DE2013454B2 - Halbleitergeber zur kraftmessung - Google Patents
Halbleitergeber zur kraftmessungInfo
- Publication number
- DE2013454B2 DE2013454B2 DE19702013454 DE2013454A DE2013454B2 DE 2013454 B2 DE2013454 B2 DE 2013454B2 DE 19702013454 DE19702013454 DE 19702013454 DE 2013454 A DE2013454 A DE 2013454A DE 2013454 B2 DE2013454 B2 DE 2013454B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor
- resistors
- bridge
- force
- resistive elements
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one piezoelectric, electrostrictive or magnetostrictive element covered by groups H10N30/00 – H10N35/00
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Force Measurement Appropriate To Specific Purposes (AREA)
Description
30
Die Erfindung bezieht sich auf einen Halbleitergeber zur Kraftmessung nach dem Oberbegriff des Anspruchs
1.
In einer bekannten Anordnung dieser Art (DT-OS 19 39 931), wird ein Siliiüumkristall mit integriert
angeordneten Widerständen in der Art einer Belastungssäule so mechanisch beansprucht, daß eine
meßwertabhängige Ausgangsfrequenz entsteht. Belastungssäulen sind nur für größere Meßkräfte geeignet.
Weiterhin ist die definierte Einleitung der Meßkräfte problematisch. Es werden deshalb anstelle einer
Belastungssäule auch Freiträger verwendet (Rohrbach »Handbuch für el. Messen mech. Größen«
Düsseldorf 1967, S. 136). Bei diesen Freiträgern sind jedoch die integriert angeordneten Meßeiemente auf
entgegengesetzten, zur Hauptkraftrichtung senkrechten Oberflächen angeordnet. Das geschieht aus
Linearitätsgründen, um eine gleichmäßige Dehnung bzw. Stauchung der Meßelemente zu erzielen. Die
Herstellung solcher Elemente ist jedoch wegen der so notwendigen zweiseitigen Diffusion nicht einfach.
Ebenso ist die Kontaktierung der Anschlußdrähte erschwert. Bei einer derartigen Ausführungsform ist
überhaupt die Anwendung, der in der Halbleiter-Technologie geläufigen Verfahren nur mit besonderem
Aufwand möglich.
Es ist auch schon eine Anordnung zur Umwandlung mechanischer Auslenkungen in elektrische Signale
bekannt (DT-PS 11 68 971), bei der ein Halbleiterkörper Verwendung findet, der in seinem mittleren Bereich
einen verjüngten Querschnitt aufweist, der im wesentlichen die mechanische Deformation und den elektrischen
Widerstand des Halbleiterkörpers bestimmt.
Bei Halbleitermaterialien ist bekanntlich die durch Dehnung hervorgerufene Widerstandsänderung wesentlich
größer als bei Metall. Demgegenüber ist bei Halbleitern der Temperaturgang des Widerstandes im
allgemeinen größer als bei Metallen, wie sie üblicherweise bei Dehnungsmeßstreifen Anwendung finden. Bei
der Auswertung der großen Widerstandsänderungen von Halbleitern durch eine Brückenschaltung ist die
Ausgangsgröße bei der üblichen Speisung mit konstanter Spannung nur dann linear von der Eingangsgröße
abhängig, wenn der Gesamtwiderstand der entsprechenden Brückenlängszweige konstant bleibt.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen Halbleitergeber derart auszulegen, daß man eine lineare Abhängigkeit
der Ausgangsspannung von der Druckbelastung erhält, hierbei jedoch nur die in der Halbleitertechnologie
übliche einseitige Diffusion notwendig ist, wobei gleichzeitig auf gute Kraftverstärkung, definierte
Krafteinleitung, Kompensation der Temperatureffekte, große Ausgangsspannung, sowie geringen Raumbedarf
Wert gelegt wird.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 angegebene Erfindung gelöst.
Bei einer VoUbrückenanordnung liegen jeweils zwei
Widerstände oberhalb und zwei Widerstände unterhalb der neutralen Faser des Halbleiters. Alle über ihr
liegenden Teile des Halbleiters werden bei dessen Druckbeaufschlagung gedehnt, die unter der neutralen
Achse liegenden Teile gestaucht. Gleichen Einflüssen sind auch die auf dem Halbleiter angeordneten
Widerstände unterworfen. Dehnung und Stauchung beeinflussen dabei den Widerstand entgegengesetzt.
Ordnet man nun je ein Widerstandselement der aus
zwei Widerstandselemenlen bestehenden Brürkenlängszweige
der Brückenschaltung oberhalb und unterhalb der neutralen Achse an, so wird in jedem
Brückenlängszweig sein Gesamtwiderstand auch bei der Biegebeanspruchung konstant bleiben. Gerade das
ist aber die Bedingung für die Linearität der Ausgangsspannung. Hierbei sind sowohl die gedehnten,
als auch die gestauchten Widerstände auf ein- und derselben Seitenfläche des Halbleiterbiegebalkens in
integrierter Weise angeordnet. Dieser Aufbau des Meßelementes ist mit den Mitteln der in der
Halbleitertechnologie üblichen Planartechnik leicht herzustellen. Gleichzeitig ist die Krafteinleitung in das
als Biegebalken ausgelegte Meßelement leicht und in definierter Weise möglich.
Die vier Widerstände der Brückenschaltung sind dabei auf kleinster Fläche integriert. Sie erfordern so
nur einer geringen Raumbedarf und sind gleichzeitig ausgezeichnet temperaturkompensiert. Diese Temperaturkompensation
erfolgt ?uf zweierlei Weise: Zum einen wird durch die Integration der Temperaturgang
der Halbleiterwiderstände optimal ausgeglichen, zum anderen bewirkt eine thermische Ausdehnung des
Halbleitermaterial durch den gleichen Effekt auf alle
Widerstände keine fehlerhafte Ausgangsgröße. Überdies wird durch die Anordnung der Widerstände
gewährleistet, daß die übliche Dehnung der Widerstände beim Aufbringen des Halbleiters z. B. auf einen
mechanischen Träger, keine Wirkung hat, da alle Widerstände gleich gedehnt werden und diese Wirkung
sich somit aufhebt.
Der Halbleiter kann sowohl zur Umsetzung der Kraft in eine Deformation als auch zur Umsetzung der
Deformation in eine Widerstandsänderung verwendet werden. Wegen der Diffusion der Widerstände auf der
gleichen Seite des Halbleitersubstrates ist eine gewisse Höhe der Seitenfläche notwendig. In Abhängigkeit vom
Meßbereich kann es deshalb vorkommen, daß bei vorgegebener Höhe die Breite des Halbleiterbiegebalkens
nur gering ist. Bei Verwendung des üblichen,
serienmäßigen Halbleitermaterials beträgt beispielsweise die Breite nur 0,2 mm. Die Verwendung eines solchen
Materials bietet den Vorteil, daß er wegen der Standardisierung sehr billig ist. Wegen der Belastung
des Halbleiters über seine hohe Kante, kann bei s gleichzeitiger geringer Breite ein Ausknicken des
Halbleiters senkrecht zur Kraftrichtung erfolgen. Dieses Ausknicken (Kippen eir:^s Biegebalkens) kann
durch einen Steg geringer Höhe aber entsprechender Breite verhindert werden, der seitlich am Halbleiter ; ,
zwischen Einspannhalterung und Kraftangriff des Gebers geführt wird. Durch die geringe Höhe bietet der
Steg bezüglich der Meßkraft keinen Widerstand, wohl aber bezüglich der seitlichen Ausknickkraft. Um
thermische Verspannungen zu vermeiden, wird vorzugsweise ein Siegmaterial ausgewählt, das die gleiche
thermische Ausdehnung wie das Halbleitermaterial besitzt.
Die Erfindung ist anhand der Zeichnung beispielsweise näher erläutert Es zeigt
Fig. 1 schematisch eine Seitenansicht eines Halbleitergebers mit Krafteinleitung und Widerstandsänderung
am gleichen Meßelement,
F i g. 2 eine Brückenschaltung des Haibleitergebers,
F i g. 3 einen Halbleitergeber bei stark übertrieben aj
angedeuteter Biegebeanspruchung,
Fig.4 schematisch die Anordnung des Halbleitergebers
an einem Träger und
F i g. 5 einen Schnitt durch die mechanische Einspannung und halterung des Halbleitergebers.
