DE19716785A1 - Shearing speckle interferometry measuring deformation gradients at free form surfaces - Google Patents

Shearing speckle interferometry measuring deformation gradients at free form surfaces

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Abstract

The interferometry method and system measures contour inclination, for recording and evaluation and for computing phase distributions from the data obtained. Which allows qualitative and exact quantitative statements regarding the gradients of the contour. Which allow in-plane strains and/or out-of-plane deformations of the under investigation, any curved object surfaces. The coordinate values of the contour inclination are assembled together for the corresp. interference patterns, taking account of the measured deformations. So that they can be evaluated exactly using a computer (s).

Description

Stand der TechnikState of the art

Zur Beobachtung von Objektoberflächen für die Dehnungsmessung mittels der Elektronischen Speckle Pattern Shearing Interferometrie, abgekürzt Shearografie oder ESPSI, wird die zu untersuchende Oberfläche mit kohärentem Licht beleuchtet, das reflektierte Licht mittels einer Shearing-Optik, die z. B. aus einem einen Strahlteiler und zwei Spiegel aufweisenden Zweistrahlinterferometer besteht, in der Bildebene eines opto-elektronischen Sensors abgebildet und das Meßergebnis dann mittels eines an den Sensor angeschlossenen Rechners ausgewertet. Bei der Belastung des Objekts ändert sich die Lage der das Licht reflektierenden Punkte nicht nur absolut, sondern auch relativ zueinander. Das führt bei der Überlagerung der im belasteten Zustand erhaltenen Bilder, den sogenannten Belastungs-Shearogrammen, mit den im unbelasteten Zustand erhaltenen Bildern, den sogenannten Null-Shearogrammen, oder mit einem entsprechend unterschiedlich belasteten Referenzzustand zu Interferenzmustern, die im Gegensatz zu holografischen Verformungsmessungen nicht ein Maß für die Verformung, sondern ein Maß für den Gradienten bzw. die Ableitung der Verformung in der Shearrichtung, d. h. in derjenigen Richtung sind, in die die Lichtstrahlen vom Shearing-Element gebrochen werden. Bei einwandfreier Verformung des Objekts sind die erhaltenen Interferenzmuster i. a. regelmäßig. Weist das Objekt dagegen Mängel auf, ergeben sich entsprechend unterschiedliche Dehnungen, die zu deutlich sichtbaren Unregelmäßigkeiten der Interferenzmuster führen.For the observation of object surfaces for strain measurement using the electronic Speckle Pattern Shearing Interferometry, abbreviated shearography or ESPSI, becomes the Illuminated surface to be examined with coherent light, the reflected light by means of a shearing optics, e.g. B. from a beam splitter and two mirrors Two-beam interferometer exists, imaged in the image plane of an opto-electronic sensor and the measurement result is then evaluated by means of a computer connected to the sensor. When the object is loaded, the position of the light reflecting changes Points not only absolutely, but also relative to each other. This leads to the overlay of the images obtained in the loaded state, the so-called load shearograms the images obtained in the unloaded state, the so-called zero shearograms, or with a correspondingly differently loaded reference state to interference patterns, which, in contrast to holographic deformation measurements, is not a measure of the deformation, but a measure for the gradient or the derivation of the deformation in the shear direction, d. H. in the direction in which the light rays from the shearing element are refracted will. If the object is deformed correctly, the interference patterns obtained are i. a. regularly. If, on the other hand, the object has defects, this will result accordingly different strains that lead to clearly visible irregularities in the interference pattern to lead.

Shearografische Verfahren und die zu ihrem Verständnis notwendigen mathematischen Grundlagen sind dem Fachmann allgemein bekannt (DE 28 06 845 C2, DE 40 36 120 A1, Y. Y. Hung in "Shearography: A Novel and Practical Approach for Nondestructive Inspection", Journal of Nondestructive Evaluation, Vol. 8, No. 2, 1989, p. 55-67 und Y. Y. Hung, A. J. Durelli in "Simultaneous Measurement of Three Displacement Derivatives Using a Multiple Image-Shearing Interferometric Camera", Journal of Strain Analysis, Vol. 14, No. 3, 1979, p. 81-88).Shearographic processes and the mathematical ones necessary to understand them The basics are generally known to the person skilled in the art (DE 28 06 845 C2, DE 40 36 120 A1, Y. Y. Hung in "Shearography: A Novel and Practical Approach for Nondestructive Inspection", Journal of Nondestructive Evaluation, Vol. 8, No. 2, 1989, p. 55-67 and Y. Y. Hung, A. J. Durelli in "Simultaneous Measurement of Three Displacement Derivatives Using a Multiple Image Shearing Interferometric Camera ", Journal of Strain Analysis, Vol. 14, No. 3, 1979, p. 81-88).

Es ist bereits bekannt, daß in-plane Dehnungen, die von einem out-of-plane Anteil überlagert werden, sichtbar zu machen sind (DE 44 46 687 A1 DE 44 46 887 A1 und DE 196 39 213.6; The European Symposium on Optics for Productivity in Manufacturing, Proceedings of the International Society for Optical Engeneering SPIE, 20.-24.06.94, p. 210-221, Frankfurt/Main zum Thema "Shearography for direct Measurements of Strains" von W. Steinchen, L. X. Yang, M. Schuth, G. Kupfer; "Strain measurement on the surface of plates and discs by means of the shearography" von W. Steinchen, M. Schuth, L. X. Yang, Journal Strain, p. 105-108 Aug. u. Nov. 1994; p. 139-141, Febr. 1995, p. 25-29 "Dehnungsmessung mit digitaler Shearografie" von W. Steinchen, G. Kupfer, M. Schuth, L. X. Yang, Technisches Messen, H. 9, 1995, Oberkochen, S. 337-341). It is already known that in-plane strains are overlaid by an out-of-plane portion are to be made visible (DE 44 46 687 A1 DE 44 46 887 A1 and DE 196 39 213.6; The European Symposium on Optics for Productivity in Manufacturing, Proceedings of the International Society for Optical Engeneering SPIE, June 20-24, 1994, p. 210-221, Frankfurt / Main on the topic "Shearography for direct Measurements of Strains" by W. Steinchen, L. X. Yang, M. Schuth, G. Kupfer; "Strain measurement on the surface of plates and discs by means of the shearography "by W. Steinchen, M. Schuth, L. X. Yang, Journal Strain, p. 105-108 Aug. u. Nov. 1994; p. 139-141, Feb. 1995, p. 25-29 "Strain measurement with digital shearography" by W. Steinchen, G. Kupfer, M. Schuth, L. X. Yang, Technischen Messen, H. 9, 1995, Oberkochen, pp. 337-341).  

Weiterhin ist bekannt, daß im shearografischen Meßsignal die Neigung der Kontur enthalten ist, wenn z. B. die Aufweitungslinse der shearografischen Meßeinrichtung bzw. die Beleuchtungsquelle leicht verschoben wird (vgl. "On the Determination of Slope by Shearography" von C. J. Tay, H. M. Shang, A. N. Poo, M. Luo, Journal Optics and Lasers in Engineering, 1994, S. 207-217).It is also known that the inclination of the contour is contained in the shearographic measurement signal is when z. B. the expansion lens of the shearographic measuring device or the illumination source is slightly shifted (see "On the Determination of Slope by Shearography" by C. J. Tay, H. M. Shang, A. N. Poo, M. Luo, Journal Optics and Lasers in Engineering, 1994, pp. 207-217).

Problemstellung und Lösung der AufgabeProblem definition and solution of the task

Obwohl die shearografischen Verfahren dieser Art wegen ihrer Einfachheit und Unempfindlichkeit gegen äußere Einflüsse, z. B. mechanische Schwingungen der Meßapparatur, große Vorteile bieten, weisen sie auch noch Mängel auf. Die bestehen vor allem darin, daß bei Dehnungsmessungen an gekrümmten Oberflächen das Meßsignal infolge der Krümmung im Vergleich zur Messung an ebenen Objektoberflächen verfälscht wird.Although the shearographic processes of this type because of their simplicity and insensitivity against external influences, e.g. B. mechanical vibrations of the measuring apparatus, large Offer advantages, they also have shortcomings. The main thing is that at Strain measurements on curved surfaces the measurement signal due to the curvature in Comparison to measurement on flat object surfaces is falsified.

Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die shearografische Untersuchungsmethode zur Messung von Dehnungen auf beliebig gekrümmten Oberflächen mit dem Meßsignal der Shearografie direkt in Verbindung mit einer einmaligen Konturvermessung zu ermöglichen. Im shearografischen Meßsignal für den Gradienten der Verformung ist die Konturneigung der Oberfläche ganzflächig enthalten, wenn der optische Aufbau vor der Messung leicht variiert wird und die räumlichen Koordinatenwerte der Konturneigung mit den gemessenen Deformationen einfach und schnell verrechnet werden können (Fig. 1). Grundgedanke der Methode ist, die Konturneigung als die Ursache für eine systematische Abweichung des Meßsignals zu erfassen und daraus entsssprechende Kompensationsmaßnahmen abzuleiten. Der Grundgedanke der Methode wird gerätetechnisch dadurch gelöst, daß die bei der Shearografie auftretenden Dehnungs- und Neigungslinien mit ein und demselben Meßgerät auf ebenen und beliebig gekrümmten Objektflächen zu messen sind. Zur Lösung dieser Aufgabe dienen die kennzeichnenden Merkmale der Patentansprüche 1 bis 17. Das Verfahren untergliedert sich dabei in die Messung der Neigung und der Verformungsgradienten.Based on this prior art, the invention has for its object to enable the shearographic examination method for measuring strains on arbitrarily curved surfaces with the measurement signal of shearography directly in connection with a one-time contour measurement. In the shearographic measurement signal for the gradient of the deformation, the surface's tendency to contour is included over the entire surface if the optical structure is slightly varied before the measurement and the spatial coordinate values of the contour inclination can be easily and quickly offset against the measured deformations ( Fig. 1). The basic idea of the method is to record the contour tendency as the cause for a systematic deviation of the measurement signal and to derive corresponding compensation measures from this. The basic idea of the method is solved in terms of device technology in that the lines of expansion and inclination occurring in shearography can be measured with one and the same measuring device on flat and arbitrarily curved object surfaces. The characteristic features of claims 1 to 17 serve to solve this problem. The method is subdivided into the measurement of the inclination and the deformation gradients.

I. Messung der Verformungsgradienten mit der ShearografieI. Measurement of the deformation gradients using shearography

Aufgrund der theoretischen Grundlagen und des Zusammenhangs zwischen der interferometrischen Lichtwellenausbreitung in der Shearografie und den Deformationsgleichungen der Mechanik hinsichtlich der relativen Phasenänderung Δ der Lichtwellen ist bereits bekannt, daß die relative Phasenänderung Δ den Gradienten der Verformung darstellt.
Due to the theoretical basis and the relationship between the interferometric light wave propagation in shearography and the mechanical deformation equations with regard to the relative phase change Δ of the light waves, it is already known that the relative phase change Δ represents the gradient of the deformation.

worin u, v, w die Komponenten des Verformungsvektors, ex, ey, ez die Einheitsvektoren in x-, y- und z-Richtung und δx, δy die Sheargrößen in der x- und y-Richtung auf der Objektoberfläche sind. ks ist der Sensitivitätsvektor der Meßeinrichtung; er liegt in der Richtung der Winkelhalbierenden des Winkels θ zwischen der Beleuchtungs- und Beobachtungsrichtung. where u, v, w are the components of the deformation vector, e x , e y , e z are the unit vectors in the x, y and z directions and δx, δy are the shear sizes in the x and y directions on the object surface. k s is the sensitivity vector of the measuring device; it lies in the direction of the bisector of the angle θ between the direction of illumination and observation.

