DE2261786C3 - - Google Patents

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DE2261786C3
DE2261786C3 DE19722261786 DE2261786A DE2261786C3 DE 2261786 C3 DE2261786 C3 DE 2261786C3 DE 19722261786 DE19722261786 DE 19722261786 DE 2261786 A DE2261786 A DE 2261786A DE 2261786 C3 DE2261786 C3 DE 2261786C3
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Description

Die Erfindung betrifft eine Festwert-Speicherein- fccit aus in ein Halbleiter-Substrat eindiffimdieiten Halbleitcrstreifen und mit den Halbleiterstrcifcn eine Matrix bildenden Adressenleitungen bzw. Auswahlleitungen, mit ersten Feldeffekt-Transistoren, die selektiv durch Signale auf den Adresscnleitungen leitend werden und entsprechend gespeicherten" Daten 6„ an den Schnittpunkten von Adrcssenleitungen und ausgewählten Paaren angrenzender eindiffundierter Halbleitcrstreifen angeordnet und mit diesen verbunden sind.The invention relates to a read-only memory unit consisting of semiconductor strips diffused into a semiconductor substrate and address lines or selection lines forming a matrix with the semiconductor strips, with first field effect transistors that are selectively conductive by signals on the address lines and correspondingly stored data 6 "Are arranged at the intersections of address lines and selected pairs of adjoining diffused semiconductor strips and are connected to them.

Aus der US-PS 36 1 I 437 ist ein Festwertspeicher aus in ein Halbleitersubstrat eindiffimdicrten und in einer Matrix angeordneten Halbleiterstreifen bekannt, bei dem /um Aufbau einer acht Spalten aufweisenden Speichereinheit zwölf derartige Halbleiter streifen erforderlich sind.From US-PS 36 1 I 437 a read-only memory is diffimdicrten into a semiconductor substrate and into Semiconductor strips arranged in a matrix are known in the / to the structure of an eight column having Storage unit twelve such semiconductor strips are required.

Die Erfindung geht daher von einer weiteren, ii Fig. 1 dargestellten Festwert-Speichereinheit aus, di durch vertikale Linien dargestellte leitende Halb leiterstreifen in einem Halbleiter-Substrat und durcl Kreise bezeichnete Feldeffekt-Transistoren aufweist Adressenleitungen A1 bis Ati und Auswahlleitungei S1 bis S8 bilden mit angrenzenden Halbleiterstrcife: eine Matrix. Die Adressenleitungen sind mehrerei Bit-StelLen in getrennten Speichereinheiten des Sub strats gemeinsam. Aus Vereinfachungsgründen ist nu eine Speichereinheit dargestellt. Die Daten werdei an bestimmten Adressen von Feldeffekt-Transistoren etwa dem Feldeffekt-Transistor 3, gespeichert, dit zwischen einem ersten mit einem Bezugspotentia (z. B. Massepotential) verbundenen Halbleiterstreifen 4, und einem angrenzenden Halbleiterstreifet. 2 angeordnet sind, der über einen weiterer Feldeffekt-Transistor, ζ. Β. den Feldeffekt-Transistor 5, an einen gemeinsamen Ausgang 10 für jeden Halbleiterstreifen der jeweiligen Bit-Position angeschlossen ist.The invention is therefore based on a further, ii Fig. 1 shown read-only memory unit, ie conductive semiconductor strips shown by vertical lines in a semiconductor substrate and field-effect transistors denoted by circles has address lines A 1 to A ti and selection lines S 1 to S 8 form with adjacent semiconductor strips: a matrix. The address lines are shared in several bit positions in separate storage units of the substrate. For the sake of simplicity, only one storage unit is shown. The data are stored at specific addresses of field effect transistors such as the field effect transistor 3, which is between a first semiconductor strip 4 connected to a reference potential (e.g. ground potential) and an adjacent semiconductor strip. 2 are arranged, which has a further field effect transistor, ζ. Β. the field effect transistor 5 is connected to a common output 10 for each semiconductor strip of the respective bit position.

Über jede Adressenleitung werden acht Worte ausgewählt, deren Bits in mehreren derartigen Speichereinheiten abgespeichert sind. Diese Worte werden einzeln, z. B. aufeinanderfolgend durch Signale an den Auswahlleitungen S1 bis S8 ausgelesen, die die Transistoren 5 in die Leitung treiben. Für acht Bits aufweisende Worte sind acht Speichereinheiten vorgesehen, wobei die Bits eines Wortes jeweils an entsprechenden Stellen der acht Speichereinheiten abgespeichert sind. Die Feldeffekt-Transistoren 1 und 5 liegen in Reihe in den vertikalen Halbliriterslreifcn, und die horizontalen Linien durch diese Feldeffekt-Transistoren stellen Verbindungen zu den entsprechenden Steuerclektroden der Feldeffekt-Transistoren dar. Jeder Feldeffekt-Transistor ist mit den beiden llankicrenden Halbleiterstreifen verbunden, und die horizontalen Linien (A1 bis Ah) stellen daher sowohl diese Verbindungen als auch die Verbindungen zu den Stcuerelektroden dar.Eight words are selected via each address line, the bits of which are stored in several such memory units. These words are used individually, e.g. B. read successively by signals on the selection lines S 1 to S 8 , which drive the transistors 5 into the line. Eight memory units are provided for words having eight bits, the bits of a word being stored in corresponding locations in the eight memory units. The field effect transistors 1 and 5 are in series in the vertical semi-conductor strips, and the horizontal lines through these field effect transistors represent connections to the corresponding control electrodes of the field effect transistors. Each field effect transistor is connected to the two semiconductor strips, and the horizontal lines (A 1 to A h ) therefore represent both these connections and the connections to the control electrodes.

