DE19830794A1 - Schichtdickenmeßsystem und -verfahren - Google Patents

Schichtdickenmeßsystem und -verfahren

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Inline-Meßsystem zur Bestimmung von Schichtdicken und Schichtdickenverteilungen auf Substraten während des Produktionsablaufs zur Herstellung von vorzugsweise CDs oder DVDs. Die Meßwertermittlung erfolgt durch Bestimmung der Transmission von Strahlung durch das Substrat. Dazu wird vorzugsweise eine Lichtquelle und ein dazugehöriger Empfänger benutzt. Mittels einer Signalleitung können die Meßwerte zwischengespeichert und weiterverarbeitet werden, z. B. für einen Regelkreis zur Regelung einer Beschichtungseinrichtung.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Schichtdickenmeß­ system und -verfahren zur Bestimmung von Schichtdicken auf Substraten. Insbesondere soll ein schnelles Inline-Schicht­ dickenmeßsystem für beschichtete optische Datenträger, wie CDs (Compakt Disks) oder DVDs (Digital Versatile Disks = di­ gitales, vielseitig verwendbares Speichermedium) bereitge­ stellt werden.
Bei der Herstellung von CDs und DVDs werden die Substrate üblicherweise mit einer reflektierenden und/oder teilreflektierenden Beschichtung versehen.
Dazu ist z. B. in der DE-A-196 54 000 eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat mittels einer in einer Vakuumkammer vorgesehenen Zerstäubungskathode bekannt, die mindestens einen konzentrisch bzw. ringförmig zur Mittelachse der Zerstäubungskathode Polschuhe, ein Target und Magnete aufweist. Insbesondere für teilreflektierende Schichten ist eine genaue Schichtdickenbestimmung vorteilhaft.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Meßsystem und Verfahren zur Bestimmung von Schichtdicken auf Substraten bereitzustellen, das in der Lage ist, die Messung Inline, d. h. während des Produktionsablaufs durchzuführen. Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der Ansprüche gelöst.
Dabei geht die Erfindung von dem Grundgedanken aus, daß das Meßsystem einen Meßkopf aufweist, der die Transmission oder Reflexion einer Strahlung durch das Substrat mißt und da­ durch auf die Schichtdicke des Beschichtungsmaterials schließt. Diese Messung erfolgt erfindungsgemäß während des Produktionsablaufs (Inline). Zur Meßwertermittlung wird das Substrat durch das Meßsystem entlang eines auf einem Trans­ portweg liegenden Meßwegs zwischen einem Eintritts- und Aus­ trittspunkt bewegt. Der Transportweg ist durch eine in der Fertigungseinrichtung bereits vorhandene Transporteinrich­ tung festgelegt. Die ermittelten Schichtdickeninformationen bezüglich einzelner Meßpunkte, vorzugsweise aber bezüglich eines kontinuierlichen Meßwegs können angezeigt, gespeichert oder zur weiteren Verarbeitung einer Datenverarbeitungsan­ lage und/oder Regeleinrichtung zugeführt werden.
Durch die Erfindung wird insbesondere der Vorteil erzielt, daß durch die Messung von Schichtdicken auf dem Substrat an verschiedenen Punkten entlang des Meßweges bzw. Transportwe­ ges eine Schichtdickenverteilung oder ein Schichtdickenpro­ fil während des Transports des Substrats bereitgestellt wird. In vorteilhafter Weise ist neben dem ohnehin erforder­ lichen Transport des Substrats keine zusätzliche Bewegung zum Durchführen der Schichtdickenmessung erforderlich. Auf­ grund der exakten Ermittlung der Schichtdickenverteilung kann eine Qualitätskontrolle mit maximaler Sicherheit durch­ geführt werden. Die gewonnenen Meßwerte können als Eingangs­ größe für die Parameter einer Schichtdickenregelung, wie z. B. der Nachregelung der Kathode und/oder der Steuerung der Magneten einer Zerstäubungseinrichtung verwendet werden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand einer Ausführungsform beispielhaft beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Seitenansicht eines Schichtdickenmeßsystems ge­ mäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 eine Draufsicht des Schichtdickenmeßsystems von Fig. 1; und
Fig. 3 ein Diagramm zur Darstellung des Ergebnisses der Schichtdickenmessung.
Das in den Fig. 1 und 2 dargestellte Meßsystem 2 dient zur Bestimmung von Schichtdicken auf einem Substrat 4. Das Substrat 4 wird von einem Substratträger 6 getragen, der mit einem Schwenkarm 8 einer Transportvorrichtung (nicht darge­ stellt) verbunden ist. Die Transportvorrichtung ist vorzugs­ weise eine Schwenkvorrichtung, die vorzugsweise mehrere Schwenkarme 8 und Substratträger 6 aufweist, um Substrate 4 zwischen verschiedenen Stationen zu transportieren. Das Sub­ strat 4 beschreibt einen bogenförmigen Transportweg 10, um den Drehpunkt der Schwenkvorrichtung.
