DE2361564A1 - Flaechenhafte loetverbindung - Google Patents
Flaechenhafte loetverbindungInfo
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- DE2361564A1 DE2361564A1 DE2361564A DE2361564A DE2361564A1 DE 2361564 A1 DE2361564 A1 DE 2361564A1 DE 2361564 A DE2361564 A DE 2361564A DE 2361564 A DE2361564 A DE 2361564A DE 2361564 A1 DE2361564 A1 DE 2361564A1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
Description
MANNHEIM BROWN BOVERI
Mp.-Nr. 680/73 Mannheim, 30. November 1973
PAT-Dr.Sc./Ha.
Die Erfindung betrifft eine flächenhafte Lötverbindung zweier metallischer Körper, wovon mindestens einer nicht oder schwer
lötbar ist.
Derartige Verbindungen waren bisher schwer oder gar nicht herstellbar. Sah man sich vor das Problem gestellt, zwei
solche Körper durch Lötung miteinander zu verbinden, gab es
nur eine Ausweichlösung derart, daß man entweder den schwer lötbaren Körper durch einen bezüglich der sonstigen geforderten
Eigenschaften etwa gleichwertigen aber besser lötbaren Körper ersetzte, oder man verzichtete auf die Lötverbindung
und versuchte die Körper auf andere Weise, z.B. mittels Druckkontakt, in befriedigendem Maße zu verbinden.
Da aber Lötverbindungen in gewissen Bereichen der Technik dank ihrer leichten Herstellbarkeit, guten Haftbarkeit einschließlich
günstiger Wärmeübergangseigenschaften Vorteile bieten, sollte hier eine neue Möglichkeit geschaffen werden.
Die Lösung dieser neuartigen Aufgabe besteht erfindungsgemäß
darin, daß die zu verbindende Fläche zumindest des nicht oder schwer lötbaren Körpers aufgerauht ist unter Bildung
offener Poren und Vorsprünge, und daß auf die derart aufgerauhte Fläche eine von dem die Verbindung bildenden Lot gut
benetzbare Zwischenschicht aufgebracht ist mit einer so geringen Schichtdicke, daß das ursprüngliche Rauhigkeitsprofil
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so weitgehend erhalten bleibt, daß das lot eine formschlüssige
Verbindung mit der aufgerauhten Fläche eingehen kann.
Es versteht sich, daß das Lot nicht unbedingt allein eine formschlüssige
Verbindung mit der aufgerauhten Fläche zu bilden braucht, je nach den beteiligten Komponenten kann zusätzlich
z.B. eine adhäsive oder metallische Verbindung zum Tragen kommen. Der Begriff "formschlüssige Verbindung" ist im
Sinne einer Verankerung durch ein geeignetes Rauhigkeitsprofil gemeint und schließt daneben andere Bindungsmöglichkeiten
nicht aus. Eine besonders gute Verankerung bildet sich, wenn die Rauhigkeitsvorsprünge bzw. Porenhälse hinterfüllbare
Formen bilden. Es empfiehlt sich im allgemeinen eine Rauhigkeitstiefe von mindestens etwa 1 p. m, die je nach System und
Erfordernissen der lötverbindung auf 5 bis 10 um oder mehr vergrößert
werden kann.
Im einfachsten Falle kann das Aufrauhen der zu verbindenden Fläche, insbesondere der Fläche des schwer oder gar nicht
lötbaren Körpers durch Sandstrahlen oder ähnliche Bearbeitung erfolgen. Oft sind die Ergebnisse dieser Bearbeitung jedoch
unbefriedigend, zumal sich bei empfindlicheren Systemen, wie z.B. Schichten von Halbleiterbauelementen, bereichsweise die
Körpereigenschaften in unerwünschter Weise verändern können. Es ist daher zumeist sehr viel vorteilhafter, die notwendige
Rauhigkeit entweder durch Abscheiden von Material aus der Gasphase, das insbesondere dem schwer lötbaren metallischen
Körper entsprechen kann, zu erzeugen oder das Material durch Plasmaspritzen aufzubringen. Im Falle der Abscheidung aus der
Gasphase kann sich insbesondere das chemische Abscheiden empfehlen.
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Will man beispielsweise einen Wolfram-Körper bzw. eine Wolfram-Schicht
mit einem gut lötbaren Körper, wie etwa Kupfer,
verbinden, so kann man die Wolfram-Schicht dadurch aufrauhen,
daß man eine 5 bis 50 η m starke Wolfram-Schicht unter Verwendung von Wolfram-Hexafluorid und Wasserstoff bei
geeigneten Bedingungen abscheidet.
Da nun die rauhe Fläche im Falle eines schwer lötbaren oder
nicht lötbaren Körpers für eine gute Verankerung mit dem lot
im allgemeinen noch nicht genügt, wird erfindungsgemäß vorgesehen, eine vom Lot gut benetzbare Zwischenschicht aufzubringen.
Dabei soll das Rauhigkeitsprofil nicht in unerwünschter Weise verändert werden. Geeignete Verfahren hierfür
sind insbesondere das stromlose Abscheiden, z.B. von Kupfer, insbesondere aber auch die chemische Abscheidung aus der Gasphase,
die im allgemeinen das Profil bis in die letzten Verästelungen erfaßt und damit ein "Hineinsaugen" des flüssigen
Lotes in die Porenhälse, etc. gewährleistet.