Im üblichen Betrieb ist nur ein Adressensignal und ein Auswahlsignal während eines bestimmten Speicherzyklus »wahr«. Vor dem Adressieren der Speichereinheit werden Vorlade-Feldeffekt-Transistoren 1 durch ein Signal auf einer Vorladeleitung leitend geschaltet, um jeden Halbleiterslreifcn 2 an ein Potential — V zu legen und auf ungefähr dieses Potential aufzuladen. Daraufhin werden die Vorlade-Fcldcffekt-Transisloren abgeschaltet und die Halbleiterstreifen von Signalen adressiert, die an den Adressenleitungen /I1 bis AH anliegen. Signale an den Auswahlleiluiigcn S1 bis Sn ermöglichen die Verbindung eines bestimmten Halbleiterstrcifens mit dem Ausgang K). Der Halbleitcrstreifen muß somit gleichzeitig adressiert und ausgewählt sein, damit ein Ausgangssignal auftritt.In normal operation, only one address signal and one select signal are "true" during a particular memory cycle. Before the addressing the memory unit precharge field effect transistors 1 are turned on by a signal on a precharge to each Halbleiterslreifcn 2 to a potential - to place V and charge at about that potential. The precharge Fcldcffekt transistors are then switched off and the semiconductor strips are addressed by signals which are present on the address lines / I 1 to A H. Signals at the selection elements S 1 to S n enable a specific semiconductor strip to be connected to the output K). The semiconductor strip must therefore be addressed and selected at the same time so that an output signal occurs.

Weisen die Leitungen A, und S1 ein »wahres« Potential auf. so wird der Halbleiterstreifen 2 über den Feldeffekt-Transistor 3 an Massepotential gelegt, das am Halbleiterstreifen 4 anliegt. Da de;· Feldeffekt-Transistor 5 leitend ist. wird der Ausgang an Masse verbunden. Daher kann auch bei Vorhandensein z. B. eines Fcldcffeki-Transislors 3' für einen anderen, einem Adressenbit /f, entsprechenden Halbleitcrstreifen 2'. ohne ein Signrl an der dem anderen Halbleiterstrcifcn entsprechenden Auswahlleitunc 53 keinDo the lines A , and S 1 have a "true" potential. so the semiconductor strip 2 is connected via the field effect transistor 3 to ground potential which is applied to the semiconductor strip 4. Since the field effect transistor 5 is conductive. the output is connected to ground. Therefore, even in the presence of z. B. a Fcldcffeki transistor 3 'for another, an address bit / f, corresponding semiconductor strip 2'. without a sign on the selection line 53 corresponding to the other semiconductor strip, no

Ausgangssignal auftreten. Da acht Adressenleitungen ^ acht Ausvvahlleitungen vorgesehen sind, speichert (jje Festwertspeichereinheit nach F i g. 1 ein Bit für !«des Wort von 8 χ 8 = 64 Worten.
'Obwohl die in Fig. 1 dargestellte Fesiwerispeichereinheit bereits eine günstige Speicherstruktur aufweist, hat sie jedoch insofern Nachteile, als ein erheblicher Aufwand an Halbleitersubsiratfläche erforderlich ist, um eine große Anzahl von jeweils viele Bits enthaltenden Worten abzuspeichern. Da für zwei Auswahlspalten drei Halbleiierstreifen (z. B. 2,4 und 6) benötigt werden, sind bei der dargestellten Speichereinheit mit acht Spalten zwölf Halbleiterstreiien erforderlich. Hohe Anzahlen von jeweils viele Bits aufweisenden Datenworten werden z. B. häufig zur Abspeicherung von Befehlen für Mikroprogramme verwendet.
Output signal occur. Since eight address lines ^ eight selection lines are provided, each read-only memory unit according to FIG. 1 stores one bit for! «Of the word of 8 × 8 = 64 words.
Although the hard disk memory unit shown in FIG. 1 already has an inexpensive memory structure, it has disadvantages insofar as a considerable amount of semiconductor substrate area is required in order to store a large number of words each containing many bits. Since three semiconductor strips (e.g. 2, 4 and 6) are required for two selection columns, twelve semiconductor strips are required in the illustrated memory unit with eight columns. Large numbers of data words each having many bits are z. B. often used to store commands for microprograms.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, dit für einen Festwertspeicher hoher Speicherdichte erforderliche Halbleiter-Substratflache zu verringern.The object of the invention is therefore to provide the information required for a read-only memory with a high storage density Reduce semiconductor substrate area.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelost, daß die Halbleiterstrcifen alternierend über zweite Feldeffekt-Transistoren mit einem Bezugspotential und über dritte FeldefTekt-Transisoren mit einem gemeinsamen Ausgang für die Speichcreinheit verbunden sind, wobei die zweiten und dritten Feldeffekt-Transistoren selektiv durch Signale auf den Auswahlleitungen leitend werden. Ferner sind die Halbleiterstreifen durch vierte Feldeffekt-Transistoren mit einem zweiten, gegenüber dem Bezugspoteniial unterschiedlichen Potential verbunden und eine Auswahlleitung ist mit zwei zweiten Feldeffekt-Transistoren verbunden, die zwei verschiedene Halbleiterstrcifen mit dein Bezugspotential verbinden, wobei mindestens einer der beiden zweiten Feldeffekt-Ti ansistoren in Serie mit einem weiteren zweiten Feldeffekt-Transistor geschaltet ist, Her an eine andere Auswahlleitung angeschlossen ist.According to the invention, this object is achieved in that the semiconductor strips alternate over second field effect transistors with a reference potential and via third field effect transistors with a common output for the memory unit are connected, the second and third field effect transistors selectively become conductive by signals on the selection lines. Furthermore, the semiconductor strips are through fourth field effect transistors connected to a second potential different from the reference potential and a selection line is connected to two second field effect transistors, the two different semiconductor strips connect to your reference potential, with at least one of the two second field effect Ti ansistors in series with a further second field effect transistor is connected, Her is connected to another selection line.

