Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsanordnung. The invention relates to a coating arrangement.
Im Allgemeinen können Vakuumbeschichtungsanlagen verwendet werden, um Schichten auf einem geeigneten Träger oder auf einem Substrat aufzubringen. Typische Verfahren beinhalten CVD (chemische Gasphasenabscheidung) und/oder PVD (physikalische Gasphasenabscheidung), wobei es bei diesen Prozessen dazu kommen kann, dass sich das Beschichtungsmaterial, beispielsweise ein von einem Target zum Beschichten eines Substrats abgetragenes Material, in der Umgebung der Beschichtungsanordnung und/oder in Bereiche einer Vakuumprozesskammer ausbreitet und sich dort beispielsweise abscheidet. Dieser sogenannte Streudampf kann beispielsweise auch auf die Rückseite des Substrates gelangen, welche beispielsweise nicht beschichtet werden soll. In general, vacuum deposition equipment can be used to deposit layers on a suitable substrate or on a substrate. Typical processes include CVD (chemical vapor deposition) and / or PVD (physical vapor deposition), which may cause the coating material, for example a material removed from a target to coat a substrate, to be in the vicinity of the coating arrangement and / or or spreads in areas of a vacuum processing chamber and deposits there, for example. This so-called scattered vapor can, for example, also reach the rear side of the substrate, which, for example, should not be coated.
Ein Aspekt verschiedener Ausführungsformen kann anschaulich darin gesehen werden, dass ein Gas unterhalb des Substrates in die Vakuumprozesskammer eingeleitet werden kann, so dass dieses Gas die Rückseite des Substrats umspült. Dabei kann das Gas beispielsweise am Substratrand austreten und das Eindringen von Streudampf in einen Bereich unterhalb des Substrats verhindern oder beispielsweise die Menge des eindringenden Streudampfs verringern. Ferner kann das eingeleitete Gas mittels einer Gasführungsanordnung in einem Bereich nahe der Rückseite des Substrats geführt und/oder geleitet werden, so dass ein entsprechender Gasstrom entsteht. One aspect of various embodiments can be clearly seen in that a gas can be introduced below the substrate in the vacuum processing chamber, so that this gas flows around the back of the substrate. In this case, the gas can emerge, for example, at the substrate edge and prevent the penetration of scattered vapor into a region below the substrate or, for example, reduce the amount of penetrating scattered vapor. Furthermore, the introduced gas can be guided and / or conducted by means of a gas guide arrangement in a region near the rear side of the substrate, so that a corresponding gas flow is produced.
Ferner kann ein anderer Aspekt verschiedener Ausführungsformen anschaulich darin gesehen werden, dass das Gas zunächst (beispielsweise senkrecht) auf die Rückseite des Substrats geleitet wird, beispielsweise beim Einleiten des Gases in die Vakuumprozesskammer unterhalb des Substrats, und dass sich der Gasfluss dann entlang der Oberfläche des Substrats ausbreiten kann, bis der Gasfluss an den Rändern des Substrats angelangt ist und dann entweichen kann. Dabei kann die Gasführungsanordnung den Gasstrom entsprechend so führen, dass die Rückseite des Substrates vollständig umspült wird. Ferner kann der Gasstrom im Wesentlichen parallel zur Oberfläche des Substrats fließen, beispielsweise unterstützt und/oder verursacht von der Gasführungsanordnung. Further, another aspect of various embodiments may be illustratively provided by first directing the gas (eg, perpendicularly) to the back of the substrate, such as introducing the gas into the vacuum processing chamber below the substrate, and then flowing the gas flow along the surface of the substrate Substrate can propagate until the gas flow has reached the edges of the substrate and then can escape. In this case, the gas guide arrangement correspondingly lead the gas flow so that the back of the substrate is completely washed around. Furthermore, the gas stream may flow substantially parallel to the surface of the substrate, for example, assisted and / or caused by the gas guide arrangement.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Beschichtungsanordnung bereitgestellt, wobei die Beschichtungsanordnung Folgendes aufweisen kann: einen Prozessierbereich; eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats durch den Prozessierbereich hindurch entlang einer Transportrichtung; und eine Gasführungsstruktur, wobei die Gasführungsstruktur derart relativ zu der Transportvorrichtung angeordnet sein kann, dass ein der Gasführungsstruktur zugeführtes Gas entlang einer dem Prozessierbereich abgewandten Seite eines durch den Prozessierbereich transportierten Substrats zu dem Prozessierbereich geführt wird; wobei die Gasführungsstruktur mehrere Gaseinlässe aufweisen kann, die entlang der Transportrichtung angeordnet sind; und wobei die Gasführungsstruktur die Gaseinlässe miteinander kuppelt (oder beispielsweise verbindet). According to various embodiments, a coating arrangement is provided, wherein the coating arrangement may comprise: a processing area; a transporting device for transporting a substrate through the processing area along a transporting direction; and a gas routing structure, wherein the gas routing structure may be arranged relative to the transport device such that gas supplied to the gas routing structure is guided to the processing area along a side of a substrate transported through the processing area, away from the processing area; wherein the gas routing structure may include a plurality of gas inlets disposed along the transport direction; and wherein the gas routing structure couples (or connects, for example) the gas inlets.
Ferner kann die Transportvorrichtung eine Mehrzahl von Transportrollen aufweisen, die in einem Abstand voneinander angeordnet sein können, zum Transportieren eines Substrats durch den Prozessierbereich hindurch. Furthermore, the transport device can have a plurality of transport rollers, which can be arranged at a distance from each other, for transporting a substrate through the processing area.
Ferner kann die Gasführungsstruktur, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, zumindest teilweise zwischen jeweils zwei benachbarten Transportrollen der Mehrzahl von Transportrollen angeordnet sein. Furthermore, according to various embodiments, the gas routing structure may be arranged at least partially between in each case two adjacent transport rollers of the plurality of transport rollers.
Ferner kann die Gasführungsstruktur mindestens ein flächiges Gasführungsstrukturelement aufweisen, welches die Gaseinlässe miteinander kuppeln kann, so dass das der Gasführungsstruktur zugeführte Gas im Wesentlichen parallel zur Oberfläche des durch den Prozessierbereich hindurch transportierten Substrats strömen kann. Furthermore, the gas-guiding structure can have at least one areal gas-conducting structure element which can couple the gas inlets with one another so that the gas fed to the gas-guiding structure can flow substantially parallel to the surface of the substrate transported through the processing area.
Ferner kann der Abstand zwischen dem mindestens einen flächigen Gasführungsstrukturelement und der dem Prozessierbereich abgewandten Seite des durch den Prozessierbereich transportierten Substrats, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, in einem Bereich von ungefähr 0,5 cm bis ungefähr 10 cm liegen. Somit kann beispielsweise ein Gaspolster zwischen dem Substrat und dem mindestens einen flächigen Gasführungsstrukturelement entstehen. Furthermore, the distance between the at least one planar gas guide structure element and the side remote from the processing area of the substrate transported through the processing region may, according to various embodiments, be in a range from approximately 0.5 cm to approximately 10 cm. Thus, for example, a gas cushion between the substrate and the at least one planar gas guide structure element arise.