F i g. 1 zeigt einen Halbleitergeber. Dargestellt ist die Version der integrierten Vollbrücke mit eindotierten
Widerständen Al, R2, R3 und /?4. Die gleichen
Überlegungen gelten sinngemäß auch für eine Halbbrückenanordnung, bei der auf dem Halbleiter nur zwei is
Widerstände (z. B. Rl und R2) miteinander durch Leiterbahnen verbunden sind.
Der dargestellte Halbleiter 2 ist an einem Ende auf einer festen Unterlage befestigt und wird an seinem
freien Ende von einer Kraft K beaufschlagt. Der Halbleiter 2 dient hierbei sowohl zur Umsetzung der
Kraft in eine Deformation als auch zur Umsetzung der Deformation in eine Widerstandsänderung. Betrachtet
man z. B. die dargestellte Vollbrückenanordnung, so liegen die vier streifenförmigen Widerstände Ri bis /?4
symmetrisch und parallel zur Biegelinie 3 (neutrale Faser). Sie werden auf dem Halbleiterbiegebalken
samtlich seitlich angeordnet. Sie sind durch die Leiterbahnen 1 zu einer Vollbrücke verschaltet. Die
Brückenanschlüsse liegen an den Leiterbahnen.
Die Brückenausgangsspannung ist dann linear, wenn der Gesamtwiderstand eines Brückenlängszwoiges
konstant bleibt, d. h., wenn im oberen Längszweig die Summe der Widerstände Rl und R2 und im unteren
Längszweig die Summe der Widerstände A3 und R4 für
alle Dehnungen konstant bleibt. Die Anordnung von F i g. 1 erfüllt diese Forderungen. Die beiden Widerstände
Ri und R2 liegen dabei oberhalb, die Widerstände Rl
und R4 unterhalb der neutralen Achse. Greift am freien Ende des Trägers die Kraft K an, so werden die beiden
oberen Widerstände gedehnt und die unteren gestaucht. Dadurch werden die Widerstandswerte der Widerstände
R\ und R3 größer, die Widerstandswerte der Widerstände R2 und R4 kleiner. In Fi g. 2 ist das durch
die Plus- und Minus-Zeichen schematisch angedeutet. In
F i g. 3 sind die üehnungs- bzw. Stauchungsverhältnisse zu erkennen.
Für eine praktische Anwendung ist der Halbleiter-Einkristall am Einspannende zu befestigen. Entsprechend
ist eine Möglichkeit für die Krafteinleitung vorzusehen. Fig.4 zeigt eine Anordnung, bei der ein
Halbleiter 2, auf den in geschilderter Weise die Widerstände und Leiterbahnen aufgebracht sind,
parallel und symmetrisch zur Biegelinie 3 in einer mechanischen Einspann- und Halterungsvorrichtung
befestigt ist, die durch einen Träger 5 gebildet wird. Wie in der Figur angedeutet, ist der Träger 5 an einem Ende
eingespannt, während an seinem anderen Ende die Kraft K angreift. Der Träger 5 weist von seiner Ober-
und Unterseite ausgehende, symmetrisch zur Biegelinie 3 liegende Einschnitte 4 bzw. 4' auf, zwischen denen
lediglich ein schmaler Steg 6 stehen bleibt. Wie in F i g. 4 erkennbar, liegt dieser aufgrund der Symmetrie der
Einschnitte 4 bzw. 4' selbst symmetrisch und auf dei
Höhe der Biegelinie 3 und parallel zum Halbleiter 2.
Fig. 5 zeigt eine Einspann- und Halterungsvorrichtung,
bei der Halbleiter 2 in der Mitte des in zwei Elemente aufgelösten Trägers 5 bzw. 5' eingefügt ist.
