DE19934760A1 - Verfahren zur Bindung von Silicumnitrid an Kohlenstoffstahl - Google Patents
Verfahren zur Bindung von Silicumnitrid an KohlenstoffstahlInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid mit einer dünnen Schicht von aktivem Siliciummetall an Kohlenstoffstahl und spezieller ein Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl, bei dem eine aktive Siliciumschicht durch thermische Dissoziation von Siliciumnitrid (Si¶3¶N¶4¶) zu Silicium (Si) und Stickstoffgas (N¶2¶) gebildet wird. Die aktive Siliciumschicht auf dem Siliciumnitrid wird direkt an Kohlenstoffstahl durch eine induzierte eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl oder durch Löten zweier Materialien mit Ag-Cu-Legierungen, wenn dies als erforderlich angesehen wird, gebunden. Das Bindungsverfahren erfordert keine teuren aktiven Ag-Cu-Ti-Lötlegierungen, die ein aktives Metall (Ti) enthalten, oder eine Sputtermethode zum Beschichten der Oberfläche von Siliciumnitrid mit aktiven Metallen, was bessere Wirtschaftlichkeit gewährleistet.
Description
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid mit einer dünnen Schicht
von aktivem Siliciummetall an Kohlenstoffstahl und spezieller ein Verfahren zum Binden von
Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl, bei dem die aktive Siliciumschicht durch thermische
Dissoziation von Siliciumnitrid (Si3N4) in Silicium (Si) und Stickstoffgas (N2) gebildet wird. Die
aktive Siliciumschicht auf Siliciumnitrid wird direkt an Kohlenstoffstahl über eine induzierte
eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl oder durch
Löten von zwei Materialien mit Ag-Cu-Legierungen, wenn dies als erforderlich angesehen wird,
gebunden.
In einem Versuch, hohe Effizienz und Leistung gewerblicher Maschinenteile zu bekommen,
wurde jüngst Keramik auf Maschinenteile angewendet. Die Herstellung solcher Keramikteile
wird allgemein durch die Keramik/Metall-Bindungen verfügbar gemacht, typischerweise durch
das Binden von Siliciumnitrid (Si3N4) an Kohlenstoffstahl, doch bleiben die Techniken, die
bestimmt sind, zwei unterschiedliche Materialien zu verbinden, schwierig.
Da die Grenzflächenenergie (Si3N4/AgCu) zwischen Siliciumnitrid und Ag-Cu-Legierungen beim
Verbinden zweier unterschiedlicher Materialien unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen
größer als die Summe der Oberflächenenergie (Si3N4, Ag-Cu) jeweils von Siliciumnitrid und
Ag-Cu-Legierungen ist, werden sie nicht vollständig benetzt, so daß die Verbindung zweier
Materialien schwierig wird.
Um dieser Tatsache Herr zu werden, wurden Ag-Cu-Ti-Legierungen, die Siliciumnitrid und
hochaktives Metall (Ti) enthalten, statt Ag-Cu-Legierungen verwendet, doch ist das Ag-Cu-Ti-
System zehnmal so teuer wie Ag-Cu-Legierungen, was bei Massenproduktion zu höheren
Herstellungskosten führen kann.
Eine andere Methode zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl ist jene, daß einige
hochaktive Metalle (Ti, Zr) mit Siliciumnitrid auf der Siliciumnitridoberfläche durch physikalische
Methoden beschichtet werden, wie durch Sputtern, um die Siliciumnitridoberfläche zu
aktivieren, worauf dann die Verbindungen unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen
gewonnen werden. Es zeigte sich jedoch, daß eine solche Bindungsmethode einige Nachteile
hat, da das Verfahren sehr kompliziert ist und die große Anfangsinvestition für die Bereit
stellung der Sputtereinrichtung ein Faktor zur Steigerung der Produktionskosten sein kann.
Unter solchen Umständen besteht ein dringender Bedarf an der Entwicklung eines wirt
schaftlicheren und einfacheren Verfahrens zur Verbindung von Siliciumnitrid und Kohlenstoff
stahl.
Mit dieser Aufgabe vollendete der Erfinder diese Erfindung in solcher Weise, daß eine aktive
Siliciumdünnschicht (Si) auf der Oberfläche von gesintertem Siliciumnitrid (Si3N4) eingeführt
wird, um Siliciumnitrid leicht an Kohlenstoffstahl zu binden.