Ferner können die Gaseinlässe mittels Löchern in der Gasführungsstruktur bereitgestellt sein, wobei die Transportrollen der Mehrzahl von Transportrollen mindestens teilweise durch die jeweiligen Löcher hindurchragen. Further, the gas inlets may be provided by means of holes in the gas guide structure, wherein the transport rollers of the plurality of transport rollers at least partially project through the respective holes.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Beschichtungsanordnung ferner Folgendes aufweisen: eine Materialquelle zum Bereitstellen eines Beschichtungsmaterials in der Gasphase, wobei die Materialquelle eingerichtet sein kann, das durch den Prozessierbereich transportierte Substrat auf der dem Prozessierbereich zugewandten Seite zu beschichten. According to various embodiments, the coating arrangement may further comprise: a material source for providing a coating material in the gas phase, wherein the material source may be configured to coat the substrate transported through the processing area on the side facing the processing area.
Ferner kann die Gasführungsstruktur, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, eingerichtet sein, das der Gasführungsstruktur zugeführte Gas seitlich des durch den Prozessierbereich transportierten Substrats in den Prozessierbereich zu führen. Furthermore, according to various embodiments, the gas routing structure may be configured to guide the gas supplied to the gas routing structure to the processing area laterally of the substrate transported through the processing area.
Ferner kann die Gasführungsstruktur derart angeordnet und eingerichtet sein, dass das der Gasführungsstruktur zugeführte Gas die dem Prozessierbereich abgewandte Oberfläche und mindestens eine Seitenfläche des durch den Prozessierbereich transportierten Substrats umspülen kann. Furthermore, the gas-guiding structure can be arranged and set up such that the gas supplied to the gas-guiding structure can flow around the surface facing away from the processing region and at least one side surface of the substrate transported through the processing region.
Ferner können die Gaseinlässe der Gasführungsstruktur derart relativ zu dem durch den Prozessierbereich transportierten Substrat angeordnet sein, dass sich das durch den Prozessierbereich transportierte Substrat quer zur Transportrichtung weiter erstreckt als die Gaseinlässe der Gasführungsstruktur. Furthermore, the gas inlets of the gas-guiding structure may be arranged relative to the substrate transported through the processing area such that the substrate transported through the processing area extends transversely to the transport direction than the gas inlets of the gas-guiding structure.
Ferner kann die Beschichtungsanordnung aufweisen: eine Vakuumprozesskammer, in welcher der Prozessierbereich angeordnet ist. Furthermore, the coating arrangement may comprise: a vacuum processing chamber in which the processing area is arranged.
Ferner kann, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, die Vakuumprozesskammer als eine Sputterkammer eingerichtet sein. Further, according to various embodiments, the vacuum processing chamber may be configured as a sputtering chamber.
Beispielsweise kann ein Verfahren zum Betreiben einer Beschichtungsanordnung Folgendes aufweisen: das Transportieren eines Substrats mittels der Transportvorrichtung durch den Prozessierbereich hindurch; das Zuführen eines Gases mittels der Gasführungsstruktur; und das Beschichten der dem Prozessierbereich zugewandten Seite des durch den Prozessierbereich transportierten Substrats. For example, a method of operating a coating arrangement may include: transporting a substrate through the processing area by means of the transport device; supplying a gas by means of the gas guiding structure; and coating the processing area facing side of the substrate transported through the processing area.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.
Es zeigen Show it
1 schematisch eine Seitenansicht und eine Draufsicht einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 1 schematically a side view and a plan view of a coating arrangement, according to various embodiments;
2A und 2B jeweils eine schematische Seitenansicht oder Querschnittsansicht des Gasflusses in einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 2A and 2 B each a schematic side view or cross-sectional view of the gas flow in a coating arrangement, according to various embodiments;
3 eine schematische Draufsicht einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 3 a schematic plan view of a coating arrangement, according to various embodiments;
4A und 4B jeweils eine schematische Draufsicht einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 4A and 4B each a schematic plan view of a coating arrangement, according to various embodiments;
5A und 5B jeweils eine schematische Seitenansicht einer Transportvorrichtung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 5A and 5B each a schematic side view of a transport device, according to various embodiments;
5C eine schematische Seitenansicht und eine schematisch Draufsicht einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 5C a schematic side view and a schematic plan view of a coating arrangement, according to various embodiments;
6 eine schematische Seitenansicht oder Querschnittsansicht einer Beschichtungsanordnung aufweisend eine Vakuumprozesskammer, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 6 a schematic side view or cross-sectional view of a coating arrangement comprising a vacuum processing chamber, according to various embodiments;
7 eine schematische Seitenansicht oder Querschnittsansicht einer Beschichtungsanordnung aufweisend eine Vakuumprozesskammer, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und 7 a schematic side view or cross-sectional view of a coating arrangement comprising a vacuum processing chamber, according to various embodiments; and
8 ein schematisches Prozessablaufdiagramm eines Verfahrens zum Betreiben einer Beschichtungsanordnung, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 8th a schematic process flow diagram of a method of operating a coating arrangement, according to various embodiments.
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert. In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe "verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist. As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.
Wie in 1 schematisch in einer Querschnittsansicht 101a und einer Draufsicht 101b dargestellt ist, kann eine Beschichtungsanordnung 100 Folgendes aufweisen: einen Prozessierbereich 111; eine Transportvorrichtung 102 zum Transportieren eines Substrats durch den Prozessierbereich 111 hindurch entlang einer Transportrichtung 111a; und eine Gasführungsstruktur 106, wobei die Gasführungsstruktur 106 derart relativ zu der Transportvorrichtung 102 angeordnet sein kann, dass ein der Gasführungsstruktur 106 zugeführtes Gas entlang einer dem Prozessierbereich abgewandten Seite eines durch den Prozessierbereich transportierten Substrats zu dem Prozessierbereich geführt wird (vgl. 2A); wobei die Gasführungsstruktur 106 mehrere Gaseinlässe 108 aufweisen kann, die entlang der Transportrichtung 111a angeordnet sind; und wobei die Gasführungsstruktur 106 die Gaseinlässe 108 miteinander kuppelt oder mechanisch verbindet. As in 1 schematically in a cross-sectional view 101 and a plan view 101b can be shown, a coating arrangement 100 Have: a processing area 111 ; a transport device 102 for transporting a substrate through the processing area 111 through along a transport direction 111 ; and a gas routing structure 106 , wherein the gas guiding structure 106 such relative to the transport device 102 it may be arranged that one of the gas guiding structure 106 supplied gas along a side facing away from the processing area of a transported through the processing region substrate is guided to the processing area (see. 2A ); the gas guiding structure 106 several gas inlets 108 may be along the transport direction 111 are arranged; and wherein the gas routing structure 106 the gas inlets 108 couples with each other or connects mechanically.
