DE2160821C3 - Process for the deposition of copper layers on molded articles made of polyimides - Google Patents
Process for the deposition of copper layers on molded articles made of polyimidesInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung festhaftender Kupferschichten auf Formkörpern aus Polyimiden.The invention relates to a method for depositing firmly adhering copper layers on molded bodies Polyimides.
Es ist bekannt, Formkörper aus elektrisch nichtleitenden Kunststoffen, z. B. aus Polystyrol, Acrylnitril-Butadien-Styrol-Mischpoiymerisaten (ABS-Kunststoffe), Polyolefinen und Polyestern, gegebenenfalls nach geeigneter Vorbehandlung, stromlos oder galvanisch mit dünnen Metallüberzügen zu versehen.It is known that molded bodies made of electrically non-conductive plastics, e.g. B. from polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene Mischpoiymerisaten (ABS plastics), polyolefins and polyesters, optionally after suitable pretreatment, electrolessly or galvanically with to provide thin metal coatings.
Hierbei hat sich insbesondere ein Verfahren bewährt, bei dem auf der Kunststoffoberfläche eine sehr dünne Schicht von Edelmetallkeimen abgeschieden wird, indem man die Oberfläche mit einer Edelmetallsalzlösung sensibilisiert unJ mit der Lösung eines Reduktionsmittels aktiviert. An den Edelmetallkeimen lassen sich dann mittels chemischer oder galvanischer Metallisierungsbäder zusammenhängende Metallschichten abscheiden.In this case, a method has proven particularly useful in which a very thin surface is applied to the plastic surface A layer of noble metal nuclei is deposited by sensitizing the surface with a noble metal salt solution and activating it with a solution of a reducing agent. On the precious metal nuclei then deposit cohesive metal layers by means of chemical or galvanic metallization baths.
Man kann eine derartige Vorbehandlung z. B. durchführen, indem man die Oberfläche zuerst mit einer Palladiumsalzlösung, z. B. PdCl2, und dann mit einer Hydrazinhydratlösung behandelt. Dabei scheiden sich geringe Mengen an elementarem Palladium auf der Oberfläche ab.You can such a pretreatment z. B. perform by first treating the surface with a palladium salt solution, e.g. B. PdCl 2 , and then treated with a hydrazine hydrate solution. Small amounts of elemental palladium are deposited on the surface.
Um die später aufzubringenden Metallschichten haftfest zu verankern, ist es üblich, die Kunststoffoberfläche vor der genannten Vorbehandlung mechanisch oder bevorzugt chemisch aufzurauhen. Bei den ABS-In order to firmly anchor the metal layers to be applied later, it is customary to mechanically fix the plastic surface prior to the aforementioned pretreatment or preferably to roughen chemically. With the ABS Kunststcrffen wird die chemische Aufrauhung z. B. mit konzentrierter Schwefelsäure, die noch ein Oxydationsmittel enthalten kann, durchgeführt.For plastics, chemical roughening is used e.g. B. with concentrated sulfuric acid, which may also contain an oxidizing agent.
In der GB-PS 12 47 706 oder der FR-PS 20 37 988 werden Verfahren beschrieben, in denen Polyesteroder auch Polyimidoberflächen vor dem stromlosen Aufbringen einer Metallschicht, insbesondere einer Nickelschicht, wie folgt in der angegebenen Folge vorbehandelt werden: chemische Reinigung der OberIn GB-PS 12 47 706 or FR-PS 20 37 988 processes are described in which polyester or polyimide surfaces before the electroless Application of a metal layer, in particular a nickel layer, as follows in the specified sequence to be pretreated: dry cleaning of the upper fläche mit Säuren oder Alkalilösungen, Sensibilisieren mit einer SnClrLösung und Aktivieren mit einer Palladiumsalzlösung.surface with acids or alkali solutions, sensitize with a SnClr solution and activation with a palladium salt solution.
Wenn man die bisher bekannten Metallisierungsverfahren ohne Zusatz von Halogenfettsäure im Behand-If you use the previously known metallization process without the addition of halogenated fatty acid in the treatment lungsbad auf die Verkupferung von Polyimidformkörpern anwendet, so erhält man keine fest haftenden Oberzüge.treatment bath is applied to the copper plating of polyimide moldings, no firmly adhering ones are obtained Uppers.
