DE19908054C2 - Ungekoppelter GMR-Sensor - Google Patents
Ungekoppelter GMR-SensorInfo
- Publication number
- DE19908054C2 DE19908054C2 DE1999108054 DE19908054A DE19908054C2 DE 19908054 C2 DE19908054 C2 DE 19908054C2 DE 1999108054 DE1999108054 DE 1999108054 DE 19908054 A DE19908054 A DE 19908054A DE 19908054 C2 DE19908054 C2 DE 19908054C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- uncoupled
- gmr
- structured
- gmr sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
- G01R33/093—Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/007—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure ultrathin or granular films
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/3218—Exchange coupling of magnetic films via an antiferromagnetic interface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/3227—Exchange coupling via one or more magnetisable ultrathin or granular films
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen ungekoppelten
GMR-Sensor sowie eine Schicht zur Herstellung von GMR-
Sensoren.
Im Bereich der Sensorik werden seit langem Magnetowi
derstandseffekte, auch MR-Effekte genannt, in der Weise
ausgenutzt, daß Magnetfeldänderungen, welche Indikatoren
magnetischer, elektrischer oder mechanischer Parameter
sein können, direkt in ein elektrisches Signal umgewan
delt werden, welches berührungsfrei und im Prinzip leicht
auslesbar ist. Zu den Sensoren, in denen MR-Effekte tech
nisch vorteilhaft und elegante Lösung eingesetzt werden,
gehören insbesondere Leseköpfe für Magnetspeichermedien,
wie sie z. B. bei Computerfestplatten zur Anwendung kom
men.
Je nach physikalischem Wirkprinzip können unterschiedlich
große Magnetwiderstandswirkungen erzielt werden. In den
sogenannten GMR-Systemen, auf welche sich die vorliegende
Erfindung bezieht, ist die Magnetowiderstandswirkung ge
genüber den schon länger bekannten AMR-Effekten
"gigantisch", weshalb GMR-Systeme in zunehmendem Maß eingesetzt
werden. In der einfachsten Form wird der GMR-
Effekt in einem System gefunden, welches aus zwei magne
tischen Schichten (z. B. aus Kobalt) besteht, die von ei
ner nicht-magnetischen Zwischenschicht (z. B. Kupfer) un
terbrochen sind. Die maximale durch ein äußeres Magnet
feld ausgelöste relative Widerstandserhöhung in einem
solchen einfachen Sandwich beträgt 6 bis 8%. Gegenüber
dem AMR-Effekt stellt dies etwa eine Verdopplung dar.
Hinzu kommt, daß der GMR-Effekt ganz wesentlich dadurch
vergrößert werden kann, daß man von einem Sandwich zu ei
ner Vielfachschicht übergeht, wodurch Widerstandsänderun
gen von etwa 100% inzwischen erzielbar sind.
Bei GMR-Effekten wird der Spin der Elektronen genutzt,
wobei der elektrische Widerstand der Sandwich-Schichtung
vom Winkel zwischen der oberen und unteren Magnetisierung
abhängt. Die den Widerstand verursachende Streuung der
Elektronen wird vergrößert, wenn die Magnetisierungsrich
tung der beiden Grenzschichten nicht parallel ist. Der
Widerstand ist bei anti-paralleler Einstellung am größ
ten, und am kleinsten bei paralleler Einstellung. Die
beiden magnetischen Zustände des Systems sind mit einer
Änderung des elektrischen Widerstands des Systems verbun
den.
Es sind bis jetzt zwei verschiedene Möglichkeiten bekannt
und werden verwendet, um ein GMR-System mit solchen Ei
genschaften zu erzeugen. Man unterscheidet sogenannte ge
koppelte Systeme, bei denen eine magnetische Aus
tauschkopplung zweier magnetischer Schichten über eine
nicht-magnetische Zwischenschicht hinweg stattfindet, und
sogenannte ungekoppelte GMR-Systeme, bei denen eine sol
che Zwischenschichtkopplung aufgrund der Dicke der Zwi
schenschicht nicht mehr stattfindet.
Bei ungekoppelten Systemen müssen die beiden magnetischen
Schichten eines Sandwiches so ausgelegt sein, daß eine
Schicht leicht in Feldern der gewünschten Stärke ummagne
tisiert, die andere dagegen ihre Magnetisierung in den
selben Feldern beibehält. Mit anderen Worten muß eine
Schicht ein weichmagnetisches Verhalten zeigen, während
die anderen ausreichend widerstandsfähig gegen Ummagneti
sierung sein müssen. Dies kann man dadurch erreichen, daß
sich die Schichten in der Koerzitivfeldstärke leicht un
terscheiden. Eine alternative Maßnahme besteht darin, die
Magnetisierung von jeweils einer Schicht "festzupinnen".