Wird z.B. eine Zwischenschicht aus Kupfer vorgesehen, so
bieten sich hierfür insbesondere organische Kupferverbindungen wie z.B. Kupferacetylacetonat oder Kupferchloride für die
chemische Abscheidung aus der Gasphase an.
Was die Lote selbst anbelangt, so sind hier grundsätzlich die verschiedensten Systeme anwendbar. Im Falle einer Kupferzwischenschicht
werden sich besonders Weichlote anbieten, wie z.B. Blei-Silber- und Gold-Zinn-Lote.
Eine besondere Bedeutung hat die erfindungsgemäße Ausbildung der Lotverbindung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen
erfahren. Hier kommt es darauf an, mit Wolfram beschichtete
Halbleitertabletten aus Silicium gut wärmeleitend mit. einem Anschlußkörper, insbesondere aus Kupfer, zu ver-
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binden. Bisher waren solche Lotverbindungen überhaupt nicht möglich, so daß man zum Druckkontakt Zuflucht nahm. Gemäß
der Erfindung sind jedoch insbesondere in diesem Falle sehr befriedigende Ergebnisse erhalten worden, wobei auf Seiten der Wolfram-Schicht ein Rauhigkeitsprofil zwischen 1 und 5 Ά im allgemeinen ausreicht. Dieses Profil ist mit einer Kupferschicht überzogen, wofür sich wiederum insbesondere die Abscheidung aus der Gasphase eignet. Der Kupferkörper ist mit einem üblichen Weichlot haftfest verlötet.
der Erfindung sind jedoch insbesondere in diesem Falle sehr befriedigende Ergebnisse erhalten worden, wobei auf Seiten der Wolfram-Schicht ein Rauhigkeitsprofil zwischen 1 und 5 Ά im allgemeinen ausreicht. Dieses Profil ist mit einer Kupferschicht überzogen, wofür sich wiederum insbesondere die Abscheidung aus der Gasphase eignet. Der Kupferkörper ist mit einem üblichen Weichlot haftfest verlötet.
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Claims (8)
1. Flächenhafte lötverbindung zweier metallischer Körper,
wovon mindestens einer nicht - oder.schwer lötbar ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die zu verbindende Fläche
zumindest des nicht - oder schwer lötbaren Körpers aufgerauht ist unter Bildung offener Poren und Vorsprünge,
und daß auf die derart aufgerauhte Fläche eine von dem die "Verbindung bildenden Lot gut benetzbare Zwischenschicht
aufgebracht ist mit-einer so geringen Schichtdicke, daß das ursprüngliche Rauhigkeitsprofil so weitgehend
erhalten bleibt, daß das Lot eine formschlüssige Verbindung mit der'aufgerauhten Fläche eingehen kann.
2. Lötverbindung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die aufgerauhte Fläche zur Bildung einer besonders guten Lotverbindung hinterfüllbare Rauhigkeitssegmente
aufweist.
3. Lötverbindung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Rauhigkeitstiefe mindestens etwa Λ Uta.
beträgt.
4. Lötverbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Rauhigkeit durch Abscheiden von
dem nicht - oder schwer lötbaren metallischen Körper entsprechenden Material aus der Gasphase auf diesen
erzeugt ist.
5. Lötverbindung nach einem der Ansprüche 1 bis .3, dadurch
gekennzeichnet, daß die R'iuhigkeit durch Aufbringen von
Material durch Plasmaspritzen erzeugt ist.
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6. Lötverbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht durch Abscheiden
aus der Gasphase erzeugt ist.
7. lötverbindung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß·die Zwischenschicht aus Kupfer besteht, das aus
der Gasphase mittels einer zersetzbaren Kupferverbindung abgeschieden ist.
8. Flächenhafte Tiötverbindung von einem Wolfram-Körper
bzw. einer Wolfram-Cchicht mit einem Kupferkörper,
dadurch gekennzeichnet, daß die Wolfram-Schicht ein durch chemische Abscheidung von Wolfram aus der Gasphase
erzeugtes, hint erfüllbares Rauhiglceitsprofil
aufweist, das mit einer 1 bis 5/um starken Kupferschicht
überzogen und mit Weichlot ausgefüllt ist.
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2361564A DE2361564A1 (de) | 1973-12-11 | 1973-12-11 | Flaechenhafte loetverbindung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2361564A DE2361564A1 (de) | 1973-12-11 | 1973-12-11 | Flaechenhafte loetverbindung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2361564A1 true DE2361564A1 (de) | 1975-06-12 |
Family
ID=5900441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2361564A Pending DE2361564A1 (de) | 1973-12-11 | 1973-12-11 | Flaechenhafte loetverbindung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2361564A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4341816A (en) * | 1979-08-21 | 1982-07-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for attaching disc- or plate-shaped targets to cooling plates for sputtering systems |
EP2198454A1 (de) * | 2007-10-09 | 2010-06-23 | Robert Bosch GmbH | Verbund aus mindestens zwei halbleitersubstraten sowie herstellungsverfahren |
-
1973
- 1973-12-11 DE DE2361564A patent/DE2361564A1/de active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4341816A (en) * | 1979-08-21 | 1982-07-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for attaching disc- or plate-shaped targets to cooling plates for sputtering systems |
EP2198454A1 (de) * | 2007-10-09 | 2010-06-23 | Robert Bosch GmbH | Verbund aus mindestens zwei halbleitersubstraten sowie herstellungsverfahren |
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