Außerdem sind die Adrcssenleitungen und Auswahlleitungen allen Speichereinheiten eines Festweit-Speichers gemeinsam, und mehrere Spcichcrcinhciten speichern zusammen eine gleiche Anzahl Bits eines jeden Wortes einer Anzahl von Worten ab.In addition, there are the address lines and selection lines common to all storage units of a permanent storage unit, and several storage units collectively store an equal number of bits of each word of a number of words.

Vorteilhafterwi'ise ist somit erfindungsgemäß nur etwa ein Halbleitcrstreifen erforderlich, um adressierbare Speicherstellen für die jeweilige Bit-Position eines binären Worte zu bilden, so daß im Gegensatz zu der zwölf Halbleiterslreifen benötigenden Speichereinheit nach F i g. 1 nunmehr lediglich 9 Halbleiterstreifen zum Aufbau einer Festwert-Speichcrein· heit mit 8 Spalten erforderlich sind.Advantageously, according to the invention, is therefore only about a semiconductor strip is required to provide addressable storage locations for the respective bit position of a binary word, so that in contrast to the memory unit that requires twelve semiconductor strips according to FIG. 1 now only 9 semiconductor strips for the construction of a read-only memory unit unit with 8 columns are required.

Ausführungsformen der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden nähet beschrieben. Es zeigtEmbodiments of the invention are shown in the drawing and are sewn in the following described. It shows

Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Festwert-Speichereinheit des Standes der Technik,1 shows a schematic representation of a read-only memory unit the state of the art,

Fig. 2 eine schematische Darstellung der crfindungsgemäßen Festwert-Speiche reinheit und2 shows a schematic representation of the inventive Fixed value spoke purity and

F i si. 3 eine schematische Darstellung eines Teils der Speichcreinheit nach F i g. 2. 6<) F i si. 3 shows a schematic representation of part of the storage unit according to FIG. 2. 6 <)

Fig. 2 stellt eine Festwert-Speichci einheit dar. die die acht Rcihenadrcssen. . I. bis . Is, und acht Spalk'iiadressen, S1., , bis .V7. s aufweist. Somit ergeben sich 64 mögliche Speicherstellen (Adressen). Zur Adressierung einer Speicherstclle muß eine Spähenauswahlleitung und eine Zeilenadressenleilimg ein »wahres« Signal aufweisen. Im Normalfall Ί.Λ während eines Speicherzyklus nur ein Zeilenadressensignal und ein Spaltenauswahlsignal »wahr«. Die Zeilenadressen- und Spaltenauswahlleitungen sind den X- und Y-Leitungen einer Speichermatrix äquivalent. Die Bit-S'ellen können mit 1:1 bis 1:8 bezeichnet werden, wie es bei einigen Adressen der Figur zu entnehmen ist.Fig. 2 shows a fixed-value memory unit. The eight Rcihenadrcssen. . I. to. I s , and eight Spalk'iiadresses, S 1 .,, To .V 7 . s has. This results in 64 possible memory locations (addresses). To address a memory location, a spy selection line and a row address line must have a "true" signal. Normally only one row address signal and one column selection signal "true" during a memory cycle. The row address and column select lines are equivalent to the X and Y lines of a memory array. The bit locations can be designated with 1: 1 to 1: 8, as can be seen in the figure for some addresses.