Aus der US-PS 35 61 995 kann die Behandlung einer großen Anzahl sehr unterschiedlicher Kunststoffe u. a.From US-PS 35 61 995 the treatment of a large number of very different plastics, inter alia.
auch Polyester mit Edelmetallsalzen in einer großen Anzahl sehr unterschiedlicher Reaktionsmedien entnommen werden. Als einer der vielen möglichen Verbindungstypen sollen auch halogenisierte Fettsäuren zur Behandlung der Kunststoffe möglich sein. Diepolyester with precious metal salts can also be removed in a large number of very different reaction media. As one of the many possible Compound types should also be possible for the treatment of plastics with halogenated fatty acids. the Behandlung mit den verschiedenen Reaktionsmedien erfolgt jedoch je langer je niedriger die Reaktionstemperatur ist, d. h. eine technologisch interessante kurze Reaktionszeit ist nur mit hohen Badtemperaturen zu erreichen, so daß der Umgang mit diesen Lösungen fürTreatment with the various reaction media takes place, however, the longer the lower the reaction temperature, d. H. a technologically interesting short one The reaction time can only be achieved with high bath temperatures, so that these solutions are used for den Benutzer gefährlich ist und eine erhebliche Korrosionswirkung der Lösung zu erwarten ist Außerdem wird die Verwendung der Reaktionsmedien für Polyimidoberflächen nicht beschrieben oder nahegelegt.is dangerous to the user and a significant corrosive effect of the solution is to be expected In addition, the use of the reaction media for polyimide surfaces is not described or suggested.
J5 In der älteren Patentanmeldung P 20 62 2155-45 ist bereits ein Verfahren zur Abscheidung von. Metallschichten auf Formkörpern aus Polyestern vorgeschlagen worden, bei dem die Oberfläche des FormkörpersJ5 In the earlier patent application P 20 62 2155-45 is already a process for the deposition of. Metal layers on molded articles made of polyesters have been proposed in which the surface of the molded article
a) mit einer Edelmetallsalzlösung sensibilisiert, gegebenenfallsa) sensitized with a precious metal salt solution, if necessary
b) mit einem Reduktionsmittel aktiviert undb) activated with a reducing agent and
c) mit einer Metallsalzlösung, z. B. einer Kupfersalzlösung, chemisch metallisiertc) with a metal salt solution, e.g. B. a copper salt solution, chemically metallized
wird, wobei die Reihenfolge von a) und b) vertauschtthe order of a) and b) reversed werden kann. Dabei wird der jeweils erste der Schritte a) und b) oder jeder von beiden Schritten oder mindestens der Schritt a) mit einer Lösung durchgeführt, die zusätzlich 5 bis 25 Gew.-% einer halogenisierten Fettsäure aus der Gruppe der Trichloressigsäure,can be. This is the first of the steps a) and b) or each of both steps or at least step a) carried out with a solution which additionally contains 5 to 25% by weight of a halogenated fatty acid from the group of trichloroacetic acid, Trifluoressigsäure und 2,2,3-Trichlorpropionsäure enthält, und der Formkörper unmittelbar nach der Behandlung mit der Halogenfettsäure enthaltenden Lösung unter Erwärmen getrocknet Gegenüber dem Stand der Technik verläuft dieses vorgeschlageneContains trifluoroacetic acid and 2,2,3-trichloropropionic acid, and the molded body immediately after Treatment with the halogen fatty acid-containing solution with heating, dried compared to the Prior art proceeds this suggested Verfahren ohne wesentliche korrodierende Wirkung der Behandlung in Schritt a) bei nur kurzzeitiger Erwärmung des Formkörpers.Process without significant corrosive effect the treatment in step a) with only brief heating of the molding.
Aufgabe der Erfindung war es, ein Verfahren — ohne die bekannten Nachteile des Standes der Technik - zuThe object of the invention was to provide a method - without the known disadvantages of the prior art finden, nach dem man auch auf Formkörpern aus Polyimiden fest haftende Kupferschichten abscheiden kann.find, after which firmly adhering copper layers are also deposited on molded articles made of polyimides can.
