DE2128374A1 - Substrates for heavy duty electric circuits - consisting of thin beryllium oxide layer on alumina support - Google Patents

Substrates for heavy duty electric circuits - consisting of thin beryllium oxide layer on alumina support

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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K1/02Details
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

Danger of overheating is avoided due to the high thermal conductivity of BeO (6-9 times that of Al2O3) whilst costs are not much increased as the BeO layer is thin. The BeO and Al2O3 layers are formed together by coextrusion, or BeO is deposited from the gas phase; plasma- or flame-spraying can be applied. Single substrates can be joined together on a refractory metal base serving as a cooler.

Description

Substrat für elektronische Anwendungen Die Erfindung bezieht sich auf ein Substrat für elektronische Anwendungen hoher Leistungsdichte, welches den herstellungsbedingten hohen Preis und andere Nachteile der reinen Berylliumoxid-Keramik teilweise dadurch vermeidet, dass eine Berylliumoxidauflage auf ein normales Substrat, vorzugsweise aus Aluminiumoxid1 aufgebracht wird. Substrate for Electronic Applications The invention relates to on a substrate for high power density electronic applications, which has the manufacturing-related high price and other disadvantages of pure beryllium oxide ceramic partially avoided by applying a beryllium oxide layer to a normal substrate, is preferably applied from aluminum oxide1.

In der Dünn- und Dickfilmtechnik sind Aluminiumoxid-Substrate in weit verbreitetem Einsatz. Die elektrische Belastbarkeit der Schaltung wird durch die maximal zulässige Spitzentemperatur eines Schaltungselementes gegeben, im Falle von aktiven Bauelementen bzw. Schaltungsbestandteilen von der maximal zulässigen Temperatur der Sper-rschicht. Zur Erzielung einer hohen elektrischen Belastbarkeit werden Substrate hoher thermischer Leitfähigkeit verwendet. In Fällenlwo reinstes Aluminiumoxid noch eine zu geringe Wärmeleitfähigkelt aufweist, verwendet man Substrate aus Berylliumoxid, welche eine 8 - 9-fach höhere Wärmelaitfähigkeit besitzbne Einer verbreiteten Anwendung dieses Substrates steht ein relativ hoher Preis entgegen, welcher durch die relativ hohen Materialkosten, die Verarbeitungsschwierigkeiten wegen der Giftigkeit des Berylliumoxids sowie die geringen Stückzahlen zu begründen ist.In thin and thick film technology, aluminum oxide substrates are in far widespread use. The electrical load capacity of the circuit is determined by the maximum permissible peak temperature of a circuit element given, in the case of active components or circuit components from the maximum permissible Temperature of the barrier layer. To achieve a high electrical load capacity substrates with high thermal conductivity are used. In cases where it is pure Aluminum oxide still has insufficient thermal conductivity, substrates are used Made of beryllium oxide, which has an 8 - 9 times higher thermal conductivity widespread use of this substrate is opposed to a relatively high price, which by the relatively high material costs, the processing difficulties to justify because of the toxicity of beryllium oxide and the small number of pieces is.

Da aber die elektrische Belastbarkeit in weitaus den meisten Fällen nur durch die Spitzentemperaturen auf diskreten Punkten der SchaQtung-bestimst ist, wird erfindungsgemäss ein Substrat verwendet, welches eine relativ dünne Schicht aus Berylliumoxid auf einer normalen, vorzugsweise Aluminiumoxid-Unterlage aufweist. Diese dünne Schicht hoher thermischer Le.ifähigkeit verbreitert den Temperaturpol eines Schaltungsbestandteiles beträchtlich und führt schliesslich die Wärme an das Crundsubstrat abO Diese dünne 5chicht.aus B.erylliumax.id mit einer Dicke von vorzugsweise über 50 µ kann nach an sich bekannten Verfahren, wie Plasmaspritzen- Flammspritzen, Gasphasenabscheidung oder anderen konventienellen Verfahren, wie z.B. der Koextrusion, aufgebracht werden. Gegenüber den konvent-ionellen Verfahren-besitzen aber die erstgenannten Verfahren den-\Iprzug-, ctass die toxischen Stoffe nur in einem genau definierten Gefäss gehandhabt werden, sqdassdie arbeitshygienischen massnahmen minimal werden im Vergleich zu einer konventionullen Herstellung.But there is the electrical load capacity in by far the majority of cases the protection is only determined by the peak temperatures on discrete points, According to the invention, a substrate is used which has a relatively thin layer of beryllium oxide on a normal, preferably aluminum oxide base. This thin layer of high thermal conductivity widens the temperature pole of a circuit component and ultimately leads the heat to the Basic substrate abO This thin 5chicht.fr B.erylliumax.id with a thickness of preferably over 50 µ can be carried out using methods known per se, such as plasma spraying, flame spraying, Vapor deposition or other conventional processes such as coextrusion, be applied. Compared to the conventional methods, however, the former have Process den- \ Iprzug-, ctass the toxic substances only in a precisely defined The container must be handled so that the occupational hygiene measures are minimal compared to conventional production.