Die Speichereinheit besteht aus in Halbleitersubstrat eindiffundierten P-leitenden Halbleiterstreifen 20 bis 28, die elektrisch mit einem Potential, z. B. — V, und entweder einem Ausgang 71 oder einem Bezugspotential, wie Massepotential verbunden sind. Erfindungsgemäß sind abwechselnd P-leitende Halbleiterstreifen, wie z.B. die Halbleitersireifen 21, 23, 25 und 27 mit dem Ausgang und die verbleibenden P-leiienden Halbleiterstreifen 20, 22, 24, 26 und 28 mit Massepotential verbunden.The memory unit consists of P-conductive semiconductor strips 20 to 28 diffused into the semiconductor substrate, which are electrically connected to a potential, e.g. B. -V, and either an output 71 or a reference potential, such as ground potential are connected. According to the invention, P-conducting semiconductor strips, such as, for example, the semiconductor tires 21, 23, 25 and 27, are alternately connected to the output and the remaining P-conducting semiconductor strips 20, 22, 24, 26 and 28 are connected to ground potential.

Selbstverständlich kann die Speichereinheit alternativ auch eindiffundierte N-leitende Halbleiterstreifen aufweisen, wobei die Verwendung positiver Potentiale erforderlich ist. In diesem Fall muß die logische Zuordnung, die in Verbindung mit der vorzugsweisen Ausführungsform der Erfindung beschrieben wird, ebenfalls geändert werden. Da hier P-leitende Halb'.eiterstreifen gewählt wurden, sind negative Spannungspegel zur Ansteuerung der die Speicherstellen bildenden Feldeffekt-Transistoren und Darstellung eines »wahren« logischen Zustandes (logische »1«) erforderlich. Masse-Potentiale repräsentieren einen »falschen« logischen Zustand (logische »0«).Of course, the memory unit can alternatively also have diffused N-conductive semiconductor strips have, the use of positive potentials is required. In this case the logical assignment described in connection with the preferred embodiment of the invention will also be changed. Since P-conducting semi-conductor strips were selected here, they are negative Voltage level for controlling the field effect transistors forming the storage locations and Representation of a "true" logical state (logical "1") required. Represent ground potentials a "wrong" logical state (logical "0").

Die Speichereinheit weist ferner erste Feldeffekt-Transistoren 29 bis Sl auf, die zwischen benachbarten P-leitenden Halbleiterstreifen angeordnet sind und die Speicherstellcn bilden. Das Vorhandensein oder Nichtvorhandensein eines solchen ersten Feldeffekt-Transistors zwischen den P-leitenden Halbleiterstreifen bezeichnet den logischen Zustand der an dieser speziellen Adresse gespeicherten Information. Wenn somit kein erster Feldeffekt-Transistor vorhanden ist (z. B. bei 1 : 2 und 8:1), ist das gespeicherte Bit eine logische »1«, und wenn ein erster Feldeffekt-Transistor vorhanden ist (z. B. bei 1:1 und 1 : 3), ist das gespeicherte Bit eine logische »0«. Das Vorhandensein bzw. Nichtvorhandensein eines ersten Feldeffekt-Ttansistors führt zu einem »falschen« bzw. »wahren« Ausgangssignal, wenn an der dem ersten Feldeffekt-Transistor entsprechenden A.dressenleitung und den beiden Auswahlleitungen »wahre« Signale bzw. Potentiale anliegen.The memory unit also has first field effect transistors 29 to Sl, which are between adjacent P-conductive semiconductor strips are arranged and form the storage locations. The presence or Absence of such a first field effect transistor between the P-conducting semiconductor strips denotes the logical state of the information stored at this particular address. When so there is no first field effect transistor (e.g. at 1: 2 and 8: 1), the stored bit is one logical "1", and if there is a first field effect transistor (e.g. at 1: 1 and 1: 3), that's it stored bit a logical "0". The presence or absence of a first field effect transistor leads to a "false" or "true" output signal when connected to the first field effect transistor corresponding A.dressenleitung and the two selection lines "true" signals or potentials issue.

Außerdem sind zweite Feldeffekt-Transistoren 52 bis 61 und 19 in Reihe in den P-leitenden Halbleiterstreifen 20 bis 28 ausgebildet, im Gegensatz zu den ersten Feldeffekt-Transistoren, die zwischen den P-leitenden Halbleitcrstreifen ausgebildet sind. Die zweiten FeldeiTekt- Transistoren schalten die P-leitenden Halbleiterstrcifen, die mit Massepotential odei dem Ausgang verbunden werden sollen. Es sei her ausgestellt, daß Spaltenauswahlsignale für zwei an grenzende P-leitende Halblciterstreifcn während de Speicheradressierungsintervalls »wahr« sind. Infolge dessen sind zumindest zwei zweite Feldeffekt-Tran sislorcn während eines jeden Adressenzyklus leitend Wird z. B. eine der Speicherstellen 1 : 1 bis 8 :1 aus uewählt. so sind die Signale .Ss., und S1 .., »wahre und die Feldeffekt-Transistoren 52, 53 und 54 sin während des entsprechenden Speicheradressierungs zyklus leitend.In addition, second field effect transistors 52 to 61 and 19 are formed in series in the P-type semiconductor strips 20 to 28, in contrast to the first field effect transistors which are formed between the P-type semiconductor strips. The second FeldeiTekt transistors switch the P-conducting semiconductor strips that are to be connected to ground potential or the output. It should be noted that column selection signals for two adjacent P-conducting half-liter strips are "true" during the memory addressing interval. As a result, at least two second field effect Tran sislorcn are conductive during each address cycle. B. one of the storage locations 1: 1 to 8: 1 is selected. The signals .S s ., and S 1 .., »are true and the field effect transistors 52, 53 and 54 are conductive during the corresponding memory addressing cycle.