Die Erfindung geht aus von dem älteren Verfahren zur Abscheidung von Kupferschichten auf FormkörpernThe invention is based on the older method for depositing copper layers on shaped bodies aus Kunststoffen, bei dem man die Oberfläche des Formkörpersmade of plastics, in which the surface of the molded body
a) mit der Lösung eines Edelmetallsalzes und 5 bis 25 Gew.-% einer halogenierten Fettsäure aus dera) with the solution of a noble metal salt and 5 to 25 wt .-% of a halogenated fatty acid from the
Gruppe der Trichloressigsäure, Trifluoressigsäure und 2Ä3-Trichlorpropionsäure sensibüisiert undTrichloroacetic acid group, trifluoroacetic acid and 2Ä3-trichloropropionic acid sensitized and
b) mit einer Lösung eines Reduktionsmittels aktiviert undb) activated with a solution of a reducing agent and
c) mit einer Kupfersalziösung chemisch metallisiert, wobei die Reihenfolge von a) und b) vertauscht werden kann, und bei dem man den Formkörper unmittelbar nach dem Schritt a) unter Erwärmen trocknetc) chemically metallized with a copper salt solution, whereby the order of a) and b) can be interchanged, and in which the shaped body is directly after step a) dries with heating
Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß man einen Formkörper aus einem Polyimid verwendetThe inventive method is characterized in that a molded body from a Polyimide used
Es wurde also gefunden, daß sich bestimmte Ausführungsformen des älteren Verfahrens zum Metallisieren von Folyesterformkörpern auch zur Verkupferung von Polyimidformkörpern anwenden lassen. Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt daher - abgesehen von den Einschränkungen, die aus der obigen Definition hervorgehen - weitgehend analog zu dem Verfahren der älteren Anmeldung.So it was found that it was determined Embodiments of the older method for metallizing polyester molded bodies can also be used for copper-plating polyimide molded bodies. the The method according to the invention is therefore carried out - apart from the restrictions that emerge from the definition above - largely analogous to the procedure of the earlier application.
Als Polyimide, deren Oberfläche erfindungsgemäß metallisiert werden kann, kommen im wesentlichen alle hochmolekularen Kondensationsprodukte von aromatischen Diaminen mit Dianhydriden aromatischer Tetracarbonsäuren in Betracht Beispiele für geeignete aromatische Diamine sindAs polyimides, the surface of which can be metallized according to the invention, are essentially all high molecular weight condensation products of aromatic diamines with dianhydrides of aromatic tetracarboxylic acids into consideration examples of suitable are aromatic diamines
4,4'-Diamino-diphenyIpropan, 4,4'-Diamino-diphenylmethan,Benzidin, 4,4'-Diamino-diphenylsuIfid, 4,4'-Diamino-diphenylsuIfon, 4,4'-Diamino-diphenyläther, m-Phenylendiamin, p-Phenylendiamin u. dgL mehr.4,4'-diamino-diphenylpropane, 4,4'-diamino-diphenylmethane, benzidine, 4,4'-diamino-diphenyl sulfide, 4,4'-diamino-diphenyl sulfone, 4,4'-diamino-diphenyl ether, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine and others.
Als Reaktionspartner sind z. B. die Dianhydride der folgenden Tetracarbonsäuren geeignet: 2,3,6,7-Naphthalintetracarbonsäure, 3,3',4,4'-DiphenyItetracarbonsäure, Bis-(3,4-dicarboxy-phenyl)-propan, Bis-(3,4-dicarboxy-phenyl)-ätherund Pyromellithsäure.As reactants are z. B. the dianhydrides of the following tetracarboxylic acids are suitable: 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic acid, 3,3 ', 4,4'-DiphenyItetracarboxylic acid, bis- (3,4-dicarboxy-phenyl) -propane, Bis (3,4-dicarboxy-phenyl) -ether and pyromellitic acid.
Als halogenierte Fettsäure werden solche aus der Gruppe Trichloressigsäure, 2,2,3-Trichlorpropionsäure und Trifluoressigsäure verwendet, bevorzugt wird Trichloressigsäure verwendetHalogenated fatty acids are those from the trichloroacetic acid group, 2,2,3-trichloropropionic acid and trifluoroacetic acid is used, trichloroacetic acid is preferably used
Die Behandlungslösung, die die Halogenfettsäure enthält, enthält als Lösungsmittel vorzugsweise Wasser. Das Lösungsmittel kann aber auch aus organischen Flüssigkeiten, z.B. Aceton, Butanon, oder deren Gemisch mit Wasser bestehen.The treatment solution containing the halogenated fatty acid preferably contains water as a solvent. The solvent can also consist of organic liquids, e.g. acetone, butanone, or their Mix with water.
Der Gehalt der Edelmetallsalz-Lösung an halogenierter Fettsäure, insbesondere Trichloressigsäure, beträgt etwa 5 bis 25 Gew.-%, bevorzugt 10 bis 15 Gew.-%.The content of halogenated fatty acid, in particular trichloroacetic acid, in the noble metal salt solution is about 5 to 25% by weight, preferably 10 to 15% by weight.
Als Edelmetallsalze kommen die Salze von Platin, Palladium, Gold oder Silber in Betracht Bevorzugt wird Palladiumchlorid verwendet, das in Konzentrationen zwischen 0,001 und 5 Gew.-%, vorzugsweise zwischen 0,005 und 0,5 Gew.-%, vorliegen kann.The salts of platinum, palladium, gold or silver come into consideration as noble metal salts. Preferred Palladium chloride used, which in concentrations between 0.001 and 5 wt .-%, preferably between 0.005 and 0.5 wt%.
Als Reduktionsmittel wird gewöhnlich Zinn-Il-chlorid benutzt, es können aber auch organische Reduktionsmittel, z. B. Hydrazinhydrat, benutzt werden. Zinn-II-chlorid wird in salzsaurer wäßriger Lösung in Konzentrationen zwischen 0,1 und 10 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.-%, angewandt, Hydrazinhydrat in alkalischer wäßriger Lösung in Konzentrationen zwischen 0,1 und 5 Gew.-°/o, vorzugsweise von 0,5 bis 1 Gew.-%.Tin-II-chloride is usually used as the reducing agent used, but it can also organic reducing agents such. B. hydrazine hydrate can be used. Tin (II) chloride is in hydrochloric acid aqueous solution in Concentrations between 0.1 and 10% by weight, preferably from 0.5 to 5% by weight, applied, hydrazine hydrate in alkaline aqueous solution in concentrations between 0.1 and 5% by weight, preferably from 0.5 to 1 Wt%.
Sowohl die Edelmetallsalz-Lösungen ais auch die Reduktionsmittel-Lösungen läßt man bei Zimmertemperatur 10 Sekunden bis 10 Minuten, vorzugsweise 30 Sekunden bis 3 Minuten, lang einwirken.Both the precious metal salt solutions and the Reducing agent solutions are left at room temperature for 10 seconds to 10 minutes, preferably 30 Work for seconds to 3 minutes.
Vor der Sensibilisierung bzw. Aktivierung der Polyimid-Formkörper werden diese zweckmäßig einer Reinigung bzw. oberflächlichen Hydroiyse untei worfen, um eine gleichmäßige Benetzung durch die Behandlungslösung zu erreichen. Die Reinigung kann in bekannter Weise mit organischen Lösungsmitteln, mit Säuren oder Alkalien erfolgen.Before the polyimide moldings are sensitized or activated, they are expediently one Cleaning or superficial hydrolysis, to achieve even wetting by the treatment solution. Cleaning can be done in in a known manner with organic solvents, with acids or alkalis.
Als besonders zweckmäßig hat sich eine Behandlung mit einer wäßrigen Lösung erwiesen, die 1 bis 5 Gew.-%A treatment with an aqueous solution which contains 1 to 5% by weight has proven to be particularly expedient.
to Chromsäure, 30 bis 60 Gew.-% Phosphorsäure und 30 bis 50 Gew.-% Schwefelsäure enthält Die Badtemperatur liegt zwischen 50 und 80° C. Die Einwirkungsdauer beträgt 5 bis 15 Minuten. Die Säure wird nach der Behandlung abgespült undto chromic acid, 30 to 60 wt .-% phosphoric acid and 30 contains up to 50% by weight sulfuric acid. The bath temperature is between 50 and 80 ° C. The exposure time is 5 to 15 minutes. The acid is rinsed off after the treatment and
π die der Polyimidkörper-Oberfläche noch anhaftenden Chromsäure-Reste werden zweckmäßig mit einer alkalischen Natriumthiosuiiat- Lösung entfernt Dadurch wird eine unkontrollierte lokale Reaktion des Edelmetallsalzes mit anhaftenden Chromsäure-Resten beimπ those still adhering to the surface of the polyimide body Chromic acid residues are expediently removed with an alkaline sodium thioside solution becomes an uncontrolled local reaction of the noble metal salt with adhering chromic acid residues
Als zu verkupfernde Formkörper kommen alle Arten von starren, z. B. im Spritzguß hergestellten, Formkörpern aus Polyimiden in Betracht Es können aber auch z. B. Fasern, Fäden und Folien aus Polyimiden nach demAs molded bodies to be copper-plated come all types of rigid, z. B. manufactured by injection molding, molded articles made of polyimides into consideration but it can also z. B. fibers, threads and films made of polyimides after erfindungsgemäßen Verfahren verkupfert werden. Insbesondere bei verkupferten Folien, die verbreitete technische Anwendung finden, ist das erfindungsgemäße Verfahren von besonderem Vorteil, da naturgemäß bei biegsamen Folien die Haftung einer MetallschichtProcess according to the invention are copper-plated. Especially with copper-plated foils, the widespread Find technical application, the process according to the invention is of particular advantage because it is natural in the case of flexible foils, the adhesion of a metal layer
jo ein größeres Problem darstellt als bei starren Formkörpern.jo poses a bigger problem than with rigid moldings.
Allen beschriebenen Behandlungslösungen werden vorzugsweise in bekannter Weise die Netzfähigkeit verbessernde Stoffe zugesetzt, um eine möglichstAll of the treatment solutions described are preferably wetting in a known manner improving substances added to a possible gleichmäßige Wirkung zu erzielen. Der erfindungsgemäß verwendeten, Halogenfettsäure enthaltenden Sensibilisierungslösung wird zur gleichbleibenden Benetzung auch während des Trocknungsvorganges noch eine kleine Menge, z. B. 0,01 bis 2%, einer wasserlöslito achieve an even effect. The sensitizing solution containing halogen fatty acid used according to the invention is still used for constant wetting even during the drying process a small amount, e.g. B. 0.01 to 2%, a water-soluble chen hochmolekularen Substanz, z. B. Polyvinylalkohol, zugesetzt. Der Netzmittel-Gehalt der Lösung kann im allgemeinen etwa 0,1 bis 5% betragen. Wenn als Aktivierungslösung eine Hydrazinhydrat- oder Zinn-II-chlorid-Lösung benutzt wird, braucht dieser LösungChen high molecular substance, e.g. B. polyvinyl alcohol, added. The wetting agent content of the solution can generally be about 0.1 to 5%. If as Activating solution, a hydrazine hydrate or tin (II) chloride solution is used, this solution is required kein Netzmittel zugesetzt zu werden.no wetting agent to be added.
Nach dem Aufbringen der Halogenfettsäure enthaltenden Sensibilisierungslösung wird der Formkörper bei erhöhter Temperatur getrocknet. Hierbei ist es wesentlich, daß die Temperatur der behandeltenAfter the sensitizing solution containing halogen fatty acid has been applied, the molded body is at dried at elevated temperature. It is essential that the temperature of the treated
so Oberfläche bei Verwendung einer Halogenfettsäure enthaltenden Palladiumsalz-Lösung 150° C nicht überschreitet; im allgemeinen werden 120 bis 130° C angewandt. Die Trocknung sollte nicht zu rasch erfolgen, da anscheinend eine gewisse Einwirkungszeitso surface when using a halogen fatty acid containing palladium salt solution does not exceed 150 ° C; generally 120 to 130.degree applied. The drying should not be done too quickly, as it seems that it takes a certain amount of time to take effect der Behandlungslösung bei erhöhter Temperatur für die Erzielung einer guten Haftung der Kupferschicht auf der Unterlage erforderlich ist. Die Trocknungszeit kann im allgemeinen 1 bis 3 Minuten, z. B. 2 Minuten, betragen. Die Trocknung kann in heißer Luft, sie kannthe treatment solution at an elevated temperature to achieve good adhesion of the copper layer the document is required. The drying time can generally be 1 to 3 minutes, e.g. B. 2 minutes, be. Drying can be done in hot air, they can auch unter Infrarotstrahlern erfolgen.also take place under infrared heaters.
Nach der Abscheidung von Edelmetallkeimen auf der Oberfläche des Polyimid-Formkörpers kann das Kupfer auf der Oberfläche der Polyimid-Formkörper aus einem Reduktionsmittel enthaltenden Kupfersalz-Bad stromes los abgeschieden werden.After the deposition of noble metal nuclei on the surface of the polyimide molded body, the copper can be deposited without electricity on the surface of the polyimide molded body from a reducing agent-containing copper salt bath.
Nachdem eine Kupfer-Schichtdicke in der Größenordnung von 0,2 bis 03 μιη erreicht worden ist, kann die weitere Verstärkung der Kupferschicht galvanisch oderAfter a copper layer thickness of the order of 0.2 to 03 μιη has been achieved, the further reinforcement of the copper layer galvanically or
wiederum stromlos in bekannter Weise erfolgen.again take place without current in a known manner.
Die Bedingungen und Arbeitsweise für die beschriebenen Metallisierungsschritte sind an sich bekannt und nicht Gegenstand der vorliegenden Erlindung.The conditions and mode of operation for the described Metallization steps are known per se and are not the subject of the present invention.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können fest haftende Kupferschichten auf einen Teil der Oberfläche oder auf die gesamte Oberfläche des Formkörpers aufgebracht werden. So können Folien z. B. ein- und beidseitig verkupfert werden. Die Haftung der Kupferschicht auf der Unterlage nimmt in der ersten Zeit nach der Metallabscheidung zu und erreicht nach 1 bis 3 Tagen ihren endgültigen maximalen Wert.According to the method according to the invention, firmly adhering copper layers can be applied to part of the surface or applied to the entire surface of the molded body. So foils z. B. one and be copper-plated on both sides. The adhesion of the copper layer to the base decreases in the first time metal deposition increases and reaches its final maximum value after 1 to 3 days.