Die aufgebrachten Berylliumoxidschichten müssen wenigstens eine relative Dichte von 90% aufweisen, da die thermische Leitfähigkeit stark von der Porosität abhängt. Für den Fall dass diese infolge zu- geringer Dichte noch nicht ausreichen sollte, unterzieht man das beschichtete Substrat noch nachträglich einem Scharfbrand bei vorzugsweise über oder um 1600°C, wodurch die Auflage dicht wird und ausserdem die toxikologischen Gefahren bei der Weiterverarbeitung auf ein minimum herabgedrückt werden0 Es ist ein weiteres Merkmal der Erfindung, dass für den Fall der Abscheiduno des-Berylliumoxids aus der Gasphase durch geeignete Einstellung des Wassergasgleichgewichtes sowie geeigneter Wahl der Abscheidetemperatur,- der Druckverminderung sowie der Substrattemperatur der Prpzess so geführt wird, dass bei zunehmender Schichtdicke des abgeschiedenen SeryLliumoxids die Berylliumoxidschicht selbst immer glatter wird, sqdasst ausgehend von einem relativ rauhen Grundsubstrat bei zunehmiender- Beschichtung eine abnehmende Rauhigkeit erzielt wird0 Die erfindungsgemässen Substrate bringen ferner auch bezüglich der elektrischen Belastbarkeit Vorteile, wenn diese in beschaltetem Zustand zu einer grösseren Volumeinheit vereint werden und in engem gegenseitigen Kontakt liegen0 Sollte in diesem Schaltungspaket durch einfe zusätzliche Wärmesenke die Temperatur herabgesetzt werden, so kann ein metall geeigneten Ausdehnungsverhaltens und genügend hohen Schmelzpunktes ebenfalls mit Berylliumoxid beschichtet werden, Diese Setallfahne wird in das Paket eingebracht, wobei W aber zum Zwecke der Wärmeableitung über das Paket herausragt und evtlO an ein Chassis angeschraubt werden kann. In diesem Falle übernimmt diese erfindungsqemässe Metallfahne, sofern sie elektrisch beschaltet wird noch zusätzlich .AbschirmungsaufgabenO Sofern toxikologische Bedenken hintangestellt werden können, kann diese Aufgabe in besonders eleganter Weise anodisch oxidiertes Berylliumblech übernehmen.The beryllium oxide layers applied must be at least one relative Have a density of 90%, since the thermal conductivity depends heavily on the porosity depends. In the event that these are not yet sufficient due to insufficient density should, the coated substrate is subsequently subjected to a sharp firing at preferably above or around 1600 ° C, which makes the support tight and also the toxicological risks during further processing are reduced to a minimum will be0 It is another feature of the invention that for the Case of the separation of beryllium oxide from the gas phase by suitable adjustment the water gas equilibrium as well as a suitable choice of the separation temperature, - the Pressure reduction as well as the substrate temperature the process is carried out in such a way that with increasing layer thickness of the deposited serylium oxide, the beryllium oxide layer itself becomes smoother and smoother, based on a relatively rough base substrate with increasing coating, a decreasing roughness is achieved Substrates also have advantages in terms of electrical load capacity, if these are combined into a larger volume unit in the connected state and be in close mutual contact0 Should be in this circuit package through an additional heat sink can reduce the temperature, a metal suitable expansion behavior and sufficiently high melting point also with Beryllium oxide coated, this setall flag is placed in the package, but where W protrudes over the package for the purpose of heat dissipation and possibly an a chassis can be screwed on. In this case, this takes over according to the invention Metal flag, if it is electrically connected, in addition. Shielding tasksO If toxicological concerns can be put aside, this task can Take over anodically oxidized beryllium sheet in a particularly elegant way.

Claims (1)