Die P-leitenden 1 lalbleiterstreifen werden eingangThe P-conducting 1 semiconductor strips are input

über vierte Feldeffekt-Transistoren 62 bis 70 ungefähr auf das Potential — V aufgeladen. Dieses vorlade-Intervall tritt vor einem SpeichcradresscnzykUis auf. Die Ladung wird auf Grund der Eigenkapazität der P-leitenden Ffalbleitcrstreifen gespeichert. Sodann wird je nach Adressierung ein Halbleitcrstreifcn über einer von einem Signal einer Auswahlleitung angesteuerten zweiten Feldeffekt-Transistor mit dem Bezugspotential verbunden, während der angrenzende Halbleiterstreifen über einen von einem Signal der angrenzenden Auswahlleitung angesteuerten Feldeffekt-Transistor mit dem gemeinsamen Ausgang verbunden wird, um ein Auslesen des Signals zu ermöglichen, das die in dem angrenzenden Halbleiterstreifen gespeicherten Daten darstellt. Die Auswahlsignale liegen an den Auswahlleitungen während der gesamten Adressierperiode an, so daß die zweiten Feldeffekt-Transistoren der angrenzenden Kalbleiterstreifen gleichzeitig leiten, um die einem bestimmten Halbleiterstreifen entsprechende Adresse auszuwählen. Charged via fourth field effect transistors 62 to 70 to approximately the potential - V. This v o rlade interval occurs before a SpeichcradresscnzykUis. The charge is stored due to the self-capacitance of the P-conducting fall arrester strips. Then, depending on the addressing, a semiconductor strip is connected to the reference potential via a second field effect transistor controlled by a signal from a selection line, while the adjacent semiconductor strip is connected to the common output via a field effect transistor controlled by a signal from the adjacent selection line in order to enable reading of the signal representing the data stored in the adjacent semiconductor strip. The selection signals are applied to the selection lines during the entire addressing period, so that the second field effect transistors of the adjacent semiconductor strips conduct simultaneously in order to select the address corresponding to a specific semiconductor strip.

Die hohe Speicherdichte der Speichereinheit nach Fig. 2 gegenüber der Speichereinheit nach Fig. 1 wird bei einem Vergleich der beiden Figuren deutlich. Bei der Speichereinheit nach Fig. 1 sind drei eindiffundierte Halbleiterstreifen 2, 4 und 6 für jeweils zwei NOR-Glieder einer Bitstellc erforderlich. Wird mit N die Anzahl der Auswahlspalten bezeichnet, so ist die Anzahl der eindiffundierten HalbleiterstreifenThe high storage density of the storage unit according to FIG. 2 compared to the storage unit according to FIG. 1 becomes clear when comparing the two figures. In the memory unit according to FIG. 1, three are diffused in Semiconductor strips 2, 4 and 6 are required for each two NOR elements of a bit position. Will with N denotes the number of selection columns, then is the number of diffused semiconductor strips

yN. Dagegen werden bei der Spcichercinheit nach Fig. 2 nur zwei P-leitcnde Halbleiterstreifen. z.B. 20 und 21, für zwei NOR-Glieder benötigt. Die Anzahl der eindiffundierten Halbleitern eifen ist somit N-M und entspricht demnach fast genau der Anzahl N der Auswahlspalten. Obwohl hier NOR-Glieder zum Aufbau der Speichcreinheit verwendet werden. können auch andere logische Verknüpfungsarten benutzt werden. Bei Verwendung von NOR-Gliedern ist das Ausgangssignal »falsch«, wenn ein Signal anliegt. d. h. der logische Zustand »wahr« ist. Liegt kein Signal an, d.h., ist der logische Zustand »falsch«, so ist das Ausgangssignal »wahr«. Die Bezeichnungen »wahr« und »falsch« werden — wie bereits erwähnt — verwendet, um die binären Zustände einer logischen »1« und einer logischen »0« darzustellen.yN. On the other hand, in the case of the memory unit 2 only two P-conducting semiconductor strips. e.g. 20 and 21, required for two NOR elements. The number of semiconductors diffused in is thus N-M and therefore corresponds almost exactly to the number N of selection columns. Although NOR members here can be used to build the storage unit. other types of logic can also be used will. When using NOR elements, the output signal is »false« if a signal is present. d. H. the logical state is "true". If there is no signal, i.e. if the logic state is "false", see above the output signal is "true". The terms "true" and "false" become - as already mentioned - used to represent the binary states of a logical "1" and a logical "0".

