DE2319287A1 - Verfahren zum entfernen von ueberschuessigem lot von kontaktfingern auf modulsubstraten - Google Patents
Verfahren zum entfernen von ueberschuessigem lot von kontaktfingern auf modulsubstratenInfo
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Description
Verfahren zum Entfernen von überschüssigem Lot von Kontakt-'fingern auf Modulsubstraten
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen überschüssigen
Lots von Kontaktfingern auf Modulsubstraten nach dem Ablöten
eines Chips, wobei eine Platte auf das Lot aufgesetzt, die Platte
sodann erhitzt und, nachdem das Lot geschmolzen istf die Platte
abgehoben wird.
In der OS 2 214 994 wird eine Vorrichtung beschrieben, mit der
fehlerhafte Chips von Moduisubstraten abgelötet und fehlerfreie
Chips auf Modulsubstrate aufgelötet werben können, ohne daß
andere Chips, die sich auf demselben Mcdulsufostrat befinden, bzw.
deren Lötverbindungen, in Mitleidenschaft gezogen werdenc
Ein Problem, das bei der Anwendung dieser Vorrichtung noch
nicht gelöst wurde, besteht darinf &a£- aas ursprünglich an dem
Chip hängende Lct? beim Abtrennen des Chips vom Moäulsubstrat
teilweise an den Kontaktfingern des Modalsubstrats hängen bleibt. Dieses überschüssige Lot kann Kurzschlüsse verursachen und muß
daher vor dem Auflöten des fehlerfreien Chips entfernt werden.
Die bekannten Verfahren zum Entfernen von überschüssigem Lot sind
in dem 1964 veröffentlichten Buch "Solders and Soldering" auf den
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Seiten 296 ff beschrieben. Allen diesen Verfahren ist gemeinsam,
daß infolge zu großer Hitzeentwicklung bei ihrer Anwendung auf ein Chip die benachbarten Chips bzw. ihre Lötverbindungen beschädigt
würden. Sie sind daher nicht geeignet, um überschüssiges Lot
von mehrere Chips tragenden Modulsubstraten zu entfernen.
Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren anzugeben, mit dem
überschüssiges Lot von Kontaktfingern auf Modulsubstraten derart entfernt werden kann, daß benachbarte, auf dasselbe Modulsubstrat
aufgelötete Chips bzw. ihre Lötverbindungen zum Modulsubstrat nicht
beschädigt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einem Verfahren der eingangs
genannten Art dadurch gelöst, daß als Platte eine mit
Lot vollständig benetzbare, in ihren Abmessungen und in ihrer Wärmeleitfähigkeit einem Halbleiterchips entsprechende Scheibe
verwendet wird.
Zwar ist aus dem IBM Technical Disclosure Bulletins, März 197O1,
Seite 1666 bekannt, überschüssiges Lot von Kontaktfingern auf Modulsubstraten mittels einer erhitzten Kupfer- oder Nickelscheibe
zu entfernen, jedoch treten dabei zwei wesentliche Schwierigkeiten auf. Einerseits ist die Benetzbarkeit voa Kupfer und Nickel mit
dem Lot begrenzt, so daß das überschüssige Lot nur unvollständig entfernt wird und die Operation unter umständen mehrmals wiederholt
werden muß, andererseits haben, was noch entscheidender ist, Kupfer
und Nickel eine gans andere Wärmeleitfähigkeit wie Halbleitermaterial,
weshalb beim Erhitzen der Kupfer- oder Nickelplatfce mit dem
Ziel, das überschüssige Lot zn schmelzen,, andere Verfahrensbedingungen eingehalten und wesentlich andere Vorrichtungen benutzt
werden müssen, wie beim Erhitzen eines Chips, das auf ein Modulsubstrat
aufgelötet oder von ihm abgelötet werden soll. Dahingegen verwendet das erfindungsgemäße Verfahren eine Scheibe mit einer
Oberfläche, die vom Lot vollständig benetzt wird^ weshalb das
überschüssige Lot mit Sicherheit beim einmaligen Durchführen der Operation vollständig entfernt werden kannP und wählt das Material
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der Scheibe so aus, daß es dieselbe Wärmeleitfähigkeit hat wie das Halbleitermaterial, so daß es möglich ist, unter ganz ähnlichen
Verfahrensbedingungen und unter Verwendung praktisch derselben Apparatur das fehlerhafte Chip vom Modulsubstrat abzulöten,
das überschüssige Lot zu entfernen und das fehlerfreie Chip auf das Modulsubstrat aufzulöten. Dadurch werden die Kosten für
eine zusätzliche Apparatur gespart und der Verfahrensablauf vereinfacht sich, weil bei allen drei Verfahrensschritten bei denselben
Temperaturen gearbeitet werden kann und der nicht unerhebliche Justieraufwand um ca. 30% reduziert wird.