Daher ist es eine Aufgabe dieser Erfindung, ein Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid an
Kohlenstoffstahl unter Verwendung billiger Legierungen ohne Verwendung der Sputtermethode
oder teurer Legierungen oder durch direkte Verbindung zweier Materialien mit einer
eutektischen Schmelzmethode, wenn dies als notwendig angesehen wird, bereitzustellen und
so wirtschaftlichere Effekte zu gewährleisten.
Fig. 1 ist eine graphische Darstellung, die die Ergebnisse einer EPMA-Analyse an der
Bruchfläche von Siliciumnitrid zeigt, welches eine aktive Siliciumschicht bildet.
Fig. 2 ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die aktive Siliciumschicht
zeigt, welche durch thermische Dissoziation auf der Siliciumnitridoberfläche
gebildet wurde.
Fig. 3a ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Grenzfläche der
Bindung zeigt, in welcher eine aktive Siliciumschicht bildendes Siliciumnitrid mit
Kohlenstoffstahl unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen verbunden ist.
Fig. 3b ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Grenzfläche zwischen
Siliciumnitrid und Ag-Cu-Legierungen der Verbindung zeigt, wenn eine aktive
Siliciumschicht bildendes Siliciumnitrid unter Verwendung von Ag-Cu-Legierun
gen an Kohlenstoffstahl gebunden wird.
Fig. 3c ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Grenzfläche zwischen
Kohlenstoffstahl und Ag-Cu-Legierungen bei der Verbindung zeigt, bei der eine
aktive Siliciumschicht bildendes Siliciumnitrid unter Verwendung von Ag-Cu-
Legierungen an Kohlenstoffstahl gebunden ist.
Fig. 4 ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Grenzfläche zeigt, in
welcher eine aktive Siliciumschicht bildendes Siliciumnitrid direkt an Kohlen
stoffstahl gebunden ist.
Fig. 5 ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Grenzfläche zeigt, in
welcher eine aktive Siliciumschicht bildendes Siliciumnitrid direkt über eine
chemische eutektische Schmelzreaktion an Kohlenstoffstahl gebunden ist.
Fig. 6 ist eine Rasterelektronenmikroskopphotographie, die die Testergebnisse der
Benetzbarkeit von Keramik durch Legierungen zeigt.
Diese Erfindung ist durch ein Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl
gekennzeichnet, bei dem Siliciumnitrid (Si3N4) unter einer Stickstoffatmosphäre oder Vakuum
thermisch behandelt wird, um auf der Siliciumnitridoberfläche eine aktive Siliciumschicht zu
bilden, und dann Kohlenstoffstahl an die Oberfläche einer aktiven Siliciumschicht gebunden
wird.
Diese Erfindung wird nachfolgend in weiteren Einzelheiten erklärt.
Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl mit den
Stufen, in denen man
einen Siliciumnitridrohling (Si3N4) sintert und dann unter einer Stickstoffatmosphäre (~ 1 atm) bei der Temperatur von 1790 bis 1950°C thermisch behandelt oder Siliciumnitrid (Si3N4) unter Vollvakuum (< 10-2 Torr) bei der Temperatur von 1250 bis 1700°C thermisch behandelt, um die Oberfläche von gesintertem Siliciumnitrid zu Silicium (Si) und Stickstoffgas (N2) zu dissoziieren,
eine aktive Siliciumschicht (Si) mit einer Dicke von 1 bis 100 µm auf der Oberfläche des gesinterten Siliciumnitrids bildet und
die aktive Siliciumschicht (Si) auf der Oberfläche des Siliciumnitrids unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen oder durch eine induzierte eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl an Kohlenstoffstahl bindet.
einen Siliciumnitridrohling (Si3N4) sintert und dann unter einer Stickstoffatmosphäre (~ 1 atm) bei der Temperatur von 1790 bis 1950°C thermisch behandelt oder Siliciumnitrid (Si3N4) unter Vollvakuum (< 10-2 Torr) bei der Temperatur von 1250 bis 1700°C thermisch behandelt, um die Oberfläche von gesintertem Siliciumnitrid zu Silicium (Si) und Stickstoffgas (N2) zu dissoziieren,
eine aktive Siliciumschicht (Si) mit einer Dicke von 1 bis 100 µm auf der Oberfläche des gesinterten Siliciumnitrids bildet und
die aktive Siliciumschicht (Si) auf der Oberfläche des Siliciumnitrids unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen oder durch eine induzierte eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl an Kohlenstoffstahl bindet.