Patentansprüche Claims Substrat für elektronische Anwendungen höherer elektrischer Belastbarkeit im beschalteten Zustand, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t, dass schaltungseitig eine Berylliumoxidschicht auf ein normal gebräuchliches Substrat, insbesondere aus Aluminiumoxid gefertigt, aufgebracht isto 2o Substrat nach Anspruch 1, dadurch 9 e k e n n z e i c h n e dass die Berylliumoxidschicht eine Dicke von über 50 µ und eine relative Dichte von über 90% aufweist.Substrate for electronic applications with a higher electrical load capacity in the connected state, which means that it is not shown on the circuit side a beryllium oxide layer on a normally used substrate, in particular from Manufactured aluminum oxide, applied iso 2o substrate according to claim 1, characterized 9 I do not know that the beryllium oxide layer has a thickness of over 50 µ and has a relative density of over 90%. 3. Substrat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch 9 e k e n n -z e i c h n e t , dass es durch Koextrusion gefertigt wird. 3. Substrate according to claims 1 and 2, characterized in 9 e k e n n -z e i c h n e t that it is manufactured by coextrusion. 4. Substrat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch 9 e k e n n -z e i c h n e t, dass die ßerylliumoxidschicht aus der Gasphase auf dem-Grundsubstrat abgeschieden wird. 4. Substrate according to claims 1 and 2, characterized in 9 e k e n n -z e i c h n e t that the ßerylliumoxidschicht from the gas phase on the base substrate is deposited. 5. Substrat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch 9 e k e n n -z -e i c h n e t, dass die Derylliumoxidschicht durch Plasmaspritzen auf das Grundsubstrat aufgebracht wird. 5. Substrate according to claims 1 and 2, characterized in 9 e k e n n -z -e i c h n e t that the deryllium oxide layer is plasma sprayed onto the base substrate is applied. 6. Substrat nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch. 9 e k e n n -z e i c h n e t, dass die Berylliumoxidschicht durch Flammspritzen auf des Grundsubstrat aufgebracht wird. 6. Substrate according to claims 1 and 2, characterized. 9 e k e n n -z e i c h n e t that the beryllium oxide layer by flame spraying on the base substrate is applied. 7. Substrat nach Anspruch 4, dadurch 9 e k e n n z e i c h n e t, dass ein nicht geschliffenes Grundsubstrat, vorzugsweise aus Aluminiumoxid verwendet wird und der Abscheideprozesess des Berylliumoxids aus dur Gasphase so geführt wird, dass eine zunehmende natürliche Einebnung des zunehmend mit Berylliumoxid beschich. 7. Substrate according to claim 4, characterized in 9 e k e n n z e i c h n e t, that a non-sanded base substrate, preferably made of aluminum oxide, is used and the separation process of beryllium oxide from the gas phase is carried out in such a way that that an increasing natural leveling of the increasingly coated with beryllium oxide. teten Substrats eintritt. occurs substrate. 8. Substrat nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch 9 e k e n n -z e i c h n e t, dass. dieses nachträglich noch einem Scharfbrand bei über 1500°Cw vorzugsweise um 1600°C unterzogen wird0 9o Substratpackung, dadurch g:e k e n n z e i c h n e t , dass einzelne Substrate, welche nach den Ansprüchen 1 bis 8 gefertigt wurden, in beschaltetem Zustand zu einer grösseren Volumeinheit zusammengefügt werden. 8. Substrate according to claims 1 to 7, characterized in 9 e k e n n -z e i c h n e t that this is preferable to a sharp fire at over 1500 ° Cw around 1600 ° C is subjected to 0 9o substrate packaging, which means that it is t that individual substrates, which were manufactured according to claims 1 to 8, can be joined together in the connected state to form a larger volume unit. 10. Kühifinger, insbesondere zur Verwendung in keramischen Substratpackungen nach Anspruch 9, jedoch nach den Ansprüchen 1 bis 8 auf metallischer Grundlage gefertigt, dadurch g e -k e n n z e i c h n e t , dass Berylliumoxid auf ein geeignetes metall hohen Schmelzpunktes und verträglichen Wärmeausdehnungskoeffizienten aufgebracht wird.10. Kühifinger, especially for use in ceramic substrate packs according to claim 9, but manufactured according to claims 1 to 8 on a metallic basis, by noting that beryllium oxide is applied to a suitable metal applied with a high melting point and a compatible coefficient of thermal expansion will. 110 kühlfinger nach Anspruch 10, dadurch -9 e k e n n z e i c h -n e t, dass dieser geometrisch grösser als die übrigen Substrate in der Packung @@@@@ ist.110 cold finger according to claim 10, characterized in -9 e k e n n n z e i c h -n e t that this is geometrically larger than the other substrates in the package @@@@@ is. 12. Kühlfinger nach Anspruch 11, dadurch 9 e k e n n z e i c h -n e t, dass dieser einseitig metallisch blank ist und zu Zwecken der elektrischen Abschirmung beschaltet werden kann, 13. Kühlfinger nach den Ansprüchen 10 bis 12, dadurch 9 e k e n nz e i c h n e t, dass dieser aus metallischem Beryllium gefertigt ist und anschliessend anodisch oxidiert wird.12. Cold finger according to claim 11, characterized in 9 e k e n n z e i c h -n e t that this is bare metal on one side and for electrical purposes Shielding can be wired, 13. cold finger according to claims 10 to 12, as a result, the fact that it is made of metallic beryllium and is then anodically oxidized.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2496385A1 (en) * 1980-12-15 1982-06-18 Coors Porcelain Co

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