Dazu kann man den Austauschanisotropieeffekt nutzen. Die
ser kommt durch die Wechselwirkung eines Ferromagneten
mit einem angrenzenden Antiferromagneten zustande und
wirkt sich so aus, daß die Ummagnetisierungskurve des
Ferromagneten auf der H-Achse verschoben ist.
Für den Bau von Sensoren haben die ungekoppelten Systeme
gegenüber den gekoppelten Systemen den Vorteil, daß sie
eine Anisotropie und eine höhere Sensitivität zeigen. Au
ßerdem sind sie einfacher in der Herstellung, sie können
beispielsweise durch Sputtern hergestellt werden. Aller
dings sind ungekoppelte Systeme mit dem Nachteil verbun
den, daß man für sie prinzipiell mehr Schichten und damit
mehr Prozeßschritte in der Herstellung benötigt als für
gekoppelte Systeme.
Im übrigen sind lateral strukturierte Schichten bereits
aus diversen Druckschriften bekannt. So offenbart die US-
Zeitschrift J. Appl. Phys. 83 (1998) 5321-5325 eine
Schicht, die in verschiedene magnetische Bereiche struk
turiert (gepinnt) ist, ist aus der US-Zeitschrift Appl.
Phys. Lett. 71 (1997) 3299-3301 eine Schicht bekannt, die
durch fehlende Stufen gegliedert ist, und die US-
Zeitschrift Phys. Rev. B65 (1997) 14566-14573 sowie die
japanische Zeitschrift J. Appl. Phys. 36 (1997) L 1380-
L 1383 beschreiben granulare Filme für den GMR-Effekt.
Aus den US-Patentschriften 58 58 125 und 58 24 165 sind
weitere Strukturierungen bekannt.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, einen GMR-Sensor an
zugeben, der unter Beibehaltung einer Anisotropie und ei
ner hohen Sensitivität einfach in der Herstellung ist.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
lateral strukturierte Schicht (1) ferro- und antiferroma
gnetische Domänen (2, 3) aufweist und von der ferromagne
tischen Schicht durch eine Zwischenschicht entkoppelt
ist. Durch die Verwendung einer lateral strukturierten
Schicht, wie sie erfindungsgemäß vorgesehen ist, lassen
sich die Vorteile einer hohen Sensitivität und Anisotro
pie von ungekoppelten Systemen mit dem Vorteil einer ein
fachen Herstellung von gekoppelten Systemen kombinieren.
Lateral strukturierte Schichten lassen sich nämlich in
einfacher Weise aus einer selbst organisierten Schicht
oder künstlich durch Ionenimplantation an einer ferroma
gnetischen Schicht herstellen. Die künstliche Strukturie
rung kann beispielsweise durch Implantation von Sauer
stoffionen unter Erzeugung von Co-CoO- oder Ni-NiO-
Schichten hergestellt werden. Die Verwendung einer late
ral strukturierten Schicht bietet den weiteren Vorteil,
daß sich über die Größe der antiferromagnetischen Berei
che die Größe des Austauschanisotropieeffektes einstellen
läßt.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform weist die lateral
strukturierte Schicht einen 2,5 bis 4,5 Monolagen dicken
Fe-Film auf, der auf einen 7 Monolagen dicken Ni-Film auf
einem beispielsweise einkristallinen Substrat aufgewach
sen ist. In diesem schichtdicken Bereich zerfällt die
Schicht in zwei verschiedene Typen struktureller Domänen,
wie Untersuchungen der Struktur mit niederenergetischer
Elektronenbeugung gezeigt haben. Diese Domänen werden
durch zwei verschiedene Typen von LEED-Überstrukturen
charakterisiert und sind mit bestimmten magnetischen Ei
genschaften korreliert. Die so strukturierte Schicht
zeigt eine mit steigendem Anteil der antiferromagneti
schen Domänen Austauschanisotropiefeld. Das Maximum des
Austauschanisotropiefeldes ist bei einem Anteil der anti
ferromagnetischen Domänen von 50% am größten und fällt
danach wieder ab.
Hinsichtlich weiterer vorteilhafter Ausgestaltungen der
Erfindung wird auf die Unteransprüche sowie die nachfol
gende Beschreibung eines Ausführungsbeispiels einer late
ral strukturierten Schicht für GMR-Sensoren unter Bezug
nahme auf die beiliegende Zeichnung verwiesen. In der
Zeichnung zeigen:
Fig. 1 in schematischer Ansicht eine lateral struktu
rierte Schicht gemäß der vorliegenden Erfindung
und
Fig. 2 ein Diagramm, das das Austauschanisotropieverhalten
in Abhängigkeit vom Anteil der
antiferromagnetischen Domänen in einer lateral
strukturierten Schicht zeigt.
In Fig. 1 ist eine lateral strukturierte Schicht gemäß
der vorliegenden Erfindung dargestellt, die für den Ein
satz in GMR-Sensoren geeignet ist. Die lateral struktu
rierte Schicht besteht aus einem 2,5 bis 4,5 Monolagen
dicken Fe-Film, der auf einem 7 Monolagen dicken Ni-Film
auf einem Substrat aufgewachsen worden ist. In diesem
Schichtdickenbereich zerfällt die Schicht in zwei ver
schiedene Typen struktureller Domänen, nämlich in anti
ferromagnetische Domänen 2 einerseits und ferromagneti
sche Domänen 3 andererseits. Diese Domänen werden durch
zwei verschiedene Typen von LEED-Überstrukturen charakte
risiert. Die beiden strukturellen Domänen sind mit be
stimmten magnetischen Eigenschaften korreliert.
Die lateral strukturierte Schicht 1 zeigt, wie in
Abb. 2 dargestellt ist, ein mit steigendem Anteil der an
tiferromagnetischen Domänen steigendes Austauschanisotro
piefeld, dessen Maximum bei einem Anteil der antiferroma
gnetischen Domänen von 50% liegt und danach wieder ab
fällt.
Claims (12)
1. Ungekoppelter GMR-Sensor mit wenigstens einer ferro
magnetischen Schicht und einer lateral strukturierten
Schicht (1) dadurch gekennzeichnet, daß die late
ral strukturierte Schicht (1) ferro- und antiferroma
gnetische Domänen (2, 3) aufweist und von der ferro
magnetischen Schicht durch eine Zwischenschicht ent
koppelt ist.
2. Ungekoppelter GMR-Sensor nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die lateral strukturierte
Schicht (1) ein Austauschanisotropiefeld zeigt.
3. Ungekoppelter GMR-Sensor nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die lateral strukturierte
Schicht (1) einen 2,5 bis 4,5 Monolagen dicken Fe-
Film aufweist, der auf einen 7 Monolagen dicken Ni-
Film auf einem insbesondere einkristallinen Substrat
aufgewachsen ist.
4. Ungekoppelter GMR-Sensor nach einem der vorherigen
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die lateral
strukturierte Schicht (1) aus einer selbstorganisier
ten Schicht hergestellt ist.
5. Ungekoppelter GMR-Sensor nach einem der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die lateral
strukturierte Schicht insbesondere durch Ionenimplan
tation an einer ferromagnetischen Schicht künstlich
hergestellt ist.
6. Ungekoppelter GMR-Sensor nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die künstliche Strukturierung
durch Implantation von Sauerstoffionen unter Erzeu
gung von Co-CoO oder Ni-NiO-Schichten hergestellt
ist.
7. Lateral strukturierte Schicht für ungekoppelte GMR-
Sensoren, dadurch gekennzeichnet, daß sie ferro-
und antiferromagnetischen Domänen (2, 3) besitzt.
8. Schicht für ungekoppelte GMR-Sensoren nach Anspruch
7, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Austauscha
nisotropiefeld zeigt.
9. Schicht für ungekoppelte GMR-Sensoren nach Anspruch 7
oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen 2,5
bis 4,5 Monolagen dicken Fe-Film aufweist, der auf
einen 7 Monolagen dicken Ni-Film auf einem insbeson
dere einkristallinen Substrat aufgewachsen ist.
10. Schicht für ungekoppelte GMR-Sensoren nach Anspruch 7
oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einer
selbstorganisierten Schicht hergestellt ist.
11. Schicht für ungekoppelte GMR-Sensoren nach Anspruch 7
oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß sie insbeson
dere durch Ionenimplantation an einer ferromagneti
schen Schicht künstlich strukturiert ist.