Ferner kann, wie in 1 dargestellt ist, die Transportvorrichtung 102 zwei Transportrollen 102 aufweisen, die beispielsweise ein flächiges Substrat (nicht dargestellt) entlang der Transportrichtung 111a in der Ebene 104a transportieren können. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung 102 auch mehr als zwei Transportrollen 102 aufweisen, beispielsweise drei, vier, fünf oder mehr als 5 Transportrollen 102. Ferner können die Vielzahl von Transportrollen 102 eine gemeinsame Transportebene 104a bilden, beispielsweise mittels deren Mantelflächen. Gemäß einer anderen Ausführungsform können die Transportrollen auch mit einem Versatz zueinander angeordnet sein, und beispielsweise einen beliebigen Transportpfad zum Transportieren eines Substrats bereitstellen. Furthermore, as in 1 is shown, the transport device 102 two transport rollers 102 comprising, for example, a planar substrate (not shown) along the transport direction 111 in the plane 104a can transport. According to various embodiments, the transport device 102 also more than two transport wheels 102 have, for example, three, four, five or more than 5 transport rollers 102 , Further, the plurality of transport rollers 102 a common transport level 104a form, for example by means of their lateral surfaces. According to another embodiment, the transport rollers can also be arranged with an offset to each other, and provide, for example, an arbitrary transport path for transporting a substrate.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasführungsstruktur 106 zwischen der Transportvorrichtung 102 angeordnet sein oder in die Transportvorrichtung 102 integriert sein. Ferner kann die Gasführungsstruktur 106 zwischen den Transportrollen 102 angeordnet sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Gaseinlässe der Gasführungsstruktur 106 zwischen der Transportvorrichtung 102 angeordnet sein oder in die Transportvorrichtung 102 integriert sein. Ferner können die Gaseinlässe der Gasführungsstruktur 106 zwischen den Transportrollen 102 angeordnet sein. According to various embodiments, the gas routing structure 106 between the transport device 102 be arranged or in the transport device 102 be integrated. Furthermore, the gas guiding structure 106 between the transport rollers 102 be arranged. According to various embodiments, the gas inlets of the gas routing structure 106 between the transport device 102 be arranged or in the transport device 102 be integrated. Furthermore, the gas inlets of the gas guiding structure 106 between the transport rollers 102 be arranged.
Die Gasführungsstruktur 106 kann dazu dienen, ein Gas, welches mittels der Gaseinlässe 108 in die Gasführungsstruktur 106 oder in einen Bereich, der mittels der Gasführungsstruktur 106 gebildet wird, einzuleiten. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das mittels der Gaseinlässe 108 eingeleitete Gas dazu dienen, eine Oberfläche eines in der Transportebene 104a transportierten Substrats zu überströmen, oder beispielsweise ein Gaspolster zwischen der Gasführungsstruktur 106 (oder einem Bereich der Gasführungsstruktur 106) und einem in der Transportebene 104a transportierten Substrats zu bilden. The gas routing structure 106 can serve a gas, which by means of gas inlets 108 into the gas routing structure 106 or in an area by means of the gas guiding structure 106 is formed to initiate. According to various embodiments, this can be done by means of the gas inlets 108 Gas introduced serve a surface of one in the transport plane 104a overflowed substrate transported, or, for example, a gas cushion between the gas guide structure 106 (or a portion of the gas routing structure 106 ) and one in the transport plane 104a to form transported substrate.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Transportrollen 102 in einem Abstand 109 voneinander angeordnet sein. Ferner können die Achsen 103a der Transportrollen 102 parallel zueinander sein und die Transportrollen 102 können fluchten. According to various embodiments, the transport rollers may 102 at a distance 109 be arranged from each other. Furthermore, the axes can 103a the transport rollers 102 be parallel to each other and the transport rollers 102 can be aligned.
Die Gasführungsstruktur 106 kann mehrere Gaseinlässe 108 aufweisen, wobei die Gasführungsstruktur 106 die Gaseinlässe 108 miteinander verbinden kann, so dass eine flächige Gasführungsstruktur 106 entsteht, wobei die Gaseinlässe 108 entlang der Transportrichtung 111a miteinander verbunden sein können und somit entlang der Transportrichtung 111a eine Gasführung ermöglichen können. The gas routing structure 106 can have several gas inlets 108 have, wherein the gas guide structure 106 the gas inlets 108 can connect to each other, leaving a planar gas guide structure 106 arises, with the gas inlets 108 along the transport direction 111 can be connected to each other and thus along the transport direction 111 allow a gas flow.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasführungsstruktur 106 ein Gasführungsstrukturelement oder mehrere Gasführungsstrukturelemente aufweisen. Ferner kann mindestens ein Gasführungsstrukturelement ein flächiges Gasführungsstrukturelement sein, beispielsweise ein Gasleitblech. Das flächige Gasführungsstrukturelement (oder das Gasleitblech) kann die Gaseinlässe 108 miteinander kuppeln oder mechanisch verbinden, oder beispielsweise zumindest einen Teil der Gaseinlässe 108 miteinander mechanisch verbinden oder kuppeln. According to various embodiments, the gas routing structure 106 a gas guiding structure element or a plurality of gas guiding structure elements. Furthermore, at least one gas guiding structure element can be a planar gas guiding structure element, for example a gas guide plate. The planar gas guide structure element (or the gas guide plate) can the gas inlets 108 couple together or connect mechanically, or for example, at least a portion of the gas inlets 108 mechanically connect or couple with each other.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das der Gasführungsstruktur zugeführte Gas im Wesentlichen parallel zur Oberfläche eines durch den Prozessierbereich hindurch transportierten Substrats strömen, beispielsweise parallel zur Transportebene 104a. Ferner kann das der Gasführungsstruktur zugeführte Gas im Wesentlichen parallel zur Oberfläche eines durch den Prozessierbereich hindurch transportierten Substrats strömen, beispielsweise parallel zur Transportebene 104a entlang der Transportrichtung 111a oder beispielsweise parallel zur Transportebene 104a quer zu Transportrichtung 111a. According to various embodiments, the gas supplied to the gas-guiding structure may flow substantially parallel to the surface of a substrate transported through the processing region, for example parallel to the transport plane 104a , Furthermore, the gas fed to the gas-guiding structure can flow substantially parallel to the surface of a substrate transported through the processing region, for example parallel to the transport plane 104a along the transport direction 111 or for example parallel to the transport plane 104a transverse to transport direction 111 ,
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Abstand zwischen dem mindestens einen flächigen Gasführungsstrukturelement (oder der Gasführungsstruktur 106) und der dem Prozessierbereich 111 abgewandten Seite eines durch den Prozessierbereich 111 transportierten Substrats in einem Bereich von ungefähr 0,5 cm bis ungefähr 10 cm liegen. Ferner kann der Abstand zwischen einem Gasleitblech 106 und der Transportebene 104a in einem Bereich von ungefähr 0,5 cm bis ungefähr 10 cm liegen, wobei die Transportebene 104a von der Lage und der Größe der Transportrollen 102 definiert sein kann. Die Transportebene 104a kann auch als eine gewölbte Fläche 104a verstanden werden, falls die Anordnung der Transportrollen 102 einen derartigen Transportpfad definiert. According to various embodiments, the distance between the at least one planar gas guiding structure element (or the gas guiding structure 106 ) and the processing area 111 opposite side of a through the processing area 111 transported substrate in a range of about 0.5 cm to about 10 cm. Furthermore, the distance between a gas baffle 106 and the transport level 104a in a range of about 0.5 cm to about 10 cm, wherein the transport plane 104a on the location and size of the transport rollers 102 can be defined. The transport level 104a Can also be considered a curved surface 104a be understood, if the Arrangement of transport rollers 102 defines such a transport path.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportrolle 102 oder können die Transportrollen 102 eine Länge 105 in einem Bereich von ungefähr einigen Zentimetern bis ungefähr einigen Metern aufweisen, z.B. in einem Bereich von ungefähr 30 cm bis ungefähr 4 m, z.B. in einem Bereich von ungefähr 1 m bis ungefähr 2,5 m, z.B. in einem Bereich von ungefähr 2 m bis ungefähr 3,3 m. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportrolle 102 oder können die Transportrollen 102 eine Länge 105 von mehr als 1 m aufweisen. According to various embodiments, a transport roller 102 or can the transport rollers 102 a length 105 in a range of about a few centimeters to about a few meters, for example, in a range of about 30 cm to about 4 m, for example in a range of about 1 m to about 2.5 m, for example in a range of about 2 m to about 3.3 m. According to various embodiments, the transport roller 102 or can the transport rollers 102 a length 105 of more than 1 m.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportrolle 102 oder können die Transportrollen 102 einen Durchmesser 103 in einem Bereich von ungefähr einigen Zentimetern bis ungefähr einem Meter aufweisen, z.B. in einem Bereich von ungefähr 5 cm bis ungefähr 1 m, z.B. in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 50 cm, z.B. in einem Bereich von ungefähr 15 cm bis ungefähr 25 cm. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportrolle 102 oder können die Transportrollen 102 einen Durchmesser 103 von mehr als 10 cm aufweisen. According to various embodiments, the transport roller 102 or can the transport rollers 102 a diameter 103 in a range of about a few centimeters to about one meter, for example, in a range of about 5 cm to about 1 m, for example, in a range of about 10 cm to about 50 cm, for example, in a range of about 15 cm to about 25 cm. According to various embodiments, the transport roller 102 or can the transport rollers 102 a diameter 103 of more than 10 cm.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Transportrollen 102 in einem Abstand 109 voneinander angeordnet sein, beispielsweise in einem Abstand in einem Bereich von ungefähr einigen Zentimetern bis ungefähr einem Meter, z.B. in einem Bereich von ungefähr 5 cm bis ungefähr 1 m, z.B. in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 60 cm, z.B. in einem Bereich von ungefähr 20 cm bis ungefähr 40 cm. According to various embodiments, the transport rollers may 102 at a distance 109 from one another, for example at a distance in the range of about a few centimeters to about one meter, for example in a range of about 5 cm to about 1 m, for example in a range of about 10 cm to about 60 cm, for example in a range from about 20 cm to about 40 cm.
Im Folgenden soll ein möglicher Gasfluss veranschaulicht werden, wie das mittels der Gaseinlässe 108 eingeleitete Gas von der Gasführungsstruktur unterhalb eines Substrats geführt werden kann. Wie in 2A und 2B jeweils schematisch in einer Querschnittsansicht oder Seitenansicht dargestellt ist, kann sich während des Betriebs der Beschichtungsanordnung 100 ein Substrat 212 innerhalb des Prozessierbereichs 111 befinden. Das Substrat 212 kann beispielsweise entlang der Transportebene 104a transportiert werden, z.B. entlang der Transportrichtung 111a. In the following, a possible gas flow is to be illustrated, as by means of the gas inlets 108 introduced gas can be guided by the gas guide structure below a substrate. As in 2A and 2 B is shown schematically in a cross-sectional view or side view, can during operation of the coating arrangement 100 a substrate 212 within the processing area 111 are located. The substrate 212 For example, along the transport plane 104a be transported, for example, along the transport direction 111 ,
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Gaseinlässe 108 derart eingerichtet sein, dass ein Gas 108a zunächst in Richtung des Substrats 212 strömt. Das Gas 108a kann zunächst beispielsweise im Wesentlichen senkrecht zur Substratoberfläche 212b aus dem jeweiligen Gaseinlass 108 in die Richtung der Substratunterseite 212b strömen. Dann kann der Gasstrom von dem Substrat (von der Substratunterseite 212b) umgelenkt und mittels der Gasführungsstruktur entlang der Substratunterseite 212b geführt werden. Dabei kann das Gas 108a an der Substratunterseite 212b entlang strömen. According to various embodiments, the gas inlets 108 be set up such that a gas 108a first in the direction of the substrate 212 flows. The gas 108a may initially, for example, substantially perpendicular to the substrate surface 212b from the respective gas inlet 108 in the direction of the substrate bottom 212b stream. Then, the gas flow from the substrate (from the substrate bottom 212b ) deflected and by means of the gas guide structure along the substrate bottom 212b be guided. The gas can 108a at the substrate bottom 212b to flow along.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat 212 eine seitliche Ausdehnung (Länge und/oder Breite) in einem Bereich von ungefähr einigen Zentimetern bis ungefähr einigen Metern aufweisen, z.B. kann die seitliche Ausdehnung in einem Bereich von ungefähr 10 cm bis ungefähr 4 m liegen. According to various embodiments, the substrate 212 have a lateral extent (length and / or width) in a range of about a few centimeters to about a few meters, for example, the lateral extent may be in a range of about 10 cm to about 4 m.
Ferner kann das Gas 108a entlang der Seitenflächen 212c, 212d des Substrats 212 in den Prozessierbereich 111 entweichen. Dabei kann das Gas 108a entlang der Seitenflächen 212c, 212d des Substrats 212 strömen. Furthermore, the gas 108a along the side surfaces 212c . 212d of the substrate 212 in the processing area 111 escape. The gas can 108a along the side surfaces 212c . 212d of the substrate 212 stream.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Substrat 212 mittels des Gases 108a teilweise umströmt werden, so dass eine Beschichtung der Substratunterseite 212b mit Material aus dem Prozessbereich verhindert oder behindert werden kann. Ferner kann dadurch auch ein Beschichten der Seitenflächen 212c, 212d des Substrats 212 verringert werden. Weiterhin kann dadurch verhindert werden, dass ein Material oder Staub aus dem Prozessierbereich 111 in einen Bereich der Transportvorrichtung 102 gelangt, wobei dadurch Probleme verringert werden können, die abgelagertes Material in der Transportvorrichtung 102 verursachen kann (beispielsweise kann der Transport des Substrats behindert werden oder die Standzeit der Beschichtungsanordnung kann verkürzt werden). According to various embodiments, the substrate 212 by means of the gas 108a are partially flowed around, so that a coating of the substrate underside 212b with material from the process area can be prevented or obstructed. Furthermore, this can also be a coating of the side surfaces 212c . 212d of the substrate 212 be reduced. Furthermore, it can be prevented that a material or dust from the processing area 111 in an area of the transport device 102 thereby reducing problems, the deposited material in the transport device 102 can cause (for example, the transport of the substrate can be hindered or the life of the coating arrangement can be shortened).
