DE2305175A1 - ELECTRODE FOR ELECTROCHEMICAL PROCESSES - Google Patents
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Description
Elektrode für elektrochemische ProzesseElectrode for electrochemical processes
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Gegenstand'der Erfindung ist eine Elektrode für elektrochemische Prozesse mit einer Basis aus einem passivierbaren Metall und einer ein nichtpassivierbares Metall oder Verbindungen dieses Metalls enthaltenden Deckschicht und ein Verfahren zum Herstellen der Elektrode»The invention relates to an electrode for electrochemical Processes with a base made of a passivable metal and a non-passivable metal or compounds of this metal-containing cover layer and a method for producing the electrode »
Für elektrochemische Prozesse sind aus einem Kern oder einer Basis aus. einem passivierbaren Metall, wie Titan, Zirkon, Niob, Tantal, Wolfram, Aluminium, Eisen, Nickel, Blei, Wismut oder Legierungen dieser Metalle und einer fest mit der Basis verbundenen Deckschicht bestehende Elektroden bekannt geworden. Die Funktionstüchtigkeit derartiger Elektroden wird vor allem durch die Haftfestigkeit und Oberflächengröße der nichtpassivierbare Metalle, wie Platin, Palladium, Iridium, Ruthenium, Osmium, Gold, Silber oder Verbindungen dieser Metalle enthaltenden Deckschicht bestimmt und es sind zahlreiche Maßnahmen zur Optimierung dieser Parameter vorgeschlagen worden. Für die Haftfestigkeit ist neben dem gewählten Beschichtungsverfahren und der stofflichen Zusammensetzung von Basis und Deckschicht insbesondere die Beschaffenheit der zu beschichtenden Oberfläche wichtig, die in bekannter Weise etwa durch Ätzen oder Schleifen aufgerauht werden kann. Die Oberflächengröße der Deckschichten ist durch die Oberfläche der in Form von Blechen, Platten, Stäben und dergleichen verwendeten Basis gegeben. For electrochemical processes are made from a core or a base. a passivatable metal such as titanium, Zircon, niobium, tantalum, tungsten, aluminum, iron, nickel, lead, bismuth or alloys of these metals and one Fixed to the base cover layer existing electrodes become known. The functionality Such electrodes are mainly due to the adhesive strength and surface size of the non-passivable metals, such as platinum, palladium, iridium, ruthenium, osmium, gold, silver or containing compounds of these metals Top layer determined and numerous measures for optimizing these parameters have been proposed. In addition to the selected coating method, the adhesive strength is important and the material composition of the base and top layer, in particular the texture the surface to be coated is important, which is roughened in a known manner, for example by etching or grinding can be. The surface area of the outer layers is determined by the surface of the sheet metal, Plates, rods and the like given base used.
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Die bekannten Metallelektroden werden,, um Gewicht zu sparen, im allgemeinen in einer möglichst geringen Stärke ausgeführt, wobei jedoch ein Teil des eingesparten Gewichts für mechanische Versteifungselemente wieder verloren geht. So beträgt z.B. das Flächengewicht von beschichteten Titanelektroden für die Chlor-The known metal electrodes are, in order to weight save, generally carried out in the lowest possible strength, but with a part of the saved Weight for mechanical stiffening elements is lost again. For example, the weight per unit area is of coated titanium electrodes for chlorine
2 alkalielektrolyse etwa 30 - 35 kg/m . Zur Ableitung von abgeschiedenen Gasen sind Metallelektroden in der Regel mit Schlitzen oder Bohrungen versehen oder zu gitterartigen Einheiten zusammengesetzt.2 alkali electrolysis approx. 30 - 35 kg / m. For derivation of separated gases, metal electrodes are usually provided with slots or bores or assembled into grid-like units.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Metallelektrode mit einer vergrößerten Oberfläche der Basis und einer besseren Haftfestigkeit der Deckschicht zu schaffen. Nach einer weiteren Aufgabe der Erfindung soll das Flächengewicht von Elektroden ver-' mindert und eine bessere Ableitung von an der Elektrode abgeschiedenen Gasen erzielt werden.It is an object of the present invention to provide a metal electrode with an increased surface area the base and better adhesion of the top layer to accomplish. According to a further object of the invention, the weight per unit area of electrodes should be and a better discharge of gases deposited on the electrode can be achieved.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einer Elektrode der eingangs genannten Art gelöst, deren Basis aus einem porösen Sintermetall besteht. Der Porenanteil der Basis beträgt nach einer bevorzugten Ausführung der Erfindung 20 - 50 Vol.%, der mittlere Durchmesser der Poren 0,5-5 mm. Nach einer weiteren vorteilhaften Ausführung der Erfindung ist wenigstens eine Begrenzungsfläche der Basis rippenförmig ausgebildet.According to the invention, the object is achieved with an electrode solved of the type mentioned, the base of which consists of a porous sintered metal. The porosity According to a preferred embodiment of the invention, the base is 20-50% by volume, the mean diameter is the Pores 0.5-5 mm. According to a further advantageous embodiment of the invention, there is at least one boundary surface the base rib-shaped.