Geradlinige Transportwege oder Transportwege mit anderer Geometrie sind im Rahmen der Erfindung ebenfalls möglich, wobei nur sichergestellt werden muß, daß beim Durchlauf des Substrats durch den Meßkopf ein wesentlicher Teil der Be­ schichtungsfläche durch den Meßkopf überstrichen wird.
Das Meßsystem 2 ist vorzugsweise an mindestens einer Stelle zwischen zwei Stationen einer Fertigungseinrichtung zur Her­ stellung von CDs und/oder DVDs vorgesehen. Das Meßsystem 2 kann jedoch auch innerhalb einer oder mehrerer Bearbeitungs­ stationen vorgesehen sein.
Das Meßsystem 2 besteht vorzugsweise aus einem U-förmigen Träger 12, durch dessen Aussparung 14 das Substrat 4 auf dem z. B. bogenförmigen Transportweg 10 bewegt wird. Der Träger 12 ist mit einem Stützelement 16 versehen, der an der Ferti­ gungseinrichtung montierbar ist. Ein Schenkel 18 des U-för­ migen Trägers 12 weist eine Strahlungsquelle 20, vorzugs­ weise eine Lichtquelle auf. Der gegenüberliegende Schenkel 22 des U-förmigen Trägers 12 ist mit einem Empfänger 24 ver­ sehen. Der Empfänger 24 kann z. B. eine optoelektronische Photodiode, ein Phototransistor oder ähnliches sein. Die Strahlungsquelle 20 und/oder der Empfänger 24 sind über Sig­ nalleitungen 26 und 28 mit einer Auswerteeinrichtung (nicht dargestellt) verbunden.
Zur Ermittlung von Schichtdicken bzw. einer Schichtdicken­ verteilung auf dem Substrat 4 bewegt die Transporteinrich­ tung das Substrat 4 entlang des bogenförmigen Transportweges 10, wie vorstehend erläutert, durch die Aussparung 14 des U-förmigen Trägers 12 und beschreibt dabei einem Meßweg 30 zwischen einem Eintrittspunkt 32 und einem Austrittspunkt 34. Entlang des Meßwegs 30 kann die Schichtdicke auf dem Substrat 4 vorzugsweise kontinuierlich bestimmt werden. Es ist jedoch auch möglich, die Schichtdicken nur an bestimmten Punkten zu ermitteln.
Die Meßwertaufnahme erfolgt vorzugsweise durch Ermittlung der Strahlungstransmission durch das Substrat 4 zwischen der Lichtquelle 20 und dem Empfänger 24 des Meßkopfes, kann je­ doch auch durch Reflexionsmessung erfolgen. Die Transmission bzw. Reflexion der Strahlung ist mit der Schichtdicke des Substrats 4 bzw. mit der Gesamtdicke des Substrats 4 korre­ lierbar. Das Meßsystem 2 erfaßt die jeweilige Schichtdicke bzw. den Schichtdickenverlauf inline während des Sub­ stattransports entlang des Meßweges 30. Die während des Meßvorgangs aufgenommenen Meßwerte können anhand der durch den Eintrittspunkt 32 und den Austrittspunkt 34 definierten Meßzeit (Meßweg) und der bekannten Transportbewegung eindeu­ tig dem jeweiligen Ort der Messung auf dem Substrat 4 zuge­ ordnet werden. Hieraus ergibt sich ein eindeutiges Schicht­ dickenprofil mit bekannter Längenskalierung.
Der Meßweg 30 auf dem Substrat 4 beschreibt z. B. eine bogen­ förmige Bahn entlang des Transportweges 10, so daß im we­ sentlichen jede beschichtete radiale Position auf dem Sub­ strat 4 abgetastet werden kann. Dadurch kann durch eine ein­ zige punktförmige Sender-Empfänger-Anordnung 20 und 24 ein Schichtdickenprofil entlang des Radius bzw. Durchmessers des Substrats 4 erfaßt werden.
Zur Kalibrierung des Meßsystems 2 wird vorzugsweise vor dem Eintritt des Substrats 4 in den Meßweg 30 eine Referenzmes­ sung durchgeführt. Das heißt, es erfolgt eine Transmissions­ messung zwischen der Lichtquelle 20 und dem Empfänger 24 ohne Substrat 4. Eine solche Referenzmessung kann in vorbe­ stimmten Intervallen oder vorzugsweise zwischen jedem zu messenden Substrat 4 durchgeführt werden.