Richtet man die Beleuchtungsrichtung senkrecht zur Objektoberfläche aus, liegt die Richtung des Sensitivitätsvektors ks genau in der z-Richtung, so erhält man ksex = 0, ksey = 0 und ksez = ↿ks ↿. Aus den Gln. (1) und (2) folgt:
If the direction of illumination is aligned perpendicular to the surface of the object, the direction of the sensitivity vector k s lies exactly in the z direction, so you get k s e x = 0, k s e y = 0 and k s e z = ↿k s ↿. From Eqs. (1) and (2) follows:

Die Gln. (1) und (2) zeigen, daß die Gradienten der Verformung mit der Shearografie direkt gemessen werden können, und die Gln. (3) und (4) zeigen, daß die Gradienten der Verformung δw/δx oder δw/δy durch die Beleuchtung senkrecht zur Objektoberfläche ermittelt werden können. Die obigen Gln. (3) und (4) können entsprechend umgeformt werden, so daß mit Bestimmung der Streifenordnung N infolge der Belastungsänderung eine direkte Auswertung der out-of-plane Neigungen möglich wird.The Gln. (1) and (2) show that the gradients of deformation with the shearography are direct can be measured, and Eqs. (3) and (4) show that the gradients of the deformation δw / δx or δw / δy can be determined by the illumination perpendicular to the object surface can. The above equations. (3) and (4) can be shaped accordingly, so that with Determination of the strip order N as a result of the change in load a direct evaluation the out-of-plane inclinations becomes possible.

II. Messung der Konturneigung der Objektoberfläche durch den shearografischen AufbauII. Measurement of the contour slope of the object surface by the shearographic structure

Fig. 2 zeigt hierzu die Verhältnisse eines durch eine Laserlichtquelle beleuchteten Objektes mit beliebig gekrümmter Kontur. Die Laserlichtquelle befindet sich am Ort S = (xs, Ys, zs) und kann um kleine Beträge Dx, Dy, Dz nach S' = (xs + Dx, ys + Dy, zs + Dz) verschoben werden. Durch ein Shearelement entstehen zwei versetzte Bilder des von der Objektoberfläche reflektierten Laserlichtes auf der Bildebene. Es interferieren daher jeweils ein Punkt P = (x, y, z) der Objektoberfläche im Punkt Q der Bildebene mit einem anderen Punkt der Objektoberfläche, der um die entsprechenden Shearbeträge δx und δz versetzt an der Stelle P' = (x + δx, y, z + δz) liegt, wenn in der x,z-Ebene, also in Richtung der Krümmung der Kontur, versheart wird. Fig. 2 shows this, the ratios of an illuminated by a laser light source object with any curved contour. The laser light source is located at S = (x s , Y s , z s ) and can be shifted by small amounts Dx, Dy, Dz to S '= (x s + Dx, y s + Dy, z s + Dz) . A shear element creates two offset images of the laser light reflected from the object surface on the image plane. Therefore, a point P = (x, y, z) of the object surface at point Q of the image plane interferes with another point of the object surface, which is offset by the corresponding shear amounts δx and δz at the position P '= (x + δx, y , z + δz) is when the x, z-plane, ie in the direction of the curvature of the contour, is sheared.

Die optische Weglängendifferenz dl1 zwischen den Lichtstrahlen, die von der Lichtquelle S bzw. S' zum Bildpunkt Q über den Objektpunkt P verlaufen, lautet:
The optical path length difference dl 1 between the light beams which run from the light source S or S 'to the image point Q via the object point P is:

wobei r2 = (x-xs-Dx)2 + (y-ys-Dy)2 + (z-zs-Dz)2 und R2 = (x-xs)2 + (y-ys)2 + (z-zs)2 ist. Analog gilt für die optische Weglängendifferenz dl2 zwischen den Lichtstrahlen, die von der Lichtquelle S bzw. S' zum Bildpunkt Q der Bildebene über den Punkt P' der gekrümmten Objektoberfläche verlaufen
where r 2 = (xx s -Dx) 2 + (yy s -Dy) 2 + (zz s -Dz) 2 and R 2 = (xx s ) 2 + (yy s ) 2 + (zz s ) 2 . The same applies analogously to the optical path length difference dl 2 between the light beams which run from the light source S or S 'to the image point Q of the image plane via the point P' of the curved object surface

wobei t2 = (x + δx-xs-Dx)2 + (y-ys-Dy)2 + (z + δz-zs-Dz)2 und T2 = (x + δx-xs)2 + (y-ys)2 + (z + δz-zs)2 ist. Wird angenommen, daß die Beträge der Lichtquellenverschiebung Dx, Dy, Dz klein gegenüber dem gesamten Lichtweg von der Quelle bis zur Objektoberfläche sind, kann 2R ≈ r + R gesetzt werden. Werden weiterhin auch die Sheargrößen δx und δz als relativ klein gegenüber dem Lichtweg von der Quelle bis zum Objekt angenommen, gilt t + T ≈ 2T ≈ 2R. Diese Annahme schafft die Voraussetzung zur Anwendung des binomischen Lehrsatzes, wonach sich die Lichtwegdifferenz ΔΦ zu
where t 2 = (x + δx-x s -Dx) 2 + (yy s -Dy) 2 + (z + δz-z s -Dz) 2 and T 2 = (x + δx-x s ) 2 + ( yy s ) 2 + (z + δz-z s ) 2 . If it is assumed that the amounts of the light source shift Dx, Dy, Dz are small compared to the total light path from the source to the object surface, 2R ≈ r + R can be set. If the shear sizes δx and δz are also assumed to be relatively small compared to the light path from the source to the object, t + T ≈ 2T ≈ 2R applies. This assumption creates the prerequisite for the application of the binomial theorem, according to which the light path difference ΔΦ increases

ergibt. Der Zähler des Bruchs kann nun ausmultipliziert werden. Es verbleibt als Differenz
results. The fraction counter can now be multiplied out. It remains as a difference

Wird die Lichtquelle nur in der z-Richtung verschoben, so wird Dx = 0. Wird nach δz/δx aufgelöst und gleichzeitig der Punkt S = (xs, ys, zs) der Lichtquelle als Koordinatenursprung gewählt, so erhält man für die Konturneigung mit x, y, z als Koordinaten des jeweiligen Punktes der gekrümmten Oberfläche:
If the light source is only moved in the z-direction, Dx = 0. If you resolve to δz / δx and at the same time select the point S = (x s , y s , z s ) as the coordinate origin, you get for the Contour slope with x, y, z as coordinates of the respective point of the curved surface:

Gl. (9a) zeigt die allgemeine Lösung für die Änderung der optischen Weglänge ΔΦ, die von der Verschiebung der Lichtquelle hervorgerufen wird. Die Weglängenänderung ΔΦ entspricht der relativen Phasenänderung, die bei der fotographischen Shearografie mit der Streifenordnung n aufgrund der Konturneigung und der Wellenlänge λ des Lasers nach ΔΦ = [(2n + 1) λ]/2 mit ± n = 0, 1, 2, 3, . . . für die dunklen Interferenzstreifen verbunden ist. Durch die Phasenschiebe-Shearografie kann jedoch die relative Phasenänderung und damit die Neigung der Kontur nicht nur für ganze Zahlen, sondern auch für Dezimalen in jedem Pixelpunkt bestimmt werden. Die Werte entsprechen den Grauwerten der Digitalisierungshardware. Nach Gl. (9a) stellt das Interferenzstreifenmuster, das aus den Shearogrammen vor und nach der Verschiebung der Lichtquelle entsteht, somit Linien konstanter Verschiebungsgradienten, d. h. die 1. Ableitung der Kontur oder die Linien konstanter Konturneigung dar.Eq. (9a) shows the general solution for the change in the optical path length ΔΦ that of the displacement of the light source is caused. The path length change corresponds to ΔΦ the relative phase change that occurs in photographic shearography with the stripe order n due to the contour slope and the wavelength λ of the laser according to ΔΦ = [(2n + 1) λ] / 2 with ± n = 0, 1, 2, 3,. . . for the dark interference fringes. By however, phase shift shearography can determine the relative phase change and thus the tilt the contour not only for whole numbers, but also for decimals in each pixel point be determined. The values correspond to the gray values of the digitization hardware. According to Eq. (9a) represents the interference fringe pattern that emerges from the shearograms before and after the displacement of the light source, thus lines of constant displacement gradients, d. H. represents the 1st derivative of the contour or the lines of constant contour inclination.

Die hier hergeleiteten Beziehungen, Gl. (5)-(9a) zur Messung der Konturneigung können prinzipiell auch durch Verschiebung der Bildebene in der z-Achse in Verbindung mit der Shearing-Einheit übertragen werden. Die geometrischen Verhältnisse veranschaulicht Fig. 3.The relationships derived here, Eq. (5) - (9a) for measuring the contour inclination can in principle also be transmitted by shifting the image plane in the z-axis in connection with the shearing unit. The geometric relationships illustrated FIG. 3.