Zum Herstellen von erfindungsgemäßen Elektroden ist es vorteilhaft, Pulver von passivierbaren Metallen mit einer Korngröße von 1-12 mm unter einem DruckFor the production of electrodes according to the invention is it is advantageous to use powder of passivatable metals with a grain size of 1-12 mm under pressure
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von 300 - 2000 kp/cm zu Formkörpern zu verpressen und die Formkörper anschließend durch Erhitzen zu sintern.2
of 300-2000 kp / cm to be pressed to form molded bodies and then to sinter the molded bodies by heating.
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Für die Herstellung von erfindungsgemäßen Elektroden sind insbesondere Pulver der Metalle Titan, Zirkon, Niob, Tantal, Wolfram, Aluminium, Eisen, Nickel, Blei und Wismut geeignet, die gegebenenfalls mit Zusätzen von Presshilfen wie Stearinsäure, Wachsen und dergleichen in Gesenkpressen oder auch durch Vibrationsverdichtung zu Körpern der gewünschten Maße und Formen gepreßt werden. Die für die jeweilige Verwendung günstigste Porosität der Elektrodenbasis im Bereich von 20 bis 50 Vol.% sowie der wirksamste mittlere Porendurchmesser im Bereich von 0,5 bis 5 mm werden durch Auswahl einer oder mehrerer Kornfraktionen im Bereich zwischen 1 und 12 mm eingestellt, wobei Porosität und Porendurchmesser im allgemeinen mit steigender Korngröße zunehmen. Preßpulver mit Kornfraktionen < 1 mm ergeben Elektroden mit einer unerwünschten hohen Dichte, solche mit Kornfraktionen > 12 mm Elektroden mit unzureichender Festigkeit und Oberflächengröße. Der zum Verdichten der Pulver erforderliche Preßdruck wird im wesentlichen durch die Verformungseigenschaften der Metalle bestimmt. Vorteilhaft sind z.B. für Aluminiumpulver Drücke von 300 bisFor the production of electrodes according to the invention are in particular powders of the metals titanium, zirconium, niobium, tantalum, tungsten, aluminum, iron, nickel, lead and bismuth, optionally with the addition of pressing aids such as stearic acid, waxes and the like in die presses or by vibration compression to form bodies of the desired dimensions and shapes be pressed. The most favorable porosity of the electrode base in the area for the respective use from 20 to 50 vol.% as well as the most effective middle one Pore diameters in the range from 0.5 to 5 mm are determined by selecting one or more grain fractions in the Range set between 1 and 12 mm, with porosity and pore diameter generally with with increasing grain size. Press powder with grain fractions <1 mm result in electrodes with an undesirable one high density, those with grain fractions> 12 mm electrodes with insufficient strength and Surface size. The one required to compact the powders Compression pressure is essentially determined by the deformation properties of the metals. Advantageous are e.g. for aluminum powder pressures from 300 to
ρ
800 kp/cm , für Wolframpulver Drücke von 1500 bisρ
800 kp / cm, for tungsten powder pressures from 1500 to
2000 kp/cm . Eine Konturierung der Elektrodenoberfläche, z.B. durch Rippen, Nuten und dergleichen, wird durch Verdichten und Pressen des Pulvers mit entsprechend gestalteten Stempeln oder Formen erreicht, so daß eine besondere Bearbeitung der Preßlinge entfällt.2000 kgf / cm. A contouring of the electrode surface, for example by ribs, grooves and the like, is achieved by compacting and pressing the powder with appropriately designed punches or molds, so that a no special processing of the compacts is required.
