DE102015105911B4 - Processing arrangement - Google Patents

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    • H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers

Abstract

Prozessieranordnung (100), aufweisend:
• eine Prozesskammer (102) mit einem Prozessierbereich (111) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer;
• eine Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106) entlang einer Transportrichtung (101) in dem Prozessierbereich (111) ;
• wobei die Transportvorrichtung (104) mindestens ein erstes Transportelement (104a) und mindestens ein zweites Transportelement (104b) aufweist zum Tragen des Substratträgers (106) in dem Prozessierbereich (111), wobei das mindestens eine erste Transportelement (104a) auf einer ersten Seite (111a) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist, und wobei das mindestens eine zweite Transportelement (104b) auf einer der ersten Seite (111a) gegenüberliegenden zweiten Seite (111b) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist; und
• eine erste Gasseparationsstruktur (110a), welche bezüglich der Transportrichtung (101) vor und/oder hinter dem mindestens einen ersten Transportelement (104a) derart bereitgestellt ist, dass die erste Gasseparationsstruktur (110a) und der mittels der Transportvorrichtung (104) transportierte Substratträger (106) einen ersten Gasseparationsspalt (113a) bilden.

Figure DE102015105911B4_0000
Processing arrangement (100), comprising:
• a process chamber (102) with a processing area (111) for processing a substrate within the process chamber;
A transport device (104) for transporting the substrate by means of a substrate carrier (106) along a transport direction (101) in the processing area (111);
• wherein the transport device (104) has at least one first transport element (104a) and at least one second transport element (104b) for carrying the substrate carrier (106) in the processing area (111), the at least one first transport element (104a) on a first side (111a) of the processing area (111) is arranged, and wherein the at least one second transport element (104b) is arranged on a second side (111b) of the processing area (111) opposite the first side (111a); and
• a first gas separation structure (110a) which is provided in front of and / or behind the at least one first transport element (104a) with respect to the transport direction (101) in such a way that the first gas separation structure (110a) and the substrate carrier (104) transported by means of the transport device (104) 106) form a first gas separation gap (113a).
Figure DE102015105911B4_0000

Description

Die Erfindung betrifft eine Prozessieranordnung.The invention relates to a processing arrangement.

Im Allgemeinen können Substrate oder Träger mittels verschiedener Prozessieranlagen prozessiert (behandelt) werden. Dabei kann eine Prozessieranlage derart eingerichtet sein, dass ein Substrat beispielsweise beschichtet, geheizt, gekühlt, geätzt, belichtet, strukturiert und/oder auf eine andere Weise behandelt werden kann. Die Behandlung (bzw. das Prozessieren) von Substraten kann beispielsweise im Vakuum (z.B. in einer Vakuumprozesskammer), bei Normaldruck (z.B. bei Normdruck oder Atmosphärendruck in einer Atmosphärendruck-Prozesskammer) oder unter Überdruck (z.B. in einer Überdruck-Prozesskammer) erfolgen. Zum Beschichten (z.B. Bedampfen) eines Substrats kann beispielsweise eine Beschichtungsvorrichtung verwendet werden, welche derart eingerichtet ist, dass mittels der Beschichtungsvorrichtung ein Sputterverfahren (auch als Kathodenzerstäubungsverfahren bezeichnet) durchgeführt werden kann. Ferner können mittels einer Beschichtungsvorrichtung auch beliebige andere geeignete Beschichtungsverfahren durchgeführt werden.In general, substrates or carriers can be processed (treated) using various processing systems. In this case, a processing system can be set up in such a way that a substrate can be coated, heated, cooled, etched, exposed, structured and / or treated in some other way, for example. The treatment (or processing) of substrates can take place, for example, in a vacuum (e.g. in a vacuum process chamber), at normal pressure (e.g. at normal pressure or atmospheric pressure in an atmospheric pressure process chamber) or under overpressure (e.g. in an overpressure process chamber). For coating (e.g. vapor deposition) a substrate, for example, a coating device can be used which is set up in such a way that a sputtering process (also referred to as a cathode sputtering process) can be carried out by means of the coating device. Furthermore, any other suitable coating method can also be carried out by means of a coating device.

In DE 10 2010 061 585 A1 ist eine Transportvorrichtungsbaugruppe beschrieben zum Transportieren von Substraten durch ein Dampfabscheidungssystem hindurch. Die Transportvorrichtungsbaugruppe weist zwei einander gegenüberliegende Transportschienen auf. Zwischen den Transportschienen sind mehrere angetriebene Transportrollen entnehmbar gelagert.In DE 10 2010 061 585 A1 discloses a transport device assembly for transporting substrates through a vapor deposition system. The transport device assembly has two opposite transport rails. Several driven transport rollers are removably mounted between the transport rails.

In DE 20 2014 101 468 U1 ist eine Prozessiervorrichtung beschrieben, welche seitlich in eine Prozesskammer eingeschoben werden kann. Dabei weist die Prozessiervorrichtung ein Wandelement auf zum Befestigen der Prozessiervorrichtung an einer Prozesskammer, wobei das Wandelement eine Öffnung der Prozesskammer abdichtet. Mindestens eine an der Innenseite des Wandelements befestigte Prozessierquelle kann zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer verwendet werden. Ferner ist an der Innenseite des Wandelements eine Haltestruktur befestigt und an der Haltestruktur ist mindestens eine Abschirmungsstruktur gelagert zum Abschirmen der mindestens einen Prozessierquelle.In DE 20 2014 101 468 U1 describes a processing device which can be pushed laterally into a process chamber. The processing device has a wall element for fastening the processing device to a process chamber, the wall element sealing an opening in the process chamber. At least one processing source attached to the inside of the wall element can be used for processing a substrate within the process chamber. Furthermore, a holding structure is attached to the inside of the wall element and at least one shielding structure is mounted on the holding structure for shielding the at least one processing source.

Ferner kann mittels einer Transportvorrichtung ein Substrat durch eine Prozesskammer einer Prozessieranlage hindurch transportiert werden, wobei das Substrat in einem Prozessierbereich der Prozesskammer prozessiert (behandelt) werden kann. Das Transportieren flächiger Substrate kann beispielsweise direkt mittels Transportrollen erfolgen, oder die Substrate (z.B. Wafer) können mittels Substrat-Trägern (so genannter Carrier) transportiert werden. Bandförmige Substrate können beispielsweise von Rolle zu Rolle und/oder mittels mehrerer Umlenkrollen in der Prozesskammer transportiert werden.Furthermore, a substrate can be transported through a process chamber of a processing system by means of a transport device, wherein the substrate can be processed (treated) in a processing area of the process chamber. Flat substrates can be transported directly by means of transport rollers, for example, or the substrates (e.g. wafers) can be transported using substrate carriers. Tape-shaped substrates can, for example, be transported from roll to roll and / or by means of several pulleys in the process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann anstelle einer Transportrolle auch jedes andere geeignete Transportelement verwendet werden.According to various embodiments, any other suitable transport element can also be used instead of a transport roller.

Erfindungsgemäß weist eine Prozessieranordnung Folgendes auf: eine Prozesskammer mit einem Prozessierbereich zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (auch als Carrier bezeichnet) entlang einer Transportrichtung in dem Prozessierbereich; wobei die Transportvorrichtung mindestens eine erste Transportrolle (oder ein anderes geeignetes Transportelement) und mindestens eine zweite Transportrolle (oder ein anderes geeignetes Transportelement) aufweist zum Tragen des Substratträgers in dem Prozessierbereich, wobei die mindestens eine erste Transportrolle auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei die mindestens eine zweite Transportrolle auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist; eine erste Gasseparationsstruktur, welche bezüglich der Transportrichtung vor und/oder hinter der mindestens einen ersten Transportrolle derart bereitgestellt ist, dass die erste Gasseparationsstruktur und der mittels der Transportvorrichtung transportierte Substratträger einen ersten Gasseparationsspalt bilden; und/oder eine zweite Gasseparationsstruktur, welche bezüglich der Transportrichtung vor und/oder hinter der mindestens einen zweiten Transportrolle derart bereitgestellt ist, dass die zweite Gasseparationsstruktur und der mittels der Transportvorrichtung transportierte Substratträger einen zweiten Gasseparationsspalt bilden.According to the invention, a processing arrangement has the following: a process chamber with a processing area for processing a substrate within the process chamber; a transport device for transporting the substrate by means of a substrate carrier (also referred to as a carrier) along a transport direction in the processing area; wherein the transport device has at least one first transport roller (or another suitable transport element) and at least one second transport roller (or another suitable transport element) for carrying the substrate carrier in the processing area, wherein the at least one first transport roller is arranged on a first side of the processing area, and wherein the at least one second transport roller is arranged on a second side of the processing area opposite the first side; a first gas separation structure which is provided in front of and / or behind the at least one first transport roller with respect to the transport direction in such a way that the first gas separation structure and the substrate carrier transported by means of the transport device form a first gas separation gap; and / or a second gas separation structure, which is provided in front of and / or behind the at least one second transport roller with respect to the transport direction in such a way that the second gas separation structure and the substrate carrier transported by means of the transport device form a second gas separation gap.

Anschaulich kann eine Transportvorrichtung beidseitig in einer Prozesskammer angeordnete Transportrollenanordnungen aufweisen zum Transportieren eines Substrats oder mehrerer Substrate mittels eines Substratträgers, wobei zumindest eine der Transportrollenanordnungen eine Gasseparationsstruktur aufweist bzw. als Gasseparationsstruktur eingerichtet ist. Innerhalb des Prozessierbereichs der Prozesskammer kann das Substrat (analog auch mehrere Substrate) mittels einer Prozessiervorrichtung prozessiert werden.Clearly, a transport device can have transport roller arrangements arranged on both sides in a process chamber for transporting a substrate or a plurality of substrates by means of a substrate carrier, at least one of the transport roller arrangements having a gas separation structure or being set up as a gas separation structure. Within the processing area of the process chamber, the substrate (analog also several substrates) can be processed by means of a processing device.