Da bei der Speichereinheit nach F i g. 1 ein zusätzlicher P-leitender Halbleiterstreifen zur Bildung von jeweils zwei NOR-Gliedern benötigt wird, ist somit gegenüber der erfindungsgemäßen Speichereinheit nach Fig. 2 eine ungefähr um 1Zs größere Substratfläche zum Aufbau eines derartigen Festwertspeichers erforderlich.Since in the memory unit according to FIG. 1 an additional P-conducting semiconductor strip is required to form two NOR elements, a substrate area approximately 1 Zs larger than the memory unit according to the invention according to FIG. 2 is required for the construction of such a read-only memory.

In F i g. 3 ist die Festwert-Speichereinheit nach F i g- 2 schematisch dargestellt. Wie F i g. 3 zu entnehmen ist, liegt der Feldeffekt-Transistor 29 zwischen den P-leitenden Halbleiterstreifen 20 und 21. Ein »wahres« (negatives) Signal der Adressenleitung A j treibt den Feldeffekt-Transistor 29, in die Leitung, um die Halbleiterstreifen 20 und 21 elektrisch miteinander zu verbinden. Die Halbleiterstreifen 21 und 22 bleiben weiterhin voneinander isoliert. Ist andererseits das Signal A2 »wahr«, besteht keine elektrische Verbindung zwischen den P-leitendcn Halbleiterstreifen 20 und 21. In diesem Falle besteht die elektrische Verbindung zwischen den P-leitendcn Halbleiterstreifen 21 und 22. Die vierten Feldeffekt-Transistoren 62 und 63 liegen in Reihe mit den P-leitcnden HaIbleitci sUcifcn 20 bzw. 21, um vor einem Speicher-Adrcssicrungszyk'ius jeden P-leilcnden llalbleilcrstreifcn an das Poicnlial -- V zu legen, wenn ein »wahres« Yorladc-Signal ansteht, ü. h., die P-leitcnden Halbleiterstreifen werden auf cuis Potential Γ gebracht bzw. vorgeladen. Daraufhin sperren die vierten Feldeffekt-Transistoren, und das Potential — I' wird durch die Kapazität der P-lcitcndcn HaIbleilcrstrcifen gespeichert.In Fig. 3 the read-only memory unit according to FIG. 2 is shown schematically. Like F i g. 3, the field effect transistor 29 is located between the P-conducting semiconductor strips 20 and 21. A “true” (negative) signal on the address line A j drives the field effect transistor 29 into the line around the semiconductor strips 20 and 21 to connect electrically to each other. The semiconductor strips 21 and 22 continue to be insulated from one another. On the other hand, if the signal A 2 is "true", there is no electrical connection between the P-conducting semiconductor strips 20 and 21. In this case, the electrical connection is between the P-conducting semiconductor strips 21 and 22. The fourth field effect transistors 62 and 63 are located in series with the P-conducting semiconductors sUcifcn 20 and 21, respectively, in order to apply each P-conducting omnidirectional strip to the poicnlial - V before a memory addressing cycle, if a "true" Yorladc signal is present . This means that the P-conducting semiconductor strips are brought or precharged to cuis potential Γ. Thereupon the fourth field effect transistors block, and the potential -I 'is stored by the capacitance of the P-lcitcndcn semiconductors.

ίο Ferner ist in F i g. 3 auch die Spaltenauswahl veranschaulicht, üic zweiten Feldeffekt-Transistoren 52 und 53 für die Auswahlleitungen SH,, und S1 4., sind in Reihe mit dem P-lcitenden Halbleiterbereich 20 geschaltet. Sind die Spaltenauswahlsignale »wahr«, so liegt der P-leitcndc Halbleiterstreifen 20 an Massepotcntial. Der Feldeffekt-Transistor 54 ist in Reihe mit dem P-leilendcn Halbleiterstreifen 21 geschaltet, um ein Ausgangssignal an die entsprechenden NOR-Glieder, z. B. das zu den P-leitenden Halbleitcrstreifen 20 und 21 gehörende NOR-Glied, abzugeben, wenn diese adressiert sind.ίο Furthermore, in F i g. 3, the column selection illustrates UEIC second field effect transistors 52 and 53 for the select lines S and S 1 H ,, 4., Are connected in series with the P-type semiconductor region lcitenden 20th If the column selection signals are “true”, then the P-line semiconductor strip 20 is at ground potential. The field effect transistor 54 is connected in series with the P-leilendcn semiconductor strip 21 in order to send an output signal to the corresponding NOR elements, e.g. B. the NOR element belonging to the P-conducting semiconductor strips 20 and 21, when these are addressed.

Gemäß F i g. 2 werden bei Beginn eines Opcralionszyklus des Speichers die vierten Feldeffekt-Transistoren 62 bis 70 in die Leitung getrieben, und jeder P-lcitcndc Halbleitcrstreifcn 20 bis 28 wird ungefähr auf das Potential V vorgeladen. Während des Vorladeinlervalls sperren die zweiten Feldeffekt-Transistoren 52 und 61. In ähnlicher Weise werden ebenfalls die ersten Feldeffekt-Transistoren 29 bis 51 währ;. .J des Vorladcintcrvalls gesperrt gehalten.According to FIG. 2, at the beginning of an operation cycle of the memory, the fourth field-effect transistors 62 to 70 are driven into the line, and each P-lcndc semiconductor strip 20 to 28 is precharged to approximately the potential V. The second field effect transistors 52 and 61 block during the precharge interval. .J of the precharge interval held locked.

Nach dem Vorladc-lntervall wird eine bestimmte Speichcrstelle adressiert, indem ein ^wahres* Signal über eine der Adressenleitungcn ,·(, bis A^ und ein »wahres« Signal über zwei der Auswahlleitungen Sg4, bis S7. j; abgegeben werden. Beispielhaft sei angenommen, daß das Signal der Adresscnleiturig A. und die Signale der Auswahlleitungen.^., und 5,,., während des Speicherzyklus »wahr« sind. Die anderen Signale seien falsch·:. Während des Spcicherzyk'ius werden daher die zweiten Feldeffekt-Transistoren 52 und 53 in die Leitung getrieben, so daß der P-lcitendc Halbleiterstreifen 20 an Mas-e liegt. Da auch der Feldeffekt-Transistor 29 zwischen den P-leitenden Halbleitcrstrciien 20 und 21 leitet, sind die beiden P-leitendcn Halbleiterstreifen elektrisch miteinander verbunden, und der P-leitendc Halbleiterstreifen 21 wird ebenfalls über den Feldeffekt-Transistor 29 entladen. Der Feldeffekt-Transistor 54 "leitet ebenfalls, so daß das Ausgangssignal »falsch« ist. Anders ausgedrückt, da der Feldeffekt-Transistor 29 zwischen den P-leitenden Halbleiterstreifen 20 und 21 liegt und leitet, um eine Verbindung zwischen den Halbleiterstreifen herzustellen, werden diese auf Massepotential entladen, und das Ausgangssignal ist »falsch«.After the precharge interval, a specific memory location is addressed by emitting a true signal via one of the address lines, (, to A ^ and a "true" signal via two of the selection lines Sg 4 , to S 7, j ;. As an example, it is assumed that the signal of the address line A. And the signals of the selection lines. ^., And 5 ,,., Are "true" during the memory cycle. The other signals are false second field effect transistors 52 and 53 are driven into the line so that the P-lcitendc semiconductor strip 20 is connected to ground Semiconductor strips are electrically connected to one another, and the P-conductive semiconductor strip 21 is also discharged via the field effect transistor 29. The field effect transistor 54 "also conducts, so that the output signal is" false ". In other words, because the Field effect transistor 29 lies between the P-conducting semiconductor strips 20 and 21 and conducts, in order to establish a connection between the semiconductor strips, these are discharged to ground potential, and the output signal is "false".

Wenn andererseits der Feldeffekt-Transistor 29 nicht vorhanden ist. entlädt sich die Ladung des P-lcitenden Halbleiterstreifens 21 nicht über die Feldeffekt-Transistoren 52 und 53 auf Massepotential.On the other hand, when the field effect transistor 29 is absent. discharges the charge of the P-lcitenden semiconductor strip 21 does not have the field effect transistors 52 and 53 to ground potential.

und das Signal an dem entsprechenden NOR-Glied ist »falsch« und das Ausgangssignal somit »wahr«.and the signal at the corresponding NOR element is "false" and the output signal is thus "true".

Selbstverständlich erstrecken sich die Adressen- und Auswahlleitungen zu anderen Bit-Stellen in weiteren Abschnitten des Festwertspeichers (nicht gezeigt). Das Ausgangssignal für alle Bitstcllcn des addrcssiertcn Festwertspeichers wird gleichzeitig an entsprechenden Ausgangsanschlüssen 71 erhalten. Die Feldeffekt-Transistoren 52 und 53 sowie 19Of course, the address and select lines extend to other bit locations in further sections of the read-only memory (not shown). The output signal for all bit segments of the added read-only memory is obtained at the same time at corresponding output connections 71. The field effect transistors 52 and 53 and 19

.iur.iur

und 61 bilden zwei UND-Verknüpfungsanordnungen, die benötigt werden, um die gleichzeitige Auswahl der P-leitenden Halbleiterstreifen 20 und 28 zu verhindern. Wenn z. B. die Speicherstelle 8 :1 ausgewählt ist, liegen die Leitungen /I8, S8,, und S,. 2 an einem »wahren« Potential. Da die Leitung As an einem »wahren« Potential liegt, leiten die Feldeffekt-Transistoren 36, 39, 41, 44, 46, 49 und 51, und wenn nur der Feldeffekt-Transistor 19 im Halbleiterstreifen 28 vorhanden wäre, könnte der Ausgang 71 irriger-and 61 form two AND gating arrangements which are required to prevent the P-type semiconductor strips 20 and 28 from being selected at the same time. If z. B. the memory location 8: 1 is selected, the lines / I 8 , S 8 ,, and S ,. 2 at a "true" potential. Since the line A s is at a “true” potential, the field effect transistors 36, 39, 41, 44, 46, 49 and 51 conduct, and if only the field effect transistor 19 were present in the semiconductor strip 28, the output 71 could more erroneous