In vorteilhafter Weise wird das beschriebene Verfahren derart durchgeführt, daß nacheinander die an einer Vakuumsonde hängende
Scheibe über die Kontaktfinger des ModulSubstrats ausgerichtet
wird, daß dann die Scheibe abgesenkt wird? bis sie das Lot berührt,
daß die Scheibe mittels einer fokussiert auf sie wirkenden Heizquelle erhitzt wird, daß dabei die Temperatur der Scheibe
gemessen wird und daß bei einer bestimmten oberhalb der Schmelztemperatur des Lots liegenden Temperatur die Heizung abgeschaltet
und gleichzeitig die Scheibe vom Modulsubstrat abgehoben wird. Dabei ist es vorteilhaft, als fokussiert wirkende
Heizquelle einen Mikrogasbrenner zti verwenden« Dieser Verfahrensablauf ist deshalb günstig, weil dabei die in der oben erwähnten
OS 2 214 994 beschriebene Anordnung, die sich beim Auf- und Ablöten von Chips auf Modulsubstraten sehr bewährt hat, verwendet
werden kann. Zu den wesentlichsten Teilen dieser Vorrichtung zählen eine Vakuumsonde zum Anheben und Absenken der Chips, ein
Mikrogasbrenner zum Erhitzen der Chips, ein infrarotempfindliches Pyrometer, mit dem die Temperatur der Chips gemessen werden
kann und eine Steuerung, die aufgrund der gemessenen Temperaturen die Bewegung der Vakuumsonde und den Mikrogasbrenner steuert.
Bei Verwendung dieser Anordnung läßt sich die Beheizung der Scheibe so steuern, daß mit Sicherheit eine Beeinträchtigung benachbarter
Chips vermieden werden kann.
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Bei der Bearbeitung von aus Silizium bestehenden Haibleiterchips mit integrierten Schaltkreisen ist es vorteilhaft, wenn als Scheibe
ein einseitig plattiertes Chip aus Silizium oder Titan verwendet wird. Durch die Plattierung kann eine auf das verwendete Lot abgestimmte
vollständige Benetzbarkeit der Scheibenoberfläche erreicht werden. Das Titan unterscheidet sich sehr wenig in seiner
Wärmeleitfähigkeit von Silizium.
In vorteilhafter Welse wird das Chip plattiert, indem eine
zwischen 3 und 20 u dicke Kupferschicht und eine zwischen 1000 und 1500 8 dicke Goldschicht aufgebracht wird., Die dünne Goldschicht
stellt die vollständige Benetzbarkeit des Chips sieher. Da jedoch Gold auf Silizium schlecht, aber auf Kupfer gut haftet, ist
es vorteilhaft, eine Zwischenschicht aus auf dem Silizium gut haftendem Kupfer aufzubringen«
Die Erfindung wird anhand von durch Zeichnungen erläuterten Ausführungsbeispielen beschrieben.
Es zeigen: -
Fig. 1 in Draufsicht die Kontaktfinger auf einem
Modulsubstrat zur Aufnahme eines Chips mit
integrierten Schaltkreisen vor der mittels des beschriebenen Verfahrens vorgenommenen
Entfernung von überschüssigem Lot,
Fig. 2 in Draufsicht die in Flg. 1 gezeigten Kontaktfinger
nach der Entfernung des überschüssigen Lots,
Fig. 3 im Querschnitt den in Fig. 1 gezeigten Ausschnitt entlang der Linie 3-3 und darüber eine
an einer Vakuumsonde hängende Scheibe,
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Fig. 4 eine Darstellung, die sich von der Fig. 3
dadurch unterscheidet, daß die Scheibe inzwischen auf die Kontaktfinger aufgesetzt
und das Lot mittels des schematisch gezeigten Mikrobrenners zum Schmelzen gebracht worden
ist, und
Fig. 5 im Querschnitt den Ausschnitt aus der Fig. 2
entlang der Linie 5-5 und darüber die an der Vakuumsonde hängende* Scheibe mit an deren
Unterseite haftendem, überschüssigem Lot.