Die Preßlinge werden anschließend in inerter Atmosphäre oder im Vakuum gesintert, wobei die Sintertemperatur etwa zwei Drittel der Schmelztemperatur des verwendeten Metalles beträgt. Da der SinterschwundThe compacts are then sintered in an inert atmosphere or in a vacuum, the sintering temperature is about two thirds of the melting temperature of the metal used. Because the sintering shrinkage
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durch einfache Vorversuche mit großer Genauigkeit ermittelt und durch Auslegung der Preßformen berücksichtigt werden kann, weisen die Sinterkörper bereits die für ihre Anwendung erforderlichen Maße auf und aufwendige Nachbearbeitungen entfallen.determined by simple preliminary tests with great accuracy and taken into account by designing the compression molds can be, the sintered bodies already have the dimensions required for their application and there is no need for time-consuming post-processing.
Die gesinterte Basis wird anschließend mit einer Deckschicht versehen, die wenigstens ein Metall aus der Gruppe Platin, Palladium, Iridium, Ruthenium, Osmium, Rhodium, Gold oder Silber oder Verbindungen dieser Metalle, wie Oxide, Nitride oder Sulfide und ebenfalls vorteilhaft passivierbare Metalle oder Verbindungen dieser Metalle enthält. Geeignete Verfahren zum Aufbringen der Deckschicht sind z.B. Fällen aus Lösungen, Aufstreichen einer Suspension, galvanisches Abscheiden, Plasmaspritzen, Flammspritzen, Bedampfen und dergleichen. Die eine Stärke von etwa 0,5 bis 30 ,um aufweisende Deckschicht wird anschließend durch Erhitzen vorzugsweise in Luft auf etwa 300 bis 6000C eingebrannt.The sintered base is then provided with a cover layer that contains at least one metal from the group consisting of platinum, palladium, iridium, ruthenium, osmium, rhodium, gold or silver or compounds of these metals, such as oxides, nitrides or sulfides and likewise advantageously passivatable metals or compounds this contains metals. Suitable methods for applying the top layer are, for example, cases from solutions, spreading on a suspension, galvanic deposition, plasma spraying, flame spraying, vapor deposition and the like. A thickness of about 0.5 to 30, by having top layer is then baked by heating preferably in air at about 300 to 600 0 C.
Ein Vorteil von erfindungsgemäßen Elektroden ist die überraschend gute Haftung der in der zerklüfteten Oberfläche der Basis verankerten Deckschicht und ihre Widerstandsfähigkeit gegen Korrosion und mechanische Belastungen. Die zerklüftete porige Oberfläche der Basis und damit ebenfalls die Oberfläche der elektrochemisch aktiven Deckschicht ist zudem bedeutend größer als die Oberfläche einer massiven Metallelektrode entsprechender Abmessung, so daß erfindungsgemäße Elektroden ohne Schädigung der Deckschicht mit größeren Strömen beaufschlagt werden können. Weitere Vorteile von erfindungsgemäßen Elektroden bestehen in den zahl-'One advantage of electrodes according to the invention is that Surprisingly good adhesion of the top layer and its anchored in the rugged surface of the base Resistance to corrosion and mechanical loads. The rugged, porous surface of the The base and thus also the surface of the electrochemically active cover layer is also significantly larger than the surface of a solid metal electrode of corresponding dimensions, so that electrodes according to the invention larger currents can be applied without damaging the top layer. Other advantages of electrodes according to the invention consist of the number '
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reichen, als Gasabzugskanäle wirkende, die Basis durchsetzenden statistisch gleichförmig verteilten Poren, durch die die Verweilzeit von anhaftenden gasförmigen Elektrolyseprodukten sowie der Gasblasenwiderstand und die Abscheidungsspannung vermindert werden. Schließlich ist das Gewicht erfindungsgemäßer Elektroden geringer als das von massiven Metallelektroden, so daß beträchtliche Materialmengen eingespart werden.range, acting as gas extraction ducts, penetrating the base, statistically uniformly distributed Pores through which the residence time of adhering gaseous electrolysis products and the gas bubble resistance and the deposition voltage can be decreased. Finally, weight is more in accordance with the invention Electrodes smaller than that of solid metal electrodes, so that considerable amounts of material are saved will.
Erfindungsgemäße Elektroden sind für Elektrolysen jeder Art geeignet, z.B. für die wässrige Chloralkalielektrolyse, die Elektrolyse von Chlorwasserstoffsäure und von Wasser, sie sind geeignet für die Durchführung von organischen Oxidations- und Reduktionsvorgängen, als Anoden für den kathodischen Korrosionsschutz, für Brennstoffzellen sowie für galvanische Zellen.Electrodes according to the invention are suitable for electrolyses Kind, e.g. for aqueous chloralkali electrolysis, electrolysis of hydrochloric acid and water, they are suitable for carrying out organic oxidation and reduction processes, as anodes for cathodic corrosion protection, for fuel cells as well as for galvanic cells.
