DE2139713C3 - Process for applying electrically conductive acid and / or alkali-resistant coatings to metallic or non-metallic surfaces - Google Patents
Process for applying electrically conductive acid and / or alkali-resistant coatings to metallic or non-metallic surfacesInfo
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description
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metallisch oder nichtmetallisch sein kann) erhält abspaltenden Substanz), so überziehen sie sich mit man erfindungsgemäß eine Beschichtung hoher elek- einer lückenlosen, festhaltenden, goldgelben Schicht, irischer Leitfähigkeit und ausgezeichneter Resistenz die Titan, Stickstoff und Chlor enthält, den elekgegen Säuren und Basen, die auch in mechanischer taschen Strom gut leitet und gegen starke Säuren und Hinsicht aHen Anforderungen genügt. Versprödung S Alkalien auch in der Hitze beständig ist Diese außerder Oberfläche bzw. de« Grundmetalls wird nicht gewöhnlichen elektrischen wie chemischen Eigenbeobachtet. Es versteht sich von selbst, daß die Ober- schäften schlagen eine Anwendung solchermaßen gefläche, die beschichtet werden soll, zuvor der inten- srhützler Titanelemente für die Konstruktion von siven schemischen und/oder mechanischen Reinigung Elektroden für elektrochemische Prozesse u. dgl. vor. bedarf. Man kann im Rahmen der beschriebenen io Das erfindungsgemäße Verfahren der Schutzschicht-Maßnahmen die Beschichtung einschichtig oder auch bildung verbindet kurze Reaktionszeiten mit niederen mehrschichtig aufbauen. Sie entsteht in der beschrie- Reaktionstemperaturen im Vergleich zu den bisheribenen Weise auf allen Metallen der angegebenen gen Methoden der Schutzschichtbildung. Nebengruppen des Periodensystems, ist praktisch Im folgenden seien als Ausführungsbeispiel porenfrei und genügt in mechanischer Hinsicht allen 15 typische Reaktionen angeführt: Anforderungen. Durch Auswahl geeigneter Metalle 1. Vorgereinigtes Titanpulver wird im Chloraminläßt sich ohne Schwierigkeiten erreichen, daß die Be- strom oder im Strom eines Gemisches aus NH3 und schichtung auch auf nichtmetallischen Oberflächen einer chlorliefernden Substanz auf über 325° C ergut haftet und in mechanischer Hinsicht allen An- hitzt Die Strömungsgeschwindigkeit der Gase resulforderungen genügt. — Besonderer Haftvermittler 30 tiert aus etwa 40 l/h Chloramin plus etwa 100 l/h bedarf es nicht. Verdünnungsgas. Die Gasmenge tritt von unten durchcan be metallic or non-metallic) contains separating substance), so they are coated according to the invention with a coating of high electrical - a gapless, permanent, golden-yellow layer, Irish conductivity and excellent resistance that contains titanium, nitrogen and chlorine, the electrical against acids and bases, which conducts electricity well even in mechanical pockets and meets all requirements with respect to strong acids. Embrittlement The alkali is also resistant to heat. This, in addition to the surface or the base metal, is not observed in the usual electrical or chemical way. It goes without saying that the upper shafts suggest an application of such a surface that is to be coated beforehand of the intensive titanium elements for the construction of chemical and / or mechanical cleaning electrodes for electrochemical processes and the like. requirement. In the context of the described process, the protective layer measures according to the invention can be used to build up the coating as a single layer or also to form a combination of short reaction times and lower multilayered ones. It arises in the described reaction temperatures in comparison to the previous ways on all metals of the specified gene methods of protective layer formation. Subgroups of the periodic table are practical. The following is a non-porous exemplary embodiment and, from a mechanical point of view, is sufficient for all 15 typical reactions: Requirements. By selecting suitable metals 1. Pre-cleaned titanium powder in chloramine it can be achieved without difficulty that the stream or in the stream of a mixture of NH 3 and stratification also adheres well to non-metallic surfaces of a chlorine-producing substance at over 325 ° C and from a mechanical point of view all Heats up The flow speed of the gases is sufficient. - There is no need for a special adhesion promoter made from approx. 40 l / h chloramine plus approx. 100 l / h. Diluent gas. The amount of gas passes through from below
fahrens liegt die Reaktionstemperatur im Bereich von pulver in einer Wirbelschicht umgesetzt wird. Imdriving, the reaction temperature is in the range of powder in a fluidized bed. in the
etwa 325 bis 500 C für Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mn, eigentlichen Reaktionsraum bildet sich eine dunkel-about 325 to 500 C for Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mn, a dark-
400 C. Um die im übrigen temperaturabhängige Re- trennt an der heißen Wand als zu beschichtende400 C. Around the otherwise temperature-dependent separation on the hot wall than to be coated
aktionsgeschwindigkeit zu steuern, empfiehlt die Er- Oberfläche eine goldgelbe dünne Schicht abscheidet,To control the speed of action, the Er surface recommends depositing a golden yellow thin layer,
findung, daß das Chloramin bzw. die Komponenten die hohe elektrische Leitfähigkeit mit Resistenz gegenFinding that the chloramine or the components have high electrical conductivity with resistance to
des Chloramins gasförmig (aber frei von Wasser- 30 Säuren und Basen vereint — Ahnlich könnte manof chloramine in gaseous form (but free of water - acids and bases combined - one could do a similar thing
dampf und Sauerstoff) und in Anwesenheit eines auch mit Fasern arbeiten.steam and oxygen) and also work with fibers in the presence of one.