Um eine Dekorrelation der Bildpunkte zu vermeiden, ist möglichst nur eine Verschiebung in z-Richtung vorzusehen. Es besteht ebenso die Möglichkeit, die Lichtquelle und die Empfangsoptik gleichzeitig um gleiche oder verschiedene Beträge zu verschieben. Nach den geometrischen Verhältnissen von Fig. 4, für die die gleiche Verschiebungsrichtung und der gleiche Betrag Dz angenommen werden, ergibt sich die Phasendifferenz ΔΦ= (dls2 + dlq2) - (dls1 + dlq1), wobei dls1 = rs-Rs, dls2 = ts-Ts, dlq1 = rq-Rq und dlq2 = rq-Tq sind. Wird angenommen, daß die Lichtquelle und die Empfangsoptik sich dicht nebeneinander befinden, kann weiter vereinfacht werden zu ΔΦ = 2(dl2 - dl1). Man erhält so den gleichen Betrag der Phasendifferenz bei der halben Verschiebung Dz gegenüber Gl. (9a) bzw. die Neigung entsprechend nach:
In order to avoid decorrelation of the pixels, only a shift in the z direction should be provided, if possible. It is also possible to shift the light source and the receiving optics simultaneously by the same or different amounts. . After the geometric relationships of Figure 4, for which the same shift direction and the same amount Dz be adopted, there is the phase difference ΔΦ = (dl s2 + dl q2) - (dl s1 + dl q1), where dl s1 = rs- Rs, dl s2 = ts-Ts, dl q1 = rq-Rq and dl q2 = rq-Tq. If it is assumed that the light source and the receiving optics are located close to each other, it can be further simplified to ΔΦ = 2 (dl 2 - dl 1 ). This gives the same amount of phase difference with half the shift Dz compared to Eq. (9a) or the inclination according to:

III. Eliminierung der Abweichung bei der in-plane Dehnung bzw. der out-of-plane Verformungsgradienten durch die Kenntnis der gemessenen KonturneigungsverteilungIII. Elimination of the deviation in the in-plane strain or the out-of-plane deformation gradient by knowing the measured contour slope distribution

Die oben beschriebenen Zusammenhänge zur Messung der Gradienten δw/δx oder δw/δy nach den Gln. (3) und (4) sind zwar für Anwendungen in der Qualitätssicherung zur Sichtbarmachung von Dehnungskonzentrationen z. B. im Falle von Materialfehlern hinreichend. Für eine Dehnungsanalyse ist jedoch die Kenntnis der in-plane Komponenten δu/δx und δv/δy bzw. δu/δy und δv/δx notwendig. Diese Anteile sind im Meßsignal der Shearografie nach den Gln. (1) und (2) enthalten, wenn der Sensitivitätsvektor, wie oben beschrieben, nicht in der z-Richtung liegt, sondern eine seitliche Beleuchtung oder Beobachtung erfolgt.The relationships described above for measuring the gradients δw / δx or δw / δy according to Eq. (3) and (4) are for applications in quality assurance for visualization of strain concentrations e.g. B. sufficient in the case of material defects. For a strain analysis, however, the knowledge of the in-plane components δu / δx and δv / δy or δu / δy and δv / δx necessary. These parts are in the measurement signal of the shearography according to the Gln. (1) and (2) contain when the sensitivity vector is not in the z-direction as described above but there is side lighting or observation.

Werden durch sequentielle Illumination unter zwei wechselseitig gleichen Beleuchtungswinkeln +θxz und -θxz. in x,z-Ebene mittels einer Zweistrahl-Beleuchtungsmethode bei senkrechter Beobachtung 4 Phasenverteilungen erzeugt und zwar je 2 Phasenverteilungen vor (Zustand 1) und nach der Deformation (Zustand 2), so entstehen aus der Subtraktion der entsprechenden gemessenen Phasenverteilungen für beide Zustände die relativen Phasenänderungen
Are by sequential illumination under two mutually equal lighting angles + θ xz and -θ xz . Generating 4 phase distributions in x, z-plane using a two-beam illumination method with vertical observation, namely 2 phase distributions before (state 1) and after the deformation (state 2), the relative results for both states result from the subtraction of the corresponding measured phase distributions Phase changes

Δ+θxz = ϕ(+θxz)2 - ϕ(+θxz)1 (10)
Δ + θxz = ϕ (+ θ xz ) 2 - ϕ (+ θ xz ) 1 (10)

Δ-θxz = ϕ(-θxz)2 - ϕ(-θxz)1. (11)
Δ -θxz = ϕ (-θ xz ) 2 - ϕ (-θ xz ) 1 . (11)

Analog ergeben die Beleuchtungswinkel +θyz und -θyz. in der y,z-Ebene die entsprechenden relativen Phasenänderungen und .The lighting angles + θ yz and -θ yz result in an analogous manner . in the y, z-plane the corresponding relative phase changes and.

Für die Shearografie an ebenen Bauteilen entstehen durch das digitale Addieren der entsprechenden seitlichen Phasenverteilungen für beide Zustände die reinen out-of-plane Verformungsgradienten δw/δx oder δw/δy entsprechend dem jeweiligen Beleuchtungswinkel θ der jeweiligen Beleuchtungsebene x,z bzw. y,z:
For shearography on flat components, the digital addition of the corresponding lateral phase distributions for both states results in the pure out-of-plane deformation gradients δw / δx or δw / δy corresponding to the respective illumination angle θ of the respective illumination level x, z or y, z:

ΔA = Δ + Δ, (12)
Δ A = Δ + θ + Δ , (12)

durch eine Subtraktion entstehen hingegen die reinen in-plane Gradienten δu/δx bzw. δv/δy
Subtraction, on the other hand, creates the pure in-plane gradients δu / δx or δv / δy

Δs = Δ - Δ (13)Δ s = Δ + θ - Δ (13)

Aus der Kombination der x,z- und der y,z-Beleuchtungsebenen und der x- und y-Shearrichtungen entstehen 2 reine und 2 gemischte in-plane Komponenten, wobei die Überlagerung der halben gemischten relativen Phasenänderungen die Gleitung ergäbe (γxy = γyx). Damit sind die Komponenten für den ebenen Teil des Verzerrungstensors und 2 zusätzliche out-of-plane Terme bestimmt.The combination of the x, z and y, z illumination planes and the x and y shear directions result in 2 pure and 2 mixed in-plane components, whereby the superposition of half the mixed relative phase changes would result in the glide (γ xy = γ yx ). The components for the flat part of the distortion tensor and 2 additional out-of-plane terms are thus determined.

Das digitale Subtrahieren bzw. Addieren der Phasenverteilungen beruht auf der Gleichheit der zwei, zwischen Beleuchtungs- und Beobachtungsrichtung liegenden Sensitivitätsvektoren bezüglich ihrer Größe und wechselseitiger Richtung. Die Symmetrie ist näherungsweise gegeben, wenn die Abmaße der Objektoberfläche relativ klein gegenüber dem Abstand von der Beleuchtungsquelle zur Oberfläche des Objektes sind. Die Richtung des Sensitivitätsvektors wird nun vom optischen Aufbau bestimmt und ist somit unabhängig von der Form und Neigung des Objektes. Die Subtraktion bzw. Addition der Phasenverteilungen ist somit auch in der Anwendung auf konkav bzw. konvex gekrümmte Objektoberflächen zulässig. Es ergeben sich jedoch Abweichungen bezüglich der tatsächlichen Dehnungen auf der Meßoberfläche:The digital subtraction or addition of the phase distributions is based on the equality of the two sensitivity vectors lying between the direction of illumination and the observation their size and reciprocal direction. The symmetry is approximate, if the dimensions of the object surface are relatively small compared to the distance from the Illumination source to the surface of the object. The direction of the sensitivity vector is now determined by the optical structure and is therefore independent of the shape and inclination  of the object. The subtraction or addition of the phase distributions is therefore also in permitted on concave or convex curved object surfaces. Result it However, there are deviations with regard to the actual strains on the measuring surface:

Die erste Abweichung besteht darin, daß die gemessenen Komponenten δw/δx bzw. δw/δy und δu/δx und δv/δy bzw. δu/δy und δv/δx unabhängig von der Oberflächenneigung jeweils parallel bzw. senkrecht zur optischen Achse liegen. Die Voraussetzung der bisherigen Technik, bei der angenommen wird, daß die Oberfläche des Objekts eben ist und senkrecht zur optischen Achse (z) liegt, wird daher bei einer Neigung der Meßoberfläche nicht mehr erfüllt. Die zweite Abweichung ergibt sich aufgrund der Projektion des wahren Shearabstandes der Bauteiloberfläche in die Bildebene in Abhängigkeit von der Konturneigung des Objekts. Der wahre Shearabstand, der für die quantitative Auswertung des Shearogramms eine entscheidende Rolle spielt, kann somit als Funktion der Konturneigung ΔΦ und eines Referenz- Shearabstandes δxref ausgedrückt werden. Naheliegenderweise soll hierfür der Shearabstand auf einer senkrecht zur optischen Achse (z) stehenden Ebene angenommen werden.The first deviation is that the measured components δw / δx or δw / δy and δu / δx and δv / δy or δu / δy and δv / δx are parallel or perpendicular to the optical axis, regardless of the surface inclination. The prerequisite of the previous technology, in which it is assumed that the surface of the object is flat and perpendicular to the optical axis (z), is therefore no longer met if the measuring surface is inclined. The second deviation results from the projection of the true shear distance of the component surface into the image plane as a function of the contour inclination of the object. The true shear distance, which plays a decisive role in the quantitative evaluation of the shea program, can thus be expressed as a function of the contour inclination ΔΦ and a reference shear distance δx ref . Obviously, the shear distance on a plane perpendicular to the optical axis (z) should be assumed for this.

Von der Bildebene aus gesehen, wird der Referenz-Shearabstand δxref eingestellt, die Tiefe dz wird nicht erkannt. Der wahre Shearabstand ist die Projektion des Referenz-Shearbetrags und beträgt somit nach Fig. 5 δx = δxref/cos(α) = δxref/cos[arctan(δz/δx)] für die x,z-Ebene und entsprechend δy = δyref/cos(β) = cos[arctan(δz/δy)] in der y,z-Ebene (Fig. 5).Seen from the image plane, the reference shear distance δx ref is set, the depth dz is not recognized. The true shear distance is the projection of the reference shear amount and is therefore, according to FIG. 5, δx = δx ref / cos (α) = δx ref / cos [arctan (δz / δx)] for the x, z plane and correspondingly δy = δy ref / cos (β) = cos [arctan (δz / δy)] in the y, z plane ( Fig. 5).

Mit dem wahren Shearabstand und -θxz = +θxz ergibt sich entsprechend den Gln. (10) u. (11):
With the true shear distance and -θ xz = + θ xz we get the equations. (10) u. (11):

Durch Subtraktion der Gl. (15) von Gl. (14) entsprechend Gl. (13) ergibt sich
By subtracting Eq. (15) from Eq. (14) according to Eq. (13) results

Nach Auflösung der Gl. (16) nach δu/δx und analog für δv/δy aus ΔSy erhält man
After dissolving Eq. (16) according to δu / δx and analogously for δv / δy from Δ Sy one obtains

Durch Addition der Gln. (14) und (15) entsprechend Gl. (12) ergibt sich
By adding the Eqs. (14) and (15) according to Eq. (12) results

Auflösung der Gl. (18) nach δw/δx und analog für δw/δy aus ΔAy ergibt
Resolution of Eq. (18) according to δw / δx and analogously for δw / δy from Δ Ay

Die Gln. (16) und (18) stellen die jeweiligen Anteile in paralleler bzw. senkrechter Richtung zur optischen Achse unter Berücksichtigung des jeweiligen wahren Sherabstandes in entsprechender Richtung und in Abhängigkeit von der Konturneigung dar (Fig. 6). Die gemessenen Komponenten δw/δx bzw. δw/δy und entsprechend δu/δx und δv/δy bzw. δu/δy und δv/δx müssen nun durch eine Transformation entsprechend der Konturneigung "ausgerichtet" werden. Für die Transformation der x,z-Ebene gilt allg. x = x' cos(α) - z' sin(α) bzw. z = x' sin(α) + z' cos(α) und entsprechend für die y,z-Ebene y = y' cos(β) - z' sin(β) bzw. z = y' sin(β) + z' cos(β).The Gln. (16) and (18) represent the respective proportions in a direction parallel or perpendicular to the optical axis, taking into account the respective true Sher distance in the corresponding direction and depending on the contour inclination ( FIG. 6). The measured components δw / δx or δw / δy and correspondingly δu / δx and δv / δy or δu / δy and δv / δx must now be "aligned" by a transformation according to the contour inclination. The general rule for the transformation of the x, z-plane is x = x 'cos (α) - z' sin (α) or z = x 'sin (α) + z' cos (α) and accordingly for the y, z plane y = y 'cos (β) - z' sin (β) or z = y 'sin (β) + z' cos (β).