Ferner kann das Gas 108a mittels der Gasführungsstruktur 106 unter dem Substrat 212 gesammelt werden, so dass sich in dem Bereich 208 unter dem Substrat 212 ein Gaspolster bilden kann. In diesem Bereich 208 kann der Gasdruck größer sein, als in dem Prozessierbereich 111, wodurch die Strömung des Gases 108a verursacht und/oder unterstützt werden kann. Furthermore, the gas 108a by means of the gas guiding structure 106 under the substrate 212 be collected, so that in the field 208 under the substrate 212 can form a gas cushion. In this area 208 For example, the gas pressure may be greater than in the processing area 111 , whereby the flow of the gas 108a caused and / or supported.
Wie in den 2A und 2B veranschaulicht ist, kann der Gasfluss unter dem Substrat 212 geführt werden, beispielsweise mittels der Gasführungsstruktur 106. As in the 2A and 2 B is illustrated, the gas flow under the substrate 212 be guided, for example by means of the gas guide structure 106 ,
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasführungsstruktur 106 ein Gasleitblech 206 aufweisen, wie in 2B dargestellt ist, beispielsweise mit einer Öffnung in dem Gasleitblech 206, so dass das Gas 108a aus einem Gaseinlass 108 in den Bereich 208 zwischen dem Gasleitblech 206 und dem Substrat 212 (bzw. der Transportebene 104a) eingeleitet werden kann. Ferner kann das Gasleitblech 206 im Wesentlichen parallel zur Substratrückseite 212b (bzw. parallel zur Transportebene 104a) angeordnet sein, so dass der Gasfluss entlang der Substratrückseite 212b ermöglicht oder unterstützt wird. According to various embodiments, the gas routing structure 106 a gas baffle 206 have, as in 2 B is shown, for example, with an opening in the gas baffle 206 so the gas 108a from a gas inlet 108 in the area 208 between the gas guide plate 206 and the substrate 212 (or the transport level 104a ) can be initiated. Furthermore, the gas baffle can 206 essentially parallel to the back of the substrate 212b (or parallel to the transport plane 104a ), so that the gas flow along the back of the substrate 212b enabled or supported.
Ferner kann das Gasleitblech 206 auch mehrere Gaseinlässe 108 entlang der Transportrichtung 111a miteinander verbinden oder kuppeln, so dass der Gasstrom parallel zur Substratrückseite 212b ermöglicht oder unterstützt wird. Furthermore, the gas baffle can 206 also several gas inlets 108 along the transport direction 111 connect or couple with each other so that the gas flow is parallel to the substrate back 212b enabled or supported.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Gas 108a mindestens eines der folgenden Gase 104a aufweisen: Helium, Neon, Argon, Krypton, Xenon. According to various embodiments, the gas 108a at least one of the following gases 104a include: helium, neon, argon, krypton, xenon.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich zerstäubtes Material oder staubförmiges Material, welches sich während eines Beschichtungsprozesses im Prozessierbereich 111 bilden kann und verteilen kann, aufgrund des Gasstroms um das Substrat 212 herum nicht oder nur schlecht auf der Substratrückseite 212b ablagern oder abscheiden. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich zerstäubtes Material oder staubförmiges Material, welches sich während eines Beschichtungsprozesses im Prozessierbereich 111 bilden kann und verteilen kann, aufgrund des Gasstroms um das Substrat 212 herum nicht oder nur schlecht im Bereich er Transportvorrichtung 102 ablagern oder abscheiden. Ferner können auch die Seitenflächen 212c, 212d des Substrats 212 von dem Gas 108a vor unerwünschtem Anlagern von Material aus dem Prozessbereich 111 geschützt werden. According to various embodiments, sputtered material or powdery material may be present in the processing area during a coating process 111 can form and distribute due to the gas flow around the substrate 212 not or poorly on the substrate back 212b deposit or separate. According to various embodiments, sputtered material or powdery material may be present in the processing area during a coating process 111 can form and distribute due to the gas flow around the substrate 212 not or only poorly in the area of the transport device 102 deposit or separate. Furthermore, the side surfaces can also 212c . 212d of the substrate 212 from the gas 108a against unwanted attachment of material from the process area 111 to be protected.
Ferner kann die Gasführungsstruktur 106 (oder das Gasleitblech 206) mindestens ein Material aus der folgenden Gruppe von Materialien aufweisen: ein Metall, eine Metalllegierung, ein metallisches Material, Aluminium, Stahl, Edelstahl, Baustahl, Eisen, Kupfer, Titan. Ferner kann die Gasführungsstruktur 106 (oder das Gasleitblech 206) mit einem weiteren funktionellen Material beschichtet sein oder ein weiteres funktionelles Material aufweisen, so dass beispielsweise die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften der Gasführungsstruktur 106 (oder des Gasleitblechs 206) an die Prozessbedingungen angepasst sein können. Furthermore, the gas guiding structure 106 (or the gas baffle 206 ) comprise at least one of the following group of materials: a metal, a metal alloy, a metallic material, aluminum, steel, stainless steel, structural steel, iron, copper, titanium. Furthermore, the gas guiding structure 106 (or the gas baffle 206 ) may be coated with another functional material or have a further functional material, so that, for example, the chemical and / or physical properties of the gas guide structure 106 (or the gas baffle 206 ) can be adapted to the process conditions.
Im Folgenden werden verschiedene Modifikationen und Konfigurationen der Beschichtungsanordnung 100 und Details zu der Transportvorrichtung 102 und der Gasführungsstruktur 106 beschrieben, wobei sich die bezüglich der 1, 2A und 2B beschriebenen grundlegenden Merkmale und Funktionsweisen analog einbeziehen lassen. Ferner können die nachfolgend beschriebenen Merkmale und Funktionsweisen analog auf die in den 1, 2A und 2B beschriebene Beschichtungsanordnung 100 übertragen werden oder mit der in den 1, 2A und 2B beschriebenen Beschichtungsanordnung 100 kombiniert werden. The following are various modifications and configurations of the coating arrangement 100 and details about the transport device 102 and the gas routing structure 106 described, with respect to the 1 . 2A and 2 B analogous to the basic features and functions described above. Furthermore, the features and functions described below can analogously to those in the 1 . 2A and 2 B described coating arrangement 100 be transferred or with the in the 1 . 2A and 2 B described coating arrangement 100 be combined.
Wie in 3 schematisch in einer Draufsicht dargestellt ist, kann mittels der Transportvorrichtung 102 oder der Transportrollen 102 ein Transportbereich 320 bereitgestellt sein. Der Transportbereich kann eine Breite 321 aufweisen, welche beispielsweise der Breite der Transportrolle 102 entspricht, beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 30 cm bis ungefähr 4 m (die hierin beschrieben Breite der Transportrolle 102 kann auch als die Höhe der Transportrolle 102 ausgehend von der kreisrunden Grundfläche angesehen oder verstanden werden oder auch als Länge der Transportrolle 102 bezeichnet werden). As in 3 is shown schematically in a plan view, by means of the transport device 102 or the transport wheels 102 a transport area 320 be provided. The transport area can be one width 321 which, for example, the width of the transport roller 102 corresponds, for example, in a range of about 30 cm to about 4 m (the width of the transport roller described herein 102 can also be considered the height of the transport roller 102 viewed or understood starting from the circular base area or as the length of the transport roller 102 be designated).