Fig. 1 zeigt eine Vielzahl von zum Kontaktieren von Kontakten auf Chips dienenden Kontaktfingern 10 auf einem AL3O3-MOdUlsubstrat
12. Die Kontaktfinger in der in Fig. 1 gezeigten Darstellung sind gegenüber der Wirklichkeit wesentlich vergrößert.
In Wirklichkeit mißt ein Chip mit integrierten Schaltkreisen nur etwa 2,5 mm χ 2,5 mm. Zur Herstellung der Kontaktfinger 10
wird auf das Modulsubstrat 12 ein mit Lot benetzbares Leitungsmuster, das normalerweise aus eine Silber-Palladium-Paste besteht,
mittels Siebdruck aufgebracht. Anschließend wird ein Glasdamm auf das Leitungsmuster aufgedruckt und schließlich das Modulsubstrat
12 mit geschmolzenem Lot in Kontakt gebracht, wodurch die Kontaktfinger 10 gebildet werden, die in ihrer Ausdehnung durch
die Lage des Glasdamms 13 bestimmt sind, und etwa halbkugelförmige
Lotklumpen 14 tragen. Die Verhältnisse zeigen am besten die Fign. 2 und 5.
Nach dem Herstellen haben die Lotklumpen 14 auf den Kontaktfingern
10 eine saubere und im wesentlichen halbkugelförmige Gestalt.
Auf diese Kontaktfinger wird ein Halbleiterchip mit seinen
mit Lot überzogenen Kontakten gesetzt. Daraufhin folgt ein Lötprozeß, bei dem das Lot auf den Kontakten mit dem Lot auf
den Kontaktfingern verschmilzt.
Wenn das Chip nicht einwandfrei mit den Kontaktfingern 10 ver-
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bunden ist, oder wenn das Chip in irgendeiner Weise fehlerhaft
ist, wird das Modul eine nachfolgende elektrische Prüfung nicht bestehen. In diesem Fall ist es notwendig, das betreffende Chip
zu entfernen und durch ein anderes zu ersetzen. Das Chip kann sehr leicht mit einer in der OS 2 214 994 beschriebenen Apparatur
entfernt werden. Bei Verwendung dieser Apparatur wird das Chip, das entfernt werden soll, mit einer Mikroflamme so
hoch erhitzt, das seine Verbindungen zum Substrat schmelzen. Um zu verhindern, daß benachbarte Chips beschädigt werden, wird/
wenn das Chip eine bestimmte Temperatur erreicht hat, die mit einem ultrarotempfindlichen Pyrometer gemessen wird, die Mikroflamme
gelöscht und das Chip abgehoben. Beim Abheben läßt das Chip Lot auf den Kontaktfingern zurück. Dadurch erhalten die Lotklumpen
14, wie die Fign. 1 und 3 am besten zeigen, eine unregelmäßige Gestalt. Manchmal bleibt sogar soviel überschüssiges Lot
zurück, daß zwei Konaktfinger miteinander verbunden sind, wodurch ein Kurzschluß zwischen ihnen entsteht. Aber auch dann, wenn ein
Kurzschluß vor dem Aufsetzen eines neuen Chips auf die Kontaktfinger
10 nicht auftritt, kann ein auf überschüssiges Lot zurückzuführender Kurzschluß nach dem Auflöten eines neuen Chips
auftreten.
In Fig. 3 wird eine Scheibe 16 vor ihrer Verwendung bei dem beschriebenen
Verfahren gezeigt. Dia Scheibe 16 besteht aus einem Siliziumchip 18 mit den Abmessungen eines Chips mit integrierten
Schaltkreisen. Es ist auch möglich, da die Wärmeleitfähigkeit von Titan sehr ähnlich ist wie die von Silizium, statt des Silizium-Chips
18 ein solches aus Titan zu verwenden. Um eine mit Lot benetzbare Oberfläche zu erhalten, wird mittels Kathodenzerstäubung
eine Kupferschicht 20 mit einer Schichtdicke zwischen etwa 3 und 20 μ auf das Siliziumchip 18 aufgebracht. Eine zwischen 1000 und
1500 8 dicke Goldschicht 22 wird dann stromlos auf die Kupferschicht 20 plattiert. Es ist auch möglich, eine mit Lot benets
re Schicht auf dem Siliziumchip 18 durch Aufdampfen von etwa 1500 8 Chrom, etwa 500 8 einer Chrom-Kupfermischung, etwa 1O.
Kupfer und etwa 1500 8 Gold zu erzielen.
