DE2308070C3 - Method for producing an electrophotographic recording material - Google Patents

Method for producing an electrophotographic recording material

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DE2308070C3 DE19732308070 DE2308070A DE2308070C3 DE 2308070 C3 DE2308070 C3 DE 2308070C3 DE 19732308070 DE19732308070 DE 19732308070 DE 2308070 A DE2308070 A DE 2308070A DE 2308070 C3 DE2308070 C3 DE 2308070C3
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Hans-Hermann 4781 Bad Westernkotten; Dülken Hartmut Dipl.-Phys. Dr.; Guder Gottfried Dipl.-Phys.; Kassel Karl-Heinz Dipl.-Phys. Dr.; 4785 Belecke Beschoner
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Description

Wird andererseits, um Spannungen während derOn the other hand, is used to relieve tension during the

Abkühlung zu vermeiden, bei niedrigen Temperatu-Avoid cooling, at low temperatures

30 ren aufgedampft, erweist sich die Benetzung des Schichtträgers durch die photoleitende Schicht als so30 ren vapor-deposited, the wetting of the support by the photoconductive layer turns out to be so

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstel- schlecht, daß ebenfalls bald eine Ablösung der pholen eines eiektrophotogi aphischen Aufzeichniun^ma- toleitendcn Schicht von dem Schichtträger erfolgt,
terials, bei dem Selen, eine Selenlegierung oder eine Aufgabe der Erfindung ist es, die Haftung einer
The invention relates to a method for the production of poor quality that also soon detachment of the pholes of an electrophotographic recording layer from the substrate,
terials in which selenium, a selenium alloy or an object of the invention is the adhesion of a

Selenverbindung als Photoleiter im Vakuum unter 35 Photoleiterschicht auf einem Schichtträger bei unterBildung einer photoleitfähigen Schicht auf einen schiedlichen Ausdehnungskoeffizienten von Photoelektrisch leitenden Schichtträger aufgedampft wird. leiterschicht und Schichtträger zu verbessern. Selenium compound as a photoconductor in a vacuum under 35 photoconductor layer on a support with under formation a photoconductive layer is vapor-deposited onto a different expansion coefficient of photoelectrically conductive substrate. to improve conductor layer and substrate.

Elektrophotographische Verfahren und Vorrich- Diese Aulgabe wird bei einem Verfahren zumElectrophotographic Process and Apparatus This problem is addressed in a process for

tungen hierzu haben in der Vervielfältigunjrstechnik Herstellen eines elektrophotographischen Aufzeichv/eite Verbreitung gefunden. Sie beruhen auf der 40 nungsmaterials, bei dem Selen, eine Selenlegierung Eigenschaft des photoleitenden Materials, bei Beiich- oder eine Selenverbindung als Photoleiter im Vatung mit einer aktivierenden Strahlung den elektri- kuum unter Bildung einer photoleitfähigen Schicht sehen Widerstand zu ändern. auf einen elektrisch leitenden Schichtträger aufge-The production of an electrophotographic recording sheet has been developed for this purpose in the field of duplication technology Spread found. They are based on the nung material, selenium, a selenium alloy Property of the photoconductive material, in the case of Beiich or a selenium compound as a photoconductor in the Vatung with an activating radiation the elec- tric to form a photoconductive layer see resistance change. applied to an electrically conductive substrate

Nach elektrischer Aufladung und Belichtung mit dampft wird, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß einer aktivierenden Strahlung läßt sich auf einer pho- 45 höchstens 1011O der photoleitfähigen Schicht bei toleitenden Schicht ein latentes elektrisches Ladungs- einer Temperatur oberhalb der Glasumwandlungsbild erzeugen, das dem optischen Bild entspricht. An
den belichteten Stellen findet nämlich eine solche Erhöhung der Leitfähigkeit der photoleitenden Schicht
After electrical charging and exposure with vaporization, according to the invention, an activating radiation can produce a latent electrical charge at a temperature above the glass transition image, which corresponds to the optical image , on a photoconductive layer at most 10 11 O of the photoconductive layer is equivalent to. On
This is because such an increase in the conductivity of the photoconductive layer takes place in the exposed areas

statt, daß die elektrische Ladung über den leitenden 50 ters aufgedampft werden.
Träger — zumindest teilweise, jedenfalls aber stärker Fs ist zweckmäßig, daß die zunächst abgeschie-
instead of the electrical charge being evaporated over the conductive 50 ters.
Carrier - at least partially, but in any case more strongly Fs it is advisable that the initially deposited