In der Auswerteeinrichtung wird die zunächst vorzugsweise kontinuierlich aufgenommene Meßwertverteilung (Schicht­ dickenprofil) zwischengespeichert. Anschließend werden aus diesem Schichtdickenprofil z. B. bestimmte diskrete Werte ausgewählt und über eine Rechnerschnittstelle an ein überge­ ordnete s Datenverarbeitungssystem und/oder eine Regelein­ richtung (nicht dargestellt) weitergegeben. Ein solches Schichtdickenprofil ist z. B. in Fig. 3 dargestellt. Das Dia­ gramm zeigt das Meßsignal bzw. die Transmission über der Zeit. Aus dem Diagramm ist ersichtlich, daß vor dem Eintritt des Substrats 4 in den Meßbereich des Meßsystems 2 die Refe­ renzmessung mit einer Transmission von 100% erfolgt. Beim Eintritt des Substrats 4 in den Meßbereich zwischen der Lichtquelle 20 und dem Empfänger 24 sinkt die Transmission sprunghaft auf einen der Dicke des unbeschichteten Sub­ stratrandes 36 entsprechenden Wert ab. Wird das Substrat weiter bewegt, sinkt die Transmission beim Eintritt in die beschichtete Substratfläche 38 erneut. Entlang des Meßweges 30 zwischen dem Eintrittspunkt 32 und dem Austrittspunkt 34 ist der Transmissionswert entsprechend der Schichtdickenver­ teilung auf dem Substrat 4 dargestellt. Am Austrittspunkt 34 springt die Transmission, ähnlich wie am Eintrittspunkt, auf einen Wert von 100% zurück. Dieser Vorgang wiederholt sich bei jedem weiteren Substrat.
Wird bei der Bestimmung der Schichtdickenverteilung auf dem Substrat 4 ein Fehler festgestellt, so kann dieses Substrat bzw. diese Substrate aus dem weiteren Fertigungsablauf aus­ geschleust werden. Dadurch kann eine maximale Qualitätskon­ trolle hinsichtlich der Schichtdicken auf Substraten 4 durchgeführt werden. Ferner können die gewonnenen Meßwerte z. B. mittels der Auswerteeinrichtung und dem Datenverarbei­ tungssystem bzw. der Regeleinrichtung als Eingangsgröße für eine Schichtdickenregelung verwendet werden. Eine solche Re­ gelung dient z. B. dem Nachregeln der Kathode bzw. der Magne­ ten einer Kathodenzerstäubungsanlage (vgl. DE-A-196 54 000).
Als weitere Ausgestaltungsmöglichkeit des Meßsystems der vorliegenden Erfindung kann anstelle des U-förmigen Meßkopfträgers 12 z. B. ein kammförmiger Träger verwendet werden, durch den gleichzeitig oder zeitversetzt mehrere Substrate 4 transportiert werden können. Das Meßprinzip der Transmission entsprechend den vorstehenden Ausführungen ist dann auf jede Aussparung des kammförmigen Trägers anzu­ wenden.
Anstelle des bogenförmigen Transportweges 10 kann die Trans­ porteinrichtung das Substrat auch entlang jeder anderen denkbaren Bewegungsbahn transportieren, entlang der das Sub­ strat 4 durch den Meßbereich eines erfindungsgemäßen Meß­ systems geführt wird.
Die Anordnung der Strahlungsquelle 20 und des Empfängers 24 kann ebenso an einem bereits vorhandenen Teil der Fertigungseinrichtung angebracht werden, durch den das Substrat 4 mittels der Transporteinrichtung geführt wird; das erfindungsgemäße Meßsystem eignet sich daher besonders gut auch zum Nachrüsten vorhandener CD-/DVD-Fertigungsan­ lagen.

Claims (16)

1. Meßsystem (2) zum Bestimmen der Schichtdickenverteilung auf Substraten (4) mit einem Schichtdicken-Meßkopf (20, 24) zum Abtasten des Substrats in einem Meßbereich durch kontinuierlichen Transport des Substrats relativ zum Meßkopf, so daß die Schichtdicke entlang eines dem Transportweg (10) entsprechenden Meßweges (30) zwischen einem Eintrittspunkt (32) und einem Austrittspunkt (34) kontinuierlich erfaßbar ist.
2. Meßsystem (2) nach Anspruch 1, wobei der Meßkopf eine Strahlungsquelle (20) und einen Empfänger (24) aufweist.
3. Meßsystem (2) nach Anspruch 2, wobei die Strahlungs­ quelle (20) eine Lichtquelle und der Empfänger (24) eine Photodiode ist.
4. Meßsystem (2) nach Anspruch 2 oder 3, wobei die Strah­ lungsquelle (20) und der Empfänger (24) auf einem U-för­ migen Träger (12) auf sich gegenüberliegenden Schenkeln (18, 22) angeordnet sind und das Substrat (4) durch eine Aussparung (14) des U-förmigen Trägers (12) bewegbar ist.
5. Meßsystem (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei der Meßweg (30) durch den Transportweg (10) einer Trans­ porteinrichtung, mit der das Substrat (4) befördert wird, definiert ist.
6. Meßsystem (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei eine Referenzmessung zum Kalibrieren des Meßsystems (2) vor dem Eintritt des Substrats (4) in den Meßweg (30) vorgesehen ist.
7. Meßsystem (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit einer Auswerteeinrichtung, die mit dem Meßkopf in Verbindung steht.
8. Meßsystem (2) nach Anspruch 7, wobei die Auswerteein­ richtung mit einem Speicher und einer über eine Rechner­ schnittstelle mit einem Datenverarbeitungssystem und/oder eine Regeleinrichtung zur Nachregelung einer Beschichtungseinrichtung in Verbindung steht.
9. Meßsystem (2) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Substrat (4) ein Rohling zur Herstellung einer CD (Compact Disk) oder einer DVD (digital Versatile disk) ist.
10. Verfahren zum Bestimmen von Schichtdicken auf Substraten (4) mit den Schritten:
  • (a) Bereitstellen eines Meßsystems (2) mit einem Meß­ kopf, durch den die Transmission oder Reflexion und damit die Schichtdicke während des Produktionsab­ laufs bestimmt wird;
  • (b) Bewegen des Substrats (4) durch das Meßsystem (2) entlang eines auf einem Transportweg (10) liegenden Meßwegs (30) zwischen einem Eintrittspunkt (32) und einem Austrittspunkt (34); und
  • (c) Auswerten der durch den Meßkopf (20, 24) ermittelten Transmissionssignale zum Gewinnen von Schicht­ dickeninformationen bezüglich bestimmter Meßpunkte auf dem Meßweg (30).
11. Verfahren nach Anspruch 10, bei dem der Meßkopf zur Be­ stimmung der Transmission oder Reflexion durch das beschichtete Substrat (4) durch eine Strahlungsquelle (20) Strahlung aussendet, die von einem im Meßkopf ausgebildeten Empfänger (24) empfangen wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, bei dem das Substrat (4) durch eine Aussparung (14) in einem U-förmigen Trä­ ger (12) des Meßkopfes geführt wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 12, bei dem die Messung kontinuierlich entlang des Meßwegs (30) er­ folgt, um eine Schichtdickenverteilung der Beschichtung auf dem Substrat (4) zu erhalten.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 13, bei dem das Substrat (4) von einer Transporteinrichtung bewegt wird.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, bei dem das Meßsystem (2) vor dem Eintritt in den Meßweg (30) durch eine Referenzmessung kalibriert wird.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 15, bei dem die ausgewerteten Transmissionssignale gespeichert und einem Datenverarbeitungssystem und/oder einer Regelein­ richtung zur Nachregelung einer Beschichtungseinrichtung zugeführt werden.