Da die Grenzflächenenergie zwischen Siliciumnitrid und Ag-Cu-Legierungen beim Verbinden
zweier unterschiedlicher Materialien unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen größer als die
Summe der Oberflächenenergien jeweils von Siliciumnitrid und Ag-Cu-Legierungen ist, werden
sie nicht vollständig benetzt. Um diesen Nachteil zu überwinden, ist es Zweck dieser Erfindung,
Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl durch Modifizieren der Siliciumnitridoberfläche zu binden.
Beispiele von Kohlenstoffstahl, die für diese Erfindung verwendet werden, schließen eine Reihe
von SCM und SNCM ein, die zu den JIS (japanische Industriestandards) gehören. Die
chemische Zusammensetzung von Stahl mit geringem/mittlerem Kohlenstoffgehalt enthält Fe
als einen Hauptbestandteil zusammen mit 0,13 bis 0,35 Gew.-% Kohlenstoff einschließlich Mn,
Si, Ni, Cr und Mo.
Die thermisch behandelte Oberfläche von Siliciumnitrid wird gemäß dieser Erfindung zu Silicium
und Stickstoffgas dissoziiert. Mit der physikalischen Eigenschaft von Siliciumnitrid, das in
Silicium und Stickstoffgas dissoziiert wird, bemühte sich der Erfinder, Siliciumnitrid an
Kohlenstoffstahl zu binden, indem er eine Siliciumschicht in situ auf der Oberfläche von
gesintertem Siliciumnitrid für die Verbindung zweier unterschiedlicher Materialien bildete. Wie
in der folgenden Fig. 1 gezeigt, wird die Siliciumkonzentration auf der Oberfläche von
Siliciumnitrid, welches zu Silicium und Stickstoffgas dissoziiert, im Vergleich mit dem Inneren
von Siliciumnitrid signifikant erhöht, so daß sich eine aktive Siliciumschicht bildet. Gemäß
dieser Erfindung wird der Siliciumnitridrohling für sein Sintern in situ und seine Ober
flächenmodifikation gesintert und dann thermisch unter einer Stickstoffatmosphäre (~ 1 atm)
bei der Temperatur von 1760 bis 1950°C gleichzeitig behandelt. Wenn die thermische
Behandlung unter einer Stickstoffatmosphäre bei der Temperatur von weniger als 1760°C
erfolgt, werden die physikalischen Eigenschaften von Siliciumnitrid, wie Festigkeit und Härte,
verschlechtert, während im Falle eines Überschreitens von 1950°C eine übermäßig dicke
Siliciumschicht gebildet wird.
Ein anderes Verfahren zum Modifizieren der Oberfläche von Siliciumnitrid nach dieser Erfindung
ist jenes, daß gesintertes Siliciumnitrid unter Vakuum (weniger als 10-2 Torr) bei der
Temperatur von 1250 bis 1700°C thermisch behandelt wird. Wenn die thermische Behandlung
unter Vakuum bei der Temperatur von weniger als 1250°C durchgeführt wird, wird eine
Siliciumschicht langsam gebildet, doch im Falle eines Überschreitens von 1700°C wird eine
Siliciumschicht rasch gebildet und kann die Bildung der Metallschicht nicht geeignet gesteuert
werden.
Wie in der beiliegenden Fig. 2 gezeigt, wird an der thermisch behandelten Oberfläche von
Siliciumnitrid eine chemisch gebundene aktive Siliciumschicht mit einer Dicke von 1 bis
100 µm gebildet.
Wie oben beschrieben, wird die Bindung des oberflächenmodifizierten Siliciumnitrids an
Kohlenstoffstahl gemäß dieser Erfindung unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen oder durch
reduziertes eutektisches Schmelzen zwischen zwei Materialien durchgeführt.
Gemäß der herkömmlichen Methode werden unvermeidbar teure aktive Ag-Cu-Ti-Lötlegierungen
mit einem Gehalt von Ti und Zr beim Binden von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl verwendet,
um die Benetzbarkeit zu verbessern, da die Grenzflächenenergie zwischen Siliciumnitrid und Ag-
Cu-Legierungen beim Verbinden zweier unterschiedlicher Materialien unter Verwendung von
Ag-Cu-Legierungen größer als die Summe der Oberflächenenergie jeweils von Siliciumnitrid und
Ag-Cu-Legierungen ist. Im Gegensatz dazu ist die Erfindung vorteilhaft, indem der Bindungs
effekt zweier verschiedener Materialien unter Verwendung von billiger Ag-Cu-Legierung wie
auch des Ag-Cu-Ti-Systems gewährleistet werden kann, da die Grenzflächenenergie (Si/Ag-Cu)
zwischen Silicium (Si), das auf der Oberfläche von Siliciumnitrid gebildet wird, und Ag-Cu-
Legierungen extrem kleiner als die Grenzflächenenergie (Si3N4/Ag-Cu) zwischen Siliciumnitrid
und Legierungen bzw. jede Oberflächenenergie (Si, Ag-Cu) zwischen Silicium und Ag-Cu-
Legierungen ist, so daß unterschiedliche Materialien gut benetzt werden können.