temperatur des Photoleiters und wenigstens 90 °/o der photoleitfähigen Schicht bei einer Temperatur unterhalb der Glasumwandlungstemperatur des Photolei-temperature of the photoconductor and at least 90% photoconductive layer at a temperature below the glass transition temperature of the photoconductive

als an den unbelichteten Stellen — abfließen kann, während an den unbelichteten Stellen die elektrische Ladung im wesentlichen erhalten bleibt; sie kann mit einem Büdpulver, einem sogenannten Toner, sichtbar 55 gemacht und das entstandene Tonerbild, falls es erforderlich sein sollte, schließlich auf Papier oder eine andere Unterlage übertragen werden.than in the unexposed areas - can flow off, while the electrical charge is essentially retained in the unexposed areas; she can go with a powder, a so-called toner, made visible 55 and the resulting toner image, if necessary should finally be transferred to paper or other support.

Als elektrophotographisch wirksame Stoffe werdenAs electrophotographically active substances

dene Schicht eine Dicke von etwa 1 μίτι aufweist. Für eine arsenhaltige Selenlegierung, deren Zusammensetzung etwa As2Se3 entspricht, empfiehlt es sich, die ersie Teilschicht bei einer Temperatur oberhalb von 18O0C, vorzugsweise bei etwa 200° C, aufzubringen. Die restliche Teilschicht, beispielsweise etwa 10 μηι, wird überwiegend bei einer Temperatur unterhalb von etwa 1000C, vorzugsweise von etwadene layer has a thickness of about 1 μίτι. For arsenic selenium alloy whose composition corresponds as As 2 Se 3, it is recommended that the ersie partial layer at a temperature above 18O 0 C, preferably at about 200 ° C to apply. The remaining portion of layer, for example about 10 μηι is mainly at a temperature below about 100 0 C, preferably from about

sowohl organische als auch anorganische Substanzen 60 60° C, abgeschieden.both organic and inorganic substances 60 60 ° C, deposited.

verwendet. Unter ihnen haben Selen, Selemlegienin- Photoleitende Schichten, die nach dem Verfahrenused. Among them have selenium, selemlegienin- photoconductive layers made after the process

gen und Verbindungen mit Selen besondere Bedeutung erlangt.genes and compounds with selenium are of particular importance.

Um Abbildungen mit gutem Kontrast und hoherTo make images with good contrast and high

gernäß der Erfindung auf einen Schichtträger abgeschieden werden, haften sehr gut und auch für die Dauer. Sie weisen einmal wegen der hohen Abschei-deposited according to the invention on a layer support will adhere very well and also for the long term. Because of the high rate of

Schärfe zu erzielen, ist es bekanntlich neben anderen 65 dungsteniperatur der zuerst aufgebrachten Schicht Bedingungen erforderlich, daß die Ladung, die auf eine gute Benetzung auf, sind andererseits glcichzei-Achieving sharpness is known to depend on the temperature of the first layer applied, along with the other 65 Conditions required that the charge, which is based on good wetting, are on the other hand at the same time

die photoleitenden Schichten aufgebracht wird, nach der Belichtung an den belichteten. Stellen rasch,the photoconductive layers is applied, after exposure to the exposed. Make quick,

tig aber nicht durch Spannungen, die während der Abkühlung entstehen, gefährdet. Da nämlich bei hö-tig but not endangered by tensions that arise during cooling. Because at high

herer Temperatur nur eine sehr dünne Schicht abgeschieden und auch darauf nur diese sehr dünne Schicht abgekühlt wird, wird die Haftung noch nicht nachteilig beeinflußtAt a higher temperature only a very thin layer is deposited and only this very thin layer on top Layer is cooled, the adhesion is not adversely affected

Ein weiterer Vorteil des Verfahrens nach der Erfindung gegenüber einem Verfahren, bei dem ausschließlich bei hohen Substrattemperaturen aufgedampft wird, ist durch die bessere Ausbeute des Aufdampfgutes gegeben. Da ja der überwiegende Teil der Schicht bei niedrigen Temperaturen aufgedampft wird, tritt auch keine ins Gewicht fallende Rückverdampfung von der Substratoberfläche mehr auf.Another advantage of the method according to the invention compared to a process in which vapor deposition only takes place at high substrate temperatures is given by the better yield of the vaporized material. Since the vast majority the layer is evaporated at low temperatures, there is also no significant re-evaporation from the substrate surface.