Für die galvanische Verstärkung der etwa 0,2 bis 0,3 μπι dicken erfindungsgemäß abgeschiedenen Kupferschichten eignen sich galvanische Bäder mit und ohne Zusatz von Einebnungs- und Glättungsmitteln. Die Kupfer-Abscheidung in den galvanischen Bädern geschieht bei Stromdichten zwischen 0,1 und 2 A/qdm. Die galvanisch abgeschiedenen Kupfei schichten haften zusammen mit der stromlos abgeschiedenen Unterschicht fest auf der Polyimid-Unterlage.For the galvanic reinforcement of the approximately 0.2 to 0.3 μm thick copper layers deposited according to the invention Galvanic baths with and without the addition of leveling and smoothing agents are suitable. the Copper is deposited in the electroplating baths at current densities between 0.1 and 2 A / qdm. The electrodeposited copper layers adhere together with the electrolessly deposited lower layer firmly on the polyimide base.
Die erfindungsgemäß erhaltenen Kupferschichten haften so fest auf der Unterlage, daß sie, selbst wenn die verkupferten Formkörper wochenlang in einer mit Wasserdampf gesättigten Atmosphäre gelagert werden, ihre gute Haftung behalten.The copper layers obtained according to the invention adhere so firmly to the substrate that they, even if the copper-plated moldings are stored for weeks in an atmosphere saturated with water vapor, keep their good adhesion.
Wird eine Polyimid-Folie demselben Behandlungsverfahren unterworfen wie die erfindungsgemäß behandelte Folie, wird jedoch dabei der Edelmetallsalz-Lösung keine Halogenfettsäure zugesetzt, dann findet entweder im stromlosen Bad überhaupt keine Kupferabscheidung statt (wenn die Folie zuerst mit Palladiumchlorid und dann mit Reduktionsmittel behandelt worden ist), oder es findet zwar Kupferabscheidung im stromlosen Bad statt (wenn die Folie zuerst mit Reduktionsmittel und dann mit Palladiumchlorid behandelt worden ist), aber nach Verstärkung der stromlos abgeschiedenen Schicht im galvanischen Bad läßt sich die verstärkte Kupferschicht leicht von der Unterlage trennen. In mit Wasserdampf gesättigter Luft geht dann die Haftung der galvanisch verstärkten Schichten innerhalb von drei Tagen stark zurück.If a polyimide film is the same treatment process like the foil treated according to the invention, but is subjected to the noble metal salt solution If no halogen fatty acid is added, then either there is no copper deposition at all in the electroless bath instead (if the foil is treated first with palladium chloride and then with reducing agent has been), or there is copper deposition in the electroless bath instead (if the foil first with Reducing agent and then treated with palladium chloride), but after amplifying the electroless After the deposited layer in the electroplating bath, the reinforced copper layer can easily be removed from the base separate. The galvanically reinforced layers then adhere in air saturated with water vapor back sharply within three days.
Wegen der außerordentlich guten Wärmebeständigkeit der Polyimid-Folien können verkupferte Polyimid-Folien z. B. zur Herstellung von gedruckten Schaltungen verwendet werden. Man kann dabei von den galvanisch mit Kupfer verstärkten Folien oder von den Folien ausgehen, die nur die stromlos abgeschiedene dünne Kupferschicht tragen.Because of the extremely good heat resistance of the polyimide films, copper-plated polyimide films z. B. used for the production of printed circuits. You can use the galvanic foils reinforced with copper or emanating from the foils, which are only the thin, electrolessly deposited Wear copper layer.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird an Hand der folgenden Beispiele erläutert. Prozentzahlen sind, wenn nichts anderes angegeben ist, Gewichtsprozente.The process according to the invention is illustrated using the following examples. Percentages are when nothing else is indicated, percentages by weight.
Eine 100 μηι starke Polyimid-Folie aus dem Polykondensat von Diaminodiphenyläther und Pyromellithsäuredianhydrid wurde 7 Minuten lang in einer wäßrigen, 70° C warmen Lösung gebadet, die 1,7% Chromsäure, 49,0% Phosphorsäure, 40,0% Schwefelsäure und 9,3% Wasser sowie 0,005% Perffuoroctancarbonsäure als Netzmittel enthielt.A 100 μm thick polyimide film made from the polycondensate of diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride was 7 minutes in an aqueous, Bathed at 70 ° C, the 1.7% chromic acid, 49.0% phosphoric acid, 40.0% sulfuric acid and 9.3% Containing water and 0.005% perffuorooctanecarboxylic acid as a wetting agent.
Die Folie wurde 1 Minute lang mit Wasser abgebraust und 5 Minuten in einer 40°C warmen wäßrigen Lösung gebadet, die 3% Natriumhydroxid und 1% Natriumthiosulfat enthielt.The film was rinsed with water for 1 minute and in a 40 ° C. aqueous solution for 5 minutes bathed, which contained 3% sodium hydroxide and 1% sodium thiosulfate.