Für δu/δx ergibt diese Transformation:
For δu / δx this transformation gives:

In Gl. (20) sind die konstanten Größen der Meßeinrichtung (Faktor FAx bzw. FBx) enthalten. Es kann daher für die Dehnung δua/δxa vereinfacht werden:
In Eq. (20) contains the constant sizes of the measuring device (factor F Ax or F Bx ). It can therefore be simplified for the expansion δu a / δx a :

Für die Dehnung δv/δy ergibt sich analog zu den Gln. (20) und (21) mit der Neigung β:
For the elongation δv / δy there is analogous to the Gln. (20) and (21) with the inclination β:

Die Transformation von δw/δx ergibt:
The transformation of δw / δx gives:

Mit den konstanten Größen der Meßeinrichtung (Faktor FAx bzw. FBx) kann vereinfacht geschrieben werden:
With the constant sizes of the measuring device (factor F Ax or F Bx ) it can be simplified:

Für δw/δy ergibt sich analog zu Gl. (23) mit der Neigung β = arctan(δz/δy):
For δw / δy we get analogous to Eq. (23) with the inclination β = arctan (δz / δy):

Die Verformungsgradienten δwα/δxa bzw. δwβ/δyβ sind zwar nun senkrecht zu xα bzw. yβ ausgerichtet, δwα/δxα ist jedoch noch unter dem Winkel (90°-β) in die y,z-Ebene gerichtet und entsprechend δwβ/δyβ unter dem Winkel (90°-α) in die x,z-Ebene (Fig. 6). Um aber die out-- of-plane Komponenten in Normalenrichtung zu erhalten, müßte anschließend eine weitere Transformation erfolgen.The deformation gradients δw α / δx a and δw β / δy β are now aligned perpendicular to x α and y β , however δw α / δx α is still at an angle (90 ° -β) in the y, z- Directed plane and corresponding to δw β / δy β at the angle (90 ° -α) in the x, z plane ( Fig. 6). However, in order to maintain the out-of-plane components in the normal direction, a further transformation would have to take place.

An der Oberfläche von Bauteilen herrscht jedoch i. a. ein zweiachsiger oder ebener Spannungszustand, da meist keine Last in Richtung der Flächennormalen vorliegt. Für eine Analyse des ebenen Spannungszustandes sind die beiden Komponenten δuα/δxα und δvβ/δyβ in den Gln. (21) und (22) von Interesse. Sie stellen in-plane Dehnungen dar. Die transformierten Verformungsgradienten δwβ/δyβ bzw. δwα/δxα sind zunächst von geringerer Bedeutung. Mit den hier erhaltenen in-plane Dehnungen an der Oberfläche können jedoch nicht einfach die Spannungen des zweiachsigen Spannungszustandes bestimmt werden. Ein Grund liegt darin, daß dies nur mit Kenntnis von zwei Dehnungen möglich ist, wenn diese in den Hauptdehnungsrichtungen liegen. I. a. sind die Hauptdehnungsrichtungen unbekannt und gerade auf einer Freiformoberfläche an jedem Punkt in eine andere Richtung zeigend. Dies bedeutet, daß für jeden Punkt z. B. im Fall der Anwendung von Dehnungsmeßstreifen (DMS) eine weitere dritte Dehnung in einer weiteren Richtung z. B. unter 45° ermittelt werden muß oder alternativ z. B. in drei Richtungen unter 60° gemessen wird (DMS-Rosette). Der Vorteil der Shearografie und speziell der Meßvorrichtung im Vergleich zur DMS-Methode ist, daß nicht nur die Dehnungen, sondern auch analog zu den Gln. (20) bis (23) die einzelnen Terme der Gleitungen δuα/δyα und δvβ/δxβ durch die Zuordnung des Shearabstandes zu der jeweils um 90° gedrehten Beleuchtungsebene gemessen und entsprechend den Dehnungen transformiert werden können. Aus den Beziehungen des allgemeinen dreiachsigen Spannungszustandes mit Berücksichtigung von σzz = τxz = τyz = 0 erhält man aus dem erweiterten Hockeschen Gesetz auf der Basis eines kartesischen Koordinatensystems die Normalspannungen und Schubspannungen:
However, on the surface of components i. a. a biaxial or flat stress state, since there is usually no load in the direction of the surface normal. For an analysis of the flat stress state, the two components δu α / δx α and δv β / δy β are in the equations. (21) and (22) of interest. They represent in-plane strains. The transformed deformation gradients δw β / δy β and δw α / δx α are initially of less importance. With the in-plane strains on the surface obtained here, however, the stresses of the biaxial stress state cannot simply be determined. One reason is that this is only possible with knowledge of two strains if they are in the main directions of stretching. I. a. the main directions of stretching are unknown and pointing in a different direction at every point, especially on a freeform surface. This means that for each point z. B. in the case of the use of strain gauges (DMS) a further third stretch in a further direction z. B. must be determined at 45 ° or alternatively z. B. is measured in three directions at 60 ° (DMS rosette). The advantage of shearography and especially of the measuring device compared to the strain gauge method is that not only the strains, but also analogously to Eqs. (20) to (23) the individual terms of the glides δu α / δy α and δv β / δx β can be measured by assigning the shear distance to the illumination plane rotated by 90 ° and can be transformed according to the strains. From the relationships of the general triaxial stress state, taking into account σ zz = τ xz = τ yz = 0, the normal stresses and shear stresses are obtained from Hock's expanded law on the basis of a Cartesian coordinate system:

σx = [E/(l-v2)] (εxx + νεyy)
σy = [E/(l-v2)] (εy + νεx)
τxy = Gγxy = G (δuα/δyα + δvβ/δxβ) (26)
σ x = [E / (lv 2 )] (ε xx + νε yy )
σ y = [E / (lv 2 )] (ε y + νε x )
τ xy = Gγ xy = G (δu α / δy α + δv β / δx β ) (26)

Die praktische Realisierung des optischen Aufbaus ist Bestandteil des folgenden Abschnittes.The practical implementation of the optical structure is part of the following section.

IV. Gerätetechnische RealisierungIV. Implementation of technical equipment

Aus den unter I und III entwickelten Gleichungen lassen sich die optischen Elemente für eine Realisierung der Meßeinrichtung ableiten und der prinzipielle Aufbau skizzieren. Für eine vollständige Bestimmung der Konturneigungen tan(α) = δz/δx bzw. tan(β) = δz/δy ohne Änderung der Shearrichtung sind zwei Interferometer-Anordnungen bzw. zwei Sheareinrichtungen und zwei CCD-Kameras für die x- (Gl. (16)) und y-Richtung (Gl. (18)) erforderlich. Auch für die Bestimmung des zweiachsigen Spannungszustandes sind nur zwei Interferometer- Anordnungen bzw. 2 CCD-Kameras notwendig. Die Konturneigung ist durch die Verschiebung einer oder mehrerer Beleuchtungsquellen bzw. der Empfangseinrichtung meßbar (Gln. (5) bis (9)). Zur Realisierung der Beleuchtungswinkel +θ bzw. -θ für die Bestimmung der relativen Phasenänderungen in drei Richtungen sind 2.2 Beleuchtungsquellen z. B. in Form von Laserdioden gleicher Wellenlänge und deren Steuerung z. B. über Verschlüsse erforderlich (Gln. (10) und (11)). Diese vier Beleuchtungsquellen können auch durch entsprechende Strahlteiler, Umlenkspiegel, Verschlüsse und durch eine einzige Laserlichtquelle ersetzt werden.From the equations developed under I and III, the optical elements for a Derive the implementation of the measuring device and outline the basic structure. For one complete determination of the contour inclinations tan (α) = δz / δx or tan (β) = δz / δy without change the shear device are two interferometer arrangements or two shear devices  and two CCD cameras for the x (Eq. (16)) and y direction (Eq. (18)) are required. Also for the determination of the biaxial voltage state is only two interferometers Arrangements or 2 CCD cameras necessary. The contour slope is due to the shift one or more lighting sources or the receiving device can be measured (Eq. (5) to (9)). To realize the lighting angle + θ or -θ for the determination of the relative Phase changes in three directions are 2.2. B. in the form of Laser diodes of the same wavelength and their control z. B. required via closures (Eqs. (10) and (11)). These four lighting sources can also be changed by appropriate Beam splitters, deflecting mirrors, closures and be replaced by a single laser light source.

Die Erfindung wird nachfolgend in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung an Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:The invention is described below in connection with the accompanying drawing of exemplary embodiments explained in more detail. Show it:

Fig. 1 schematisch eine Vorrichtung zur Ermittlung von out-of-plane Neigungen und in-plane Dehnungen an beliebig gekrümmten Objektoberflächen, Fig. 1 shows schematically an apparatus for detecting out-of-plane tilts and in plane-strain on any curved object surfaces,

Fig. 2 Beleuchtete Objektoberfläche mit beliebig gekrümmter Kontur, Fig. 2 illuminated object surface with arbitrarily curved contour,

Fig. 3 Verschiebung der Bildebene in z-Richtung für die Shearing-Vorrichtung, Fig. 3 displacement of the image plane in z-direction for the shearing device,

Fig. 4 Schematische Darstellung der alternativen Bestimmung der Konturneigung, Fig. 4 Schematic representation of the alternative determination of the contour slope,

Fig. 5 Konturneigung der Objektoberfläche, Fig. 5 contour inclination of the object surface,

Fig. 6 Transformation des globalen Koordinatensystems x, y in das Koordinatensystem der Objektoberfläche xβ, yβ,X Fig. 6 Transformation of the global coordinate system of the object surface y in the coordinate system x β, β y,

Fig. 7 Konturneigung einer Halbkugel bei Anwendung der Vorrichtung nach Fig. 1 nach Verschieben der Laserlichtquelle 1 oder 15 von S nach S' (v.l.n.r.: Phasenbild mit Verscherung in y-Richtung, Demodulation des Phasenbildes und Neigung entlang der Linie des demodulierten Bildes), . Fig. 7 contour slope of a hemisphere with application of the device according to Figure 1 after moving the laser light source 1 or 15 from S to S '(left to right: phase image with Verscherung in the y direction, demodulation of the phase image and inclination along the demodulated image line)

Fig. 8 eine erste Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit vier Beleuchtungsstrahlen, Fig. 8 shows a first embodiment of the device according to the invention with four light beams,

Fig. 9 eine zweite Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit drei Beleuchtungsstrahlen und einer verschiebbaren, aus zwei Shearing-Spiegeln gebildeten Baueinheit und Fig. 9 shows a second embodiment of the device according to the invention with three light beams and a displaceable structural unit formed from two shearing mirrors and

Fig. 10 und 11 je eine dritte und vierte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit je zwei Shearing-Einheiten. FIGS. 10 and 11 each have a third and fourth embodiment of the device according to the invention with two shearing units.