Claims (3)

Patentansprüche:Patent claims: gleichmäßig und ungestört abfließen kann. Hierfür ist eine innige und gleichmäßige Berührung zwischen dem leitenden Schichtträger und der photoleitenden Schicht notwendig.can flow off evenly and undisturbed. For this there is an intimate and even touch between the conductive support and the photoconductive layer are necessary. Nachteilig bei den bekannten Ausführungen eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials ist, daß sich die Forderung nach inniger und gleichmäßiger Berührung nur schwer erfüllen läßt, da es sich bei dem Schichtträger und dem Photoleiter um StoffeThe disadvantage of the known designs of an electrophotographic recording material is that that the demand for intimate and even contact can only be fulfilled with difficulty, since it can in the case of the substrate and the photoconductor about substances .' 1. Verfahren zum Herstellen eines elestrophotographischen Aufzeichnungsmaterials, bei dem
Selen, eine Selenlegierung oder eine Selenverbindung als Photoleiter im Vakuum unter Bildung
einer photoleilfähigen Schicht auf einen elektrisch leitenden Schichtträger aufgedampft wird, -;..,., u · u *
. ' 1. A method for producing an electrophotographic recording material, wherein
Selenium, a selenium alloy or a selenium compound as a photoconductor in a vacuum with formation
a photoconductive layer is vapor-deposited onto an electrically conductive layer support, -; ..,., u · u *
dadurch gekennzeichnet, daß hoch- » mit recht unterschiedlichen thennisdien Ausdehstens 10 ·/# der photoleitfähigen Schicht bei einer nungskoeffizienten handelt. Dies gilt besonders für Temperatur oberhalb der Glasumwandlungstem- arsenhaltige Selenlegierungen mit einem Anteil von peratur des Photoleiters und wenigstens 90 «/oder mehr als 20 Gewichtsprozent Arsen, wie etwa dem photoleitfähigen Schicht bei einer Temperatur As.,Se„ das beispielsweise auf ein Glassubstrat mit unterhalb der Glasumwandlungstemperatur des 15 einer leitenden Zwischenschicht aus Zinndioxid auf-Photoleiters aufgedampft werden. gebracht wird. Solche Schichten weisen eine nur ge-characterized in that high- »with quite different thennisdien extens 10 · / # of the photoconductive layer is a voltage coefficient. This is especially true for Temperature above the glass transition ternary selenium alloys with a proportion of temperature of the photoconductor and at least 90% or more than 20% by weight arsenic, such as the photoconductive layer at a temperature As., Se "that for example on a glass substrate with below the glass transition temperature of the 15 a conductive intermediate layer of tin dioxide on-photoconductor be vaporized. is brought. Such layers have only a
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- ringe Haftfestigkeit auf, die ihre Anwendung stark kennzeichnet, diiß bei einer Temperatur oberhalb beeinträchtigt.2. The method according to claim 1, characterized by low adhesive strength, which makes its application strong indicates that this is impaired at a temperature above. der Glasumwandlungstemperatur des Photoleiters Wenn bei hohen Substrattemperaturen, besondersthe glass transition temperature of the photoconductor. If at high substrate temperatures, especially eine 1 tun dicke photoleitfähige Schicht erzeugt 20 bei Temperaturen oberhalb der Glasumwandlungswird. temperatur aufgedampft wird, ist zwar zunächst diea 1 tun thick photoconductive layer is produced 20 at temperatures above the glass transition. temperature is evaporated, is initially the 3. Verfahren räch Anspruch 1, dadurch ge- Benetzung des Schichtträgers durch die photoleite,ide kennzeichnet, daß 10 "h einer Selenlegierung der Schicht gut. Beim Abkühlen auf Raumtemperatur Formel As0Se3 bei einer Temperatur oberhalb tritt aber eine Ablösung der photoleitenHen Schicht 1800C. vorzugsweise bei 200° C, und 90·'· bei 25 von dem Schichtträger infolge von Spannungsrissen einer Temperatur unterhalb 100cC, Vorzugs- auf, deren Ursache in ihren unterschiedlichen Ausweise bei 60° C, aufgedampft werden. dehnungskoeffizienten zu suchen ist.3. Process according to claim 1, characterized in that the layer support is wetted by the photoconductive, ide indicates that 10 "h of a selenium alloy of the layer is good. When cooling to room temperature formula As 0 Se 3 at a temperature above, however, the photoconductive layer becomes detached 180 0 C., preferably at 200 ° C, and 90 · '· s at 25 c of the substrate due to stress cracks at a temperature below 100 C, preference on whose cause expansion coefficient in its various passes at 60 ° C, are evaporated. to is looking for.
DE19732308070 1973-02-19 1973-02-19 Method for producing an electrophotographic recording material Expired DE2308070C3 (en)

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