DE19740096A1 - Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium sowie solche optische Komponenten enthaltenes Bauelement - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium sowie solche optische Komponenten enthaltenes BauelementInfo
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- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer oder
mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1. Desweiteren betrifft die Erfindung
ein solche optische Komponenten enthaltenes Bauelement gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 11.
Als Stand der Technik sind passive Applikationen aus porösem Si
licium, wie Interferenzfilter, Waveguides oder Sensoren zum Bei
spiel aus DE-OS 43 19 413.3-33 oder aus "Application of porous
silicon technology to optical waveguiding" A. Loni, R.J. Bozeat,
M. Krüger, M.G. Berger, R. Arens-Fischer, M. Thönissen,
H.F. Arrand and T.M. Benson, Proceedings of the IEE colloguium
"Microengineering Applications in Optoelectronics", 27.02.1996,
London, (Digest No. 96/39) bekannt. Sie stellen aufgrund ihrer
Integrationsfähigkeit in die bisher vorhandene Silicium Techno
logie ein großes Anwendungspotential dar. Aufgrund dieser Reali
sierung von grundlegenden optischen Komponenten ist es wün
schenswert, neben den bekannten Interferenzfiltern auch farbse
lektive Spiegel, unter Umständen auch Mikrospiegel, Linsen oder
Prismen u. a. auf Silicium oder in porösem Silicium herstellen zu
können.
Außerdem ist aus DE P 196 38 885.6 und DE P 195 18 371.1 die
Herstellung von Interferenz filtern aus porösem Silicium, die be
leuchtungsunterstützte Strukturierung von PS und die Beeinflus
sung der Ausbildung der Ätzfront im Substrat durch geeignete
Ätzmasken als Stand der Technik bekannt. Dabei beschränkt sich
jedoch nachteilig die beleuchtungsunterstützte Strukturierung
lediglich auf die Änderung der Mikrostruktur innerhalb einer po
rösen halbleitenden Schicht um bestimmte optische Eigenschaften
innerhalb dieser porösen Schicht einzustellen.
Es ist deshalb Aufgabe der Erfindung ein Verfahren zur Herstel
lung einer oder mehrerer Komponenten bereit zustellen, bei dem
auf einfache Weise solche Komponenten gebildet werden.
Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren gemäß der Gesamtheit
der Merkmale nach Anspruch 1. Die Aufgabe wird ferner gelöst
durch ein Bauelement gemäß der Gesamtheit der Merkmale nach An
spruch 11. Weitere zweckmäßige oder vorteilhafte Ausführungsfor
men oder Varianten finden sich in den auf jeweils einen dieser
Ansprüche rückbezogenen Unteransprüchen.
Es wurde erkannt, daß zur Lösung der Aufgabe die Steuerung des
Ablöseprozesses mit Hilfe einer unterstützenden Beleuchtung ein
Hauptkriterium bildet. Dabei wurde zudem erkannt, daß eine be
stimmte auf die Form der optischen Komponente(n) abgestimmte
Ausbildung der Beleuchtung der Materialoberfläche, insbesondere
mittels einer oder mehrerer Graustufenvorlagen unmittelbar zur
Ausbildung einer Ätzfront im Material führt, die der Form der
optischen Komponente(n) entspricht. Durch anschließende Ätzung
kann unmittelbar die optischen Komponente gebildet oder weiter
ausgebildet werden. Die Beeinflussung der Ätzfront durch eine
gezielte Beleuchtung ermöglicht auf diese Weise eine Steuerung
der Ätzung die zur Bildung oder weiteren Ausbildung der Ätz
struktur führt. Dabei ist es vorstellbar, in vorteilhafter Weise
die Beleuchtung während des Ätzprozesses einzusetzen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer oder mehre
rer optischer Komponenten, wie zum Beispiel Prismen und/oder
Linsen, bei dem in einem porösen halbleitenden Material, insbe
sondere Silicium oder Silicium/Germanium oder Aluminium oder
Germanium, beinhaltet die Beleuchtung der Materialoberfläche mit
Hilfe einer Graustufen- oder Buntvorlage, bei der die
Hell/Dunkelwerte bzw. die unterschiedlichen Wellenlängen der
Farben einer Farbvorlage die Ätzrate der porösen Schicht geän
dert wird.
Gemäß Patentanspruch 2 wird das erfindungsgemäße Verfahren vor
teilhaft ausgebildet, indem die Oberfläche während oder nach dem
Ätzprozeß mit einer Vorlage beleuchtet wird.
Gemäß Patentanspruch 3 wird das erfindungsgemäße Verfahren da
durch vorteilhaft ausgebildet, daß der Verlauf der Ätzfront be
einflußt wird, sodann die poröse Schicht abgelöst wird und Ein
zelschichten oder Schichtsystemen erneut geätzt werden.
Gemäß Patentanspruch 4 wird das erfindungsgemäße Verfahren vor
teilhaft dadurch ausgeführt, daß die oder wenigstens eine opti
sche Komponente durch chemisches Ätzen, insbesondere durch Re
active Ion Etching, gebildet wird.