Die Vorrichtung nach Fig. 1 dient zunächst in an sich bekannter Weise zur Ermittlung der Ableitungen von in-plane Verformungen sowie der Ermittlung der out-of-plane Terme. Hierzu weist die Vorrichtung kohärentes Licht ausstrahlende Lichtquellen 1 und 15, vorzugsweise Laser, eine nicht näher dargestellte Halterung für ein zu untersuchendes Objekt 2, eine Shearing- Anordnung 3, z. B. ein Zweistrahlinterferometer mit einem Strahlteiler 7 und zwei Spiegeln 4 und 5, und eine Bildebene 6 auf, in der ein Bildaufnehmer, z. B. ein fotografischer Film, ein optoelektronischer Bildaufnehmer auf CCD-Basis oder irgendein anderer Aufzeichnungsträger zur Aufnahme und Speicherung eines fotografischen Bildes angeordnet ist. Im Ausführungsbeispiel ist ein optoelektronischer Sensor 6a vorgesehen. Das vom optoelektronischen Sensor 6a registrierte Bild der Objektoberfläche wird als Grundinterferogramm bei im undeformierten Zustand befindlichen Objekt 2 in einem Frame-Grabber (Bildspeicher) 8 gespeichert. Das vom optoelektronischen Sensor 6a registrierte Bild des Belastungsinterferogramms bei im deformierten Zustand befindlichen Objekt 2 wird davon subtrahiert bzw. addiert. Das Ergebnis der Subtraktion bzw. Addition wird auf dem Bildschirm 10 eines Rechners dargestellt. Speicherung, Subtraktion bzw. Addition und Darstellung erfolgen jeweils pixelweise für jeden Punkt des Objekts 2. Das Bild des deformierten Objektzustands 2 wird von dem im Bildspeicher gespeicherten Bild subtrahiert bzw. addiert und auf dem Bildschirm 10 dargestellt.The device according to FIG. 1 is used in a manner known per se to determine the derivatives of in-plane deformations and to determine the out-of-plane terms. For this purpose, the device has coherent light-emitting light sources 1 and 15 , preferably lasers, a holder (not shown in more detail) for an object 2 to be examined, a shearing arrangement 3 , e.g. B. a two-beam interferometer with a beam splitter 7 and two mirrors 4 and 5 , and an image plane 6 in which an image sensor, for. B. a photographic film, an optoelectronic image recorder based on CCD or any other recording medium for recording and storage of a photographic image is arranged. In the exemplary embodiment, an optoelectronic sensor 6 a is provided. The image of the object surface registered by the optoelectronic sensor 6 a is stored as a basic interferogram in an object 2 in the undeformed state in a frame grabber (image memory) 8 . The image of the load interferogram recorded by the optoelectronic sensor 6 a when the object 2 is in the deformed state is subtracted or added therefrom. The result of the subtraction or addition is shown on the screen 10 of a computer. Storage, subtraction or addition and display take place pixel by pixel for each point of object 2 . The image of the deformed object state 2 is subtracted or added from the image stored in the image memory and displayed on the screen 10 .

Das bekannte Verfahren der Shearografie besteht darin, daß das Objekt 2 bzw. seine zu untersuchende Oberfläche zunächst im unbelasteten Zustand mit kohärentem Licht beleuchtet bzw. bestrahlt und das von dieser Oberfläche diffus reflektierte Licht in der Bildebene 6 abgebildet wird. Dabei bewirkt eine Shearing-Einheit in Form des Spiegels 5, daß ein Teil des von irgendeinem Punkt P der Objektoberfläche kommenden Lichts in einem Punkt Q und der restliche Teil des vom Punkt P' kommenden Lichts in einem Punkt Q' der Bildebene 6 gesammelt werden, wobei der Abstand der Punkte Q und Q' üblicherweise als Shearabstand in der Bildebene bezeichnet wird. Die Richtung der Verschiebung der beiden Punkte Q und Q', d. h. die Shearrichtung, hängt von der Lage, d. h. von der Verkippung des Shearing-Spiegels 5 einschließlich der Spiegelhalterung ab. Eine Vershearung der Objektoberfläche in y-Richtung ergibt sich infolge Kippen des Spiegels 5 um die in Fig. 1 schematisch angedeutete Achse eines kartesischen Koordinatensystems, und analog wird die Vershearung der Objektoberfläche in x-Richtung infolge Kippen des Spiegels 5 um die y-Achse beobachtet. Die x,y-Ebene des Koordinatensystems liegt dabei in einem Punkt der zu betrachtenden Oberfläche des Objekts 2. Der Shearabstand läßt sich durch die Größe des jeweiligen Kippwinkels des Planspiegels 5 einstellen. Als Shearing-Einheit kann wahlweise auch der Spiegel 4 verwendet werden.The known method of shearography is that the object 2 or its surface to be examined is first illuminated or irradiated with coherent light in the unloaded state and the light diffusely reflected by this surface is imaged in the image plane 6 . A shearing unit in the form of the mirror 5 causes part of the light coming from any point P of the object surface to be collected in a point Q and the remaining part of the light coming from point P 'in a point Q' of the image plane 6 . the distance between the points Q and Q 'is usually referred to as the shear distance in the image plane. The direction of displacement of the two points Q and Q ', i.e. H. the shear direction depends on the location, d. H. from the tilting of the shearing mirror 5 including the mirror holder. The object surface is displaced in the y direction as a result of tilting the mirror 5 about the axis of a Cartesian coordinate system, which is indicated schematically in FIG. 1, and analogously, the object surface is observed in the x direction as a result of tilting the mirror 5 about the y axis . The x, y plane of the coordinate system lies at a point on the surface of the object 2 to be considered. The shear distance can be adjusted by the size of the respective tilt angle of the plane mirror 5 . The mirror 4 can optionally also be used as the shearing unit.

Zur Vershearung der Objektoberfläche um einen hinsichtlich Größe und Richtung einstellbaren Kippwinkel sind vorzugsweise verstellbare Feinmeßschrauben vorgesehen, so daß Shearrichtung und Shearabstand eingestellt werden können.For arranging the object surface by an adjustable size and direction Tilting angles are preferably provided adjustable micrometers, so that shear direction and shear distance can be adjusted.

Für das Null-Shearogramm werden mittels eines am Spiegel 4 befestigten Piezokristalls, der über einen mit dem Rechner 10 verbundenen D/A-Wandler 9 gesteuert wird, definiert phasenverschobene Bilder registriert. Daraus wird für jedes Pixel die Phase bestimmt. Dieses Verfahren wird dann für den deformierten Objektzustand wiederholt. Damit ist die rechnerunterstützte Auswertung der Dehnungen aus Shearogrammen möglich.For the zero shea program, defined phase-shifted images are registered by means of a piezo crystal attached to the mirror 4 , which is controlled via a D / A converter 9 connected to the computer 10 . The phase is determined from this for each pixel. This process is then repeated for the deformed object state. This enables computer-aided evaluation of the strains from shearograms.

Die Beträge für die Größen δw/δx und δw/δy lassen sich bei der Anwendung einer Lichtquelle erhalten, deren Achse mit der z-Achse bzw. der optischen Achse einen möglichst kleinen Winkel θxz bildet und in der x,z-Ebene liegt oder einen möglichst kleinen Winkel θyz bildet und in der y,z-Ebene liegt.The amounts for the quantities δw / δx and δw / δy can be obtained when using a light source whose axis forms the smallest possible angle θ xz with the z axis or the optical axis and lies in the x, z plane or forms the smallest possible angle θ yz and lies in the y, z plane.

Für eine in-plane Beleuchtung und in-plane Beobachtung mit der Apparatur nach Fig. 1 muß zumindest die Voraussetzung erfüllt sein, daß die Winkel θxz bzw. θyz ungleich Null sein müssen, was mit der Vorrichtung nach Fig. 1 durch entsprechende Schwenkung der Lichtquellen 1 und 15 leicht zu realisieren ist. Unter dieser Voraussetzung ergeben die mit der sonst gleichen Vorrichtung erhaltenen Interferenzmuster je nach entsprechender Kippung einer Shearing-- Einheit, z. B. des Spiegels 5 der Shearing-Anordnung 3, ein Maß für δu/δx und δu/δy, wenn die Strahlachse und die z-Achse in der x,z-Ebene liegen bzw. ein Maß für die Werte δv/δx und δv/δy, wenn die Strahlachse und die z-Achse in der y,z-Ebene liegen. Dabei ist in Fig. 1 angenommen, daß zur Messung oder Sichtbarmachung der Ableitungen der in-plane Verformungen z. B. mittels der Kraft ±Fx eine Dehnung (oder Stauchung) des Objekts 2 in x- Richtung herbeigeführt wird. Alternativ wäre es möglich, mit einer Kraft ±Fy eine Dehnung (oder Stauchung) in y-Richtung oder irgendeiner anderen Richtung innerhalb der x,y-Ebene herbeizuführen.For in-plane illumination and in-plane observation with the apparatus according to FIG. 1, the prerequisite must at least be met that the angles θ xz and θ yz must be non-zero, which can be done with the device according to FIG. 1 by appropriate pivoting light sources 1 and 15 are easy to implement. Under this condition, the interference pattern obtained with the otherwise identical device, depending on the corresponding tilting of a shearing unit, e.g. B. the mirror 5 of the shearing arrangement 3 , a measure of δu / δx and δu / δy if the beam axis and the z-axis lie in the x, z-plane or a measure of the values δv / δx and δv / δy if the beam axis and the z axis lie in the y, z plane. It is assumed in Fig. 1 that for measuring or visualizing the derivatives of the in-plane deformations z. B. by means of the force ± F x an expansion (or compression) of the object 2 in the x direction is brought about. Alternatively, it would be possible to bring about an expansion (or compression) in the y direction or any other direction within the x, y plane with a force ± F y .

Verfahren und Vorrichtungen der beschriebenen Art sind dem Fachmann grundsätzlich bekannt (z. B. DE 44 14 287 A1 und Zusatzanmeldung zu P 44 46 887.3) und brauchen daher nicht näher erläutert zu werden. Die Patentanmeldung P 44 46 887.3 bezweckt die out-of-plane Anteile bei der shearografischen in-plane Dehnungsmessung vollständig zu eliminieren bzw. beide Anteile zu separieren, damit eine exakte in-plane Dehnungsmessung möglich wird. Mit dieser Patentanmeldung soll das in der Patentanmeldung P 44 46 887.3 plus der Zusatzanmeldung erstmals auf gekrümmte Objektoberflächen unter Einbeziehung der im shearografischen Meßsignal enthaltenen Konturneigung angewendet werden.Methods and devices of the type described are basically known to the person skilled in the art (e.g. DE 44 14 287 A1 and additional application for P 44 46 887.3) and therefore need not to be explained in more detail. The patent application P 44 46 887.3 aims at out-of-plane Eliminate parts of shearographic in-plane strain measurement completely separate both parts so that an exact in-plane strain measurement is possible. With this patent application is said in the patent application P 44 46 887.3 plus the additional application for the first time on curved object surfaces, including those in shearographic Inclined contour inclination applied.

Bei der Vorrichtung nach Fig. 1 wird von dem Gedanken ausgegangen, das Objekt 2 vorzugsweise spiegelsymmetrisch aus zwei Richtungen mit zwei Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 zu beleuchten und in diesen Strahlen jeweils einen Verschluß 13 bzw. 14 anzuordnen. Dadurch ist es auf einfache Weise möglich, die Objektoberfläche durch Öffnen bzw. Schließen der Verschlüsse 13, 14 von verschiedenen Seiten her im Grund- oder Belastungszustand zu beleuchten und dann mit der Zweistrahlinterferometer-Anordnung 3 phasenverschobene Shearogramme aufzunehmen. Dabei werden die Shearogramme verschiedenen arithmetischen Operationen unterworfen, um die in-plane und out-of plane Anteile durch rechnerische Methoden voneinander zu trennen. Außerdem können durch Variation der Beleuchtungseinrichtungen und der Shearrichtungen die Gradienten der in-plane Verformungen in verschiedene Richtungen gebildet und zahlenmäßig dargestellt werden.In the device according to FIG. 1, it is assumed that the object 2 is preferably mirror-symmetrically illuminated from two directions with two illuminating beams 11 and 12 and that a shutter 13 or 14 is arranged in each of these beams. This makes it possible in a simple manner to illuminate the object surface by opening or closing the shutters 13, 14 from different sides in the basic or loading state and then to record 3 phase-shifted shea programs with the two-beam interferometer arrangement. The sheagrams are subjected to various arithmetic operations in order to separate the in-plane and out-of-plane components from each other by means of computational methods. In addition, by varying the lighting devices and the shear directions, the gradients of the in-plane deformations in different directions can be formed and represented numerically.

Bei der Vorrichtung nach Fig. 1 werden die beiden Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 der Einfachheit halber durch zwei verschiedene Lichtquellen 1 und 15, insbesondere Laser, erzeugt. Im Hinblick auf Kohärenz und gleiche Wellenlänge erfolgt die Erzeugung beider Strahlen 11, 12 jedoch vorzugsweise mit Hilfe derselben Lichtquelle 1, indem z. B. in den Beleuchtungsstrahl 11 ein zusätzlicher, den Strahl 12 bildender Strahlteiler eingebracht wird. Wahlweise kann auch eine einzige Lichtquelle entsprechend den vorgegebenen Positionen geschwenkt oder umgeleitet werden.In the device according to FIG. 1, for the sake of simplicity, the two illuminating beams 11 and 12 are generated by two different light sources 1 and 15 , in particular lasers. With regard to coherence and the same wavelength, however, the generation of both beams 11 , 12 is preferably carried out using the same light source 1 , for example by B. an additional beam splitter forming the beam 12 is introduced into the illuminating beam 11 . Alternatively, a single light source can be swiveled or redirected according to the specified positions.

Wie Fig. 1 zeigt, liegen die beiden Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 auf beiden Seiten der x,z-Ebene einander gegenüber, wobei die maßgeblichen Winkel mit +θxz und -θxz bezeichnet sind. Die Zweistrahlinterferometer-Anordnung 3 ist so ausgerichtet, daß sie das vom Objekt 2 reflektierte Licht beider Strahlen 11 und 12 empfängt. Die Vershearung und Phasenverschiebung erfolgen auch bei dieser Ausführungsform in bekannter Weise. Dabei wird zuerst der Verschluß 14 geschlossen und der Verschluß 13 geöffnet und das Objekt 2 im Grundzustand unter dem Beleuchtungswinkel +θxz mit dem Strahl 11 beleuchtet. Das Speckle- Interferenzbild, das diese erste Beleuchtung erzeugt, wird vom Rechner 10 mittels des Bildaufnehmers 6a, z. B. einer CCD-Kamera, gespeichert. Die Intensitätsverteilungen werden wie üblich von mehreren, um einen vorher festgelegten Winkel phasenverschobenen Shearogrammen mit der bekannten Phasenschiebetechnik gemessen, und die Phasenwerte ϕ (+θxz)1 werden für jeden Punkt des Speckle-Interferenzfeldes berechnet. Dann wird der Verschluß 13 geschlossen und der Verschluß 14 geöffnet. Damit wird das Objekt durch den weiteren Beleuchtungsstrahl 12 unter dem Beleuchtungswinkel -θxz illuminiert und analog die Phasenverteilung ϕ(+θxz)1 des durch den Beleuchtungsstrahl 12 erzeugten Speckle-Interferenzfeldes im Rechner 10 bestimmt.As shown in FIG. 1, the two illuminating beams 11 and 12 lie opposite one another on both sides of the x, z plane, the relevant angles being denoted by + θ xz and -θ xz . The two-beam interferometer arrangement 3 is oriented in such a way that it receives the light of both beams 11 and 12 reflected by the object 2 . The displacement and phase shift also take place in a known manner in this embodiment. First, the shutter 14 is closed and the shutter 13 is opened and the object 2 is illuminated with the beam 11 in the basic state under the illumination angle + θ xz . The speckle interference image that generates this first illumination is from the computer 10 by means of the image sensor 6 a, z. B. a CCD camera stored. The intensity distributions are measured as usual from a number of shearograms which are phase-shifted by a predetermined angle using the known phase shifting technique, and the phase values ϕ (+ θ xz ) 1 are calculated for each point of the speckle interference field. Then the shutter 13 is closed and the shutter 14 is opened. The object is thus illuminated by the further illuminating beam 12 at the illuminating angle -θ xz and, analogously, the phase distribution θ (+ θ xz ) 1 of the speckle interference field generated by the illuminating beam 12 is determined in the computer 10 .

Nachdem das Objekt 2 belastet ist, verändert sich das Speckle-Interferenzfeld entsprechend. Es werden wiederum die Phasenverteilung ϕ (+θxz)2 für den Beleuchtungsstrahl 11 unter dem Winkel +θxz bei geschlossenem Verschluß 14 und bei offenem Verschluß 13 und weiterhin die Phasenverteilung ϕ (-θxz)2 für den Beleuchtungsstrahl 12 unter dem Winkel -θxz bei geöffnetem Verschluß 14 und bei geschlossenem Verschluß 13 ermittelt und aus den gemessenen Intensitätsverteilungen der phasenverschobenen Shearogramme bestimmt.After the object 2 is loaded, the speckle interference field changes accordingly. Again, the phase distribution ϕ (+ θ xz ) 2 for the illuminating beam 11 at the angle + θ xz with the shutter 14 closed and with the shutter 13 open and the phase distribution ϕ (-θ xz ) 2 for the illuminating beam 12 at the angle - θ xz determined with the closure 14 open and with the closure 13 closed and determined from the measured intensity distributions of the phase-shifted shea programs.

Durch digitale Subtraktion der Phasenverteilungen im unbelasteten bzw. belasteten Zustand des Objekts 2 mittels des Rechners 10 können die relativen Phasenänderungswerte Δ+θxz für den Beleuchtungsstrahl 11 unter dem Winkel +θxz der Lichtquelle 1 ermittelt werden. Ähnlich wie Δ können die relativen Phasenänderungswerte Δ-θxz für den Beleuchtungsstrahl 12 unter dem Winkel -θxz der Lichtquelle 15 nach Gln. (10), (11) und (13) berechnet werden. Die digitale Subtraktion der Phasenverteilungen im unbelasteten bzw. belasteten Zustand des Objekts 2 bei Vershearung in der yz-Ebene und Phasenverschiebung erfolgt analog.By digital subtraction of the phase distributions in the unloaded or loaded state of the object 2 by means of the computer 10 , the relative phase change values Δ + θxz for the illuminating beam 11 can be determined at the angle + θ xz of the light source 1 . Similar to Δ + θ , the relative phase change values Δ -θxz for the illuminating beam 12 at the angle -θ xz of the light source 15 according to Eq. (10), (11) and (13) can be calculated. The digital subtraction of the phase distributions in the unloaded or loaded state of the object 2 in the case of revision in the yz plane and phase shift is carried out analogously.

Durch digitale Addition der Phasenverteilungen im unbelasteten bzw. belasteten Zustand des Objekts 2 mittels des Rechners 10 können die relativen Phasenänderungswerte Δ für den Beleuchtungsstrahl 11 unter dem Winkel +θxz der Lichtquelle 1 ermittelt werden. Ähnlich wie Δ können die relativen Phasenänderungswerte Δ für den Beleuchtungsstrahl 12 unter dem Winkel -θxz der Lichtquelle 15 nach Gln. (10)-(12) berechnet werden.By digitally adding the phase distributions in the unloaded or loaded state of the object 2 by means of the computer 10 , the relative phase change values Δ + θ for the illuminating beam 11 can be determined at the angle + θ xz of the light source 1 . Similar to Δ + θ, the relative phase change values Δ can be used for the illumination beam 12 at the angle -θ xz the light source 15 by Gln. (10) - (12) can be calculated.

Aus dieser Verfahrensweise ergibt sich, daß die Terme δw/δx und δw/δy in Gl. (13) nicht mehr auftreten und damit ausschließlich in ihr die für in-plane Verformungen charakteristischen Größen enthalten sind. Auf der anderen Seite ergibt diese Verfahrensweise die Terme δw/δx und δw/δy mittels Gl. (14) und damit ausschließlich für die out-of-plane Neigungen charakteristische Größen zu deren Bestimmung (Patentanmeldung DE 196 39 213.6).From this procedure it follows that the terms δw / δx and δw / δy in Eq. (13) not occur more and therefore only in it the characteristic of in-plane deformations Sizes are included. On the other hand, this procedure gives the terms δw / δx and δw / δy using Eq. (14) and therefore exclusively for the out-of-plane inclinations characteristic quantities for their determination (patent application DE 196 39 213.6).

Das digitale Subtrahieren bzw. Addieren der Phasenverteilungen beruht auf der Gleichheit der 2 zwischen Beleuchtungs- und Beobachtungsrichtung liegenden Sensitivitätsvektoren in Größe und wechselseitiger Richtung, was für ebene Objekte uneingeschränkt gilt. Für konkav bzw. konvex gekrümmte Objektoberflächen trifft dieser Sachverhalt nur bedingt zu z. B. bei einer kreisförmigen Vertiefung quer zur Belastungsrichtung eines Zugstabes nur für den Kerbgrund, da hier die out-of-plane Neigung der Deformation keine Projektion hat, jedoch nicht für die seitlichen Partien davon.The digital subtraction or addition of the phase distributions is based on the equality of the 2 sensitivity vectors in size between the direction of illumination and observation and mutual direction, which applies to flat objects without restriction. For concave or convexly curved object surfaces, this fact only applies to a limited extent. B. at a circular recess transverse to the direction of loading of a tension rod only for the Notch reason, because here the out-of-plane tendency of the deformation has no projection, however  not for the side parts of it.

Fig. 7 zeigt das Streifenbild der Konturneigung für eine Kugel mittels Vorrichtung nach Fig. 1. Wenn das Bild der beliebig gekrümmten Oberfläche des Prüfobjekts im elektronischen Speicher festgehalten - auch Nullshearogramm genannt - und mit dem Videotakt von den nachfolgenden Bildern der infolge der Lichtweglängenänderung erfaßten gekrümmten Oberfläche als Konturshearogramm bezeichnet im Bildspeicher (frame grabber) 8 subtrahiert wird, bildet sich ein Streifenmuster, das auf dem Monitor 10 sichtbar wird und die Linien konstanter Konturneigung zeigt. Durch die paarweise Drehung der Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 von der x,z- in die y,z-Ebene wird die jeweilige Konturneigung mittels CCD-Kamera aufgenommen. FIG. 7 shows the strip image of the contour inclination for a sphere by means of the device according to FIG. 1. If the image of the surface of the test object of any desired shape is recorded in the electronic memory - also called zero shea program - and with the video clock of the subsequent images of the curved images acquired as a result of the change in light path length If the surface is referred to as a contour heagram in the image memory (frame grabber) 8 , a stripe pattern is formed which is visible on the monitor 10 and shows the lines of constant contour inclination. By rotating the illuminating beams 11 and 12 in pairs from the x, z to the y, z plane, the respective contour inclination is recorded by means of a CCD camera.

Wie oben bei der Meßeinrichtung zur Aufnahme der Shearogramme bereits beschrieben, werden die Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 zur Aufnahme der Shearogramme durch zwei verschiedene Lichtquellen 1 und 15, insbesondere Laser, erzeugt; weiterhin kann eine Lichtquelle mit Strahlteiler für 11 und 12 oder eine Lichtquelle in entsprechende Positionen geschwenkt dazu dienen. Deshalb kann das 2dimensionale in-plane Verformungsgradientenfeld simultan durch das Paar Beleuchtungsstrahlen 11 und 12 in der xz- und in der yz- und die out-of-plane Neigung in z-Richtung Ebene gemessen werden.As already described above for the measuring device for recording the shea programs, the illuminating beams 11 and 12 for recording the shea programs are generated by two different light sources 1 and 15 , in particular lasers; a light source with a beam splitter for 11 and 12 or a light source pivoted into corresponding positions can also serve this purpose. Therefore, the 2-dimensional in-plane deformation gradient field can be measured simultaneously by the pair of illuminating beams 11 and 12 in the xz and in the yz and the out-of-plane inclination in the z-direction plane.

Bei der oben anhand der Vorrichtung nach Fig. 1 erläuterten Verfahrensweise können die Öffnungs- und Schließzeiten der Verschlüsse 13 und 14 so schnell gesteuert werden, daß deren halbe, einfache oder doppelte Frequenz mit der Anregungsfrequenz eines zu Schwingungen angeregten Objekts übereinstimmt, wodurch die in-plane Dehnungen mit dem optoelektronischen Sensor 6a aufgezeichnet werden können. Dazu sind die Verschlüsse 13 und 14 durch akusto- oder elektrooptische Modulatoren an gleicher Stelle im Strahlengang 11 und 12 zu ersetzen. Die schnelle Steuerung der Öffnungs- und Schließzeiten der Verschlüsse 13 und 14 führt zu Echtzeit-Registrierung von reinen in-plane Dehnungen und out-of-plane Neigungen auf gekrümmten Objektoberflächen.In the procedure explained above with reference to the device according to FIG. 1, the opening and closing times of the closures 13 and 14 can be controlled so quickly that their half, single or double frequency coincides with the excitation frequency of an object excited to vibrate, whereby the plane strains can be recorded with the optoelectronic sensor 6 a. For this purpose, the closures 13 and 14 are to be replaced by acousto-optical or electro-optical modulators in the same place in the beam path 11 and 12 . The rapid control of the opening and closing times of the closures 13 and 14 leads to real-time registration of pure in-plane expansions and out-of-plane inclinations on curved object surfaces.

Fig. 8 zeigt eine erste Ausführungform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit vier Beleuchtungsstrahlen, bei der Verschlüsse 18 und 19 die Lichtstrahlen 16 und 17 für die wechselseitige Beleuchtung der beliebig gekrümmten Oberfläche in der y,z-Ebene (+θyz bzw. -θyz steuern. Fig. 9 eine zweite Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit drei Beleuchtungsstrahlen und einer verschiebbaren, aus zwei Shearing-Spiegeln gebildeten Baueinheit und Fig. 10 und 11 je eine dritte und vierte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung mit je zwei Shearing-Einheiten. Fig. 8 on the caps 18 and 19 shows a first embodiment of the device according to the invention with four light beams, the light beams 16 and 17 for mutual illumination of arbitrarily curved surface in the y, z plane (+ θ yz or -θ yz control . Fig. 9 shows a second embodiment of the device according to the invention with three light beams and a movable, formed by two mirrors shearing assembly and FIG. 10 and 11 each have a third and fourth embodiment of the device according to the invention with two shearing units.

Claims (18)

1. Verfahren und Vorrichtung zur shearografischen Ermittlung von Ableitungen der in-plane und out-of-plane Verformungen einer beliebig gekrümmten Oberfläche eines Objekts (2) in wenigstens eine ausgewählte Richtung, dadurch gekennzeichnet, daß mit der Kenntnis der örtlichen Neigungen des untersuchten Objektes, die durch eine shearographische Messung gewonnen wird, die systematischen Abweichungen der in-plane und out-of-plane Verformungsgradienten der shearografischen Meßtechnik, die auf die Neigung der Kontur zurückzuführen sind, berücksichtigt und in die tangentiale und normale Richtung bezüglich der jeweiligen örtlichen Objektoberflächenneigung transformiert werden, wobei die Messung der Verformungsgradienten sowie der Konturneigungen mittels eines Meßaufbaus realisiert wird, indem die Objektoberfläche mit kohärentem Licht einer Lichtquelle (1 und 15) bestrahlt wird, das von dieser diffus reflektiertes Licht mittels einer Interferometer- Anordnung (3) und eine optische Achse (z) aufweisenden optischen Systems in einer Bildebene (6) abgebildet und von der Objektoberfläche wenigstens ein Null-Shearogramm und ein Belastungs-Shearogramm aufgenommen wird, wobei zur Ermittlung reiner in-plane Dehnungen oder out-of-plane Neigungen die beliebig gekrümmte Objektoberfläche aus unterschiedlichen Richtungen (+θxz' -θxz bzw. +θyz' -θyz) nacheinander (sequentiell) bestrahlt wird, wobei die Bestrahlung aus zwei Richtungen (+θxy' -θxy) vorzugsweise spiegelsymmetrisch zu einer gemeinsamen, die optische Achse (z) einschließenden ersten Ebene (xz) erfolgt, während ggf. die Bestrahlung aus der dritten (bzw. vierten) Richtung (+θxz (bzw. -θyz)) vorzugsweise in einer senkrecht zur ersten Ebene liegenden, die optische Achse (z) einschließenden zweiten Ebene (yz) erfolgt, und die reinen in-plane oder out-of- plane Anteile durch Kombination der dadurch erhaltenen Shearogramme ermittelt werden und indem vor und/oder nach der Belastung die Objektoberfläche mit kohärentem Licht einer Lichtquelle (1 und 15) bestrahlt wird, das von dieser diffus reflektiertes Licht mittels einer Interferometer-Anordnung (3) durch eine optische Achse (z) aufweisendes optisches System in einer Bildebene (6) abgebildet wird, wobei zur Ermittlung der Neigung der Kontur durch mindestens eine der folgenden Maßnahmen eine Änderung der Lichtweglängen von der Beleuchtungsquelle bis zur Bildebene erzeugt wird, welche die Neigung der Kontur wiedergibt, wobei die eingestellte Überlagerung der Bildpunkte vorzugsweise in der Ebene der Beleuchtungsrichtungen +θxz, und -θxz bzw. +θyz und -θyz liegen.1. Method and device for shearographically determining derivatives of the in-plane and out-of-plane deformations of an arbitrarily curved surface of an object ( 2 ) in at least one selected direction, characterized in that with knowledge of the local inclinations of the examined object, which is obtained by a shearographic measurement, the systematic deviations of the in-plane and out-of-plane deformation gradients of the shearographic measurement technology, which are due to the inclination of the contour, are taken into account and transformed into the tangential and normal direction with respect to the respective local object surface inclination , wherein the measurement of the deformation gradients and the contour inclinations is realized by means of a measuring setup by irradiating the object surface with coherent light from a light source ( 1 and 15 ), the light diffusely reflected by this by means of an interferometer arrangement ( 3 ) and an op optical axis (z) having an optical system in an image plane ( 6 ) and at least one zero shea program and one load shea program are recorded from the object surface, the arbitrarily curved one being used to determine pure in-plane expansions or out-of-plane inclinations Object surface from different directions (+ θ xz '-θ xz or + θ yz ' -θ yz ) is sequentially irradiated, the irradiation from two directions (+ θ xy '-θ xy ) preferably mirror-symmetrically to a common, the first plane (xz) enclosing the optical axis (z) takes place while the radiation from the third (or fourth) direction (+ θ xz (or -θ yz )) preferably takes place in a second plane (yz) lying perpendicular to the first plane, including the optical axis (z), and the pure in-plane or out-of-plane Shares are determined by combining the sheagrams thus obtained and by irradiating the object surface with coherent light from a light source ( 1 and 15 ) before and / or after the exposure, the light diffusely reflected by the latter by means of an interferometer arrangement ( 3 ) by an optical one Optical system having axis (z) is imaged in an image plane ( 6 ), whereby to determine the inclination of the contour, at least one of the following measures produces a change in the light path lengths from the illumination source to the image plane, which reflects the inclination of the contour, wherein the set superimposition of the pixels is preferably in the plane of the illumination directions + θ xz , and -θ xz or + θ yz and -θ yz . 2. Verfahren nach anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bestrahlung aus vier Richtungen erfolgt, wobei die Bestahlung aus der dritten und vierten Richtung (+θyz bzw. -θyz) in der zweiten Ebene (y,z) stattfindet.2. The method according to claim 1, characterized in that the irradiation takes place from four directions, the irradiation from the third and fourth directions (+ θ yz and -θ yz ) takes place in the second plane (y, z). 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Winkel, unter denen die Bestrahlungen aus drei Richtungen erfolgen, vorzugsweise gleich sind, und daß die Winkel (±θxz bzw. ±θyz), unter denen die Bestrahlungen aus vier Richtungen erfolgen, in jeder Ebene (x,z bzw. y,z) jeweils untereinander vorzugsweise gleich sind.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the angles at which the irradiations take place from three directions are preferably the same, and that the angles (± θ xz or ± θ yz ) at which the irradiations from four Directions take place in each plane (x, z or y, z) are preferably identical to one another. 4. Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß die Kombination der Shearogramme durch Subtraktion oder Addition relativer Phasenänderungen erfolgt.4. The method according to the above claims, characterized in that the combination of Shearograms are done by subtracting or adding relative phase changes. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die aus den drei oder vier unterschiedlichen Richtungen erfolgende Bestrahlung der beliebig gekrümmten Objektoberfläche mit den erforderlichen Phasenschiebungen erfolgt, für jede Richtung die im Referenz- bzw. im unbelasteten und im belasteten Zustand des Objekts (2) erhaltenen Abbildungen digital gespeichert werden und die daraus abgeleiteten relativen Phasenänderungen addiert oder subtrahiert werden.5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the irradiation of the arbitrarily curved object surface takes place from the three or four different directions with the required phase shifts, for each direction in the reference or in the unloaded and in the loaded state Images of the object ( 2 ) obtained are stored digitally and the relative phase changes derived therefrom are added or subtracted. 6. Vorrichtung zur shearografischen Ermittlung von Ableitungen der Verformungen auf einer beliebig gekrümmten Oberfläche eines Objekts (2) in ausgewählte Shearrichtungen, enthaltend: Kohärentes Licht erzeugende Mittel (1 und 15) zur Bestrahlung der Objektoberfläche aus unterschiedlichen Richtungen (+θxz' -θxz bzw. +θyz' -θyz), eine Bildebene (6), ein eine optische Achse (z) und wenigstens eine Interferometer-Anordnung (3) aufweisendes optisches System zur Abbildung der beliebig gekrümmten Objektoberfläche in der Bildebene (6) und Mittel zur Ermittlung reiner in-plane Dehnungen und/oder out-of-plane Neigungen, nach Patent (Patentanmeldung P 44 46 887.3), dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zur Bestrahlung des Objekts (2) aus wenigstens drei Richtungen (+θxz' -θxz' +θyz) eingerichtet sind, wobei die Bestrahlung aus zwei Richtungen (+θxz' -θxz.) vorzugsweise spiegelsymmetrisch zu einer gemeinsamen, die optische Achse (z) einschließenden ersten Ebene (x,z) erfolgt, während die Bestrahlung aus den anderen Richtungen (+θyz' -θyz.) in einer senkrecht zur ersten Ebene liegenden, die optische Achse (z) einschließenden zweiten Ebene (y,z) erfolgt.6. Device for shearographically determining derivatives of the deformations on an arbitrarily curved surface of an object ( 2 ) in selected shear directions, comprising: Coherent light-generating means ( 1 and 15 ) for irradiating the object surface from different directions (+ θ xz '-θ xz or + θ yz '-θ yz ), an image plane ( 6 ), an optical system having an optical axis (z) and at least one interferometer arrangement ( 3 ) for imaging the arbitrarily curved object surface in the image plane ( 6 ) and means to determine pure in-plane strains and / or out-of-plane inclinations, according to patent (patent application P 44 46 887.3), characterized in that the means for irradiating the object ( 2 ) from at least three directions (+ θ xz '- θ xz '+ θ yz ) are set up, the radiation from two directions (+ θ xz ' -θ xz .) preferably mirror-symmetrically to a common one which includes the optical axis (z) Most plane (x, z) takes place, while the radiation from the other directions (+ θ yz '-θ yz .) takes place in a second plane (y, z) which is perpendicular to the first plane and includes the optical axis (z). 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel drei oder vier Lichtquellen (1e, 1f, 1g bzw. 1a, 1b, 1c, 1d) aufweisen, von denen zwei zur Bestrahlung des Objekts (2) in der ersten Ebene (x,z) und die anderen zur Bestrahlung des Objekts (2) in der zweiten Ebene (y,z) bestimmt sind.7. The device according to claim 6, characterized in that the means have three or four light sources ( 1 e, 1 f, 1 g or 1 a, 1 b, 1 c, 1 d), two of which for irradiating the object ( 2 ) in the first plane (x, z) and the others for irradiating the object ( 2 ) in the second plane (y, z). 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Interferometer- Anordnung (3) zwei parallel zur optischen Achse (z) verschiebbare, zur Vershearung in zueinander senkrechte Richtungen eingerichtete Shearing-Elemente (5a, 5b) aufweist.8. The device according to claim 7, characterized in that the interferometer arrangement ( 3 ) has two shearing elements ( 5 a, 5 b) which can be displaced parallel to the optical axis (z) and are arranged for perpendicularization in directions perpendicular to one another. 9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Interferometer- Anordnung (3) zwei Shearing-Einheiten (5a bzw. 5c, 7a, 4 und 5b bzw. 5d, 7b, 4), 1 Strahlteiler- Element (7), 2 Phasenschiebeeinrichtungen (4) und 2 Kameras (6a, 6b) aufweist.9. The device according to claim 7, characterized in that the interferometer arrangement ( 3 ) two shearing units ( 5 a or 5 c, 7 a, 4 and 5 b or 5 d, 7 b, 4 ), 1 beam splitter - Element ( 7 ), 2 phase shifting devices ( 4 ) and 2 cameras ( 6 a, 6 b). 10. Vorrichtungen nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß den Shearing-Einheiten ein gemeinsames Phasenschiebeelement (4) zugeordnet ist.10. The device according to claim 9, characterized in that the shearing units are assigned a common phase shift element ( 4 ). 11. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Interferometer- Anordnung (3b, 3c) einen Strahlteiler (7), der die vom Objekt (2) kommenden Lichtstrahlen (29) in zwei Lichtbündel (30, 31) aufteilt, und zwei je einem dieser Lichtbündel (30, 31) zugeordnete Shearing-Einheiten (3b, 3c) aufweist.11. The device according to claim 7, characterized in that the interferometer arrangement ( 3 b, 3 c) a beam splitter ( 7 ) which divides the light beams ( 29 ) coming from the object ( 2 ) into two light beams ( 30, 31 ), and each one of these two light bundles (30, 31) associated with shearing units (3 b, 3 c) has. 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß jede Interferometer- Einheit mit je einem separaten Mittel (6a, 6b) zur ermittlung der Dehnungen und der Konturneigung verbunden ist.12. Device according to one of claims 9 to 11, characterized in that each interferometer unit is each connected to a separate means ( 6 a, 6 b) for determining the strains and the contour slope. 13. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß mittels der Vorrichtung zur Messung der Ableitungen der Verformungen eine Änderung der Lichtwellenlängen von der Beleuchtungsquelle bis zur Bildebene erzeugbar ist, indem entweder die Aufweitungsoptik einschließlich oder ausschließlich der Lichtquelle und der Stellglieder zur Lenkung des Lichtes in einer bekannten Richtung (vorzugsweise in der optischen Achse (z)) um einen bekannten Betrag verschoben wird oder indem die Interferometer- Anordnung (3) zusammen der Bildebene (6) in der optischen Achse (z) um einen bekannten Betrag verschoben wird oder indem diese beiden Möglichkeiten miteinander kombiniert werden.13. The device and method according to the above claims, characterized in that by means of the device for measuring the derivatives of the deformations a change in the light wavelengths from the illumination source to the image plane can be generated by either the expansion optics including or only the light source and the actuators for steering the Light is shifted in a known direction (preferably in the optical axis (z)) by a known amount or by the interferometer arrangement ( 3 ) together with the image plane ( 6 ) in the optical axis (z) is shifted by a known amount or by combining these two options. 14. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß die durch die Vorrichtung des Anspruches 13 zu messenden Gradienten der Kontur bzw. Neigungen vorzugsweise in der Richtung ermittelt werden, die mit den gemessenen in-plane Verformungsgradienten übereinstimmt, indem die eingestellte Überlagerung der Bildpunkte mittels der Interferometeranordnung (3) vorzugsweise in der Ebene der Beleuchtungs- bzw. Verschärungseben der oben genannten Richtungen +θxz und -θxz bzw. +θyz und -θyz liegen.14. Device and method according to the above claims, characterized in that the gradients of the contour or inclinations to be measured by the device of claim 13 are preferably determined in the direction which corresponds to the measured in-plane deformation gradients by the set superimposition of the Pixels by means of the interferometer arrangement ( 3 ) are preferably in the plane of the illumination or tightening planes of the above-mentioned directions + θ xz and -θ xz or + θ yz and -θ yz . 15. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß die Messung der Gradienten der Kontur bzw. Neigungen in den einzelnen, unterschiedlichen Richtungen gleichzeitig bei einmaliger Änderung der Lichtweglängen von der Beleuchtungsquelle bis zur Bildebene (vorzugsweise nach den Verfahren von Anspruch 13) durch die Verwendung von zwei Interferometereinheiten (3a, 3b nach den Ansprüchen 8, 9 und/oder 11) mit unterschiedlicher Überlagerung der Bildpunkte erfolgen kann.15. The device and method according to the above claims, characterized in that the measurement of the gradient of the contour or inclinations in the individual, different directions simultaneously with a single change in the light path lengths from the illumination source to the image plane (preferably according to the method of claim 13) the use of two interferometer units ( 3 a, 3 b according to claims 8, 9 and / or 11) with different superimposition of the pixels can take place. 16. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß die Messung der Gradienten der Kontur durch Variation der Lichtwellenlänge bzw. der Laserlichtfrequenz die Information über die Kontur ergibt.16. The device and method according to the above claims, characterized in that the Measurement of the gradient of the contour by varying the light wavelength or the laser light frequency gives the information about the contour. 17. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß durch Überlagerung des Objektes mit einer ebenfalls mit kohärentem Licht beleuchteten und vorzugsweise diffus reflektierenden Referenzoberfläche in einer Bildebene (6) die Differenzen der Verformung bezüglich dieser Referenzoberfläche dargestellt werden, indem die Überlagerung durch eine entsprechende Größe der Shearrichtung durch den/die Spiegel (5) in der Interferometer-Anordnung (3) realisiert wird und wobei die Referenzoberfläche vorzugsweise eben und zwischen den Aufnahmen vor und nach der Belastung des untersuchten Objektes unverändert bleibt und nicht mit einer Belastungsänderung beaufschlagt werden soll, so daß aus diesen Differenzen entsprechend dem Verfahren die Kontur oder Verformung des Objektes ermittelt wird und durch weitere Mittel (6, 8, 10) mit numerischen Verfahren (z. B. Differentiation, Integration) bearbeitet werden kann.17. The device and method according to the above claims, characterized in that by superimposing the object with a likewise illuminated with coherent light and preferably diffusely reflecting reference surface in an image plane ( 6 ), the differences in the deformation with respect to this reference surface are represented by the overlay by a corresponding size of the direction of shear is realized by the / the mirrors (5) in the interferometer arrangement (3) and wherein the reference surface is preferably planar and remains unchanged between the recordings before and after the load of the object under investigation and is not to be subjected to a load change , so that the contour or deformation of the object is determined from these differences according to the method and can be processed by further means ( 6, 8, 10 ) with numerical methods (e.g. differentiation, integration). 18. Vorrichtung und Verfahren nach obigen Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß die die Frequenzen der sequentiellen Beleuchtungszeiten des Objektes (z. B. realisiert durch die Öffnungs- und/oder Verschlußzeiten der Verschlüsse (13) und (14)) mit dem n-ten Teil oder dem Vielfachen der Anregungsfrequenz des zur Schwingung angeregten Objektes übereinstimmen können.18. Device and method according to the above claims, characterized in that the frequencies of the sequential illumination times of the object (z. B. realized by the opening and / or closing times of the closures ( 13 ) and ( 14 )) with the nth Part or multiple of the excitation frequency of the object excited to oscillate can match.
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