12. Schicht für ungekoppelte GMR-Sensoren nach Anspruch
10, dadurch gekennzeichnet, daß sie durch Implan
tation von Sauerstoffionen erzeugte Co-CoO oder Ni-
NiO-Schichten aufweist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999108054 DE19908054C2 (de) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | Ungekoppelter GMR-Sensor |
PCT/EP2000/001023 WO2000050912A1 (de) | 1999-02-25 | 2000-02-09 | Ungekoppelter gmr-sensor mit lateral strukturierter schicht |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999108054 DE19908054C2 (de) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | Ungekoppelter GMR-Sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19908054A1 DE19908054A1 (de) | 2000-09-07 |
DE19908054C2 true DE19908054C2 (de) | 2001-06-28 |
Family
ID=7898759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999108054 Expired - Fee Related DE19908054C2 (de) | 1999-02-25 | 1999-02-25 | Ungekoppelter GMR-Sensor |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19908054C2 (de) |
WO (1) | WO2000050912A1 (de) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824165A (en) * | 1995-09-01 | 1998-10-20 | The Regents, University Of California | Giant magnetoresistive heterogeneous alloys and method of making same |
EP0877398A2 (de) * | 1997-05-09 | 1998-11-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetisches Element und Magnetkopf oder Speicherelement die dieses Element verwenden |
US5858125A (en) * | 1995-10-16 | 1999-01-12 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive materials |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW265440B (de) * | 1993-04-30 | 1995-12-11 | Ibm | |
JP3257759B2 (ja) * | 1995-10-13 | 2002-02-18 | アルプス電気株式会社 | 磁気抵抗効果材料 |
US5909345A (en) * | 1996-02-22 | 1999-06-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetoresistive device and magnetoresistive head |
JP3070667B2 (ja) * | 1997-02-14 | 2000-07-31 | 日本電気株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
FR2771511B1 (fr) * | 1997-11-25 | 2000-02-04 | Thomson Csf | Capteur de champ magnetique et procede de fabrication de ce capteur |
-
1999
- 1999-02-25 DE DE1999108054 patent/DE19908054C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-02-09 WO PCT/EP2000/001023 patent/WO2000050912A1/de active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824165A (en) * | 1995-09-01 | 1998-10-20 | The Regents, University Of California | Giant magnetoresistive heterogeneous alloys and method of making same |
US5858125A (en) * | 1995-10-16 | 1999-01-12 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive materials |
EP0877398A2 (de) * | 1997-05-09 | 1998-11-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetisches Element und Magnetkopf oder Speicherelement die dieses Element verwenden |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
Appl.Phys.Lett. 71 (1997) 3299-3301 * |
J.Appl.Phys. 36 (1997) L 1380-L 1383 * |
J.Appl.Phys. 83 (1998) 5321-5325 * |
Phys.Rev. B 56 (1997) 14566-14573 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2000050912A1 (de) | 2000-08-31 |
DE19908054A1 (de) | 2000-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69533636T2 (de) | Magnetowiderstandseffektvorrichtung und hiermit versehener Magnetkopf, Speicher- und Verstärkungsanordnung | |
EP0674769B1 (de) | Magnetowiderstands-sensor mit künstlichem antiferromagneten und verfahren zu seiner herstellung | |
DE102006008257B4 (de) | Magnetoresistives Mehrschichtensystem vom Spin Valve-Typ mit einer magnetisch weicheren Elektrode aus mehreren Schichten und dessen Verwendung | |
DE4427495C2 (de) | Sensoreinrichtung mit einem GMR-Sensorelement | |
DE102016112008A1 (de) | Magnetsensorbauelement und magneterfassungsverfahren | |
DE4232244C2 (de) | Magnetowiderstands-Sensor | |
DE10017374B4 (de) | Magnetische Koppeleinrichtung und deren Verwendung | |
WO2012175567A1 (de) | Magnetostriktives schichtsystem | |
EP1417690B1 (de) | Schichtensystem mit erhöhtem magnetoresistiven effekt sowie verwendung desselben | |
DE602004007986T2 (de) | Magnetische Anordnung mit verbesserter Kopplung | |
DE102019113815B4 (de) | Magnetsensor | |
DE10128150C1 (de) | Magnetoresistives Sensorsystem | |
DE10258860A1 (de) | Magnetoresistives Schichtsystem und Sensorelement mit diesem Schichtsystem | |
DE10004383A1 (de) | Spinventil-Magnetowiderstandssensor und Magnetkopf mit solch einem Spinventil-Magnetowiderstandssensor | |
EP0572465B1 (de) | Mehrschichtensystem für magnetoresistive sensoren und verfahren zu dessen herstellung | |
EP1527351A1 (de) | Magnetoresistives schichtsystem und sensorelement mit diesem schichtsystem | |
DE10128964B4 (de) | Digitale magnetische Speicherzelleneinrichtung | |
DE69635362T2 (de) | Magnetowiderstandseffekt-Element | |
DE19908054C2 (de) | Ungekoppelter GMR-Sensor | |
DE19844890C2 (de) | Dünnschichtenaufbau eines magnetfeldempfindlichen Sensors mit einem magnetoresistiven Mehrschichtensystem mit Spinabhängigkeit der Elektronenstreuung | |
DE10106860A1 (de) | MTJ-Element und Magnetspeicher unter Verwendung eines solchen | |
DE10325741B4 (de) | Magnetisches Schichtsystem mit hoher Exchange-Bias-Feldstärke und Verfahren zur Herstellung | |
DE10140606C1 (de) | Integriertes Speicher- und Sensierelement auf Basis des GMR-Effektes | |
EP1080375B1 (de) | Magnetfeldsensor | |
DE10256246A1 (de) | Magnetoresistives Schichtsystem und Sensorelement mit diesem Schichtsystem |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |