images were visible on them visible on a green background due to the presence of the cyanine print-out dye. Kurds If the plates were successively re-exposed, without the intervention of cooling periods, the plates remained easily developable, whereas on the other hand corresponding plates made without using the combination of boric acid, benzotriazole and L (-) - rhamnose, somewhat were more difficult to develop when exposed under the same conditions.

In einer weiteren Versuchsreihe wurden weitere strahlungsenipfindliche Copolymere des in der Tabelle IV angegebenen. Typs hergestellt, und zwar mit 83,4 MoI-I wiederkehrenden Methylmethacrylateinheiten, 15 MoI-I wiederkehrenden Hethacryloyloxyäthylnaphthochinondiazid-In a further series of tests, additional radiation-sensitive Copolymers of that given in Table IV. Type produced, namely with 83.4 MoI-I repeating methyl methacrylate units, 15 MoI-I recurring Hethacryloyloxyäthylnaphthoquinonediazid-

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sulfonsäureestereinheiten und 1,6 Hol-% wiederkehrenden 2-lIydroxyäthylmethacrylateinheiten, welche diesmal mit p-lirombenzoylchlorid, Acetylchlorid oder Myristylchlorid und nicht mit jßenzoylchlorid
verestert wurden. In allen Fällen wurden Flachdruckplatten ausgezeichneter Eigenschaften erhalten. Sämtliche Platten zeichneten
sich durch"eine ausgezeichnete Entwickelbarkeit und ausgezeichnete Druckabriebcharakteristika aus und verschmierten nicht.
sulfonic acid ester units and 1.6% of recurring 2-hydroxyethyl methacrylate units, this time with p-liromobenzoyl chloride, acetyl chloride or myristyl chloride and not with benzoyl chloride
were esterified. In all cases, planographic printing plates excellent in properties were obtained. All plates drew
excelled in "excellent developability and excellent pressure abrasion characteristics, and did not smear.

Mit gleichem Erfolg wie zur Herstellung von Flachdruckplatten oder lithographischen Druckplatten lassen sich die erfindungsgemäß verwendeten Copolymere auch zu anderen Zwecken verwenden, beispielsweise zur Herstellung von Photores istmassen und sogenannten Photoresists unter Verwendung üblicher bekannter Techniken.With the same success as for the production of planographic printing plates or lithographic printing plates can be those used in the present invention Copolymers can also be used for other purposes, for example for the production of photoresist compositions and so-called photoresists using well known techniques.

Claims (22)