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Bei der Verwendung der Scheibe 16 zum Entfernen von überschüssigem
Lot von den Lotklumpen 14, wird die von der Vakuumsonde 24 gehaltene Scheibe 16 über den Lotklumpen 14 in Stellung gebracht.
Die Scheibe 16 wird dann auf die Kontaktfinger 10 abgesenkt und anschließend werden die Lotklumpen 14 auf Schmelztemperatur erhitzt,
indem eine Mikroflamme 26 in der Art wie es Fig. 4 zeigt,
angewendet wird. Die Scheibe 16 wird mit der Mikroflamme 26 so
hoch erhitzt, daß die Lotklumpen 14 schmelzen, aber nicht so hoch,
daß die Lötverbindungen von benachbarten Chips aufgeschmolzen werden. Die die mit der Mikroflamme 26 zugeführte Wärmemenge kann
bequem gemessen und kontrolliert werden durch Verwendung eines nicht gezeigten, infrarotempfindlichen Pyrometers. Wenn das überschüssige
Lot schmilzt, fließt es auf die Goldschicht 22 und bleibt dort hängen.
Wenn das Lot geschmolzen ist, wird die Mikroflamme 26 gelöscht und die Scheibe 16 wird, wie in Fig. 5 gezeigt ist, mittels der
Vakuumsonde 24 von den Kontaktfingern 10 abgehoben. Das überschüssige
Lot 28 hängt nun an der Scheibe 16. Auf diese Weise wird der ursprüngliche Zustand der Konataktfinger 10 mit halbkugelförmigen
Lotklumpen 14 wieder hergestellt. Bei Verwendung der oben beschriebenen Apparatur zum Entfernen fehlerhafter Chips kann überschüssiges
Lot mit dem beschriebenen Verfahren unter Produktionsbedingungen in etwa 1 see. entfernt werden, wobei eine Wirkung
erzielt wird, die sich aus dem Vergleich zwischen Fig. 1 und Fig. ergibt. Es ist dabei anzumerken, daß die Fign. 1 und 2 Zeichnungen
sind, die nach Photographien von wirklichen Modulsubstraten vor und nach dem Entfernen des überschüssigen Lots mittels einmaliger
Anwendung des beschriebenen Verfahrens angefertigt worden sind. Sollte nach einer einzigen Anwendung des beschriebenen Verfahrens
noch überschüssiges Lot sich auf den Lotklumpen 14 befinden, kann das Verfahren ohne weiteres ein- oder mehrmals wiederholt
werden, um eine vollständige Entfernung des Überschüssigen Lots sicherzustellen, jedoch sind solche Wiederholungen normalerweise
nicht notwendig.
BU 972 007 3098 46/08 OA
Claims (6)
1. Verfahren zum Entfernen überschüssigen Lots von Kontaktfingern auf Modulsubstraten nach dem Ablöten eines
Chips, wobei eine Platte auf das Lot aufgesetzt, die Platte sodann erhitzt und, nachdem das Lot geschmolzen
ist, die Platte abgehoben wird,
dadurch gekennzeichnet, daß als Platte eine mit dem Lot
vollständig benetzbare? in ihren Abmessungen und in
ihrer Wärmeleitfähigkeit einem Halbleiterchip entsprechende
Scheibe (16) verwendet wird,
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß
nacheinander die an einer Vakuumsonde (24) hängende Scheibe (16) über die Kontaktfinger (10) des Modulsubstrats
(12) ausgerichtet wird, daß die Scheibe (16) abgesenkt wird, bis sie das Lot (14) berührt s daß die
Scheibe mittels einer fokussiert auf sie wirkenden Heizquelle erhitzt wird, daß dabei die Temperatur der Scheibe
gemessen wird und daß b@i einer bestimmten;oberhalb
der Schmelzteasperatur ü@s Lots liegenden Temperatur die Heizung abgeschaltet und gleichzeitig die Scheibe
vom Modulsubstrat abgehoben wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
als fokussiert wirkende Heisquelle ein Mikrogasbrenner (26) verwendet wird,»
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es angewandt wird bei
der Bearbeitung von aus Silizium bestehenden Halbleiterchips mit integrierten Schaltkreisen.
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5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Scheibe (16) ein einseitig plattiertes Chip (18) aus
Silizium oder Titan verwendet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Chip (18) plattiert wird mit einer zwischen 3 und
20 μ dicken Kupferschicht (20) und einer zwischen 1000 und 1500 S dicken Goldschicht (22).
BU 972 007 309846/0804
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