inerten Verdünnungsgases (z. B. Stickstoff oder Edel- 2. Ein durch 15minutiges Kochen in konzentrierter gas wie Argon) eingesetzt werden, wobei durch die Salzsäure oder Oxalsäurelösung vorgereinigtes Titan-Verdünnungsgasmenge die Reaktionsgeschwindigkeit blech wird durch Widerstandheizung auf 325 bis gesteuert wird. Wird nicht mit gasförmigem Chlor- 35 450° C erhitzt wobei der Reaktionsraum von außen ainin gearbeitet, sondern mit Komponenten des zur Vermeidung des Verstopfens durch NH4Cl auf Chloramins, so arbeitet man, wie bereits erwähnt, mindestens 325° C gehalten wird. In den Reaktionsmit Gemischen aus Ammoniak und chlorhaltigen raum wird wie bei 1. Chloramin plus Inertgas einge-Substanzen, wie etwa CCl4, HCCl3, SOCl2 u. dgl., die führt. Bei N2 als Inertgas und einem Molverhältnis thermisch unter Abspaltung von Chlor zerfallen und 40 ClNHj/Ng von etwa 1:3 beträgt die Reaktionszeit somit schließlich die Komponenten des Chloramins um eine lückenlose, festhaftende Schicht auf dem liefern, was zweckmäßigerweise im Reaktionsraum Titanblech zu erzeugen, 5 Minuten, selbst geschieht. Arbeitet man mit Komponenten des Um die Beständigkeit der Schichten zu prüfen, Chloramins, so ist anzunehmen, daß neben Chlor- wurden diese in Form eines li/TiN-Geriistes als amin, NH2Cl, entstehendes NH4Cl in einer Neben- 45 Anode im Bleiakkumulator eingesetzt. Die Schichten reaktion zur Schichtbildung beiträgt. zeigten erstaunliche elektrochemische Stabilität auchinert diluent gas (e.g. nitrogen or noble 2. A boiling in concentrated gas such as argon for 15 minutes) can be used, whereby the amount of titanium diluent gas pre-cleaned by the hydrochloric acid or oxalic acid solution, the reaction rate is controlled by resistance heating to 325 bis. If the reaction chamber is not heated with gaseous chlorine to 35 450 ° C while the reaction chamber is operated from the outside, but with components of the chloramine to avoid clogging by NH 4 Cl, then, as already mentioned, at least 325 ° C are used. In the reaction with mixtures of ammonia and chlorine-containing space, as in 1., chloramine plus inert gas, such as CCl 4 , HCCl 3 , SOCl 2 and the like. With N 2 as inert gas and a molar ratio thermally decomposing with elimination of chlorine and 40 ClNHj / Ng of about 1: 3, the reaction time is ultimately the components of the chloramine to provide a gapless, firmly adhering layer on what is expediently produced in the reaction chamber of titanium sheet , 5 minutes, even happens. To work with components of the to test the resistance of the layers, chloramine, it is to be assumed that, besides chlorine them in the form of a li / TiN Geriistes were as amine, NH 2 Cl, arising NH 4 Cl in a side 45 anode used in lead accumulator. The layer reaction contributes to layer formation. showed amazing electrochemical stability too
gemäße Verfahren für den Aufbau nitridischer Titan- 400 und mehr Lade/Entladezyklen. Zu ähnlich posi-Proper procedures for building nitridic titanium 400 and more charge / discharge cycles. Too similarly positive
schichten als Beschichtung auf Titanoberflächen. Be- tiven Ergebnissen kommt man bei entsprechenden handelt man mittels konzentrierter Salzsäure oder 50 Untersuchungen mit anderen Metallen der IV. bis Oxalsäurelösung vorgereinigte Titanbleche oder VIII. Nebengruppe des Periodensystems. Im Raster-Vliese beliebiger Dicke bei etwa 400° C mit Chlor- Elektronenmikroskop zeigen die Schichten keine amin (oder Ammoniak gemischt mit einer chlor- Schuppenbildung.layers as a coating on titanium surfaces. You get positive results with the right ones it is dealt with by means of concentrated hydrochloric acid or 50 tests with other metals from IV. to Oxalic acid solution pre-cleaned titanium sheets or VIII. Subgroup of the periodic table. In the raster fleece of any thickness at around 400 ° C with a chlorine electron microscope, the layers do not show any amine (or ammonia mixed with chlorine flaking.
Claims (4)
Priority Applications (12)
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (3)
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DE2139713A1 DE2139713A1 (en) | 1973-02-22 |
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Family Applications (1)
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DE19712139713 Expired DE2139713C3 (en) | 1971-08-07 | 1971-08-07 | Process for applying electrically conductive acid and / or alkali-resistant coatings to metallic or non-metallic surfaces |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE2139713C3 (en) |
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1971
- 1971-08-07 DE DE19712139713 patent/DE2139713C3/en not_active Expired
Also Published As
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DE2139713A1 (en) | 1973-02-22 |
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