PatentansprücheClaims M ./Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung positiv arbeitender Flachdruckplatten, bestehend aus einem Schichtträger und mindestens einer hierauf aufgetragenen strahlungsempfindlichen Schicht aus einem strahlungsempfindlichen Acrylat-Diazochinoncopolymeren, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, das aufgebaut ist auf MoI-0S Basis zu:M ./ Radiation-sensitive recording material for the production of positive-working planographic printing plates, consisting of a layer support and at least one radiation-sensitive layer applied thereon made of a radiation-sensitive acrylate-diazoquinone copolymer, characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoquinone copolymer which is based on mol- 0 S base to: I. 75 bis 8 7 % aus wiederkehrenden Alkylacrylateinheiten,I. 75 to 8 7 % from recurring alkyl acrylate units, II. 10 bis 22 I aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinondiazidsäureestereinheiten, II. 10 to 22 I from recurring acryloyloxyalkylquinonediazidic acid ester units, III. 1 bis 7 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten undIII. 1 to 7 % from acryloyloxyalkylcarboxylate repeating units and IV. bis zu 4 I aus wiederkehrenden Hydroxyalkylacrylateinheiten.IV. Up to 4 l of repeating hydroxyalkyl acrylate units. 2. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Schicht aus einem strahlungsempfindlichen Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, das zu 78 bis' 87 HoI-I aus Alkylacrylateinheiten besteht.2. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that there is a layer of a radiation sensitive Contains acrylate-diazoquinone copolymer, which consists of 78 to '87 HoI-I from alkyl acrylate units. 3. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine strahlungsempfindliche Schicht aus einem Acrylat-Diazochinoncopolymeren enthält, das zu 10 bis 17 Mol-% aus Acryl.oyloxyalkylchinon-Diazidsäureestereinheiten besteht. 3. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that it is a radiation-sensitive layer from an acrylate-diazoquinone copolymer, which consists of 10 to 17 mol% of Acryl.oyloxyalkylquinone-diazide acid ester units. 4. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine strahlungsempfindliche Schicht aus einem Acrylat-Diazochinoncopolymeren enthält, das eine Inherent-4. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized characterized in that it contains a radiation-sensitive layer made of an acrylate-diazoquinone copolymer which has an inherent " Viskosität von 0,05 bis 0,25 aufweist."Has viscosity from 0.05 to 0.25. 409828/078 8409828/078 8 5. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine strahlungsempfindliche Schicht mit einem Acrylat-Diazochinoncopolymeren mit einem Molekulargewicht von 5000 bis 20000 aufweist.5. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that it is a radiation-sensitive layer with an acrylate-diazoquinone copolymer with a molecular weight of 5000 to 20,000. 6. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht einen Farbstoff enthält.6. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that it is in the radiation-sensitive Layer contains a dye. 7. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht einen Auskopierfarbstoff enthält.7. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that it contains a copy-out dye in the radiation-sensitive layer. 8. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht einen Cyanin-Auskopierfarbstoff enthält.8. Radiation-sensitive recording material according to claim 7, characterized characterized in that it contains a cyanine copy-out dye in the radiation-sensitive layer. 9. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnetj daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht eine vergleichsweise geringe Menge einer Säure enthält.9. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized characterizedj that it is in the radiation-sensitive layer contains a comparatively small amount of an acid. 10. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht eine vergleichsweise geringe Menge einer Carbonsäure enthält.10. Radiation-sensitive recording material according to claim 9, characterized characterized in that it is in the radiation-sensitive layer contains a comparatively small amount of a carboxylic acid. 11. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht eine vergleichsweise geringe iMenge von Borsäure enthält.11. Radiation-sensitive recording material according to claim 10, characterized in that it contains a comparatively small amount of boric acid in the radiation-sensitive layer. 12. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es in der strahlungsempfindlichen Schicht pro Gewichtsteil strahlungsempfindliches Copolymer 0,2 bis 1,0 Gew.-Teile eines filmbildenden zweiten Polymeren enthält.12. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized characterized in that there is 0.2 to 1.0 part by weight per part by weight of radiation-sensitive copolymer in the radiation-sensitive layer a film-forming second polymer. 13. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, da-13. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, da- 4 0 9 8 2 8/07884 0 9 8 2 8/0788 durch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazoehinon-Copolymer enthält, das aufgebaut ist auf Mol-% Basis zu:characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoehinone copolymer, which is built up on mol% Basis for: I. 75 bis 87 % aus wiederkehrenden Alkylacrylateinheiten der folgenden Formel:I. 75 to 87 % from recurring alkyl acrylate units of the following formula: H R1 HR 1 I I J ΓI I J Γ H C=O 0H C = O 0 II. 10 bis 22 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinon-Diazidsäureestereinheiten der folgenden Formel:II. 10 to 22 % of recurring acryloyloxyalkylquinone diazidic acid ester units of the following formula: HR1 HR 1 IlIl (II) —£- C — C(II) - £ - C - C ι iι i H C=OH C = O III« 1 bis 7 I aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten der folgenden Formel:III «1 to 7 I from recurring