Die Folie wurde wieder 1 Minute mit Wasser abgebraust und dann 30 Sekunden bei Zimmertemperatür in einer wäßrigen Lösung gebadet, die 0,15% Palladiumchlorid, 0,25% Chlorwasserstoff, 0,5% Polyvinylalkohol mit dem K-Wert 30 und 12% Restacetylgruppengehalt, 0,4% dodecylbenzolsulfonsaures Natrium und 13% Trichloressigsäure enthieltThe film was again rinsed with water for 1 minute and then for 30 seconds at room temperature bathed in an aqueous solution containing 0.15% palladium chloride, 0.25% hydrogen chloride, 0.5% polyvinyl alcohol with a K value of 30 and a residual acetyl group content of 12%, 0.4% sodium dodecylbenzenesulfonate and contained 13% trichloroacetic acid
Die gebadete Folie wurde 2 Minuten bei 130°C getrocknet Die getrocknete Folie wurde 30 Sekunden bei Zimmertemperatur in einer wäßrigen Lösung gebadet, die 0,6% Hydrazinhydrat und 1,25% Natriumhydroxid enthielt. Die Folie wurde abgebraust und 2 Minuten lang in ein 49° C warmes stromloses Kupferbad gebracht, das folgende Zusammensetzung hatte:The bathed film was dried at 130 ° C. for 2 minutes. The dried film was 30 seconds bathed at room temperature in an aqueous solution containing 0.6% hydrazine hydrate and 1.25% sodium hydroxide contained. The foil was sprayed off and placed in a 49 ° C electroless copper bath for 2 minutes brought, which had the following composition:
6,2 g
0,1g
15 g6.2 g
0.1g
15 g
CuSO4-SH2O
NiSO4-7 Fi2O
Formaldehyd
Natrium-hyposulfil
13,5 g Natriumhydroxid
6 g Natriumtartrat
8,5 g N,N,N',N'-Tetra-(2-hydroxypropyl)-äthylendiamin CuSO 4 -SH 2 O
NiSO 4 -7 Fi 2 O
formaldehyde
Sodium hyposulfil
13.5 g sodium hydroxide
6 g sodium tartrate
8.5 g of N, N, N ', N'-tetra (2-hydroxypropyl) ethylenediamine
0,25 g Addukt von Äthylenoxid an Isopropanol,
mit Wasser auf 1 Liter aufgefüllt0.25 g adduct of ethylene oxide with isopropanol,
made up to 1 liter with water
Auf der Folienoberfläche schied sich eine 03 μπι dicke Kupferschicht ab. Als in diese mit der Rasierklinge ein Kreuzmuster von feinen, in etwa 1 mm Abstand stehenden Strichen geritzt und dann das Muster mit einem druckempfindlichen Klebstreifen überklebt wurde, löste sich beim ruckartigen Abziehen des Klebstreijo fens kein Kupfer von der Unterlage.A 03 μπι separated on the film surface thick copper layer. When in this with the razor blade a cross pattern of fine, spaced about 1 mm vertical lines and then the pattern was pasted over with a pressure-sensitive adhesive tape, no copper came off the base when the adhesive strip was jerked off.
Die Kupferschicht wurde bei Zimmertemperatur in dem folgenden galvanischen Bad bei 1 A je Quadratdezimeter Stromdichte in 3 Stunden auf 30 μπι verstärkt.The copper layer was applied at room temperature in the following electroplating bath at 1 A per square decimeter Current density increased to 30 μm in 3 hours.
3r> Badzusammensetzung:3 r > bathroom composition:
250 g CuSO4SH2O
50 g Schwefelsäure (98%ig)
mit Wasser auf 1 Liter aufgefüllt250 g CuSO 4 SH 2 O
50 g sulfuric acid (98%)
made up to 1 liter with water
Zum Abziehen der Kupferschicht eines 1 cm breiten Folienstreifens von der Polyimid-Folie war im Schältest nach DIN 40 802 eine Abzugskraft nicht meßbar, da sich beim Versuch, die Kupferfolie von der Polyimidfolie zu trennen, diese spaltete, bevor die Kupferschicht riß.A 1 cm wide film strip was used to peel off the copper layer from the polyimide film According to DIN 40 802, a pull-off force cannot be measured, since the attempt to remove the copper foil from the polyimide foil separate, this split before the copper layer tore.
Wenn die galvanisch abgeschiedene Kupferschicht nur 10 μπι stark war, ließ sie sich ebenfalls nicht von der Unterlage lösen.If the electrodeposited copper layer was only 10 μm thick, it could also not be removed from the Loosen the pad.
Die ebenso wie in Beispiel 1 entfettete und mit alkalischer Natriumthiosulfat-Lösung gespülte Folie wurde zunächst 5 Minuten bei Zimmertemperatur in einer wäßrigen Lösung aktiviert, die 0,5 Gew.-% Zinn-II-chlorid und 0,7 Gew.-% Chlorwasserstoff enthieltThe film degreased as in Example 1 and rinsed with alkaline sodium thiosulphate solution was first activated for 5 minutes at room temperature in an aqueous solution containing 0.5% by weight Tin (II) chloride and 0.7% by weight hydrogen chloride contained
Die Folie wurde 1 Minute mit Wasser abgebraust, dann bei Zimmertemperatur 30 Sekunden in einer wäßrigen Lösung gebadet, die 0,15% Palladiumchlorid, 0,25% Chlorwasserstoff, 0,5% Polyvinylalkohol wie in Beispiel I1 0,4% dodecylbenzolsulfonsaures Natrium und 13% Trichloressigsäure enthielt. Die gebadete Folie wurde 2 Minuten lang bei 130° C getrocknet. Sie wurde 2 Minuten lang in das 49° C warme Kupferbad des Beispiels 1 gebracht.The film was rinsed with water for 1 minute, then bathed at room temperature for 30 seconds in an aqueous solution containing 0.15% palladium chloride, 0.25% hydrogen chloride, 0.5% polyvinyl alcohol as in Example I 1 and 0.4% sodium dodecylbenzenesulfonate Contained 13% trichloroacetic acid. The bathed film was dried at 130 ° C. for 2 minutes. It was placed in the 49 ° C. copper bath of Example 1 for 2 minutes.
Die Kupferschichtdicke betrug 0,24 μπι. Die Schicht haftete untrennbar bei dem in Beispiel 1 beschriebenen Klebstreifenversuch.The copper layer thickness was 0.24 μm. The layer inseparably adhered in the adhesive tape test described in Example 1.
Die galvanische Verstärkung dieser Schicht wurde wie in Beispiel 1 bis zu einer Schichtdicke von 30 μιτι durchgeführt.The galvanic reinforcement of this layer was as in Example 1 up to a layer thickness of 30 μm carried out.
Zum Abziehen der Kupferschicht war wie in Beispiel 1 eine Kraft nicht meßbar.As in Example 1, a force for peeling off the copper layer could not be measured.
Wenn die galvanisch abgeschiedene Kupferschicht nur Ιϋμίτι stark war, ließ sie sich von der Unterlage nicht lösen.If the electrodeposited copper layer was only Ιϋμίτι thick, it could be removed from the base not solve.
8 Polyimidfolien wurden in der in den Beispielen
bzw. 2 beschriebenen Weise behandelt.8 polyimide films were used in the examples
or 2 described manner treated.
Die Tabelle zeigt die Versuchsergebnisse bei verschiedener Reihenfolge der Sensibilisierungs-Lösung a) und der Reduktions-Lösung b) mit und ohne Zusatz von Trichloressigsäure (TCE) zu den Lösungen a) und b).The table shows the test results with different orders of the sensitization solution a) and the reducing solution b) with and without the addition of trichloroacetic acid (TCE) to the solutions a) and b).
A = Kupferabscheidungen im stromlosen Kupferbad (0,2 bis 0,3 μΐη) und Haftung der stromlos abgeschiedenen Kupferschicht.A = copper deposits in the electroless copper bath (0.2 to 0.3 μΐη) and adhesion of the electroless deposited copper layer.
in B = Verstärkung der Schicht A im galvanischen Kupferbad auf 10 μπι und Haftung der galvanisch verstärkten Kupferschicht.in B = reinforcement of layer A in the galvanic copper bath to 10 μπι and adhesion of the galvanic reinforced copper layer.
oder HydrazinhydratTin-II-chloride
or hydrazine hydrate
oder HydrazinhydratTin-ll-chloride
or hydrazine hydrate
weniger trennbarCu deposition more or
less separable
oder HydrazinhydratTin-II-chloride
or hydrazine hydrate
untrennbarCu deposition
inseparable
oder HydrazinhydratTin-II-chloride
or hydrazine hydrate
untrennbarCu deposition
inseparable
trennbarCu deposition
separable
trennbarCu deposition
separable
Eine untrennbare Haftung wird also nur dann erzielt, wenn die Trichloressigsäure allein der Palladiumchloridlösung zugesetzt wird.Inseparable adhesion is only achieved when the trichloroacetic acid is the only solution of the palladium chloride is added.
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