Gemäß Patentanspruch 5 wird das erfindungsgemäße Verfahren sehr
vorteilhaft ausgebildet, indem anschließend ein spiegelnder Me
tallfilm aufgedampft wird. Damit wird die optische Komponente
spiegelnd ausgebildet.
Gemäß Patentanspruch 6 wird sehr vorteilhaft das erfindungsge
mäße Verfahren zwecks Bildung holographischer Informationen in
die poröse Struktur, dadurch ausgeführt, indem die Grauwerte
bzw. Farben in ein Tiefenprofil übertragen werden und somit die
Ätzrate der porösen Struktur in horizontaler und/oder vertikaler
Richtung definiert einstellbar ausgebildet wird, so daß das Ablö
sen des beleuchteten - porösen - Bereichs des halbleitenden Ma
terials auf die jeweilige Ausbildung der erwünschten Komponente
abgestimmt wird.
Gemäß Patentanspruch 7 wird das erfindungsgemäße Verfahren sehr
vorteilhaft ausgeführt, indem die oder wenigstens eine abgeätzte
Struktur mittels anderer Substanzen, insbesondere Flüssigkri
stalle, zur Bildung einer oder mehrerer elektrisch schaltbarer
optischer Komponenten, insbesondere Linsen, aufgefüllt werden.
Gemäß Patentanspruch 11 wird das erfindungsgemäße optische Bau
element mit einer oder mehrerer nach einem der Verfahren gemäß
einer der Ansprüche 1 bis 10 hergestellter Strukturen ausgebil
det.
Die Erfindung ist im weiteren an Hand von Figuren und Ausfüh
rungsbeispielen näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 Graustufenvorlage zur Erstellung einer erfindungsgemäße
Konvexlinse bzw. Spiegel (Aufsichtsaufnahme, obere Fi
gur) und daraus resultierende Struktur (Seitenansicht,
untere Figur);
Fig. 2 Ätzprofil einer porösen Schicht mit mehreren nebeneinan
derliegenden Streifen nach dem Ablösen mit NaOH in Sei
tenansicht zur Bildung mehrerer erfindungsgemäßen Mikro
spiegel mit unterschiedlichem Krümmungsradius mittels
konvexem Profil;
Fig. 3 erfindungsgemäße Fresnell'sche Zonenplatte.
In der Fig. 1 ist eine Graustufenvorlage zur Erstellung einer
erfindungsgemäße Konvexlinse bzw. Spiegel (Aufsichtsaufnahme)
und daraus resultierende Struktur (Seitenansicht) in halbleiten
dem Material (Silicium) gezeigt.
In der Fig. 2 ist das Ätzprofil einer porösen Schicht mit meh
reren nebeneinanderliegenden Streifen nach dem Ablösen mit NaOH
gezeigt in Seitenansicht. Durch das konvexe Profil wird eine
Herstellung von Mikrospiegeln mit unterschiedlichem Krümmungsra
dius ermöglicht.
In der Fig. 3 ist eine erfindungsgemäße, Fresnell'sche Zonen
platte gezeigt. Durch die Herstellung von konzentrischen Kreisen
beispielsweise im porösem Silicium mit Hilfe einer Vorlage wie
im oberen Bereich der Fig. 3 dargestellt, kann lokal - wie in
der Seitenansicht angedeutet - die Reflexion bzw. Transmission
verändert werden. Die erfindungsgemäße Zonenplatte wirkt daher
als Linse für verschiedene Wellenlängen und kann in vorteilhaf
ter Weise durch Abstand der Kreise und Beobachtungswinkel den
erwünschten Randbedingungen entsprechend bestimmt und gebildet
werden kann.
Die Erfindung erlaubt optische Strukturen wie Linsen und Prismen
in - porösem - Silicium herzustellen und sich dabei zum einen
die Beleuchtungssensitivität des Ätzprozesses, zum anderen die
veränderbare Form der vorhandenen Ätzfront nutzbar zu machen. Im
einzelnen sind verschiedene, erfindungsgemäße Ausführungsformen
der Erfindung beschrieben.
Eine Beleuchtung von porösem Silicium während der elektrochemi
schen Herstellung oder danach verursacht eine Erzeugung von
Elektron-Loch Paaren in den ansonsten an freien Ladungsträgern
verarmten, schon geätzten Bereichen. Je nach Beleuchtungswellen
länge und -intensität werden die für den Ätzprozeß notwendige
Löcher generiert, so daß die beleuchteten Strukturen verändert
werden können.
Durch die Abbildung von Beleuchtungsbildern (z. B. Graustufen
bildern) ist es möglich, die porösen Schichten auf der lichtsei
tigen Oberfläche im Ätzverhalten lateral unterschiedlich zu be
einflussen. So kann z. B. die Abbildung von Kreisen mit unter
schiedlichen Graustufen zur Abätzung oder Morphologieänderung
eines runden Bereiches im porösen Silicium führen. Bei geeigne
ter Wahl der Graustufen in der Vorlage entsteht somit eine Linse
oder ein Spiegel im porösen Silicium, wie in der Fig. 1 ge
zeigt. Analog können beispielsweise Prismen oder andere optische
Komponenten hergestellt werden. Krümmungsradius und Größe können
mit Hilfe der Beleuchtungswellenlänge und der verwendeten Abbil
dung eingestellt werden.
