DE20311625U1 - Mobile transportable elektrostatische Substrathalter - Google Patents

Mobile transportable elektrostatische Substrathalter

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Description

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Claims (23)

1. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchmesser und/oder die Kantenlängen mit dem des zu transportierenden Substrats (z. B. Wafer) mit einer Genauigkeit, örtlich, stellenweise oder insgesamt, von kleiner 0,1 mm übereinstimmen.
2. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchmesser und/oder die Kantenlängen um 0,1 bis 30 mm, örtlich, stellenweise oder insgesamt, kleiner als das zu transportierende Substrat (z. B. Wafer) sind.
3. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, dadurch gekennzeichnet, dass der Durchmesser und/oder die Kantenlängen um 0,1 bis zu 150 mm, örtlich, stellenweise oder insgesamt, größer als das zu transportierende Substrat (z. B. Wafer) sind.
4. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der nicht durch das zu transportierende Substrat (z. B. Wafer) überdeckte Bereich, örtlich, stellenweise oder insgesamt, um bis zu 30 mm dicker oder bis zu 10 mm dünner als der überdeckte Bereich sein kann.
5. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass dieser einfach oder mehrfach gelocht und/oder perforiert ist, um beispielsweise die auf das Substrat einwirkende Haltekraft des mobilen elektrostatischen Substrathalters durch das gleichzeitige Nutzen als Vakuumhalter zu verstärken.
6. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass im Halter und/oder in der Aufnahme(-vorrichtung) für den Halter eine oder mehrere Bohrungen und/oder Perforationen zur Gasdurchführung zum Kühlen des Substrats und/oder für Abhebe- und/oder Kontaktstifte und/oder Sensoren vorhanden sind.
7. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter mit Kontaktstiften in oder außerhalb der Fertigungsmaschine und/oder das Substrat (z. B. Wafer) elektrisch aufgeladen und/oder elektrisch entladen werden kann.
8. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter mit Abhebestiften und/oder das Substrat (z. B. Wafer) bewegt werden kann.
9. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass auf einer dem Substrat (z. B. Wafer) gegenüberliegenden Seite des Halters und/oder beidseitig und/oder in der Oberfläche der Aufnahme(-vorrichtung) ein oder mehrere Kanäle eingebracht sind, die mit einer oder mehreren Bohrungen (Perforationen) zur Gasdurchführung verbunden sind und durch die ein Kühlgasstrom geleitet werden kann.
10. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter mit einer oder mehreren Dichtflächen und/oder Dichtungen (Dichtelementen) auf der dem Substrat (z. B. Wafer) gegenüberliegenden Rück- und/oder Vorderseite ausgestattet ist.
11. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter mit Dichtungen bestehend aus Polymeren, z. B. Silikonen, Fluorkunststoffen, Metallen (z. B. Nickel) und/oder Metalllegierungen (z. B. Nickelchromlegierungen) massiv oder in Form von Beschichtungen, örtlich oder an mehreren Stellen ausgestattet ist.
12. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Substrat (z. B. Wafer) und dem Halter und/oder zwischen der Aufnahme(-vorrichtung) des elektrostatischen Halters und dem elektrostatischen Halter ein oder mehrere zum Kühlen mit Kühlgas geeignete Zwischenräume bestehen.
13. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Kühlgas in einen Kreislauf geführt und wiederverwendet werden kann.
14. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass in der Aufnahme(-vorrichtung) für den Halter eine oder mehrere Dichtflächen und/oder Dichtungen (Dichtelemente) eingearbeitet sind.
15. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Substrat (z. B. Wafer) gegenüberliegende Vorder- und/­ oder Rückseite des Halters und/oder dessen Aufnahme(-vorrichtung) mittels Sägen, Fräsen, Drehen, Schleifen und/oder Schneiden, z. B. mittels Laser und/oder Elektronenstrahl, naßchemisches Ätzen, Plasmaätzen, Sandstrahlen oder durch ähnliche Verfahren vorzugsweise in Gitterform strukturiert ist, um eine möglichst große Kühloberfläche für das Kühlgas zu erzielen.
16. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die dem Substrat (z. B. Wafer) gegenüberliegende Vorder- und/­ oder Rückseite des Halters und/oder der Aufnahme(-vorrichtung) durch Schleifen und/oder Läppen und/oder Polieren oder Fräsen oder Drehen bearbeitet wird, um eine möglichst gute Ebenheit und Planparallelität zu erzeugen.
17. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass in die dem Substrat (z. B. Wafer) zugewandten Seite und/oder abgewandte Seite des Halters örtlich, stellenweise oder insgesamt ein oder mehrere magnetische und/oder nichtmagnetische Metalle, Metalllegierungen und/oder Halbmetalle massiv eingearbeitet und/­ oder die vorgenannten Seiten des Halters örtlich, stellenweise oder insgesamt damit beschichtet sind.
18. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass auf der dem Substrat (z. B. Wafer) zugewandten Seite und/­ oder abgewandten Seite des Halters eine oder mehrere unipolare oder/und mehrpolare Elektroden vorhanden sind.
19. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass in der Aufnahme(-vorrichtung) für den Halter ein oder mehrere Magnete eingearbeitet sind.
20. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrostatische Halter mittels der Glas-Multilayertechnik und /oder der Keramik-Multilayertechnik und/oder der Kunststoff- Multilayertechnik hergestellt wird.
21. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass der elektrostatische Halter aus Keramiken, Gläsern, fotostrukturierbarem Glas, Glaskeramiken, Halbleiterwerkstoffen und/­ oder Kunststoffen in Kombination mit Metallen und Metalllegierungen bestehen kann.
22. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass durch Feinstbearbeiten, wie Schleifen, Polieren, Läppen, Fräsen, Drehen die Dichtflächen auf der dem Substrat (z. B. Wafer) zu- und/oder abgewandten Seite des Halters und/oder der Aufnahme(-vorrichtung) des elektrostatischen Halters zum Erreichen einer hohen Gasdichtheit bearbeitet sind.
23. Mobiler, transportabler elektrostatischer Substrathalter, nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass dieser stetig oder nicht stetig elektrisch versorgt, elektrisch geladen und/oder entladen werden kann.
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