Gemäß dieser Erfindung wird das Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl
unter Verwendung von Ag-Cu-Legierungen durchgeführt, indem man zwischen der auf der
Oberfläche von Silicumnitrid gebildeten aktiven Siliciumschicht und Kohlenstoffstahl unter
Vakuum (< 10-2 Torr) oder Inertgas bei der Temperatur von 600 bis 700°C Ag-Cu-Legierungen
anordnet. Aus den folgenden Fig. 3a, 3b und 3c, die die Wirkungen der Verbindungsgrenzfläche
zeigen, ist ersichtlich, daß die beiden unterschiedlichen Materialien vorzüglich verbunden
werden, da Ag-Cu-Legierungen auf der Oberfläche sowohl von Siliciumnitrid als auch von
Kohlenstoffstahl gut benetzt werden.
Ein anderes Verfahren zum Binden von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl nach dieser Erfindung
ist jenes, daß Silicium (Si) an der modifizierten Oberfläche von Siliciumnitrid direkt an
Kohlenstoffstahl durch eine induzierte eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und
Fe von Kohlenstoffstahl gebunden wird. Die eutektische Schmelzreaktion wird unter Vakuum
(weniger als 10-2 Torr) bei der Temperatur von 1100 bis 1300°C durchgeführt. Wenn die
Reaktionstemperatur geringer als 1100°C ist, tritt die eutektische Schmelzreaktion nicht ein,
doch im Falle eines Überschreitens der Temperatur von 1300°C treten rasch übermäßig
eutektische Schmelzphasen auf. Durch die eutektische Schmelzreaktion kann Siliciumnitrid
direkt mit Kohlenstoffstahl verbunden werden, wie dies in der folgenden Fig. 4 gezeigt ist. Wie
in der folgenden Fig. 5 zu sehen ist, wird dann Silicium (Si) an der modifizierten Oberfläche von
Siliciumnitrid direkt an Kohlenstoffstahl in Gegenwart von eutektisch schmelzenden
Eisensilicidphasen über eine induzierte eutektische Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und
Fe von Kohlenstoffstahl gebunden.
Wie oben erwähnt, ist diese Erfindung, die dazu bestimmt ist, eine aktive Siliciumschicht durch
Modifikation von Siliciumnitrid zu bilden, vorteilhaft, da sie erstens keine teuren Legierungen
und kein Sputterverfahren verwendet, da die Bindungseigenschaften von Siliciumnitrid an
Kohlenstoffstahl selbst in Gegenwart von Ag-Cu-Legierungen oder durch direkte Verbindung
zweier unterschiedlicher Materialien unter Verwendung eutektischer Reaktion maximiert
werden, und da zweitens, wenn Siliciumnitrid direkt mit Kohlenstoffstahl durch eutektische
Reaktionsphasen von Eisensilicid gebunden wird, die Temperatur der Siliciumnitrid/Kohlenstoff
stahl-Verbindung auf etwa 1100°C infolge der Tatsache gesteigert werden kann, daß die
eutektische Schmelztemperatur von Eisensilicid höher als 1200°C ist.
Die vorliegende Erfindung kann in weiteren Einzelheiten durch die folgenden Beispiel erklärt
werden, ist aber nicht durch diese beschränkt.
Ein Siliciumnitridkörper wurde unter Stickstoffatmosphäre (1 atm) bei 1760°C 2 h gesintert,
und dann wurde die Siliciumnitridoberfläche bei 1820°C während 5 min unter Bildung einer
aktiven Siliciumschicht (Si) vor der Verbindung modifiziert.
Während Ag-Cu-Legierungen (BAg8, Heesung Metal Co.) zwischen Siliciumnitrid mit der
aktiven Siliciumschicht und Kohlenstoffstahl (SNCM 630, JIS) plaziert wurden, wurde
Siliciumnitrid mit der aktiven Siliciumschicht an Kohlenstoffstahl mit mittlerem Kohlenstoff
gehalt in BN-Vorrichtung unter Vakuum (10-5 Torr) bei der Temperatur von 650°C während
10 min gebunden.