weise über die Feldeffekt-Transistoren 19, 51, 49, 46 44, 41, 39, 36 und 54 geerdet werden. Dieser Strom kreis wird durch den Feldeffekt-Transistor 61 ge sperrt, so daß der Halbidteistreifen 28 nur geerdc ist, wenn sowohl an der Leitung S8 H, als auch an dei Leitung S1,B ein »wahres« Potential anliegt. In glei eher Weise ist der Halbleiterstrcifen 20 nur dam über die Feldeffekt-Transistoren 52 und 53 geerdet wenn sowohl an der Leitung S8,, als auch an dei ίο Leitung S1,2 ein »wahres« Potential anliegt.wise via the field effect transistors 19, 51, 49, 46, 44, 41, 39, 36 and 54 are grounded. This circuit is blocked by the field effect transistor 61, so that the half-strip 28 is only grounded when a "true" potential is present on both the line S 8 H and the line S 1 , B. In the same way, the semiconductor strip 20 is only grounded via the field effect transistors 52 and 53 when a "true" potential is present on both the line S 8 , and the line S 1 , 2.

Hierzu 3 Blatt ZeichnungenFor this purpose 3 sheets of drawings

Claims (4)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Festwert-Speichereinheit aus in ein Halbleiter-Substrat eindiffundierten Halbleiterstreifen und mit den Halbleiterstreifen eine Matrix bildenden Adressenleitungen bzw. Auswahlleitungen, mit ersten Feldeffekt-Transistoren, die selektiv durch Signale auf den Adressenleitungen leitend werden und entsprechend gespeicherten Daten an den Schnittpunkten von Adressenleitungen und ausgewählten Paaren angrenzender eindiffundierter Halbleiterstreifen angeordnet und mit dieser: verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleitentreifen (20 bis 28) alternierend über zweite Feldeffekt-Transistoren (52, 53. 55. 57, 59, 19, 61) mit einem Bezugspotential und über dritte Feldeffekt-Transistoren (54, 56, 58, 60) mit einem gemeinsamen Ausgang (71) für die Speichereinheit verbunden sind, wubei die zweiten und dritten Feldeffekt-Transistoren selektiv durch Signale auf den Auswahlleitungen (S„ ., bis S7.,) leitend werden.1. Read-only memory unit made of semiconductor strips diffused into a semiconductor substrate and address lines or selection lines forming a matrix with the semiconductor strips, with first field effect transistors that are selectively conductive by signals on the address lines and correspondingly stored data at the intersections of address lines and selected pairs of adjacent diffused semiconductor strips are arranged and connected to them, characterized in that the semiconductor strips (20 to 28) alternately via second field effect transistors (52, 53, 55, 57, 59, 19, 61) with a reference potential and via third field effect transistors (54, 56, 58, 60) are connected to a common output (71) for the memory unit, the second and third field effect transistors being selectively transmitted by signals on the selection lines (S "., to S 7. , ) become conductive. 2. Festwert-Speichereinheit nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleilerstreifen (20 bis 28) durch vierte Feldeffekt-Transistoren (62 bis 70) mit einem zweiten, gegenüber dem Bezugspotential unterschiedlichen Potential (■- V) verbunden sind.2. Read-only memory unit according to claim 1, characterized in that the semiconductor strips (20 to 28) are connected by fourth field effect transistors (62 to 70) to a second potential (■ - V) different from the reference potential. 3. Festwert-Speichereinheit nach den An-Sprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Auswahlleitung (Ss,,) mit zwei zweiten Feldelf ekt-Transistoren (52 bzw. 19) verbunden ist, die zwei verschiedene Halbleiterstreifen (20 und 28) mit dem Bezugspotential verbinden, und daß mindestens einer der beiden zweiten FeIdeffek-Transistoren (52 bzw. 19) in Serie mit einem weiteren zweiten Feldeffekt-Transistor (53 bzw. 61) geschaltet ist, der an eine andere Auswahlleitung (S142 bzw. S7. ^) angeschlossen ist.3. Read-only memory unit according to claims 1 and 2, characterized in that a selection line (S s ,,) is connected to two second field effect transistors (52 and 19), the two different semiconductor strips (20 and 28 ) connect to the reference potential, and that at least one of the two second FeIdeffek transistors (52 or 19) is connected in series with a further second field effect transistor (53 or 61), which is connected to another selection line (S 142 or S 7. ^) Is connected. 4. Festwert-Speichereinheit nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Adressenleitungen (Λ 1 bis A 8) und Auswahlleitungcn (S8., bis S7 + 8) allen Speichereinheiten eines Festwertspeichers gemeinsam sind und mehrere Speichereinheiten zusammen eine gleiche Anzahl Bits eines jeden Wortes .-incr Anzahl von Worten speichern.4. Read-only memory unit according to claims 1 to 3, characterized in that the address lines (Λ 1 to A 8) and selection lines (S 8. , To S 7 + 8 ) are common to all memory units of a read-only memory and several memory units together are the same Number of bits of each word.-Incr Store the number of words.
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