Ferner kann die Gasführungsstruktur 106, beispielsweise aufweisend ein Gasleitblech, zwischen der Transportvorrichtung 102 oder den Transportrollen 102 angeordnet und/oder eingerichtet sein. Das Substrat 212 kann eine Breite 213 aufweisen, die schmaler sein kann, als die Breite 321 des Transportbereichs 320. Ferner kann die Gasführungsstruktur 106 oder das Gasleitblech eine Breite 107 aufweisen, welche kleiner ist als die Breite 321 des Transportbereichs 320 aber größer ist als die Breite 213 des Substrats 212. Somit kann beispielsweise das Gas 108a, welches in den Bereich 208 unterhalb des Substrats 212 einströmt, seitlich entlang der Breite des Substrats 212 strömen. Furthermore, the gas guiding structure 106 , For example, comprising a gas baffle, between the transport device 102 or the transport wheels 102 be arranged and / or set up. The substrate 212 can be a width 213 which may be narrower than the width 321 of the transport area 320 , Furthermore, the gas guiding structure 106 or the gas baffle a width 107 which is smaller than the width 321 of the transport area 320 but larger than the width 213 of the substrate 212 , Thus, for example, the gas 108a which is in the area 208 below the substrate 212 flows in laterally along the width of the substrate 212 stream.
In 4A und in 4B werden verschiedene mögliche Anordnungen von Gaseinlässen 108 in einem Bereich zwischen den Transportrollen 102 schematisch dargestellt. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Gaseinlässe 108 auf eine Vielzahl von Arten unterhalb des Substrats 212 bzw. innerhalb des Transportbereichs 320 angeordnet sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Gaseinlässe 108 derart in dem Transportbereich 320 angeordnet sein, dass diese von einem Substrat 212, welches durch den Prozessierbereich hindurch transportiert werden kann, vollständig bedeckt werden können, also mit anderen Worten von oben gesehen beispielsweise nicht seitlich des Substrats 212 angeordnet sind. In 4A and in 4B be different possible arrangements of gas inlets 108 in an area between the transport rollers 102 shown schematically. According to various embodiments, the gas inlets 108 in a variety of ways below the substrate 212 or within the transport area 320 be arranged. According to various embodiments, the gas inlets 108 such in the transportation area 320 be arranged that this from a substrate 212 , which can be transported through the processing area, can be completely covered, that is, in other words not seen from above, for example, not laterally of the substrate 212 are arranged.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Gaseinlässe 108 beispielsweise mittels Gaslanzen 108 bereitgestellt werden, beispielsweise mittels einer Gaslanze 108 oder einer Vielzahl von Gaslanzen 108. According to various embodiments, the gas inlets 108 for example by means of gas lances 108 be provided, for example by means of a gas lance 108 or a variety of gas lances 108 ,
Wie in 4B dargestellt ist, können die Gaseinlässe 108 auch eine ausgedehnte Form aufweisen, beispielsweise können die Gaseinlässe 108 mittels Öffnungen in der Gasführungsstruktur 106 bereitgestellt sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Öffnungen 108 derart in der Gasführungsstruktur 106 bereitgestellt sein, dass die Öffnungen von einem Substrat 212, welches durch den Prozessierbereich hindurch transportiert werden kann, vollständig bedeckt werden kann; also mit anderen Worten von oben gesehen beispielsweise nicht seitlich über das Substrat 212 hinausragen. As in 4B can be shown, the gas inlets 108 also have an extended shape, for example, the gas inlets 108 by means of openings in the gas guiding structure 106 be provided. According to various embodiments, the openings 108 such in the gas routing structure 106 be provided that the openings of a substrate 212 which can be transported through the processing area can be completely covered; so with others For example, words from above are not seen laterally across the substrate 212 protrude.
Es versteht sich, dass zwischen dem Substrat 212 und der Gasführungsstruktur 106 sowie den Gaseinlässen 108 ein Spalt liegen kann, so dass das Gas 108a aus den Gaseinlässen 108 entweichen kann und zumindest die dem Prozessierbereich abgewandte Oberfläche des Substrats 212 umspülen kann. It is understood that between the substrate 212 and the gas routing structure 106 as well as the gas inlets 108 there may be a gap, leaving the gas 108a from the gas inlets 108 can escape and at least the process area remote from the surface of the substrate 212 can wash around.
Wie in den 4A und 4B dargestellt ist, kann das Gas 108a in Bereichen zwischen dem Substrat 212 und der äußeren Begrenzung des Transportbereichs 320 in den Prozessierbereich strömen. As in the 4A and 4B is shown, the gas can 108a in areas between the substrate 212 and the outer boundary of the transport area 320 flow into the processing area.
Ferner kann der Transportbereich 320 auch breiter als die Transportrolle sein. Furthermore, the transport area 320 also be wider than the transport role.
Um die Gasführung unterhalb des Substrats 212 auch für große Substrate gewährleisten zu können, welche beispielsweise länger sein können, als der Abstand der Transportrollen, werden im Folgenden weitere Modifikationen der Beschichtungsanordnung 100 beschrieben. To the gas flow below the substrate 212 to be able to ensure even for large substrates, which may be, for example, longer than the distance of the transport rollers, hereinafter further modifications of the coating arrangement 100 described.
Wie in 5A schematisch in einer Querschnittsansicht dargestellt ist (entlang der Breite einer Transportrolle 102), kann die Transportrolle 102 koaxial auf der Transportrolle 102 angeordnete Ringe 502 aufweisen, wobei die Ringe 502 einen größeren Durchmesser als die Transportrolle 102 aufweisen können. As in 5A is shown schematically in a cross-sectional view (along the width of a transport roller 102 ), the transport role 102 coaxial on the transport roller 102 arranged rings 502 have, wherein the rings 502 a larger diameter than the transport roller 102 can have.
Wie ferner in 5B schematisch in einer Querschnittsansicht dargestellt ist, kann die Gasführungsstruktur 106 ein Gasleitblech 506 oder ein flächiges Gasführungsstrukturelement 506 aufweisen, welches zwischen der Transportrolle 102 und der Transportebene 104a angeordnet sein kann, wobei die Transportebene 104a in diesem Fall mittels der Ringe 502 definiert wird, welche beim Transportieren des Substrats 212 mit dessen Oberfläche in Kontakt kommen (vgl. 5C). As further in 5B is shown schematically in a cross-sectional view, the gas guide structure 106 a gas baffle 506 or a planar gas guide structure element 506 which is between the transport roller 102 and the transport level 104a can be arranged, the transport plane 104a in this case by means of the rings 502 which is defined when transporting the substrate 212 come into contact with its surface (cf. 5C ).
5C zeigt eine Querschnittsansicht 501a und eine entsprechende Draufsicht 501b der Beschichtungsanordnung 100. Der Transport des Substrats 212 kann in der Prozessebene 104a entlang der Richtung 111a erfolgen, wobei die Richtung 511 eine Richtung aufzeigt, die hierin als Breite oder Breitenrichtung bezeichnet ist. 5C shows a cross-sectional view 501 and a corresponding plan view 501b the coating arrangement 100 , The transport of the substrate 212 can at the process level 104a along the direction 111 take the direction 511 indicates a direction, referred to herein as width or width direction.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasführungsstruktur (das Gasleitblech 506) entsprechende Löcher 506a aufweisen, so dass die Ringe 502 der Transportrolle 102 durch die Löcher 506a hindurch ragen und die Transportebene 104a zum Transportieren des Substrats 212 bereitstellen. In dieser Anordnung kann sich das Gasleitblech 506 über die gesamte Breite des Transportbereichs erstrecken. According to various embodiments, the gas guiding structure (the gas guide plate 506 ) corresponding holes 506a have, so that the rings 502 the transport role 102 through the holes 506a protrude through and the transport plane 104a for transporting the substrate 212 provide. In this arrangement, the gas baffle can 506 extend over the entire width of the transport area.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Löcher 506a in der Gasführungsstruktur bzw. in dem Gasleitblech 506 dazu dienen oder genutzt werden, das Gas 108a in den Bereich zwischen dem Gasleitblech 506 und dem Substrat 212 einzuleiten. Ferner kann das Gasleitblech 506 keine weiteren Gaseinlässe 108 benötigen, so dass die Gaseinlässe 108 mittels der jeweiligen Löcher in dem Gasleitblech im Bereich der Transportrollen bereitgestellt sein können. Dies kann ein effizientes Umspülen der Substratrückseite ermöglichen. Ferner kann dabei effizient verhindert werden, dass Staub oder unerwünschtes Material aus dem Prozessbereich 111 in den Transportbereich gelangen kann. According to various embodiments, the holes 506a in the gas guide structure or in the gas guide plate 506 serve or be used, the gas 108a in the area between the gas baffle 506 and the substrate 212 initiate. Furthermore, the gas baffle can 506 no further gas inlets 108 need so the gas inlets 108 can be provided by means of the respective holes in the gas baffle in the region of the transport rollers. This can allow for efficient rinsing of the substrate backside. Furthermore, it can be efficiently prevented that dust or unwanted material from the process area 111 can get into the transport area.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Transportrolle 102 zwei, drei, vier, fünf, sechs, sieben, acht, neun, zehn, oder mehr als zehn Ringe 502 aufweisen. Ferner können die Ringe 502 aus dem gleichen Material wie die Transportrolle 102 bestehen, beispielsweise aus einem Metall oder einer Keramik. According to various embodiments, a transport roller 102 two, three, four, five, six, seven, eight, nine, ten, or more than ten rings 502 exhibit. Furthermore, the rings 502 made of the same material as the transport roller 102 consist, for example, of a metal or a ceramic.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wie in 6 schematisch dargestellt ist, kann die Beschichtungsanordnung 100 innerhalb einer Vakuumprozesskammer 612 angeordnet sein und/oder innerhalb einer Vakuumprozesskammer 612 bereitgestellt werden. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann in der Vakuumprozesskammer 612 ein Vakuum im Bereich des Grobvakuums, des Feinvakuums, des Hochvakuums oder des Ultrahochvakuums bereitgestellt sein oder werden. Dabei kann das Vakuum mittels einer Vakuumpumpenanordnung bereitgestellt sein oder werden (nicht dargestellt), wobei die Vakuumpumpenanordnung beispielsweise mindestens eine Turbomolekularpumpe aufweisen kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Prozessdruck innerhalb der Vakuumprozesskammer 612 dynamisch bereitgestellt werden, wobei während des Prozesses sowohl mindestens ein Gas 108a in die Vakuumprozesskammer 612 eingeleitet wird, als auch Gas aus der Vakuumprozesskammer mittels der Vakuumpumpenanordnung abgepumpt wird. Dabei kann sich ein Gleichgewicht einstellen, wodurch der Prozessdruck festgelegt sein kann oder festgelegt werden kann. Der Gasfluss 108a durch die Vakuumprozesskammer 612 hindurch und/oder der Prozessdruck kann mittels Ventilen und/oder Sensoren geregelt und/oder gesteuert werden. According to various embodiments, as in 6 is shown schematically, the coating arrangement 100 within a vacuum process chamber 612 be arranged and / or within a vacuum process chamber 612 to be provided. According to various embodiments, in the vacuum process chamber 612 a vacuum in the range of the rough vacuum, the fine vacuum, the high vacuum or the ultrahigh vacuum be or become. In this case, the vacuum may be provided by means of a vacuum pump arrangement or may be (not shown), wherein the vacuum pump arrangement may comprise, for example, at least one turbomolecular pump. According to various embodiments, a process pressure within the vacuum process chamber 612 be provided dynamically, wherein during the process both at least one gas 108a in the vacuum process chamber 612 is introduced, as well as gas is pumped out of the vacuum process chamber by means of the vacuum pump assembly. In this case, an equilibrium can set, whereby the process pressure can be fixed or can be determined. The gas flow 108a through the vacuum process chamber 612 through and / or the process pressure can be controlled and / or controlled by means of valves and / or sensors.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Einleiten des Gases 108a in die Vakuumprozesskammer 612 einen Bereich 208 unterhalb der Transportebene 104a erzeugen, der einen höheren Druck aufweisen kann, als andere umliegende Bereiche, beispielsweise ein Sputterbereich 662 der Vakuumprozesskammer 612. According to various embodiments, the introduction of the gas 108a in the vacuum process chamber 612 an area 208 below the transport level 104a generate, which may have a higher pressure than other surrounding Areas, for example a sputtering area 662 the vacuum process chamber 612 ,
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wie hierin beschrieben wird, kann mittels einer Kombination aus Gasführungsstruktur 106 und den Gaseinlässen 108 beispielsweise verhindert werden, dass sich Prozessmaterial und/oder Staub auf der Substratrückseite (auf der Oberfläche des Substrats 212, welche von dem Prozessierbereich 111 abgewandt ist) anlagert. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Bereich 208 unter dem Substrat 212 von dem Inertgas 108a durchspült werden, so dass schichtbildende Teilchen oder Reaktivgasteilchen aus dem Prozessierbereich nicht in die Nähe der Substratrückseite oder in die Transportvorrichtung 102 gelangen können. According to various embodiments, as described herein, by means of a combination of gas routing structure 106 and the gas inlets 108 For example, process material and / or dust on the substrate backside (on the surface of the substrate 212 that of the processing area 111 averted) attaches. According to various embodiments, the range 208 under the substrate 212 from the inert gas 108a be rinsed so that layer-forming particles or reactive gas from the processing area not in the vicinity of the substrate back or in the transport device 102 can reach.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Gas 108a innerhalb des Bereichs 208 unterhalb des Substrats 212 einen höheren Druck erzeugen, als beispielsweise in dem Prozessierbereich 111 oberhalb des Substrats. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Gas 108a innerhalb der Vakuumprozesskammer 612 einen Druckgradienten erzeugen. According to various embodiments, the gas 108a within the range 208 below the substrate 212 produce a higher pressure than for example in the processing area 111 above the substrate. According to various embodiments, the gas 108a within the vacuum process chamber 612 create a pressure gradient.
Ferner kann das einströmende Gas 108a eine Diffusion von Partikeln oder von Staub in eine Richtung entgegen der Gasflussrichtung des Gases 108a unterdrücken oder verhindern. Dabei kann aufgrund der Wechselwirkung (Stöße) der Gasteilchen des Gases 108a mit anderen Partikeln verhindert werden, dass sich Partikel entgegen der Gasflussrichtung des Gases 108a ausbreiten. Ferner kann diese Eigenschaft des Gasflusses 108a dazu genutzt werden, eine Barriere für Partikel oder Atome (Moleküle) zu bilden. Furthermore, the incoming gas 108a a diffusion of particles or dust in a direction opposite to the gas flow direction of the gas 108a suppress or prevent. In this case, due to the interaction (collisions) of the gas particles of the gas 108a With other particles are prevented that particles against the gas flow direction of the gas 108a spread. Furthermore, this property of the gas flow 108a used to create a barrier to particles or atoms (molecules).
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Gas 108a beim Einleiten in die Vakuumprozesskammer 102 eine Grundlast an Gas bereitstellen, wobei der Gasdruck innerhalb der Vakuumprozesskammer 612 dynamisch eingestellt sein kann. According to various embodiments, the gas 108a during introduction into the vacuum process chamber 102 provide a base load of gas, the gas pressure within the vacuum process chamber 612 can be set dynamically.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann unterhalb des Substrats 212 ein flächiges Gaspolster 208 entstehen oder gebildet werden, beispielsweise mithilfe eines Gasleitblechs 206. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Gasführung unterhalb des Substrats 212 derart erfolgen, dass das Gas 108a an offenen Substratkanten 212c, 212d in den Prozessierbereich 111 entweicht und/oder den Druckbereich 208 unterhalb des Substrats verlässt. According to various embodiments, below the substrate 212 a flat gas cushion 208 be formed or formed, for example by means of a gas baffle 206 , According to various embodiments, the gas guide may be below the substrate 212 done so that the gas 108a at open substrate edges 212c . 212d in the processing area 111 escapes and / or the pressure area 208 leaves below the substrate.
Da hierin der Gasstrom nur entlang der Transportrichtung 111a anschaulich dargestellt ist, sei angemerkt, dass die Gasführungsstruktur 106 das Gas 108a in analoger Weise entlang einer Richtung senkrecht zur Transportrichtung 111a (beispielsweise entlang der Breite des Substrats 212) führen kann. Since herein the gas flow only along the transport direction 111 is graphically illustrated, it should be noted that the gas routing structure 106 the gas 108a in an analogous manner along a direction perpendicular to the transport direction 111 (For example, along the width of the substrate 212 ) can lead.
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Gas 108a derart bereitgestellt werden, dass das Gas 108a, welches zumindest entlang der Rückseite des Substrats 212 strömt, nicht mit dem Substrat 212 oder dem Material des Substrats 212 chemisch reagiert. Ferner kann das Gas 108a eine chemische Reaktion auf der Rückseite des Substrats 212 verhindern. According to various embodiments, the gas 108a be provided such that the gas 108a which extends at least along the back of the substrate 212 does not flow with the substrate 212 or the material of the substrate 212 reacts chemically. Furthermore, the gas 108a a chemical reaction on the back of the substrate 212 prevent.
Ferner kann die Beschichtungsanordnung 100, wie in 6 veranschaulicht ist, als eine Sputterkammer eingerichtet sein, aufweisend eine Sputterquelle 660 und ein Sputterbereich 662. Es versteht sich, dass die Beschichtungsanordnung 100 auch eine Elektronenstrahlbeschichtungsanlage oder eine CVD-Beschichtungsanlage sein kann, wobei eine entsprechend andere Materialquelle 660 bereitgestellt ist, um einen Materialstrom in dem Bereich 662 zum Beschichten des Substrats 212 zu erzeugen. Furthermore, the coating arrangement 100 , as in 6 is illustrated as being configured as a sputtering chamber having a sputtering source 660 and a sputtering area 662 , It is understood that the coating arrangement 100 may also be an electron beam coating machine or a CVD coating system, wherein a correspondingly different material source 660 is provided to a flow of material in the area 662 for coating the substrate 212 to create.
7 zeigt anschaulich eine Beschichtungsanordnung 700 mit mehreren Transportrollen 102, wobei jeweils zwischen den Transportrollen 102 die Bereich 706 eingerichtet sind, in denen zumindest die untere Oberfläche das transportierten Substrats mittels der Gasführungsstruktur 106 und der Gaseinlässe 108 mit einem Gas 108a umspült werden kann, wie vorangehend beschrieben ist. 7 clearly shows a coating arrangement 700 with several transport rollers 102 , in each case between the transport rollers 102 the area 706 are set up, in which at least the lower surface of the transported substrate by means of the gas guide structure 106 and the gas inlets 108 with a gas 108a can be washed around, as described above.
Ferner kann eine Gasführungsstruktur beispielsweise innerhalb einer Beschichtungsanordnung entlang der Transportrichtung 111a mehrfach hintereinander angeordnet sein, wie in 7 dargestellt ist. Furthermore, a gas-guiding structure, for example, within a coating arrangement along the transport direction 111 be arranged several times in a row, as in 7 is shown.
8 zeigt ein schematisches Ablaufdiagramm für ein Verfahren 800 zum Betreiben der Beschichtungsanordnung 100. Das Verfahren 800 kann beispielsweise ein Beschichtungsverfahren sein, z.B. ein chemisches (CVD) oder physikalisches Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD). 8th shows a schematic flow diagram for a method 800 for operating the coating arrangement 100 , The procedure 800 For example, it may be a coating process, eg, a chemical (CVD) or physical vapor deposition (PVD) process.
Analog zu der hierin beschriebenen Beschichtungsanordnung 100 kann ein Verfahren 800 zum Betreiben der Beschichtungsanordnung 100 Folgendes aufweisen: in 810, das Transportieren eines Substrats 212 mittels der Transportvorrichtung 102 durch den Prozessierbereich 111 hindurch; in 820, das Zuführen eines Gases 108a mittels der Gasführungsstruktur 106 (und den Gaseinlässen 108); und, in 830, das Beschichten der dem Prozessierbereich 111 zugewandten Seite 212a des durch den Prozessierbereich 111 hindurch transportierten Substrats 212. Analogous to the coating arrangement described herein 100 can a procedure 800 for operating the coating arrangement 100 Have: in 810 , transporting a substrate 212 by means of the transport device 102 through the processing area 111 therethrough; in 820 , feeding a gas 108a by means of the gas guiding structure 106 (and the gas inlets 108 ); and in 830 , the coating of the processing area 111 facing side 212a through the processing area 111 transported through substrate 212 ,