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10019258C1 (de) * 2000-04-13 2001-11-22 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Vakuumbeschichtung bandförmiger transparenter Substrate
DE202009015084U1 (de) * 2009-11-03 2011-03-24 Di-Soric Industrie-Electronic Gmbh & Co. Kg Messsystem zur Überprüfung eines Werkstücks, insbesondere eines Halbleitersubstrats
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
US8512796B2 (en) 2009-05-13 2013-08-20 Si02 Medical Products, Inc. Vessel inspection apparatus and methods
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
US9545360B2 (en) 2009-05-13 2017-01-17 Sio2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
US9554968B2 (en) 2013-03-11 2017-01-31 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging
US9662450B2 (en) 2013-03-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
US9664626B2 (en) 2012-11-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
US9863042B2 (en) 2013-03-15 2018-01-09 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US9903782B2 (en) 2012-11-16 2018-02-27 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
US10189603B2 (en) 2011-11-11 2019-01-29 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US10201660B2 (en) 2012-11-30 2019-02-12 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like
US11066745B2 (en) 2014-03-28 2021-07-20 Sio2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
US11077233B2 (en) 2015-08-18 2021-08-03 Sio2 Medical Products, Inc. Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006061585B4 (de) * 2006-08-23 2013-11-28 Singulus Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zur Rotationsbeschichtung von Substraten

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4325590A1 (de) * 1993-07-30 1995-02-02 Bodenseewerk Geraetetech Verfahren und Vorrichtung zur Qualitätskontrolle von mit einer dünnen Schicht versehenen Trägerfolien
WO1996025645A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-22 Wissenschaftlich-Technisches Optikzentrum Nordrhein-Westfalen (Optikzentrum Nrw) E.V. Vorrichtung zur bestimmung der schichtdicke farbiger schichten auf transparenten substraten
WO1996033387A1 (de) * 1995-04-21 1996-10-24 Optikzentrum Nrw Gmbh (Oz) Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke dünner farbiger schichten

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19654000C1 (de) * 1996-12-21 1997-10-30 Singulus Technologies Gmbh Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4325590A1 (de) * 1993-07-30 1995-02-02 Bodenseewerk Geraetetech Verfahren und Vorrichtung zur Qualitätskontrolle von mit einer dünnen Schicht versehenen Trägerfolien
WO1996025645A1 (de) * 1995-02-16 1996-08-22 Wissenschaftlich-Technisches Optikzentrum Nordrhein-Westfalen (Optikzentrum Nrw) E.V. Vorrichtung zur bestimmung der schichtdicke farbiger schichten auf transparenten substraten
WO1996033387A1 (de) * 1995-04-21 1996-10-24 Optikzentrum Nrw Gmbh (Oz) Verfahren und vorrichtung zum messen der dicke dünner farbiger schichten

Cited By (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10019258C1 (de) * 2000-04-13 2001-11-22 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Vakuumbeschichtung bandförmiger transparenter Substrate
US9572526B2 (en) 2009-05-13 2017-02-21 Sio2 Medical Products, Inc. Apparatus and method for transporting a vessel to and from a PECVD processing station
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
US8512796B2 (en) 2009-05-13 2013-08-20 Si02 Medical Products, Inc. Vessel inspection apparatus and methods
US8834954B2 (en) 2009-05-13 2014-09-16 Sio2 Medical Products, Inc. Vessel inspection apparatus and methods
US9545360B2 (en) 2009-05-13 2017-01-17 Sio2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
US10537273B2 (en) 2009-05-13 2020-01-21 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubricity layer
US10390744B2 (en) 2009-05-13 2019-08-27 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubricity layer, apparatus and method for transporting a vessel to and from a PECVD processing station, and double wall plastic vessel
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
DE202009015084U1 (de) * 2009-11-03 2011-03-24 Di-Soric Industrie-Electronic Gmbh & Co. Kg Messsystem zur Überprüfung eines Werkstücks, insbesondere eines Halbleitersubstrats
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US11123491B2 (en) 2010-11-12 2021-09-21 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
US10189603B2 (en) 2011-11-11 2019-01-29 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US11884446B2 (en) 2011-11-11 2024-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US11724860B2 (en) 2011-11-11 2023-08-15 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US11148856B2 (en) 2011-11-11 2021-10-19 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
US10577154B2 (en) 2011-11-11 2020-03-03 Sio2 Medical Products, Inc. Passivation, pH protective or lubricity coating for pharmaceutical package, coating process and apparatus
US9664626B2 (en) 2012-11-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
US9903782B2 (en) 2012-11-16 2018-02-27 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US10363370B2 (en) 2012-11-30 2019-07-30 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
US10201660B2 (en) 2012-11-30 2019-02-12 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
US11406765B2 (en) 2012-11-30 2022-08-09 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
US9662450B2 (en) 2013-03-01 2017-05-30 Sio2 Medical Products, Inc. Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus
US11344473B2 (en) 2013-03-11 2022-05-31 SiO2Medical Products, Inc. Coated packaging
US11298293B2 (en) 2013-03-11 2022-04-12 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coated pharmaceutical packaging
US10537494B2 (en) 2013-03-11 2020-01-21 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated blood collection tube with low oxygen transmission rate
US10912714B2 (en) 2013-03-11 2021-02-09 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coated pharmaceutical packaging
US9554968B2 (en) 2013-03-11 2017-01-31 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging
US11684546B2 (en) 2013-03-11 2023-06-27 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coated pharmaceutical packaging
US10016338B2 (en) 2013-03-11 2018-07-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
US9863042B2 (en) 2013-03-15 2018-01-09 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD lubricity vessel coating, coating process and apparatus providing different power levels in two phases
US11066745B2 (en) 2014-03-28 2021-07-20 Sio2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
US11077233B2 (en) 2015-08-18 2021-08-03 Sio2 Medical Products, Inc. Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate

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