Eine Prozessiervorrichtung und eine entsprechend eingerichtete Prozesskammer können beispielsweise derart bereitgestellt sein oder werden, dass mittels der Prozessiervorrichtung ein Substrat einseitig oder beidseitig prozessiert (behandelt) werden kann, wobei die Prozessiervorrichtung als Modul seitlich aus der Prozesskammer herausgezogen werden kann, beispielsweise zu Montagezwecken oder zur Wartung der Prozessiervorrichtung. Dabei kann die Prozessiervorrichtung derart eingerichtet sein, z.B. an einem Kammerdeckel montiert sein oder ein Wandelement aufweisen, dass die Prozessiervorrichtung, z.B. mittels des Kammerdeckels oder des Wandelements, eine Öffnung in der Prozesskammer im montierten Zustand (z.B. wenn die Prozessiervorrichtung in der Prozesskammer zum Behandeln eines Substrats installiert ist) vakuumdicht oder luftdicht verschließt, oder vakuumdicht oder luftdicht (gasdicht) abdichtet. Anschaulich kann die Prozessiervorrichtung an eine vertikal verlaufende seitliche Kammerwand einer Prozesskammer als vormontierte Baugruppe (z.B. als Modul) montiert sein oder werden, wobei die Prozessiervorrichtung mindestens eine Prozessierquelle aufweisen kann, wobei sich die mindestens eine Prozessierquelle im montierten Zustand der Beschichtungsvorrichtung entlang einer horizontalen Richtung in der Prozesskammer erstreckt, so dass innerhalb der Prozesskammer ein Substrat mittels der mindestens einen Prozessierquelle der Prozessiervorrichtung prozessiert (behandelt) werden kann. Ferner kann die Prozessiervorrichtung derart eingerichtet sein, z.B. mehrere Prozessierquellen aufweisen, dass mittels der Prozessiervorrichtung ein zu prozessierendes (zu behandelndes) Substrat beidseitig prozessiert werden kann, z.B. können eine Vorderseite und eine Rückseite des Substrats gleichzeitig prozessiert werden. Ferner kann die Prozessiervorrichtung mindestens eine (eine oder mehrere) (z.B. schwenkbar gelagerte oder fest installierte) Abschirmung, Blende, Abdeckung oder dergleichen aufweisen, zum Abschirmen der mindestens einen Prozessierquelle (z.B. zum Abschirmen einer oder mehrerer Prozessierquellen).A processing device and a correspondingly set up process chamber can be provided, for example, in such a way that a substrate is processed (treated) on one or both sides by means of the processing device. can be, wherein the processing device can be pulled as a module laterally from the process chamber, for example for assembly purposes or for maintenance of the processing device. The processing device can be set up in such a way, for example mounted on a chamber cover or have a wall element, that the processing device, for example by means of the chamber cover or the wall element, has an opening in the process chamber when installed Substrate is installed) sealed vacuum-tight or airtight, or vacuum-tight or airtight (gas-tight). Clearly, the processing device can be or can be mounted on a vertically running side chamber wall of a process chamber as a preassembled assembly (e.g. as a module), wherein the processing device can have at least one processing source, the at least one processing source in the mounted state of the coating device in a horizontal direction the process chamber, so that within the process chamber a substrate can be processed (treated) by means of the at least one processing source of the processing device. Furthermore, the processing device can be set up in such a way, for example have multiple processing sources, that a substrate to be processed (to be treated) can be processed on both sides by means of the processing device, for example a front side and a rear side of the substrate can be processed simultaneously. Furthermore, the processing device can have at least one (one or more) (for example pivotably mounted or permanently installed) shielding, screen, cover or the like for shielding the at least one processing source (for example for shielding one or more processing sources).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat, z.B. ein Wafer, in einer Prozesskammer mittels eines Substratträgers transportiert werden oder, in analoger Weise, können mehrere Substrate, z.B. mehrere Wafer, in einer Prozesskammer mittels eines Substratträgers transportiert werden. Der Substratträger kann beispielsweise mittels zweier Transportrollenanordnungen, welche an einander gegenüberliegenden seitlichen Kammerwänden der Prozesskammer befestigt sind, transportiert werden. Anschaulich liegt der jeweilige mittels der zwei Transportrollenanordnungen transportierte Substratträger nur mit jeweils einem seitlichen Randbereich auf mindestens einer Transportrolle der jeweiligen Transportrollenanordnung auf. Diese seitlichen Randbereiche (oder anschaulich Auflagebereiche) können derart eingerichtet sein, z.B. U-förmig, L-förmig oder C-förmig, dass die seitlichen Randbereiche jeweils mindestens eine Transportrolle der Transportrollenanordnung teilweise umgreifen. Die beiden Transportrollenanordnungen können eine Transportrichtung definieren, entlang welcher der jeweilige Substratträger (z.B. mit einem oder mehreren Substraten bestückt) transportiert werden kann, sowie eine Transportebene, in welcher der jeweilige Substratträger transportiert werden kann.According to various embodiments, a substrate, e.g. a wafer, can be transported in a process chamber by means of a substrate carrier or, in an analogous manner, several substrates, e.g. several wafers, can be transported in a process chamber by means of a substrate carrier. The substrate carrier can be transported, for example, by means of two transport roller arrangements which are attached to opposite side chamber walls of the process chamber. Clearly, the respective substrate carrier transported by means of the two transport roller arrangements rests with only one lateral edge area on at least one transport roller of the respective transport roller arrangement. These lateral edge areas (or clearly support areas) can be set up in such a way, e.g. U-shaped, L-shaped or C-shaped, that the lateral edge areas each partially encompass at least one transport roller of the transport roller arrangement. The two transport roller arrangements can define a transport direction along which the respective substrate carrier (e.g. equipped with one or more substrates) can be transported, as well as a transport plane in which the respective substrate carrier can be transported.

Ein Aspekt verschiedener Ausführungsformen kann anschaulich darin gesehen werden, eine ausreichende Gasseparation entlang der Transportrichtung innerhalb einer Prozesskammer bereitzustellen. Anschaulich kann eine Prozesskammer mehrere Prozessierbereiche (auch jeweils als Sektionen oder Kompartments bezeichnet) aufweisen, wobei der Substratträger nacheinander durch die mehreren Prozessierbereiche hindurch transportiert werden kann, wobei die jeweiligen Prozessierbereiche voneinander gassepariert sein sollen, z.B. mit einem Gasseparationsfaktor von mehr als 5, 10, 50 oder mehr als 100. Zwischen zwei benachbarten Prozessierbereichen kann eine vertikal verlaufende Schottwand bereitgestellt sein oder werden, welche eine Transferöffnung derart aufweist, dass der Substratträger durch die Schottwand hindurch transportiert werden kann. Der Bereich der Transferöffnung kann als Gasseparationsbereich ausgestaltet sein, d.h. es kann ein Gasseparationstunnel bereitgestellt sein oder werden. Ferner kann auch ein Prozessierbereich der mehreren Prozessierbereiche als Gasseparationsbereich eingerichtet sein oder werden.One aspect of various embodiments can clearly be seen in providing sufficient gas separation along the transport direction within a process chamber. A process chamber can clearly have several processing areas (also referred to as sections or compartments), the substrate carrier being able to be transported through the several processing areas one after the other, the respective processing areas being gas-separated from one another, e.g. with a gas separation factor of more than 5, 10, 50 or more than 100. A vertically running bulkhead can be provided between two adjacent processing areas, which bulkhead has a transfer opening such that the substrate carrier can be transported through the bulkhead. The area of the transfer opening can be designed as a gas separation area, i.e. a gas separation tunnel can be or will be provided. Furthermore, one processing area of the plurality of processing areas can also be set up as a gas separation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Bereich um die jeweiligen Transportrollen der Transportrollenanordnungen herum mit einer Gasseparationsstruktur, z.B. einem Balken oder einem Träger, ausgefüllt sein oder werden, ohne den Transport der Substratträger einzuschränken. Somit kann eine Gasausbreitung in Transportrichtung gehemmt werden. Mit anderen Worten kann mindestens ein Gasseparationselement in Transportrichtung gesehen vor und/oder nach der mindestens einen Transportrolle der Transportrollenanordnung angeordnet sein oder werden.According to various embodiments, the area around the respective transport rollers of the transport roller arrangements can be or be filled with a gas separation structure, for example a beam or a carrier, without restricting the transport of the substrate carriers. In this way, gas spreading in the direction of transport can be inhibited. In other words, at least one gas separation element can be arranged in front of and / or after the at least one transport roller of the transport roller arrangement, as seen in the transport direction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessiervorrichtung als Beschichtungsvorrichtung eingerichtet sein und betrieben werden, wobei die Beschichtungsvorrichtung mindestens eine Beschichtungsquelle aufweisen kann, z.B. eine Dampfquelle, z.B. eine Magnetronkathode. Somit kann ein anderer Aspekt verschiedener Ausführungsformen anschaulich darin gesehen werden, eine Beschichtungsvorrichtung für eine Beschichtungskammer bereitzustellen, wobei die Beschichtungsvorrichtung derart eingerichtet ist, dass mittels der Beschichtungsvorrichtung ein Substrat einseitig oder beidseitig beschichtet werden kann, wobei die Beschichtungsvorrichtung als Modul seitlich aus der Beschichtungskammer herausgezogen werden kann, beispielsweise zu Montagezwecken oder zur Wartung der Beschichtungsvorrichtung, wobei ferner eine ausreichende Gasseparation entlang der Transportrichtung bereitstellt ist. Dabei kann die Beschichtungsvorrichtung derart eingerichtet sein, z.B. an einem Kammerdeckel montiert sein oder ein Wandelement aufweisen, dass diese eine Öffnung in der Beschichtungskammer im montierten Zustand (z.B. wenn die Beschichtungsvorrichtung in der Beschichtungskammer zum Beschichten eines Substrats installiert ist) vakuumdicht oder luftdicht verschließt, oder vakuumdicht oder luftdicht (gasdicht) abdichtet. Anschaulich kann die Beschichtungsvorrichtung an eine vertikal verlaufende seitliche Kammerwand einer Beschichtungskammer als vormontierte Baugruppe (z.B. als Modul) montiert werden, wobei die Beschichtungsvorrichtung mehrere Kathoden (z.B. Magnetronkathoden) aufweisen kann, welche sich im montierten Zustand der Beschichtungsvorrichtung entlang einer horizontalen Richtung in der Beschichtungskammer erstrecken, so dass innerhalb der Beschichtungskammer ein Substrat mittels der mehreren Kathoden beidseitig beschichtet werden kann, z.B. können eine Vorderseite und eine Rückseite des Substrats gleichzeitig beschichtet werden. Dabei kann die Gasseparationsstruktur, welche zwischen den Transportrollen der jeweiligen Transportrollenanordnung oder um zumindest eine Transportrolle der jeweiligen Transportrollenanordnung herum bereitgestellt ist, derart eingerichtet sein, dass der Teil des Prozessierbereichs oberhalb des jeweils transportieren Substratträgers von dem Teil des Prozessierbereichs unterhalb des jeweils transportieren Substratträgers gassepariert ist. Somit kann beispielsweise die Vorderseite des Substrats, welches mittels des Substratträgers transportiert wird, mit einem anderen Beschichtungsmaterial beschichtet werden, als die Rückseite des Substrats, ohne dass sich die Beschichtungsprozesse oberhalb und unterhalb des jeweils mittels des Substratträgers transportieren Substrats störend beeinflussen.According to various embodiments, a processing device can be set up and operated as a coating device, wherein the coating device can have at least one coating source, for example a vapor source, for example a magnetron cathode. Another aspect of various embodiments can thus be clearly seen in providing a coating device for a coating chamber, the coating device being set up such that a substrate can be coated on one or both sides by means of the coating device, the coating device being pulled out of the coating chamber as a module can, for example, for assembly purposes or for maintenance of the coating device, furthermore sufficient gas separation is provided along the direction of transport. The coating device can be set up in such a way, e.g. mounted on a chamber cover or have a wall element, that it closes an opening in the coating chamber in the mounted state (e.g. when the coating device is installed in the coating chamber for coating a substrate) in a vacuum-tight or airtight manner, or vacuum-tight or airtight (gas-tight). The coating device can clearly be mounted on a vertically running side chamber wall of a coating chamber as a preassembled assembly (e.g. as a module), wherein the coating device can have several cathodes (e.g. magnetron cathodes) which, when the coating device is installed, extend along a horizontal direction in the coating chamber so that within the coating chamber a substrate can be coated on both sides by means of the plurality of cathodes, for example a front side and a rear side of the substrate can be coated at the same time. The gas separation structure, which is provided between the transport rollers of the respective transport roller arrangement or around at least one transport roller of the respective transport roller arrangement, can be set up in such a way that the part of the processing area above the respectively transported substrate carrier is gas separated from the part of the processing area below the respectively transported substrate carrier . Thus, for example, the front side of the substrate, which is transported by means of the substrate carrier, can be coated with a different coating material than the rear side of the substrate, without the coating processes above and below the respective substrate transported by means of the substrate carrier interfering with one another.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: einen Kammerdeckel bzw. ein Wandelement derart eingerichtet, dass beim Montieren (Befestigen) des Kammerdeckels bzw. des Wandelements an der Prozesskammer eine Öffnung der Prozesskammer abgedichtet wird, wobei eine Innenseite des Kammerdeckels bzw. des Wandelements zum Inneren der Prozesskammer gerichtet ist; und mindestens eine an der Innenseite des Kammerdeckels bzw. Wandelements befestigte Prozessiervorrichtung zum Prozessieren eines Substrats.According to various embodiments, a processing arrangement can have the following: a chamber cover or a wall element set up in such a way that an opening in the process chamber is sealed when the chamber cover or the wall element is mounted (fastened) to the process chamber, an inner side of the chamber cover or the wall element being used for Inside the process chamber is directed; and at least one processing device attached to the inside of the chamber cover or wall element for processing a substrate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel bzw. das Wandelement flächig eingerichtet sein, wobei die Prozessiervorrichtung mehrere Prozessierquellen aufweisen kann, welche derart relativ zu dem flächigen Wandelement angeordnet sein können, dass ein Prozessierbereich zwischen den mehreren Prozessierquellen gebildet wird, welcher sich senkrecht zum flächigen Wandelement erstreckt.According to various embodiments, the chamber cover or the wall element can be designed flat, wherein the processing device can have multiple processing sources, which can be arranged relative to the flat wall element in such a way that a processing area is formed between the multiple processing sources, which extends perpendicular to the flat wall element .

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessiervorrichtung ferner eine Versorgungs-Anordnung aufweisen zum Versorgen der mindestens einen Prozessierquelle mit zum Betreiben der Prozessierquelle verwendeten Medien, wobei der Kammerdeckel bzw. das Wandelement zwischen der Versorgungs-Anordnung und der mindestens einen Prozessierquelle angeordnet ist.According to various embodiments, the processing device can furthermore have a supply arrangement for supplying the at least one processing source with media used to operate the processing source, the chamber cover or the wall element being arranged between the supply arrangement and the at least one processing source.

Dabei können Medien zum Versorgen der mindestens einen Prozessierquelle beispielsweise folgendes aufweisen oder sein: Kühlmittel (z.B. Kühlwasser), elektrische Energie (Strom und Spannung), Signale oder Daten (Steuersignale, Regelsignale, Messsignale, Stellsignale oder dergleichen), Druckluft, Prozessgase (Reaktivgase und/oder Inertgase), Spülgase (z.B. komprimierte-getrocknete-Luft (CDA, compressed dry air), Vakuum (Unterdruck, Grobvakuum, Feinvakuum, Hochvakuum, Ultrahochvakuum).Media for supplying the at least one processing source can have or be, for example, the following: coolant (e.g. cooling water), electrical energy (current and voltage), signals or data (control signals, regulating signals, measuring signals, actuating signals or the like), compressed air, process gases (reactive gases and / or inert gases), flushing gases (eg compressed-dried-air (CDA, compressed dry air), vacuum (negative pressure, rough vacuum, fine vacuum, high vacuum, ultra-high vacuum).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können zwei Prozessierquellen in einer ersten Ebene auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet sein und zwei weitere Prozessierquellen können in einer zweiten Ebene auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet sein. Somit kann beispielsweise ein Prozessierbereich zwischen den mehreren Prozessierquellen bereitgestellt sein oder werden, durch welchen ein Substrat beispielsweise geradlinig hindurch transportiert werden kann.According to various embodiments, two processing sources can be arranged in a first level on a first side of the processing area and two further processing sources can be arranged in a second level on a second side of the processing area. Thus, for example, a processing area can be provided between the plurality of processing sources, through which a substrate can be transported in a straight line, for example.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einem Prozessierbereich zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers, wobei die Transportvorrichtung eine erste Transportrollenanordnung mit mindestens einer ersten Transportrolle aufweist, wobei die erste Transportrollenanordnung auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei die Transportvorrichtung eine zweite Transportrollenanordnung mit mindestens einer zweiten Transportrolle aufweist, wobei die zweite Transportrollenanordnung auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, so dass der Substratträger mittels der beiden Transportrollenanordnungen in dem Prozessierbereich transportiert werden kann; wobei die beiden Transportrollenanordnungen jeweils eine Gasseparationsstruktur aufweisen, welche derart um die jeweilige mindestens eine Transportrolle herum bereitgestellt ist, dass die Gasseparationsstruktur und der mittels der beiden Transportrollenanordnungen transportierte Substratträger einen Gasseparationsspalt bilden.According to various embodiments, a processing arrangement can have the following: a process chamber with a processing region for processing a substrate within the process chamber; a transport device for transporting the substrate by means of a substrate carrier, wherein the transport device has a first transport roller arrangement with at least one first transport roller, wherein the first transport roller arrangement is arranged on a first side of the processing area, and wherein the transport device has a second transport roller arrangement with at least one second transport roller, wherein the second transport roller arrangement is arranged on a second side of the processing area, so that the substrate carrier can be transported in the processing area by means of the two transport roller arrangements; wherein the two transport roller arrangements each have a gas separation structure which is provided around the respective at least one transport roller in such a way that the gas separation structure and the substrate carrier transported by means of the two transport roller arrangements form a gas separation gap.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einem Prozessierbereich zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers, wobei die Transportvorrichtung eine erste Transportrollenanordnung mit mindestens einer ersten Transportrolle aufweist, wobei die erste Transportrollenanordnung auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei die Transportvorrichtung eine zweite Transportrollenanordnung mit mindestens einer zweiten Transportrolle aufweist, wobei die zweite Transportrollenanordnung auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, so dass der Substratträger mittels der beiden Transportrollenanordnungen in dem Prozessierbereich transportiert werden kann; mindestens eine Gasseparationsstruktur, welche derart um die jeweilige mindestens eine Transportrolle herum bereitgestellt ist, dass die Gasseparationsstruktur und der mittels der beiden Transportrollenanordnungen transportierte Substratträger einen Gasseparationsspalt bilden.According to various embodiments, a processing arrangement can have the following: a process chamber with a processing region for processing a substrate within the process chamber; a transport device for transporting the substrate by means of a substrate carrier, wherein the transport device has a first transport roller arrangement with at least one first transport roller, wherein the first transport roller arrangement is arranged on a first side of the processing area, and wherein the transport device has a second transport roller arrangement with at least one second transport roller, wherein the second transport roller arrangement is arranged on a second side of the processing area, so that the substrate carrier can be transported in the processing area by means of the two transport roller arrangements; at least one gas separation structure which is provided around the respective at least one transport roller in such a way that the gas separation structure and the substrate carrier transported by means of the two transport roller arrangements form a gas separation gap.

Ferner kann der Substratträger jeweils einen L-förmigen, C-förmigen oder U-förmigen Abschnitt aufweisen, mittels dessen der Substratträger auf der jeweiligen mindestens einen Transportrolle der jeweiligen Transportrollenanordnung aufliegt, wobei sich der L-förmige, C-förmige oder U-förmige Abschnitt des Substratträges um die jeweilige Gasseparationsstruktur herum erstreckt. Anschaulich wird damit beim Transport des Substratträgers in der Prozesskammer ein gewinkelter oder gebogener Gasseparationsspalt zwischen der Gasseparationsstruktur und dem Substratträger gebildet.Furthermore, the substrate carrier can each have an L-shaped, C-shaped or U-shaped section, by means of which the substrate carrier rests on the respective at least one transport roller of the respective transport roller arrangement, the L-shaped, C-shaped or U-shaped section of the substrate carrier extends around the respective gas separation structure. Clearly, when the substrate carrier is transported in the process chamber, an angled or curved gas separation gap is thus formed between the gas separation structure and the substrate carrier.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Höhe der C-förmigen oder U-förmigen Schienen ungefähr 80 mm betragen, oder beispielsweise in einem Bereich von ungefähr 50 mm bis ungefähr 100 mm liegen.According to various embodiments, the height of the C-shaped or U-shaped rails can be approximately 80 mm or, for example, in a range from approximately 50 mm to approximately 100 mm.

Ferner kann die jeweilige Gasseparationsstruktur einen Balken aufweisen, welcher sich in Transportrichtung erstreckt. Die Transportrichtung kann beispielsweise von den beiden Transportrollenanordnungen definiert sein oder werden.Furthermore, the respective gas separation structure can have a bar which extends in the direction of transport. The transport direction can be defined, for example, by the two transport roller arrangements.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich die Gasseparationsstruktur entlang der Transportrichtung erstrecken. Die Gasseparationsstruktur kann als massiver Körper oder alternativ als Hohlkörper ausgestaltet sein oder werden. Die Gasseparationsstruktur kann einstückig sein oder aus mehreren Gasseparationselementen gebildet sein.According to various embodiments, the gas separation structure can extend along the transport direction. The gas separation structure can be designed as a solid body or, alternatively, as a hollow body. The gas separation structure can be in one piece or formed from a plurality of gas separation elements.

Wenn die Gasseparationsstruktur als massiver Balken oder Träger ausgestaltet ist, kann diese gleichzeitig zum Tragen der jeweiligen Transportrollen der Transportrollenanordnung dienen. Mit anderen Worten kann beispielsweise die mindestens eine Transportrolle der jeweiligen Transportrollenanordnung an der Gasseparationsstruktur montiert sein oder werden.If the gas separation structure is designed as a solid beam or carrier, it can simultaneously serve to carry the respective transport rollers of the transport roller arrangement. In other words, for example, the at least one transport roller of the respective transport roller arrangement can be or will be mounted on the gas separation structure.

Ferner kann die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer aufweisen und einen Kammerdeckel zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung, wobei mindestens ein Teil der ersten Transportrollenanordnung oder der zweiten Transportrollenanordnung an dem Kammerdeckel montiert sein kann oder werden kann.Furthermore, the process chamber can have a chamber opening in a lateral chamber wall of the process chamber and a chamber cover for gas-tight covering of the chamber opening, wherein at least a part of the first transport roller arrangement or the second transport roller arrangement can be or can be mounted on the chamber cover.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner eine Prozessiervorrichtung aufweisen zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs, wobei die Prozessiervorrichtung an dem Kammerdeckel montiert ist.According to various embodiments, the processing arrangement can furthermore have a processing device for processing the substrate within the processing region, the processing device being mounted on the chamber cover.

Ferner können die Prozessiervorrichtung und der Substratträger derart eingerichtet sein, dass ein mittels des Substratträgers transportiertes Substrat beidseitig prozessiert werden kann.Furthermore, the processing device and the substrate carrier can be set up in such a way that a substrate transported by means of the substrate carrier can be processed on both sides.

Ferner kann mindestens ein Teil der Gasseparationsstruktur an dem Kammerdeckel montiert sein oder werden.Furthermore, at least a part of the gas separation structure can be or will be mounted on the chamber cover.

Ferner kann mindestens ein Teil der Gasseparationsstruktur an einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer montiert sein oder werden.Furthermore, at least part of the gas separation structure can be or will be mounted on a side chamber wall of the process chamber.

Ferner kann die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer aufweisen zum Einschieben der Prozessiervorrichtung in die Prozesskammer hinein und/oder zum Herausziehen der Prozessiervorrichtung aus der Prozesskammer heraus, wobei mindestens ein Teil der ersten Transportrollenanordnung oder der zweiten Transportrollenanordnung an der Prozessiervorrichtung montiert ist.Furthermore, the process chamber can have a chamber opening in a side chamber wall of the process chamber for inserting the processing device into the process chamber and / or for pulling the processing device out of the process chamber, at least part of the first transport roller arrangement or the second transport roller arrangement being mounted on the processing device.

Ferner kann die Prozessiervorrichtung ein Deckelelement aufweisen zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung in der seitlichen Kammerwand der Prozesskammer, wobei mindestens ein Teil der ersten Transportrollenanordnung oder der zweiten Transportrollenanordnung an dem Deckelelement montiert ist. Ferner kann mindestens ein Teil der Gasseparationsstruktur an dem Deckelelement montiert sein oder werden.Furthermore, the processing device can have a cover element for gas-tight covering of the chamber opening in the side chamber wall of the process chamber, at least part of the first transport roller arrangement or the second transport roller arrangement being mounted on the cover element. Furthermore, at least a part of the gas separation structure can be or will be mounted on the cover element.

Ferner können die jeweilige Transportrollenanordnung, die Gasseparationsstruktur und der jeweils transportierte Substratträger derart bereitgestellt und relativ zueinander angeordnet sein oder werden, dass der Gasseparationsspalt zwischen der Gasseparationsstruktur und dem jeweils transportierten Substratträger eine Spalthöhe (z.B. quer zur Transportrichtung) von weniger als 1 cm und eine Spaltlänge (z.B. entlang der Transportrichtung) von mehr als 10 cm aufweist.Furthermore, the respective transport roller arrangement, the gas separation structure and the respectively transported substrate carrier can be provided in this way and arranged relative to one another or be that the gas separation gap between the gas separation structure and the respectively transported substrate carrier has a gap height (e.g. transverse to the transport direction) of less than 1 cm and a gap length (e.g. along the transport direction) of more than 10 cm.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Prozessieranordnung bereitgestellt, die Folgendes aufweist: eine Prozesskammer zum Prozessieren eines Substrats mittels einer Prozessiervorrichtung innerhalb eines Prozessierbereichs; wobei die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer aufweist zum Einschieben der Prozessiervorrichtung in die Prozesskammer hinein und/oder zum Herausziehen der Prozessiervorrichtung aus der Prozesskammer heraus; eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats in dem Prozessierbereich; und einen Träger, welcher sich entlang der seitlichen Kammerwand über die Kammeröffnung hinweg erstreckt und derart an der seitlichen Kammerwand der Prozesskammer montiert ist, dass dieser an der seitlichen Kammerwand der Prozesskammer verbleibt, wenn die Prozessiervorrichtung aus der Prozesskammer heraus gezogen wird; wobei ein Teil der Transportvorrichtung an dem Träger montiert ist, so dass die Transportvorrichtung beim Einschieben und/oder Herausziehen der Prozessiervorrichtung nicht verändert wird, wobei die Transportvorrichtung zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers in dem Prozessierbereich eingerichtet ist, und wobei die Transportvorrichtung, der Träger und der jeweils mittels der Transportvorrichtung transportierte Substratträger derart bereitgestellt und relativ zueinander angeordnet sind, dass ein Gasseparationsspalt zwischen dem Träger und dem jeweils mittels der Transportvorrichtung transportierten Substratträger gebildet ist.According to various embodiments, a processing arrangement is provided which has the following: a process chamber for processing a substrate by means of a processing device within a processing area; wherein the process chamber has a chamber opening in a lateral chamber wall of the process chamber for pushing the processing device into the process chamber and / or for pulling the processing device out of the process chamber; a transport device for transporting the substrate in the processing area; and a carrier which extends along the side chamber wall over the chamber opening and is mounted on the side chamber wall of the process chamber in such a way that it remains on the side chamber wall of the process chamber when the processing device is pulled out of the process chamber; wherein a part of the transport device is mounted on the carrier so that the transport device is not changed when the processing device is inserted and / or withdrawn, the transport device being set up to transport the substrate by means of a substrate carrier in the processing area, and wherein the transport device, the carrier and the substrate carriers each transported by means of the transport device are provided and arranged relative to one another in such a way that a gas separation gap is formed between the carrier and the substrate carrier transported in each case by means of the transport device.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Exemplary embodiments of the invention are shown in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigen

  • 1 eine Prozessieranordnung in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 2A einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 2B und 2C jeweils einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 3A und 3B einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 3C und 3D jeweils einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 4A und 4B jeweils einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen;
  • 5A und 5B einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und
  • 5C und 5D jeweils einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen.
Show it
  • 1 a processing arrangement in a schematic view, according to various embodiments;
  • 2A a part of a processing arrangement in a schematic view, according to various embodiments;
  • 2 B and 2C each part of a processing arrangement in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 3A and 3B a part of a processing arrangement in a schematic view, according to various embodiments;
  • 3C and 3D each part of a processing arrangement in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 4A and 4B each part of a processing arrangement in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;
  • 5A and 5B a part of a processing arrangement in a schematic view, according to various embodiments; and
  • 5C and 5D each part of a processing arrangement in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben“, „unten“, „vorne“, „hinten“, „vorderes“, „hinteres“, usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert.In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which there is shown, for purposes of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "back", etc. is used with reference to the orientation of the character (s) being described. Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is used for purposes of illustration and is in no way limiting. It goes without saying that other embodiments can be used and structural or logical changes can be made without departing from the scope of protection of the present invention. It goes without saying that the features of the various exemplary embodiments described herein can be combined with one another, unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe „verbunden“, „angeschlossen“ sowie „gekoppelt“ verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.In the context of this description, the terms “connected”, “connected” and “coupled” are used to describe both a direct and an indirect connection, a direct or indirect connection and a direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference symbols, insofar as this is appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine horizontale Vakuumprozessieranlage bereitgestellt, welche ein Carrier-Transportsystem (d.h. eine Transportvorrichtung zum Transportieren von Substraten mittels eines Substratträgers) und seitlich herausnehmbaren Prozesseinheiten (auch als Prozessiervorrichtungen bezeichnet) aufweist.According to various embodiments, a horizontal vacuum processing system is provided which has a carrier transport system (i.e. a transport device for transporting substrates by means of a substrate carrier) and laterally removable process units (also referred to as processing devices).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuumprozessieranlage für eine Waferbeschichtung im Sputterup-Verfahren (bei welchem das Substrat im Wesentlichen in der Horizontalen transportiert wird und von unten her beschichtet wird, z.B. mittels Sputterdeposition) und/oder Sputterdown-Verfahren (bei welchem das Substrat im Wesentlichen in der Horizontalen transportiert wird und von oben her beschichtet wird, z.B. mittels Sputterdeposition) konzipiert sein oder werden.According to various embodiments, the vacuum processing system can be used for wafer coating in the sputter-up process (in which the substrate is transported essentially horizontally and is coated from below, e.g. by means of sputter deposition) and / or sputter-down process (in which the substrate is essentially in the horizontal is transported and is coated from above, for example by means of sputter deposition) be or will be designed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Carrier-Transportsystem ein kammerseitig montiertes Teiltransportsystem aufweisen, welches mittels einer an der Prozesseinheit befestigten und mit dieser entfernbaren Stützrolle komplettiert wird.According to various embodiments, the carrier transport system can have a partial transport system mounted on the chamber side, which is completed by means of a support roller fastened to the process unit and removable with it.

Herkömmliche Carrier-Transportsysteme weisen zumindest im Bereich der Prozesstür (auch als Kammerdeckel oder Wandelement bezeichnet) eine fehlende Gastrennung auf, was die Wirksamkeit der mit erheblichem Aufwand entwickelten Gastrenneinbauten stark vermindert.Conventional carrier transport systems have a lack of gas separation, at least in the area of the process door (also referred to as chamber cover or wall element), which greatly reduces the effectiveness of the gas separation internals, which have been developed with considerable effort.

Für den Fall, dass in der Prozesskammer nur ein Teil des Carrier-Transportsystems montiert ist, welcher von mindestens einer Stützrolle komplettiert wird, wenn die Prozesseinheit installiert ist bzw. wenn die Kammertür geschlossen ist, kann das Transportsystem nur bei installierten Prozesseinheiten im vollen Umfang getestet werden, wobei außerdem die Justierung des Transportsystems und speziell die Justierung der an der Prozesseinheit befestigten Stützrolle im vollständig montierten Zustand (d.h. wenn die Prozessieranlage geschlossen ist) optisch nur bedingt kontrollierbar ist. Im ungünstigen Fall erfordert das Einstellen des Transportsystems das mehrmalige Öffnen- und Schließen aller Kammertüren, was einen erheblichen zeitlichen Aufwand bedeuten kann.In the event that only part of the carrier transport system is installed in the process chamber, which is completed by at least one support roller when the process unit is installed or when the chamber door is closed, the transport system can only be fully tested with the process units installed In addition, the adjustment of the transport system and especially the adjustment of the support roller attached to the processing unit in the fully assembled state (ie when the processing system is closed) can only be visually checked to a limited extent. In the worst case, the adjustment of the transport system requires the multiple opening and closing of all chamber doors, which can mean a considerable expenditure of time.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird die Gastrennung (auch als Gasseparation bezeichnet) verbessert und/oder eine vereinfachte Montage sowie Inbetriebnahme des Transportsystems ermöglicht.According to various embodiments, the gas separation (also referred to as gas separation) is improved and / or simplified assembly and commissioning of the transport system is made possible.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann beispielsweise an die Schottwände, welche den jeweiligen Prozessraum (auch als Prozessierbereich bezeichnet) begrenzen und welche in die Prozesskammer eingeschweißt sein können, im Bereich der Prozesstür ein massiver biege- und torsionssteifer Balken (z.B. aus Aluminium oder Stahl) montiert sein oder werden, der sowohl die Gastrennung zwischen unterem und oberem Prozessraum als auch die Gastrennung in Transportrichtung realisiert. Dabei kann der Balken das Innere der C-Schiene oder U-Schiene des Carriers ausfüllen und bis an die Prozesstürebene heran reichen.According to various embodiments, for example, on the bulkheads which delimit the respective process space (also referred to as the processing area) and which can be welded into the process chamber, a massive, flexurally and torsionally rigid bar (e.g. made of aluminum or steel) can be mounted in the area of the process door that realizes both the gas separation between the lower and upper process space as well as the gas separation in the direction of transport. The bar can fill the inside of the carrier's C-rail or U-rail and reach up to the process door level.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann dieser Balken eine Stützrolle im Bereich der Prozesstür tragen, welche für einen funktionierenden Carrier-Transport notwendig sein kann. Die Stützrolle kann beispielsweise in Transportrichtung gesehen mittig zur Kammeröffnung für die Prozesstür angeordnet sein oder werden.According to various embodiments, this bar can carry a support roller in the area of the process door, which can be necessary for a functioning carrier transport. The support roller can be arranged, for example, in the center of the chamber opening for the process door, as seen in the transport direction.

Alternativ können jeweils für die Transportrollen (z.B. für Antriebs- und/oder für Stützrollen) im Balken entsprechende Durchführungen vorgesehen sein, so dass die Transportrollen an der Kammerwand oder an der Prozesstür montiert sein können oder werden können.Alternatively, appropriate feed-throughs can be provided in the beam for the transport rollers (e.g. for drive and / or support rollers) so that the transport rollers can or can be mounted on the chamber wall or on the process door.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich der Balken in Transportrichtung durch den gesamten Prozessierbereich hindurch erstrecken. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich der Balken auch in Transportrichtung durch mehrere Prozessierbereiche hindurch erstrecken.According to various embodiments, the bar can extend through the entire processing area in the transport direction. According to various embodiments, the beam can also extend through several processing areas in the transport direction.

Für den Fall, dass die Transportrollen der jeweiligen Transportrollenanordnung an dem Balken montiert sind, kann der Balken die Justierung des Transportsystems vereinfachen, da der stabile Balken die Positionen der Transportrollen definieren kann.In the event that the transport rollers of the respective transport roller arrangement are mounted on the bar, the bar can simplify the adjustment of the transport system, since the stable bar can define the positions of the transport rollers.

Die Höhe des Balkens kann beispielsweise derart gewählt sein, dass die Prozesseinheit inklusive deren Anbauten beim Öffnen und Schließen mit einem minimalen Abstand an dem Balken vorbeigeführt werden kann. Die Lage des Balkens relativ zum Prozessraum sowie die relative Position der Stützrolle zum Balken können durch entsprechende konstruktive Elemente in gewissen Grenzen frei eingestellt sein oder werden.The height of the bar can be selected, for example, such that the process unit including its attachments can be moved past the bar with a minimal distance when opening and closing. The position of the beam relative to the process space and the position of the support roller relative to the beam can be set freely within certain limits by means of appropriate structural elements.

1 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 100 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 1 illustrates a processing arrangement 100 in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments.

Die Prozessieranordnung 100 kann eine Prozesskammer 102 aufweisen. Innerhalb der Prozesskammer 102 kann ein Prozessierbereich 111 bereitgestellt sein zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer 102. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Prozessierbereich von einer Prozessiervorrichtung definiert sein oder werden (vgl. beispielsweise 4A und 5C). Beispielsweise kann eine Beschichtungsvorrichtung einen Beschichtungsbereich definieren, innerhalb dessen ein Substrat innerhalb der Prozesskammer 102 beschichtet werden kann, oder beispielsweise kann eine Bestrahlungsvorrichtung einen Bestrahlungsbereich definieren, innerhalb dessen ein Substrat innerhalb der Prozesskammer 102 bestrahlt werden kann, etc.The processing arrangement 100 can be a process chamber 102 exhibit. Inside the process chamber 102 can be a processing area 111 be provided for processing a substrate within the process chamber 102 . According to various embodiments, the processing area can be or will be defined by a processing device (cf. for example 4A and 5C ). For example, a coating device can define a coating area within which a substrate within the process chamber 102 can be coated, or for example an irradiation device can define an irradiation area within which a substrate within the process chamber 102 can be irradiated, etc.

Ferner kann die Prozessieranordnung 100 eine Transportvorrichtung 104 aufweisen zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers 106 (auch als Carrier 106 bezeichnet) entlang einer Transportrichtung 101 (z.B. senkrecht zu der Breitenrichtung 103 und senkrecht zu der Höhenrichtung 105, vgl. 2A) in dem Prozessierbereich 111. Die Transportvorrichtung 104 kann eine erste Transportrollenanordnung mit mehreren ersten Transportrollen 104a aufweisen sowie eine zweite Transportrollenanordnung mit mehreren zweiten Transportrollen 104b zum Transportieren des Substratträgers 106 mittels der jeweiligen Transportrollen 104a, 104b der beiden Transportrollenanordnungen.Furthermore, the processing arrangement 100 a transport device 104 have for transporting the substrate by means of a substrate carrier 106 (also as a carrier 106 labeled) along a transport direction 101 (e.g. perpendicular to the width direction 103 and perpendicular to the height direction 105 , see. 2A) in the processing area 111 . The transport device 104 can have a first transport roller arrangement with a plurality of first transport rollers 104a have and a second transport roller arrangement with a plurality of second transport rollers 104b for transporting the substrate carrier 106 by means of the respective transport rollers 104a , 104b of the two transport roller arrangements.

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann die Transportvorrichtung 104 mindestens eine erste Transportrolle 104a und mindestens eine zweite Transortrolle aufweisen zum Tragen des Substratträgers 106 in dem Prozessierbereich 111, wobei die mindestens eine erste Transportrolle 104a auf einer ersten Seite 111a des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, und wobei die mindestens eine zweite Transportrolle 104b auf einer der ersten Seite 111a gegenüberliegenden zweiten Seite 111b des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist.As in 1 is illustrated, the transport device 104 at least one first transport roller 104a and at least one second transport roller for carrying the substrate carrier 106 in the processing area 111 , wherein the at least one first transport roller 104a on a first page 111a of the processing area 111 is arranged, and wherein the at least one second transport roller 104b on one of the first page 111a opposite second side 111b of the processing area 111 is arranged.

Ferner kann die Prozessieranordnung 100 eine erste Gasseparationsstruktur 110a aufweisen, welche bezüglich der Transportrichtung 101 vor und/oder hinter der mindestens einen ersten Transportrolle 104a derart bereitgestellt ist, dass die erste Gasseparationsstruktur 110a und der mittels der Transportvorrichtung 104 transportierte Substratträger 106 einen ersten Gasseparationsspalt 113a bilden. Alternativ oder zusätzlich kann die Prozessieranordnung 100 eine zweite Gasseparationsstruktur 110b aufweisen, welche bezüglich der Transportrichtung 101 vor und/oder hinter mindestens einer zweiten Transportrolle 104b derart bereitgestellt ist, dass die zweite Gasseparationsstruktur 110b und der mittels der Transportvorrichtung 104 transportierte Substratträger 106 einen zweiten Gasseparationsspalt 113b bilden.Furthermore, the processing arrangement 100 a first gas separation structure 110a have which with respect to the transport direction 101 in front of and / or behind the at least one first transport roller 104a is provided such that the first gas separation structure 110a and by means of the transport device 104 transported substrate carriers 106 a first gas separation gap 113a form. Alternatively or additionally, the processing arrangement 100 a second gas separation structure 110b have which with respect to the transport direction 101 in front of and / or behind at least one second transport roller 104b is provided such that the second gas separation structure 110b and by means of the transport device 104 transported substrate carriers 106 a second gas separation gap 113b form.

Dabei kann die erste Gasseparationsstruktur 110a einen Balken aufweisen oder als Balken ausgestaltet sein, wobei sich der Balken in Transportrichtung 101 erstreckt. In analoger Weise kann die zweite Gasseparationsstruktur 110b, sofern verwendet, einen Balken aufweisen oder als Balken ausgestaltet sein, welcher sich ebenfalls in Transportrichtung 101 erstreckt.The first gas separation structure 110a have a bar or be designed as a bar, the bar extending in the transport direction 101 extends. In an analogous manner, the second gas separation structure 110b , if used, have a bar or be designed as a bar, which is also in the transport direction 101 extends.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweilige Gasseparationsstruktur 110a, 110b einen Gasseparationsspalt in Transportrichtung 101 bilden. Der Gasseparationsspalt kann dabei in Transportrichtung 101 wesentlich länger sein als dessen Spaltbreite bzw. Spalthöhe quer zur Transportrichtung 101. Beispielsweise kann das Verhältnis aus Spaltbreite bzw. Spalthöhe (quer zur Transportrichtung 101) zur Spaltlänge (in Transportrichtung 101) kleiner sein als 10%, 5%, 1% oder 0,1%.According to various embodiments, the respective gas separation structure can 110a , 110b a gas separation gap in the direction of transport 101 form. The gas separation gap can be in the direction of transport 101 be significantly longer than its gap width or gap height transverse to the transport direction 101 . For example, the ratio of the gap width or gap height (transverse to the transport direction 101 ) to the gap length (in the transport direction 101 ) be less than 10%, 5%, 1% or 0.1%.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die mindestens eine erste Transportrolle 104a an dem ersten Balken 110a (bzw. an der ersten Gasseparationsstruktur 110a) montiert sein oder werden. In analoger Weise kann die mindestens eine zweite Transportrolle 104b an dem zweiten Balken 110b (sofern vorhanden) montiert sein oder werden.According to various embodiments, the at least one first transport roller 104a on the first bar 110a (or on the first gas separation structure 110a) be or will be installed. In an analogous manner, the at least one second transport roller 104b on the second bar 110b (if present) be or will be installed.

Alternativ kann sich die mindestens eine erste Transportrolle 104a durch eine erste Durchgangsöffnung des ersten Balkens 110a hindurch erstrecken, und beispielsweise an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden. In analoger Weise kann sich die mindestens eine zweite Transportrolle 104b durch eine zweite Durchgangsöffnung des zweiten Balkens 110b hindurch erstrecken, und beispielsweise an der entsprechend gegenüberliegenden seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden.Alternatively, the at least one first transport roller 104a through a first through opening of the first beam 110a extend therethrough, and for example on the side chamber wall 102s the process chamber 102 be or will be installed. In an analogous manner, the at least one second transport roller 104b through a second through opening of the second beam 110b extend therethrough, and for example on the correspondingly opposite lateral chamber wall 102s the process chamber 102 be or will be installed.

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann die Transportvorrichtung 104 derart eingerichtet sein, dass ein beidseitiges Prozessieren eines mittels des Substratträgers 106 transportierten Substrats in dem Prozessierbereich 111 der Prozesskammer 102 möglich ist.As in 1 is illustrated, the transport device 104 be set up in such a way that two-sided processing of one by means of the substrate carrier 106 transported substrate in the processing area 111 the process chamber 102 is possible.

2A veranschaulicht einen Teil einer Prozessieranordnung 100 in einer schematischen Draufsicht, wobei ferner 2B und 2C schematische Querschnittsansichten A-A und B-B der Prozessieranordnung 100 veranschaulichen, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 2A illustrates part of a processing arrangement 100 in a schematic plan view, furthermore 2 B and 2C schematic cross-sectional views AA and BB of the processing arrangement 100 illustrate, according to various embodiments.

Wie gemäß verschiedenen Ausführungsformen beschrieben ist, kann eine erste Gasseparationsstruktur 110a bezüglich der Transportrichtung 101 vor und/oder hinter der mindestens einen ersten Transportrolle 104a derart bereitgestellt sein oder werden, dass die erste Gasseparationsstruktur 110a und der mittels der Transportvorrichtung transportierte Substratträger 106 einen ersten Gasseparationsspalt 113a bilden. Ferner kann eine zweite Gasseparationsstruktur 110b bezüglich der Transportrichtung 101 vor und/oder hinter der mindestens einen zweiten Transportrolle 104b derart bereitgestellt sein oder werden, dass die zweite Gasseparationsstruktur 110b und der mittels der Transportvorrichtung transportierte Substratträger 106 einen zweiten Gasseparationsspalt 113b bilden.As described in accordance with various embodiments, a first gas separation structure 110a regarding the direction of transport 101 in front of and / or behind the at least one first transport roller 104a be or are provided in such a way that the first gas separation structure 110a and the substrate carrier transported by means of the transport device 106 a first gas separation gap 113a form. Furthermore, a second gas separation structure 110b regarding the direction of transport 101 in front of and / or behind the at least one second transport roller 104b be or are provided in such a way that the second gas separation structure 110b and the substrate carrier transported by means of the transport device 106 a second gas separation gap 113b form.

Dabei kann die jeweilige Gasseparationsstruktur 110a, 110b als massiver Balken eingerichtet sein, z.B. wenn die mindestens eine entsprechende Transportrolle 104a, 104b an der Gasseparationsstruktur 110a, 110b montiert sein soll bzw. in der Gasseparationsstruktur 110a, 110b drehbar gelagert sein soll. Alternativ kann die jeweilige Gasseparationsstruktur 110a, 110b ein Hohlkörper sein, z.B. mit einem eingeschlossenen Hohlraumvolumen.The respective gas separation structure 110a , 110b be set up as a solid bar, for example if the at least one corresponding transport roller 104a , 104b at the Gas separation structure 110a , 110b should be mounted or in the gas separation structure 110a , 110b should be rotatably mounted. Alternatively, the respective gas separation structure 110a , 110b be a hollow body, for example with an enclosed cavity volume.

Wie in 2B veranschaulicht ist, kann mittels der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b im Bereich der Transportrollen 104a, 104b eine Gasseparation ermöglicht sein oder werden. Effektiver kann die Gasseparation im Bereich vor und/oder nach der jeweiligen Transportrolle 104a, 104b, gesehen in Transportrichtung, erfolgen, wie in 2C veranschaulicht ist.As in 2 B is illustrated, can by means of the respective gas separation structure 110a , 110b in the area of the transport rollers 104a , 104b a gas separation is or will be made possible. The gas separation can be more effective in the area before and / or after the respective transport roller 104a , 104b seen in the direction of transport, as in 2C is illustrated.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger 106 zwei einander gegenüberliegende L-förmige, C-förmige oder U-förmige Randabschnitte 206r aufweisen, wobei der jeweilige L-förmige, C förmige oder U-förmige Randabschnitt 206r des Substratträges 106 mit der ersten Gasseparationsstruktur 110a bzw. mit der zweiten Gasseparationsstruktur 110b den jeweiligen Gasseparationsspalt 113a, 113b bildet.According to various embodiments, the substrate carrier 106 two opposing L-shaped, C-shaped or U-shaped edge sections 206r have, wherein the respective L-shaped, C-shaped or U-shaped edge portion 206r of the substrate carrier 106 with the first gas separation structure 110a or with the second gas separation structure 110b the respective gas separation gap 113a , 113b forms.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweilige Gasseparationsstruktur 110a, 110b passend zum verwendeten Substratträger 106 derart eingerichtet sein, dass ein L-förmiger, C-förmiger oder U-förmiger Gasseparationsspalt 113a, 113b gebildet wird (bezüglich des Querschnitts senkrecht zur Transportrichtung 101). Somit kann auch eine Gasausbreitung senkrecht zur Transportrichtung 101 (z.B. entlang der Richtung 105) vermindert bzw. gehemmt werden. According to various embodiments, the respective gas separation structure can 110a , 110b suitable for the substrate carrier used 106 be set up in such a way that an L-shaped, C-shaped or U-shaped gas separation gap 113a , 113b is formed (with respect to the cross-section perpendicular to the transport direction 101 ). This means that gas can also spread perpendicular to the direction of transport 101 (e.g. along the direction 105 ) can be reduced or inhibited.

Somit können beispielsweise ein oberhalb des Substratträgers 106 durchgeführter Prozess und eine unterhalb des Substratträgers 106 durchgeführter Prozess voneinander separiert werden. Anschaulich trennen die Gasseparationsstrukturen 110a, 110b und der Substratträger 106 den Prozessierbereich 111 in zwei voneinander gastechnisch unabhängige Bereiche.Thus, for example, an above the substrate carrier 106 performed process and one below the substrate carrier 106 carried out process can be separated from each other. The gas separation structures clearly separate 110a , 110b and the substrate carrier 106 the processing area 111 in two areas that are independent of each other in terms of gas technology.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der jeweilige Gasseparationsspalt 113a, 113b an mindestens einer Stelle mittels einer Dichtungsstruktur abgedichtet werden, wobei die Dichtungsstruktur derart eingerichtet sein kann, dass sich diese mit dem Substratträger 106 mit bewegt oder dass diese an dem Substratträger 106 schleift.According to various embodiments, the respective gas separation gap can 113a , 113b be sealed at least at one point by means of a sealing structure, wherein the sealing structure can be set up in such a way that it connects to the substrate carrier 106 moved with or that this on the substrate carrier 106 grinds.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Gasseparationsspalt 113a, 113b oberhalb und unterhalb der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b gebildet sein oder werden, sowie auf einer Seite der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b, welche dem Substratträger 106 zugewandt ist.According to various embodiments, the gas separation gap can 113a , 113b above and below the respective gas separation structure 110a , 110b be or are formed, as well as on one side of the respective gas separation structure 110a , 110b , which the substrate carrier 106 is facing.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger 106 mittels weiterer Rollen (z.B. seitlicher Führungsrollen) an der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b abgestützt sein oder werden.According to various embodiments, the substrate carrier 106 by means of further rollers (e.g. lateral guide rollers) on the respective gas separation structure 110a , 110b be or will be supported.

In den 3A bis 3D sind verschiedene Detail-Ansichten einer Prozessieranordnung 100 veranschaulicht, analog zum vorangehend Beschriebenen, wobei die Prozesskammer 102 eine Kammeröffnung 302o in einer seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 aufweist, und wobei die Prozessieranordnung 100 einen Kammerdeckel 302d zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung 302o aufweist. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, einen Teil der Transportvorrichtung 104 aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen, z.B. die erste Gasseparationsstruktur 110a und die mindestens eine erste Transportrolle 104a. Ferner oder alternativ kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, eine Prozessiervorrichtung, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen (vgl. beispielsweise 4A und 4B). Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Kammerdeckel 302d und die seitliche Kammerwand 102s, welche die entsprechend zu dem Kammerdeckel passende Kammeröffnung 302o aufweist, eine Dichtfläche 322 und/oder eine Dichtungsstruktur 322 aufweisen, so dass die Prozesskammer 102 vakuumdicht bzw. gasdicht verschlossen werden kann.In the 3A until 3D are different detailed views of a processing arrangement 100 illustrates, analogously to what has been described above, wherein the process chamber 102 a chamber opening 302o in a side wall of the chamber 102s the process chamber 102 having, and wherein the processing arrangement 100 a chamber lid 302d for gas-tight covering of the chamber opening 302o having. The chamber lid can be seen clearly 302d used to be part of the transport device 104 from the process chamber 102 can be seen, for example, the first gas separation structure 110a and the at least one first transport roller 104a . Furthermore or alternatively, the chamber lid 302d a processing device, which is attached to the chamber lid 302d is mounted, from the process chamber 102 to be taken (see for example 4A and 4B) . The chamber lid can be seen clearly 302d Be part of a modular processing device, which can be installed laterally (e.g. along direction 103 ) into the process chamber 102 can be plugged in. According to various embodiments, the chamber lid 302d and the side wall of the chamber 102s which corresponds to the chamber opening matching the chamber lid 302o has a sealing surface 322 and / or a sealing structure 322 have so that the process chamber 102 can be closed vacuum-tight or gas-tight.

3A veranschaulicht einen Teil der Prozessieranordnung 100 bei geöffnetem Kammerdeckel 302d in einer Draufsicht. Zum Öffnen der Prozesskammer 102 kann der Kammerdeckel 302d entlang der Richtung 103 senkrecht zur Transportrichtung 101 von der Prozesskammer 102 weg bewegt werden und zum Schließen der Prozesskammer 102 kann der Kammerdeckel 302d entlang der Richtung 103 zur Prozesskammer 102 hin bewegt werden und mit dieser gekuppelt werden, wie in 3B dargestellt ist. Dabei kann die mindestens eine erste Transportrolle 104a, z.B. direkt oder indirekt mittels der Gasseparationsstruktur 110a, an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden. 3A illustrates part of the processing arrangement 100 with the chamber lid open 302d in a top view. To open the process chamber 102 can the chamber lid 302d along the direction 103 perpendicular to the direction of transport 101 from the process chamber 102 be moved away and to close the process chamber 102 can the chamber lid 302d along the direction 103 to the process chamber 102 be moved towards and coupled with this, as in 3B is shown. The at least one first transport roller 104a , for example directly or indirectly by means of the gas separation structure 110a , on the chamber lid 302d be or will be installed.

Anschaulich kann ein Teil der Transportvorrichtung 104 an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden, so dass dieser Teil der Transportvorrichtung 104 gemeinsam mit dem Kammerdeckel 302d aus der Prozesskammer 102 entfernt werden kann bzw. in die Prozesskammer 102 eingebracht werden kann. Mit anderen Worten kann beispielsweise ein Teil der ersten Transportrollenanordnung, welche auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden, so dass dieser Teil der ersten Transportrollenanordnung gemeinsam mit dem Kammerdeckel 302d aus der Prozesskammer 102 entfernt werden kann bzw. in die Prozesskammer 102 eingebracht werden kann. Ferner kann die zweite Transportrollenanordnung, welche auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozessierbereich 111 montiert sein oder werden, so dass die zweite Transportrollenanordnung unabhängig vom Zustand (z.B. geöffnet oder geschlossen) des Kammerdeckels 302d bereitgestellt sein kann.Part of the transport device 104 on the chamber lid 302d be or will be mounted so that this part of the transport device 104 together with the chamber lid 302d from the process chamber 102 can be removed or into the process chamber 102 can be introduced. In other words, for example, a part of the first transport roller arrangement, which on a first side of the Processing area 111 is arranged on the chamber lid 302d be or will be mounted so that this part of the first transport roller arrangement together with the chamber cover 302d from the process chamber 102 can be removed or into the process chamber 102 can be introduced. Furthermore, the second transport roller arrangement, which is on a second side of the processing area 111 is arranged on the side chamber wall 102s the processing area 111 be or will be mounted so that the second transport roller arrangement regardless of the state (eg open or closed) of the chamber cover 302d can be provided.

In diesem Fall, wie beispielsweise gemäß 3A bis 3D und 4A und 4B veranschaulicht ist, ist die Transportvorrichtung 104 nur bei geschlossenem Kammerdeckel 302d komplettiert.In this case, as for example according to 3A until 3D and 4A and 4B illustrated is the transport device 104 only with the chamber lid closed 302d completed.

3C veranschaulicht die Querschnittsansicht der in 3B dargestellten Prozessieranordnung 100 bei geschlossenem Kammerdeckel 302d im Bereich der Transportrollen 104a, 104b. 3C FIG. 11 illustrates the cross-sectional view of the FIG 3B illustrated processing arrangement 100 with the chamber lid closed 302d in the area of the transport rollers 104a , 104b .

3D veranschaulicht die Querschnittsansicht der in 3B dargestellten Prozessieranordnung 100 bei geschlossenem Kammerdeckel 302d im Bereich vor und/oder hinter den Transportrollen 104a, 104b. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist der erste Gasseparationsspalt 113a nur bei geschlossenem Kammerdeckel 302d gebildet. 3D FIG. 11 illustrates the cross-sectional view of the FIG 3B illustrated processing arrangement 100 with the chamber lid closed 302d in the area in front of and / or behind the transport rollers 104a , 104b . According to various embodiments, the first gas separation gap is 113a only with the chamber lid closed 302d educated.

Wie in den 3A bis 3D veranschaulicht ist, kann die erste Gasseparationsstruktur 110a an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden. Ferner kann sich die erste Gasseparationsstruktur durch die gesamte Prozesskammer 102 hindurch erstrecken, wobei in diesem Fall nur ein Abschnitt 110a der Gasseparationsstruktur an dem Kammerdeckel 302d montiert ist.As in the 3A until 3D illustrated, the first gas separation structure 110a on the chamber lid 302d be or will be installed. Furthermore, the first gas separation structure can extend through the entire process chamber 102 extend therethrough, in which case only a section 110a the gas separation structure on the chamber lid 302d is mounted.

4A veranschaulicht eine Querschnittsansicht einer Prozessieranordnung 100 bei geschlossenem Kammerdeckel 302d im Bereich der Transportrollen 104a, 104b und 4B veranschaulicht eine Querschnittsansicht der Prozessieranordnung 100 bei geschlossenem Kammerdeckel 302d im Bereich vor und/oder hinter den Transportrollen 104a, 104b, wobei eine Prozessiervorrichtung 430a, 430b zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs 111 an dem Kammerdeckel 302d montiert ist. 4A Figure 11 illustrates a cross-sectional view of a processing assembly 100 with the chamber lid closed 302d in the area of the transport rollers 104a , 104b and 4B Figure 10 illustrates a cross-sectional view of the processing assembly 100 with the chamber lid closed 302d in the area in front of and / or behind the transport rollers 104a , 104b , wherein a processing device 430a , 430b for processing the substrate within the processing area 111 on the chamber lid 302d is mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, die Prozessiervorrichtung 430a, 430b, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung 430a, 430b, sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann.According to various embodiments, the chamber cover 302d to be used, the processing device 430a , 430b , which on the chamber lid 302d is mounted, from the process chamber 102 refer to. The chamber lid can be seen clearly 302d Part of a modular processing device 430a , 430b , be which laterally (e.g. along direction 103 ) into the process chamber 102 can be plugged in.

Dabei kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b beispielsweise derart eingerichtet sein, dass das Substrat (z.B. einseitig oder beidseitig) beschichtet, geheizt, gekühlt, geätzt, belichtet, strukturiert und/oder auf eine andere Weise behandelt werden kann. Dabei kann die Prozesskammer 102 beispielsweise als eine Vakuumprozesskammer eingerichtet sein, so dass das Substrat beispielsweise im Vakuum prozessiert werden kann.The processing device can 430a , 430b be set up, for example, in such a way that the substrate (for example, on one side or on both sides) can be coated, heated, cooled, etched, exposed, structured and / or treated in some other way. The process chamber 102 be set up, for example, as a vacuum process chamber, so that the substrate can be processed, for example, in a vacuum.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b eine Prozessierquelle 430a aufweisen, welche oberhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist, und (z.B. optional) eine weitere Prozessierquelle 430b, welche unterhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist. Alternativ kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b eine Prozessierquelle 430b aufweisen, welche unterhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist, und (z.B. optional) eine weitere Prozessierquelle 430a, welche oberhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist.According to various embodiments, the processing device 430a , 430b a processing source 430a have which above the substrate carrier 106 is arranged, and (for example, optionally) a further processing source 430b , which is below the substrate carrier 106 is arranged. Alternatively, the processing device 430a , 430b a processing source 430b have which below the substrate carrier 106 is arranged, and (for example, optionally) a further processing source 430a , which is above the substrate carrier 106 is arranged.

In den 5A bis 5D sind verschiedene Ansichten einer Prozessieranordnung 100 veranschaulicht, analog zum vorangehend Beschriebenen, wobei die Prozesskammer 102 eine Kammeröffnung 302o in einer seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 aufweist, und wobei die Prozessieranordnung 100 einen Kammerdeckel 302d zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung 302o aufweist. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, eine Prozessiervorrichtung 430a, 430b, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen, wobei in diesem Fall die Transportvorrichtung 104 komplett in der Prozesskammer 102 verbleibt. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Kammerdeckel 302d und die seitliche Kammerwand 102s, welche die entsprechend zu dem Kammerdeckel passende Kammeröffnung 302o aufweist, eine Dichtfläche 322 und/oder eine Dichtungsstruktur 322 aufweisen, so dass die Prozesskammer 102 vakuumdicht bzw. gasdicht verschlossen werden kann.In the 5A until 5D are different views of a processing arrangement 100 illustrates, analogously to what has been described above, wherein the process chamber 102 a chamber opening 302o in a side wall of the chamber 102s the process chamber 102 having, and wherein the processing arrangement 100 a chamber lid 302d for gas-tight covering of the chamber opening 302o having. The chamber lid can be seen clearly 302d a processing device can be used for this purpose 430a , 430b , which on the chamber lid 302d is mounted, from the process chamber 102 to be taken, in this case the transport device 104 completely in the process chamber 102 remains. The chamber lid can be seen clearly 302d Be part of a modular processing device, which can be installed laterally (e.g. along direction 103 ) into the process chamber 102 can be plugged in. According to various embodiments, the chamber lid 302d and the side wall of the chamber 102s which corresponds to the chamber opening matching the chamber lid 302o has a sealing surface 322 and / or a sealing structure 322 have so that the process chamber 102 can be closed vacuum-tight or gas-tight.

Wie in 5A bis 5D veranschaulicht ist, kann die erste Gasseparationsstruktur 110a an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden, d.h. anschaulich nicht mit dem Kammerdeckel verbunden sein. In diesem Fall kann sich die erste Gasseparationsstruktur durch die gesamte Prozesskammer 102 hindurch erstrecken, wobei die Gasseparationsstruktur nicht an dem Kammerdeckel 302d montiert ist. Anschaulich kann die Gasseparationsstruktur 110a, welche beispielsweise als massiver Balken oder Träger ausgestaltet ist, die mindestens eine erste Transportrolle 104a (bzw. zumindest einen Teil der ersten Transportrollenanordnung) im Bereich des Kammerdeckels 302d tragen.As in 5A until 5D illustrated, the first gas separation structure 110a on the side wall of the chamber 102s the process chamber 102 be or will be mounted, ie clearly not connected to the chamber cover. In this case, the first gas separation structure can extend through the entire process chamber 102 extend therethrough, the gas separation structure not being on the chamber lid 302d is mounted. Vividly can the gas separation structure 110a , which is designed, for example, as a solid beam or carrier, the at least one first transport roller 104a (or at least part of the first transport roller arrangement) in the area of the chamber cover 302d wear.

5A veranschaulicht einen Teil einer Prozessieranordnung 100 bei geöffnetem Kammerdeckel 302d in einer schematischen Draufsicht, wobei eine Prozessiervorrichtung 430a, 430b zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs 111 an dem Kammerdeckel 302d montiert ist. Zum Öffnen der Prozesskammer 102 kann der Kammerdeckel 302d entlang der Richtung 103 senkrecht zur Transportrichtung 101 von der Prozesskammer 102 weg bewegt werden und zum Schließen der Prozesskammer 102 kann der Kammerdeckel 302d entlang der Richtung 103 zur Prozesskammer 102 hin bewegt werden und mit dieser gekuppelt werden, wie in 5B in einer schematischen Draufsicht dargestellt ist. Dabei kann die Transportvorrichtung 104 beim Öffnen des Kammerdeckels 302d komplett in der Prozesskammer 102 verbleiben, wobei die Prozessiervorrichtung 430a, 430b aus der Prozesskammer 102 heraus gezogen wird. 5A illustrates part of a processing arrangement 100 with the chamber lid open 302d in a schematic plan view, wherein a processing device 430a , 430b for processing the substrate within the processing area 111 on the chamber lid 302d is mounted. To open the process chamber 102 can the chamber lid 302d along the direction 103 perpendicular to the direction of transport 101 from the process chamber 102 be moved away and to close the process chamber 102 can the chamber lid 302d along the direction 103 to the process chamber 102 be moved towards and coupled with this, as in 5B is shown in a schematic plan view. The transport device 104 when opening the chamber lid 302d completely in the process chamber 102 remain, the processing device 430a , 430b from the process chamber 102 is pulled out.

5C veranschaulicht die Prozessieranordnung 100 bei geöffnetem Kammerdeckel 302d im Bereich der Transportrollen 104a, 104b und 5D veranschaulicht die Prozessieranordnung 100 bei geöffnetem Kammerdeckel 302d im Bereich vor und/oder hinter den Transportrollen 104a, 104b (jeweils in einer schematischen Querschnittsansicht), wobei die Prozessiervorrichtung 430a, 430b zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs 111 an dem Kammerdeckel 302d montiert ist. Beim Öffnen des Kammerdeckels 302d wird die Prozessiervorrichtung 430a, 430b aus der Prozesskammer 102 heraus gezogen und die Transportvorrichtung 104 (insbesondere die mindestens eine erste Transportrolle sowie die mindestens eine zweite Transportrolle) verbleibt in der Prozesskammer 102. 5C illustrates the processing arrangement 100 with the chamber lid open 302d in the area of the transport rollers 104a , 104b and 5D illustrates the processing arrangement 100 with the chamber lid open 302d in the area in front of and / or behind the transport rollers 104a , 104b (each in a schematic cross-sectional view), wherein the processing device 430a , 430b for processing the substrate within the processing area 111 on the chamber lid 302d is mounted. When opening the chamber lid 302d becomes the processing device 430a , 430b from the process chamber 102 pulled out and the transport device 104 (in particular the at least one first transport roller and the at least one second transport roller) remain in the process chamber 102 .

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, die Prozessiervorrichtung 430a, 430b, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung 430a, 430b, sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann. In dem Fall, wenn die Transportvorrichtung 104 unabhängig von dem Kammerdeckel 302d an den seitlichen Kammerwänden 102s der Prozesskammer 102 montiert ist, kann die Transportvorrichtung 104 kalibriert werden, ohne dass die Prozesskammer 102 geschlossen werden muss. Dies ermöglicht es beispielsweise, die Transportvorrichtung 104 zu kalibrieren ohne die Prozessieranordnung 100 zu betreiben.According to various embodiments, the chamber cover 302d to be used, the processing device 430a , 430b , which on the chamber lid 302d is mounted, from the process chamber 102 refer to. The chamber lid can be seen clearly 302d Part of a modular processing device 430a , 430b , be which laterally (e.g. along direction 103 ) into the process chamber 102 can be plugged in. In the case when the transport device 104 regardless of the chamber lid 302d on the side walls of the chamber 102s the process chamber 102 is mounted, the transport device 104 can be calibrated without the process chamber 102 must be closed. This makes it possible, for example, to use the transport device 104 to calibrate without the processing arrangement 100 to operate.

Wie beispielsweise in 1 in Verbindung mit den 5A bis 5D veranschaulicht ist, kann die Prozessieranordnung 100 eine Prozesskammer 102 aufweisen zum Prozessieren eines Substrats mittels einer Prozessiervorrichtung 430a, 430b innerhalb eines Prozessierbereichs 111 der Prozesskammer 102, wobei die Prozesskammer 102 eine Kammeröffnung 302o in einer seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 aufweist zum Einschieben der Prozessiervorrichtung 430a, 430b in die Prozesskammer 102 hinein und/oder zum Herausziehen der Prozessiervorrichtung 430a, 430b aus der Prozesskammer 102 heraus. Ferner kann die Prozessieranordnung 100 eine Transportvorrichtung 104 aufweisen zum Transportieren des Substrats in dem Prozessierbereich 111. Ferner kann die Prozessieranordnung 100 einen Träger 510 aufweisen, welcher an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer montiert ist und sich über die Kammeröffnung 302o hinweg erstreckt, wobei ein Teil der Transportvorrichtung 104 an dem Träger 510 montiert ist.As for example in 1 in connection with the 5A until 5D is illustrated, the processing arrangement 100 a process chamber 102 have for processing a substrate by means of a processing device 430a , 430b within a processing area 111 the process chamber 102 , the process chamber 102 a chamber opening 302o in a side wall of the chamber 102s the process chamber 102 has for inserting the processing device 430a , 430b into the process chamber 102 in and / or for pulling out the processing device 430a , 430b from the process chamber 102 out. Furthermore, the processing arrangement 100 a transport device 104 have for transporting the substrate in the processing area 111 . Furthermore, the processing arrangement 100 a carrier 510 have, which is on the side chamber wall 102s the process chamber is mounted and extends over the chamber opening 302o extends away, with part of the transport device 104 on the carrier 510 is mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Träger 510 nur zum Tragen der mindestens einen ersten Transportrolle der Transportvorrichtung 104 eingerichtet sein oder werden, wie vorangehend beschrieben ist. Der Träger 510 kann auch als Gasseparationsstruktur 110a eingerichtet sein, analog zum vorangehend Beschriebenen.According to various embodiments, the carrier 510 only for carrying the at least one first transport roller of the transport device 104 be set up as described above. The carrier 510 can also be used as a gas separation structure 110a be set up, analogous to that described above.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportvorrichtung 104 zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers 106 in dem Prozessierbereich 111 eingerichtet sein, wie vorangehend beschrieben ist, wobei die Transportvorrichtung 104, der Träger 510 und der jeweils mittels der Transportvorrichtung 104 transportierte Substratträger 106 derart bereitgestellt und relativ zueinander angeordnet sind, dass ein Gasseparationsspalt 113a zwischen dem Träger 106 und dem jeweils mittels der Transportvorrichtung 104 transportierten Substratträger 106 gebildet ist.According to various embodiments, the transport device 104 for transporting the substrate by means of a substrate carrier 106 in the processing area 111 be set up as described above, wherein the transport device 104 , the carrier 510 and each by means of the transport device 104 transported substrate carriers 106 are provided and arranged relative to one another in such a way that a gas separation gap 113a between the carrier 106 and in each case by means of the transport device 104 transported substrate carrier 106 is formed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die hierin beschriebene Transportvorrichtung 104 symmetrisch auf beiden Seiten 111a, 111b des Prozessierbereichs 111 ausgestaltet sein. Beispielsweise kann die Transportvorrichtung 104 auf beiden Seiten 111a, 111b des Prozessierbereichs 111 jeweils eine Gasseparationsstruktur 110a, 110b aufweisen, wie hierin beschrieben ist.According to various embodiments, the transport device described herein 104 symmetrical on both sides 111a , 111b of the processing area 111 be designed. For example, the transport device 104 on both sides 111a , 111b of the processing area 111 each has a gas separation structure 110a , 110b as described herein.

Alternativ kann die hierin beschriebene Transportvorrichtung 104 auch auf beiden Seiten 111a, 111b des Prozessierbereichs 111 verschieden (d.h. asymmetrisch) ausgestaltet sein. Beispielsweise kann die Transportvorrichtung 104 auf nur einer der beiden Seiten 111a, 111b des Prozessierbereichs 111 eine Gasseparationsstruktur aufweisen.Alternatively, the transport device described herein 104 also on both sides 111a , 111b of the processing area 111 be designed differently (ie asymmetrically). For example, the transport device 104 on only one of the two sides 111a , 111b of the processing area 111 have a gas separation structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann anstelle der Prozessiervorrichtung 430a, 430b, wie hierin beschrieben ist, eine zusätzliche Gasseparationsstruktur an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden, so dass in dem Prozessbereich 111 eine zusätzliche Gasseparation erfolgen kann. Beispielsweise kann ein Gasseparationstunnel bei montiertem Kammerdeckel 302d mittels der am Kammerdeckel 302d montierten zusätzlichen Gasseparationsstruktur bereitgestellt sein oder werden, wobei der Substratträger 106 durch den Gasseparationstunnel transportiert wird, so dass beispielsweise eine zusätzliche Gasseparation in Transportrichtung 101 erfolgen kann. In diesem Fall sind die Form und Größe des Gasseparationstunnels von der Höhe bzw. der Form des Substratträgers 106 abhängig, da die Gasseparationsstruktur seitlich eingeschoben wird.According to various embodiments, instead of the processing device 430a , 430b as described herein, an additional gas separation structure on the chamber lid 302d be or will be mounted so that in the process area 111 an additional gas separation can take place. For example, a gas separation tunnel can be used with the chamber cover installed 302d by means of the on the chamber lid 302d mounted additional gas separation structure or will be provided, wherein the substrate carrier 106 is transported through the gas separation tunnel, so that, for example, an additional gas separation in the transport direction 101 can be done. In this case, the shape and size of the gas separation tunnel are the same as the height or the shape of the substrate carrier 106 dependent, as the gas separation structure is pushed in from the side.

Claims (9)

Prozessieranordnung (100), aufweisend: • eine Prozesskammer (102) mit einem Prozessierbereich (111) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; • eine Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106) entlang einer Transportrichtung (101) in dem Prozessierbereich (111) ; • wobei die Transportvorrichtung (104) mindestens ein erstes Transportelement (104a) und mindestens ein zweites Transportelement (104b) aufweist zum Tragen des Substratträgers (106) in dem Prozessierbereich (111), wobei das mindestens eine erste Transportelement (104a) auf einer ersten Seite (111a) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist, und wobei das mindestens eine zweite Transportelement (104b) auf einer der ersten Seite (111a) gegenüberliegenden zweiten Seite (111b) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist; und • eine erste Gasseparationsstruktur (110a), welche bezüglich der Transportrichtung (101) vor und/oder hinter dem mindestens einen ersten Transportelement (104a) derart bereitgestellt ist, dass die erste Gasseparationsstruktur (110a) und der mittels der Transportvorrichtung (104) transportierte Substratträger (106) einen ersten Gasseparationsspalt (113a) bilden.Processing arrangement (100), comprising: • a process chamber (102) with a processing area (111) for processing a substrate within the process chamber; A transport device (104) for transporting the substrate by means of a substrate carrier (106) along a transport direction (101) in the processing area (111); • wherein the transport device (104) has at least one first transport element (104a) and at least one second transport element (104b) for carrying the substrate carrier (106) in the processing area (111), the at least one first transport element (104a) on a first side (111a) of the processing area (111) is arranged, and wherein the at least one second transport element (104b) is arranged on a second side (111b) of the processing area (111) opposite the first side (111a); and • a first gas separation structure (110a) which is provided in front of and / or behind the at least one first transport element (104a) with respect to the transport direction (101) in such a way that the first gas separation structure (110a) and the substrate carrier (104) transported by means of the transport device (104) 106) form a first gas separation gap (113a). Prozessieranordnung gemäß Anspruch 1, ferner aufweisend: • eine zweite Gasseparationsstruktur (110b), welche bezüglich der Transportrichtung (101) vor und/oder hinter dem mindestens einen zweiten Transportelement (104b) derart bereitgestellt ist, dass die zweite Gasseparationsstruktur (110b) und der mittels der Transportvorrichtung (104) transportierte Substratträger (106) einen zweiten Gasseparationsspalt (113b) bilden.Processing arrangement according to Claim 1 , further comprising: • a second gas separation structure (110b) which is provided in front of and / or behind the at least one second transport element (104b) with respect to the transport direction (101) in such a way that the second gas separation structure (110b) and the means of the transport device (104 ) transported substrate carriers (106) form a second gas separation gap (113b). Prozessieranordnung gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der Substratträger (106) zwei einander gegenüberliegende L-förmige, C-förmige oder U-förmige Randabschnitte (206r) aufweist, welche jeweils mit der ersten Gasseparationsstruktur (110a) und/oder mit der zweiten Gasseparationsstruktur (110b) den jeweiligen Gasseparationsspalt (113a, 113b) bildet.Processing arrangement according to Claim 1 or 2 , wherein the substrate carrier (106) has two opposing L-shaped, C-shaped or U-shaped edge sections (206r), which each with the first gas separation structure (110a) and / or with the second gas separation structure (110b) form the respective gas separation gap ( 113a, 113b). Prozessieranordnung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die erste Gasseparationsstruktur (110a) einen ersten Balken aufweist, welcher sich in Transportrichtung (101) erstreckt; und/oder wobei die zweite Gasseparationsstruktur (110b) einen zweiten Balken aufweist, welcher sich in Transportrichtung (101) erstreckt.Processing arrangement according to one of the Claims 1 until 3 wherein the first gas separation structure (110a) has a first beam which extends in the transport direction (101); and / or wherein the second gas separation structure (110b) has a second bar which extends in the transport direction (101). Prozessieranordnung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das mindestens eine erste Transportelement (104a) an der ersten Gasseparationsstruktur (110a) montiert ist; und/oder wobei das mindestens eine zweite Transportelement (104b) an der zweiten Gasseparationsstruktur (110b) montiert ist.Processing arrangement according to one of the Claims 1 until 4th wherein the at least one first transport element (104a) is mounted on the first gas separation structure (110a); and / or wherein the at least one second transport element (104b) is mounted on the second gas separation structure (110b). Prozessieranordnung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Prozesskammer (102) eine Kammeröffnung (302o) in einer seitlichen Kammerwand (102s) der Prozesskammer (102) und einen Kammerdeckel (302d) zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung (302o) aufweist, wobei das mindestens eine erste Transportelement (104a) an dem Kammerdeckel (302d) montiert ist.Processing arrangement according to one of the Claims 1 until 5 , wherein the process chamber (102) has a chamber opening (302o) in a lateral chamber wall (102s) of the process chamber (102) and a chamber cover (302d) for gas-tight covering of the chamber opening (302o), wherein the at least one first transport element (104a) on the chamber cover (302d) is mounted. Prozessieranordnung gemäß Anspruch 6, ferner aufweisend: eine Prozessiervorrichtung (430a, 430b) zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs (111), wobei die Prozessiervorrichtung (430a, 430b) an dem Kammerdeckel (302d) montiert ist.Processing arrangement according to Claim 6 , further comprising: a processing device (430a, 430b) for processing the substrate within the processing region (111), the processing device (430a, 430b) being mounted on the chamber cover (302d). Prozessieranordnung gemäß Anspruch 6 oder 7, wobei die erste Gasseparationsstruktur (110a) zumindest teilweise an dem Kammerdeckel (302d) montiert ist.Processing arrangement according to Claim 6 or 7th wherein the first gas separation structure (110a) is at least partially mounted on the chamber lid (302d). Prozessieranordnung (100), aufweisend: • eine Prozesskammer (102) zum Prozessieren eines Substrats mittels einer Prozessiervorrichtung (430a, 430b) innerhalb eines Prozessierbereichs (111); • wobei die Prozesskammer (102) eine Kammeröffnung (302o) in einer seitlichen Kammerwand (102s) der Prozesskammer (102) aufweist zum Einschieben der Prozessiervorrichtung (430a, 430b) in die Prozesskammer (102) hinein und/oder zum Herausziehen der Prozessiervorrichtung (430a, 430b) aus der Prozesskammer (102) heraus; • eine Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats in dem Prozessierbereich (111); und • einen Träger (510, 110a), welcher sich entlang der seitlichen Kammerwand (102s) über die Kammeröffnung (302o) hinweg erstreckt und derart an der seitlichen Kammerwand (102s) der Prozesskammer (102) montiert ist, dass dieser an der seitlichen Kammerwand (102s) der Prozesskammer (102) verbleibt, wenn die Prozessiervorrichtung (430a, 430b) aus der Prozesskammer (102) heraus gezogen wird; • wobei die Transportvorrichtung zumindest teilweise an dem Träger (510, 110a) montiert ist, • wobei die Transportvorrichtung (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106) in dem Prozessierbereich (111) eingerichtet ist, und • wobei die Transportvorrichtung (104), der Träger (510, 110a) und der jeweils mittels der Transportvorrichtung (104) transportierte Substratträger (106) derart bereitgestellt und relativ zueinander angeordnet sind, dass ein Gasseparationsspalt (113a) zwischen dem Träger (510, 110a) und dem jeweils mittels der Transportvorrichtung (104) transportierten Substratträger (106) gebildet ist.Processing arrangement (100), comprising: a process chamber (102) for processing a substrate by means of a processing device (430a, 430b) within a processing area (111); • wherein the process chamber (102) has a chamber opening (302o) in a lateral chamber wall (102s) of the process chamber (102) for insertion the processing device (430a, 430b) into the process chamber (102) and / or for pulling the processing device (430a, 430b) out of the process chamber (102); • a transport device (104) for transporting the substrate in the processing area (111); and • a carrier (510, 110a) which extends along the side chamber wall (102s) over the chamber opening (302o) and is mounted on the side chamber wall (102s) of the process chamber (102) in such a way that it is mounted on the side chamber wall (102s) the process chamber (102) remains when the processing device (430a, 430b) is pulled out of the process chamber (102); • where the transport device is at least partially mounted on the carrier (510, 110a), • where the transport device (104) is set up to transport the substrate by means of a substrate carrier (106) in the processing area (111), and • where the transport device (104 ), the carrier (510, 110a) and the substrate carrier (106) transported in each case by means of the transport device (104) are provided and arranged relative to one another in such a way that a gas separation gap (113a) between the carrier (510, 110a) and the respectively by means of the Transport device (104) transported substrate carrier (106) is formed.
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