Die Erfindung wird anhand der nachstehenden Beispiele näher, erläutert·The invention is explained in more detail by means of the following examples
10,5 kg körniger Titanschwamm mit einem Titangehalt von etwa 99,9 % und einer Korngröße von 2-8 mm wurden gleichmäßig in eine kastenförmige Stahlmatrize mit den Innenmaßen 500 χ 700 mm gefüllt und mit einer Kraft von 3600 Mp verdichtet. Der Oberfläche wurde gleichzeitig ein rippenartiges Muster aufgeprägt. Die Platte wurde anschließend in reiner Argonatmosphäre in einem Sinterofen innerhalb von 3 Stunden auf 12500C erhitzt und gesintert. 10.5 kg of granular titanium sponge with a titanium content of about 99.9 % and a grain size of 2-8 mm were evenly filled into a box-shaped steel die with internal dimensions 500 × 700 mm and compacted with a force of 3600 Mp. At the same time, a rib-like pattern was embossed on the surface. The plate was then heated in a pure argon atmosphere in a sintering furnace to 1250 ° C. within 3 hours and sintered.
Die Rohdichte der 9 mm dicken Platte betrug 3,2 g/cm , der mittlere Porendurchmesser 2 mm. Die als Elektroden-The bulk density of the 9 mm thick plate was 3.2 g / cm, the mean pore diameter 2 mm. The as electrode
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basis dienende Platte wurde dann mit einer 1,8 ,um starken Schicht aus Titanoxid und Rutheniumoxid versehen, wobei das Molverhältnis TiOp/RuO„ 1:1 betrug. Nach Einbrennen der Deckschicht bei 500°C und Anschweißen von drei Stromzuführungsstäben wurde die Elektrode als dimensionsstabile Anode für die wässrige Natriumchloridelektrolyse verwendet.The base plate was then provided with a 1.8 .mu.m thick layer of titanium oxide and ruthenium oxide, where the molar ratio TiOp / RuO was "1: 1. After baking the top layer at 500 ° C. and welding on three power supply rods, the Electrode used as dimensionally stable anode for aqueous sodium chloride electrolysis.
Zum Herstellen von Elektroden für Akkumulatoren wurden jeweils 0,8 kg Titanschwamm - Korngröße 2—12 mm mit einem Druck von 0,6 Mp zu Platten der Maße 200 χ 300 χ 5 mm verpreßt und bei einer Temperatur von 1350 C im Vakuum gesintert. Die Rohdichte betrug ·For the manufacture of electrodes for accumulators, 0.8 kg of titanium sponge - grain size 2–12 mm were used pressed with a pressure of 0.6 Mp to form sheets measuring 200 × 300 × 5 mm and at a temperature sintered at 1350 C in a vacuum. The bulk density was
2,75 g/cm , der mittlere Porendurchmesser 2,8 mm. Anschließend wurde die Elektrodenbasis elektrolytisch mit einer 25 ,um starken Pt/PbOp-Deckschicht beschichtet. 2.75 g / cm, the mean pore diameter 2.8 mm. Then the electrode base became electrolytic coated with a 25 .mu.m thick Pt / PbOp top layer.
3.8 kg Tantalpulver mit einer Korngröße von 1 bis 4 mm3.8 kg of tantalum powder with a grain size of 1 to 4 mm
2 wurden mit einem Druck von 1,2 kp/cm zu zylindrischen Platten - 300 mm Durchmesser χ 6 mm - verpreßt, bei T = 1600°C in Argonatmosphäre gesintert und durch Flammspritzen mit einer 0,9 ,um starken äquimolekularen Platiniridium-Deckschicht versehen. Rohdichte und mittlerer Porendurchmesser der als Elektrode für organische Elektrolysen verwendeten Platten waren2 were pressed with a pressure of 1.2 kp / cm to form cylindrical plates - 300 mm diameter χ 6 mm - at T = 1600 ° C in an argon atmosphere and sintered by flame spraying with a 0.9 μm strong equimolecular Provided platinum iridium top layer. Bulk density and mean pore diameter of the used as an electrode for organic electrolysis panels were used
8.9 g/cm bzw. 1,5 mm.8.9 g / cm or 1.5 mm.
4 Patentansprüche4 claims
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