acryloyloxyalkylcarboxylate units of the following formula: H R1 It HR 1 It (in) —e c — c -}-(in) —e c - c -} - i ιi ι H C=OH C = O I ΰ I ΰ « χ Η λ 0-R^-O'C-R4 « Χ Η λ 0-R ^ -O'CR 4 409828/0788409828/0788 IV. bis zu 4 % aus wiederkehrenden Hydroxyalkylacrylateiniieiten der folgenden Formel:IV. Up to 4 % from repeating hydroxyalkyl acrylate units of the following formula: H R1 HR 1 C-. c C-. c H C=OH C = O 0-R5-0H0-R 5 -0H worin bedeuten:where mean: R einen Methylrest oder ein Wasserstoffatom; R einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen; R einen Alkylenrest mit 2 bis 6 Kohlenstoffatomen;R is a methyl radical or a hydrogen atom; R is an alkyl radical having 1 to 6 carbon atoms; R is an alkylene radical having 2 to 6 carbon atoms; R einen Kohlenwassers to ff rest oder Ilalokohlenwasserstoffrest mit bis zu 20 Kohlenstoffatomen;R is a hydrocarbon residue or ilalohydrocarbon residue up to 20 carbon atoms; 0-X einen Säureesterrest und .0-X is an acid ester residue and. D einen Chinondiazidrest.D is a quinonediazide residue. 14. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 13, dadurch· gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, dessen wiederkehrende Einheiten der Formel I aus Methylmethacrylateinheiten bestehen.14. Radiation-sensitive recording material according to claim 13, characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoquinone copolymer, its repeating Units of the formula I consist of methyl methacrylate units. 15. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, dessenwiederkehrende Einheiten der Formel II aus 2-Hydroxyäthylme'thacrylateinheiten, die mit einem Naphthöchinöndiazidsäurehalogeriid verestert sind, bestehen. - ;; ;; ■ · . ;.; -iVi: ·15. Radiation-sensitive recording material according to claim 13, characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoquinone copolymer whose recurring units of the formula II consist of 2-hydroxyethyl methacrylate units which are esterified with a naphthoquinodiazide acid halide. - ; ; ;; ■ ·. ;. ; - iVi : · 409828/0788409828/0788 16/ Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, dessen wiederkehrende Einheiten der Formel III aus Methacryloyloxyäthylbenzoateinheiten bestehen.16 / Radiation-sensitive recording material according to Claim 13, characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoquinone copolymer, its repeating Units of the formula III consist of methacryloyloxyethylbenzoate units. 17. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinon-Copolymer enthält, dessen wiederkehrende Einheiten der Formel IV aus 2-Hydroxyäthylmethacrylateinheiten bestehen.17. Radiation-sensitive recording material according to claim 13, characterized in that the radiation-sensitive layer contains an acrylate-diazoquinone copolymer, its recurring Units of the formula IV from 2-hydroxyethyl methacrylate units exist. 18. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht ein Acrylat-Diazochinoncopolymer enthält, das aufgebaut ist auf MoI-I Basis zu:18. Radiation-sensitive recording material according to claim 1, characterized in that the radiation-sensitive layer is a Contains acrylate-diazoquinone copolymer, which is based on MoI-I Basis for: I. 78 bis 87 i aus wiederkehrenden Methylmethacrylateinheiten;I. 78 to 87 i of repeating methyl methacrylate units; II. 10 bis 17 % wiederkehrenden Acryloyloxyäthylnaphthochinon-Diazidsäureestereinheiten; II. 10 to 17 % repeating acryloyloxyethylnaphthoquinone diazidic acid ester units; III. 1 bis 7 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyäthylcarboxylateinheiten undIII. 1 to 7 % from recurring Acryloyloxyäthylcarboxylateinheit and IV. bis zu 4 % aus wiederkehrenden 2-Hydroxyäthylacrylateinheiten.IV. Up to 4 % of recurring 2-hydroxyethyl acrylate units. 19. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die wiederkehrenden Acryloyloxyäthylcarboxylateinheiten aus wiederkehrenden Acryloyloxyäthylbenzoateinheiten bestehen.19. Radiation-sensitive recording material according to claim 18, characterized in that the repeating acryloyloxyethylcarboxylate units consist of recurring acryloyloxyethylbenzoate units. 20. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht eine vergleichsweise geringe Menge an Borsäure, Benzotriazol und L(-)-Rhamnose enthält.20. Radiation-sensitive recording material according to claim 18, characterized in that the radiation-sensitive layer is a comparatively small amount of boric acid, benzotriazole and L (-) - rhamnose contains. 409828/0788409828/0788 21. Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht als filmbildendes Harz ein Phenol-Formaldehydharz enthält.21. Radiation-sensitive recording material according to claim 12, characterized in that the radiation-sensitive layer contains a phenol-formaldehyde resin as the film-forming resin. 22. Strahlungsempfiridliche Masse für die Herstellung von Photoresists, dadurch gekennzeichnet, daß sie als strahlungsempfindliches Copolymer ein Copolymer enthält, das aufgebaut ist auf MoI-I Basis zu:22. Radiation-sensitive mass for the production of photoresists, characterized in that it is used as a radiation-sensitive copolymer contains a copolymer which is built up on a MoI-I basis to: I. 75 bis 87 % aus wiederkehrenden Alkylacrylateinheiten;I. 75 to 87 % of repeating alkyl acrylate units; II. 10 bis 22 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylchinon-Uiazidsäureestereinheiten; II. 10 to 22 % of recurring acryloyloxyalkylquinone-uiazidic acid ester units; III. 1 bis 7 % aus wiederkehrenden Acryloyloxyalkylcarboxylateinheiten undIII. 1 to 7 % from acryloyloxyalkylcarboxylate repeating units and IV. bis zu 4 I aus wiederkehrenden Ilydroxyalkylacrylateinheiten.IV. Up to 4 l of recurring Ilydroxyalkylacrylateinheit. 409828/0788409828/0788
DE19732364178 1972-12-22 1973-12-21 Photosensitive coating material for the production of photoresist layers and presensitized planographic printing plates Expired DE2364178C3 (en)

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E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977