In dem gleichen Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde Siliciumnitrid mit der aktiven
Siliciumschicht direkt an einen Kohlenstoffstahl (SCM 414, JIS) über eine eutektische
Schmelzreaktion unter Vakuum (10-5 Torr) bei 1250°C während 10 min in einer BN-
Vorrichtung gebunden.
Gesintertes Siliciumnitrid (Si3N4) mit einem Durchmesser von 30 mm und einer Dicke von 2
mm wurde unter Vakuum (10-5 Torr) bei 1500°C während 20 min thermisch behandelt, um
vor dem Verbinden eine aktive Siliciumschicht (Si) zu bilden.
Siliciumnitrid mit der aktiven Siliciumschicht wurde an einen Kohlenstoffstahl (SNCM 630, JIS)
in einer BN-Vorrichtung unter Vakuum (10-5 Torr) bei der Temperatur von 650°C während
10 min gebunden, während Ag-Cu-Legierungen (BAg8, Heesung Metal Co.) zwischen den
beiden Materialien plaziert wurden.
In dem gleichen Verfahren, wie in Beispiel 1 beschrieben, wurde ein nichtoberflächenmodifizier
tes gesintertes Siliciumnitrid (Si3N4) an einen Kohlenstoffstahl mit mittlerem Kohlenstoffgehalt
(SNCM 630) gebunden, während Ag-Cu-Legierungen (BAg8, Heesung Metal Co.) zwischen den
beiden Materialien plaziert wurden.
Ein nichtoberflächenmodifiziertes gesintertes Siliciumnitrid (Si3N4) wurde an einen Kohlenstoff
stahl mit mittlerem Kohlenstoffgehalt (SNCM 630) unter Vakuum (10-5 Torr) bei 790°C
während 10 min gebunden, während zwischen den beiden Materialien Ag-Cu-Ti-Legierungen
(TKC 710, Tanaka Jewel Co.) plaziert wurden.
Die Benetzbarkeit, Verbindungsgrenzfläche und Verbindungsfestigkeit einiger Verbindungen
wurden mit den in den Beispielen 1 bis 3 und in den Vergleichsbeispielen 1 und 2 hergestellten
Verbindungen getestet, wie in der folgenden Tabelle 1 gezeigt ist.
Um die Benetzbarkeit zwischen Siliciumnitrid und Legierungen zu untersuchen, wurden
Legierungen von 10 × 10 mm auf Siliciumnitrid mit einem Durchmesser von 30 mm
plaziert, und dann wurde die Temperatur jeder Legierung bis zu einer optimalen
Verbindungstemperatur gesteigert.
Die Verbindungsgrenzfläche zwischen Siliciumnitrid und Kohlenstoffstahl wurde
untersucht, indem die Verbindungsstelle mit einem Diamantrad durchschnitten und dann
ein Querschnitt mit einem Rasterelektronenmikroskop (S-2150, Hitachi) beobachtet
wurde.
Die Verbindungsfestigkeit einer jeden Verbindung wurde nach der DBS-Methode
(Doppellötscherfestigkeit) eines Verbindungsstabes von 3 × 4 × 40 mm auf der Basis
einer Vierpunktbiegefestigkeit gemessen.
Die Testergebnisse der Benetzung wurden in der folgenden Fig. 6 gezeigt. Gemäß dem
Vergleichsbeispiel 2, bei dem ein nichtoberflächenmodifiziertes Siliciumnitrid mit Kohlenstoff
stahl in Gegenwart einer aktiven Legierung verbunden wurde, wurde festgestellt, daß die
Benetzungsbedingungen von Legierung auf Siliciumnitrid in Gegenwart eines aktiven Metalles
(Ti) ausgezeichnet waren. Gemäß dem Vergleichsbeispiel 1, bei dem ein nichtoberflächenmodi
fiziertes Siliciumnitrid mit Kohlenstoffstahl in Gegenwart einer inaktiven Legierung verbunden
wurde, war eine Verbindung der beiden unterschiedlichen Materialien infolge der Tatsache, daß
die Oberfläche von Siliciumnitrid nicht benetzt wurde, nicht erhältlich. Im Gegensatz dazu
wurde im Fall von Beispiel 1, wo ein oberflächenmodifiziertes Siliciumnitrid an Legierungen
gebunden wurde, gezeigt, daß die Benetzung von Legierungen auf dem aktivierten Siliciumnitrid
ausgezeichnet war.
Wenn die Verbindung mit einem Diamantrad geschnitten und mit einem Elektronenmikroskop
beobachtet wurde, zeigte Beispiel 1, wie in den beigefügten Fig. 3a und 3b erkennbar, daß
Ag-Cu-Legierungen an den Grenzflächen sowohl von Siliciumnitrid als auch Kohlenstoffstahl
unter besserem Benetzen der Grenzfläche gut gebunden wurde. Die Bindungsfestigkeit war
etwa 200 MPa, was derjenigen des Vergleichsbeispiels 2 unter Verwendung von aktiven
Lötlegierungen äquivalent ist. Weiterhin zeigte Beispiel 2, daß, wie in den beigefügten Fig. 4 und
5 erkennbar, eine günstige Verbindung in Gegenwart von eutektischen Schmelzphasen von
Eisensilicid in der Grenzfläche sowohl von Siliciumnitrid als auch Kohlenstoffstahl erhältlich
war. Die Bindungsfestigkeit war etwa 50% des Beispiels 1 unter Verwendung einer Ag-Cu-
Lötlegierung. Wie oben erwähnt, betrifft diese Erfindung das Verfahren zur Bindung von
Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl, wobei die Oberfläche von gesintertem Siliciumnitrid (Si3N4)
zu einer aktiven Siliciumschicht (Si) modifiziert wird und dann Silicium (Si) an der modifizierten
Oberfläche von Siliciumnitrid direkt an Kohlenstoffstahl über eine induzierte eutektische
Schmelzreaktion zwischen Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl oder über die Verbindung
zweier Materialien unter Verwendung von Ag-Cu-Lötlegierungen gebunden wird. Hier
verwendet das Bindungsverfahren keine teuren Ag-Cu-Ti-Legierungen mit einem Gehalt an
aktivem Metall (Ti) oder eine Sputtermethode zum Beschichten mit den aktiven Metallen, was
erhöhte Wirtschaftlichkeit gewährleistet.
Claims (5)
1. Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl, bei dem Siliciumnitrid
(Si3N4) unter einer Stickstoffatmosphäre oder Vakuum in einer gesteuerten Weise
thermisch behandelt wird, um eine aktive Siliciumschicht auf der Oberfläche des
Siliciumnitrids durch Dissoziation von Siliciumnitrid zu bilden, und dann Kohlenstoffstahl
an die Oberfläche der aktiven Siliciumschicht gebunden wird.
2. Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl nach Anspruch 1, bei dem
die thermische Behandlung unter Stickstoffatmosphäre (~ 1 atm) bei der Temperatur
von 1760 bis 1950°C durchgeführt wird.
3. Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl nach Anspruch 1, bei dem
die thermische Behandlung unter Vakuum (< 10-2 Torr) bei der Temperatur von 1250
bis 1700°C durchgeführt wird.
4. Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl nach Anspruch 1, bei dem
das Bindungsverfahren durchgeführt wird, indem man Ag-Cu-Legierungen zwischen der
auf der Oberfläche von Siliciumnitrid gebildeten aktiven Siliciumschicht und Kohlenstoff
stahl unter Vakuum (< 10-2 Torr) oder Inertgas bei der Temperatur von 600 bis 700°C
plaziert.
5. Verfahren zur Bindung von Siliciumnitrid an Kohlenstoffstahl nach Anspruch 1, bei dem
die Verbindung zweier unterschiedlicher Materialien in einer Weise durchgeführt wird,
daß Siliciumnitrid unter Vakuum (< 10-2 Torr) bei der Temperatur von 1100 bis 1300
°C thermisch behandelt wird und die eutektisch schmelzenden Phasen von Eisensilicid
über eutektische Schmelzreaktion zwischen auf der Oberfläche von Siliciumnitrid
gebildetem Silicium (Si) und Fe von Kohlenstoffstahl gebildet werden.
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JPH02199075A (ja) * | 1989-12-15 | 1990-08-07 | Toshiba Corp | セラミックス―金属接合体 |
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JP2911644B2 (ja) * | 1991-05-20 | 1999-06-23 | 電気化学工業株式会社 | 回路基板 |
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US5309874A (en) * | 1993-01-08 | 1994-05-10 | Ford Motor Company | Powertrain component with adherent amorphous or nanocrystalline ceramic coating system |
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