Weiterhin kann das erfindungsgemäße Verfahren dazu genutzt wer
den, holographische Strukturen im porösen Silicium abzubilden.
Durch die Beleuchtung des porösen Siliciums während oder nach
dem Ätzprozeß durch geeignete Dias oder Vorlagen können dreidi
mensionale Strukturen in das poröse Silicium geätzt werden. Die
Tiefe der Strukturen kann dabei durch die in der Vorlage verwen
deten Graustufen bestimmt und eingestellt werden.
Die Schicht des porösen Siliciums grenzt sich gegenüber dem
Substrat ab. Dieser Übergang wird durch die Herstellungsparame
ter wie Dotierung des Substrates und Stromdichte für die Her
stellung der porösen Schicht charakterisiert. Einen typischen
Verlauf ist in Fig. 2 gezeigt. Ätzt man nun das poröse Silicium
z. B. durch NaOH ab, so verbleibt eine den Vorgabeparametern
entsprechende, gekrümmte Oberfläche. Diese Oberfläche kann ent
weder selber als Mikrospiegel (Konkav- oder Konvex-Spiegel je
nach Wahl der Herstellungsparameter) oder als Ausgangsmaterial
einer weiteren elektrochemischen Atzung dienen. In die gewölbte
Oberfläche kann vorteilhaft anschließend zusätzlich ein eine
Filterfunktion bildendes Schichtsystem aus porösem Silicium ge
ätzt werden wie aus dem Stand der Technik bekannt. Auf diese
Weise erhält man einen Konkav- bzw. Konvexspiegel, wobei dieser
Spiegel die durch das Schichtsystem festgelegte Filtercharakte
ristik widerspiegelt.
Claims (11)
1. Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Kompo
nenten in einem halbleitenden Material, bei dem die Oberfläche
des halbleitenden Materials, insbesondere eines Substrats, mit
Hilfe einer auf die erwünschte(n) Komponente(n) abgestimmten
Graustufen- oder Buntvorlage so beleuchtet wird, daß im Mate
rial eine die Form der optischen Komponente(n) aufweisende Ätz
front gebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Oberfläche während oder
nach dem Ätzprozeß beleuchtet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die durch Beleuchtung
erhaltene poröse Schicht abgelöst wird und Einzelschichten oder
Schichtsystemen zwecks Einstellung optischer Eigenschaften des
Materials, insbesondere zur Bildung einer Filterfunktion geätzt
werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei che
misch insbesondere mittels Reactive Ion Etching, geätzt wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die
eine Ätzfront bildende, freigelegte Materialoberfläche mit ei
nem Metallfilm beschichtet wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei
zwecks Bildung holographischer Informationen in die poröse
Struktur die Grauwerte bzw. Farben im halbleitenden Material in
ein Tiefenprofil übertragen werden.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die
oder wenigstens eine abgeätzte Struktur mittels anderer Sub
stanzen, insbesondere Flüssigkristalle, zur Bildung einer oder
mehrerer elektrisch schaltbarer optischer Komponenten, insbe
sondere Linsen, aufgefüllt werden.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einem
Prisma, einer Linse oder einer Zonenplatte als die Komponente
oder einer der optischen Komponenten.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit Silicium
oder Silicium/Germanium oder Aluminium oder Germanium als halb
leitendes Material.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche mit einer
auf die erwünschte Komponente abgestimmte Hell/Dunkelwerte auf
weisenden Grauvorlage oder mit einer auf die erwünschte Kompo
nente abgestimmte, unterschiedliche Wellenlängen enthaltende
Farben aufweisenden Farbvorlage.
11. Optisches Bauelement mit einer oder mehrerer nach einem der
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 hergestellter
Strukturen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997140096 DE19740096A1 (de) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium sowie solche optische Komponenten enthaltenes Bauelement |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997140096 DE19740096A1 (de) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium sowie solche optische Komponenten enthaltenes Bauelement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19740096A1 true DE19740096A1 (de) | 1999-03-25 |
Family
ID=7842124
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1997140096 Withdrawn DE19740096A1 (de) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | Verfahren zur Herstellung einer oder mehrerer optischer Komponenten in porösem Silicium sowie solche optische Komponenten enthaltenes Bauelement |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19740096A1 (de) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4319413A1 (de) * | 1993-06-14 | 1994-12-15 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Optoelektronisches und optisches Bauelement |
-
1997
- 1997-09-12 DE DE1997140096 patent/DE19740096A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4319413A1 (de) * | 1993-06-14 | 1994-12-15 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Optoelektronisches und optisches Bauelement |
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8130 | Withdrawal |