Auch hier erfolgt links die Einspannung und rechts auf die angedeutete Weise die Krafteinleitung. Man erkennt
weiter zwei Stege 6 bzw. 6' für die die obige Erläuterung ebenfalls gilt.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Halbleitergeber zur Kraftmessung mit in integrierter Weise auf der gleichen Fläche eines als
Biegebalken beanspruchten Einkristall-Halbleitersubstrates eindotierten und zu einer Brücke
verschalteten Halbleiterwiderständen, dadurch
gekennzeichnet, daß die in den Halbleiter (2) eindotierten Widerstände (Ri bis R4) auf dem
Biegebalken seitlich angeordnet sind, gleiche Rieh iung haben und parallel zur und symmetrisch
oberhalb und unterhalb der Biegelinie (3) verlaufen.
2. Halbleitergeber zur Kraftmessung nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter
(2) parallel und symmetrisch zur Biegelinie (3) in einer mechanischen Einspann- und Halterungsvorrichtung
(Träger 5) befestigt ist, dessen Einspannende mit der Kraftangriffssielle (K) an seinem freien
Ende durch mindestens einen schmalen, in der Höhe der Biegelinie (3) parallel zum Halbleiter verlaufenden
Steg(6,6') verbunden ist.
3. Halbleitergeber zur Kraftmessung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger
(5) aus einem Werkstoff mit besonders niedrigem, dem des Halbleitermaterials gleichen thermischen
Ausdehnungskoeffizienten besteht.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702013454 DE2013454C3 (de) | 1970-03-20 | Halbleitergeber zur Kraftmessung | |
CH383071A CH517300A (de) | 1970-03-20 | 1971-03-16 | Integrierter Halbleitergeber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702013454 DE2013454C3 (de) | 1970-03-20 | Halbleitergeber zur Kraftmessung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2013454A1 DE2013454A1 (de) | 1971-10-07 |
DE2013454B2 true DE2013454B2 (de) | 1977-05-05 |
DE2013454C3 DE2013454C3 (de) | 1977-12-22 |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10324838A1 (de) * | 2003-06-02 | 2004-12-23 | Cooper Cameron Corp., Houston | Messverfahren und Vorrichtung zur Messung eines zurückgelegten Weges |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10324838A1 (de) * | 2003-06-02 | 2004-12-23 | Cooper Cameron Corp., Houston | Messverfahren und Vorrichtung zur Messung eines zurückgelegten Weges |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH517300A (de) | 1971-12-31 |
DE2013454A1 (de) | 1971-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2940441A1 (de) | Druck-messvorrichtung unter verwendung eines mit elektrischen widerstaenden versehenen dehnungsmessers | |
DE2900614C3 (de) | Kraftmeßwandler | |
DE3702412C2 (de) | ||
DE1235033B (de) | Dehnungsmesseinrichtung | |
DE2639762C3 (de) | Lastmeßeinrichtung für Hebezeuge | |
DE2729150C2 (de) | Kraftaufnehmer | |
DE1447995C3 (de) | Elektromechanischer Wandler mit einem Piezo-Widerstandselement | |
DE69005370T2 (de) | Membranmessfühler mit Konzentration von Deformationen. | |
DE3141767A1 (de) | Kraftwandler | |
EP0073307B1 (de) | Biegekoppel für Waagen | |
DE3233356C2 (de) | Druckmeßfühler | |
DE3405127C2 (de) | ||
DE2013454C3 (de) | Halbleitergeber zur Kraftmessung | |
DE2013454B2 (de) | Halbleitergeber zur kraftmessung | |
DE3701372C2 (de) | ||
DE3226046A1 (de) | Lastzelle | |
DE1950836A1 (de) | Dehnungsmessgeber | |
DE2318618A1 (de) | Istwertgeber, insbesondere fuer lastmomentbegrenzungs-einrichtungen von kranen od. dgl | |
DE19932289C1 (de) | Kraftmesselement für eine Waage | |
DE3226386A1 (de) | Vorrichtung zur dreidimensionalen kraftmessung | |
DE2141292C3 (de) | Widerstandsmeßbrücke mit Halbleiterwiderständen | |
DE102006021423B4 (de) | Dehnungsmessstreifen für Messgrößenaufnehmer | |
DE3705471A1 (de) | Kraftmessgeraet | |
DE4008309A1 (de) | Biegekraftaufnehmer, insbesondere fuer waagen | |
DE2856607C2 (de) | Kraftaufnehmer zur Messung von auf einen Prüfkörper einwirkenden Kräften |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |