DE19707093A1 - Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer Strukturen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer StrukturenInfo
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von integrierten planaren
optischen Strukturen nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
In der Nachrichtentechnik werden in Netzwerken faserförmige Lichtwellenleiter
zusammen mit optischen und optoelektronischen Bauteilen zur Übertragung von
Daten eingesetzt. Die Bauteile bestehen aus aktiven Komponenten (Sender, Em
pfänger), steuerbaren Komponenten (z. B. Schalter) und passiven Komponenten
(z. B. Verzweiger, Koppler), die u. a. die Aufgabe haben, Lichtsignale zwischen
verschiedenen Wellenleitern aufzuteilen oder zusammenzufassen.
Die Realisierung dieser Bauteile erfolgt mit Hilfe der Planartechnik, die im
wesentlichen aus Prozeßschritten zur Herstellung elektronischer Halbleiterbau
elemente besteht.
Für moderne optoelektronische Nachrichtensysteme sind verschiedene Typen von
Lichtwellenleitern entwickelt worden. Stufenprofile, sog. Kern-Mantel-Licht
wellenleiter bestehen aus einem Mantel und einem Kern, dessen Material
eine höhere Brechzahl als der Mantel hat. Dadurch werden Lichtstrahlen bei
flachem Einfallswinkel an der Grenzfläche durch Totalreflexion zwischen Kern
und Mantel im Kern geführt. Bessere Übertragungseigenschaften besitzen sog.
Gradienten-Lichtwellenleiter, die einen nach außen parabelförmig abnehmenden
Brechungsindex besitzen. Der Querschnitt im lichtführenden Teil der Faser legt
die Übertragungscharakteristik und damit den Schwingungstyp (Mode) bei einer
vorgegebenen Wellenlänge fest. Die zur Übertragung von Daten bevorzugte
Lichtwellenlänge befinden sich in nahen Infrarot in einem Bereich um 1 µm.
Unterschieden wird dabei die Monomode-Faser, die einen Kerndurchmesser im
Bereich der Lichtwellenlänge besitzt und die Multimode-Faser, bei der der
Kerndurchmesser ein vielfaches der Lichtwellenlänge beträgt.
Mit unterschiedlichen Anforderung sind diese Datenübertragungssysteme u. a. für
den Mobilverkehr interessant. Beispielsweise sollte sich dort das Trägermaterial
an die jeweiligen Bedürfnisse in Flugzeugen, Schiffen und Autos variabel
auswählen lassen.
Es ist bekannt, daß aktive und passive optische Bauteile durch die Herstellungs
verfahren der Mikromechanik und Halbleitertechnologie realiserbar sind.
Mittlerweile sind Bauteile auf Substraten aus LiNbO3, Glas, Silicium, GaAs und
InP auch kommerziell erhältlich.
Herstellungsverfahren von integrierten optischen Wellenleitern wird in den
Patentschriften DE 42 07 207, DE 42 17 526 und US 5311604 beschrieben. Sie
enthalten Prozeßfolgen, mit denen Wellenleiterstrukturen in Polymeren
hergestellt werden. Die Strukturen werden mit Hilfe der Abformtechnik
übertragen, wobei zunächst durch Galvanoabformung eine Negativform aus
Nickel hergestellt wird. Durch Abformverfahren wie z. B. Spritzgießen werden
mit polymeren Werkstoffen Positivformen hergestellt. Die zur Wellenleitung
vorgesehenen Vertiefungen werden mit Materialien gefüllt, die den Faserkern
bilden, wobei das überschüssige Material mit Hilfe einer Abdeckplatte aus
gepreßt wird. Zur Herstellung solcher Strukturen sind dabei meist aufwendige
Verfahrensschritte oder kostspielige Apparaturen notwendig. Ein Nachteil ist
z. B. beim Spritzgußverfahren, daß es sich nur für einen engen Kreis von Substrat
materialien anwenden läßt.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein vom Substratmaterial
unabhängiges und kostengünstiges Verfahren für integrierte planare optische
Strukturen anzugeben, mit dem die Strukturen mit geringem technischen
Aufwand durch bloßes Einfließen von Photopolymermaterial in die dafür
vorgesehenen Strukturen hergestellt werden.
Die Erfindung wird durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1
gelöst. Die Unteransprüche stellen vorteilhafte Weiterbildungen dar.
Die Erfindung hat den Vorteil, daß durch wenige Prozeßschritte auf beliebigen
Substraten komplexe Strukturen optischer Bauelemente hergestellt werden.
Vorausgesetzt ist lediglich, daß die Oberfläche der Substrate bereits ausreichend
glatt vorliegt oder sich durch ein Planarisierungsverfahren glätten läßt.
Wesentlich dabei ist außerdem, daß die Dimensionierung der optischen
Strukturen z. B. für eine Anwendung bei einem Wellenleiter als Multimode-Faser,
mit Abmessungen bis zu 100 µm, auf einer planaren Oberfläche durchgeführt
werden und sich somit die in der Halbleitertechnologie gängigen Verfahren
anwenden lassen. Zudem sind im Prozeßverlauf einige Verfahrensschritte
enthalten, die durch vorteilhafte Kombinationen eine Vereinfachung und damit
auch Verbilligung des Herstellungsprozesses darstellen. Beispielsweise wird mit
einem Verfahrensschrift sowohl die Aushärtung des Photopolymermaterials des
Lichtwellenleiters als auch das Belichten der Lackmaskierung, die sich
anschließend ablösen läßt, bewirkt. Eine weitere Vereinfachung und ein
wesentlicher Bestandteil des Verfahrens ist das Einbringen des flüssigen
Photopolymers lokal in Vorratswannen, von denen aus das Befüllen der dafür
vorgesehenen Strukturgräben durch Kapillarkräfte geschieht. Die Vorratswannen
befinden sich in Verbindung mit den zu füllenden Gräben und enthalten die zum
vollständigen Befüllen notwendige Menge an flüssigem Photopolymermaterial.
Das lokale Befüllen geschieht beispielsweise aus einer dafür geeigneten Pipettier
einrichtung. Ein Überlaufen des Polymers über die Seitenwände wird durch
geeignete Photolackauswahl infolge von Oberflächenspannung vermieden, indem
sich Lack und Polymer nicht benetzend verhalten. Dabei sind Strukturgrößen
über einen Bereich von ca. 1-100 µm herstellbar, die bei den verwendeten
Lichtwellenlängen sowohl die Monomoden- und Multimodenbetrieb erlaubt.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels unter
Bezugnahme auf schematische Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt:
Fig. 1 ein als star coupler ausgebildetes Bauelement mit angrenzenden
Vorratswannen.
Fig. 2a-f die Prozeßfolge zur Herstellung der Wellenleiter-Strukturen.
Im Ausführungsbeispiel werden die Verfahrensschritte zur Herstellung eines
Sternkopplers beschrieben, mit dem die Teilnehmer eines Sternnetzes
miteinander verbunden werden. Dieses Bauteil vermischt das Licht aller
Teilnehmerleitungen gleichmäßig, so daß das von einem Teilnehmer ausgesandte
Lichtsignal zu einem gewissen Teil bei jedem Teilnehmer ankommt. Im Beispiel
ist ein 8 × 8 star coupler dargestellt (Fig. 1). Die Figur zeigt die Grabenstrukturen 1,
die im mittleren Bereich durch einen Wellenleiter ausgebildet ist, der zu beiden
Seiten fächerförmig in acht Kanäle aufspaltet. An beiden Enden befinden sich die
Vorratswannen 2, in die das flüssiges Photopolymermaterial eingefüllt wird. Die
Herstellung benötigten Verfahrensschritte werden im folgenden beschrieben und
in einem Schnitt entlang der Linie 3 detailliert dargestellt (Fig. 2). Auf einem Sub
stratmaterial 4 wird ganzflächig eine Schicht 5 mit geringerem Brechungsindex
als der des Lichtwellenleiters, beispielsweise eine ca. 2 µm dicke Siliziumdioxid
schicht, abgeschieden (Fig. 2a). Auf diese Oberfläche wird eine bis zu 100 µm
dicke Photolackschicht 6 aufgebracht (Fig. 2b). Durch Kontaktbelichtung mittels
einer Maske und einem Entwicklungsschritt wird die Lackschicht strukturiert und
eine Grabenstruktur 7 mit möglichst senkrechten Seitenwänden ausgebildet
(Fig. 2c). In diesem Schritt werden außerdem die Vorratswannen 2 strukturiert,
die in der Figur vor und hinter der Bildebene liegen. Diese werden mit flüssigem
Photopolymermaterial befüllt, das durch Kapillarkraft in die Gräben einfließt,
wobei durch Oberflächenspannung das Photopolymermaterial 8 die Berandung
der Strukturgräben nicht überschreitet (Fig. 2d). Durch Belichten der Oberfläche
wird das Photopolymermaterial ausgehärtet und der umgebende Lack belichtet.
Der belichtete Photolack wird anschließend mit einem geeigneten Entwickler
abgelöst (Fig. 2e). Um eine vollständige Aushärtung der Wellenleiterstruktur zu
erreichen, wird eine Nachbelichtung vorgenommen. Eine Deckschicht 9 ebenfalls
aus Photopolymermaterial, das jedoch einen geringeren Brechungsindex als das
Material der Wellenleiterstruktur besitzt, umschließt den Wellenleiter an den
Seitenflanken und der Oberfläche (Fig. 2f). Durch eine weiter Belichtung wird das
Material vollständig ausgehärtet. Üblicherweise werden durch Zerteilen der auf
einem Substrat angeordneten Koppler die zur Befüllung der Strukturen
benötigten Vorratswannen abgetrennt.
Die Erfindung ist nicht auf das angegebene Ausführungsbeispiel beschränkt, so
daß zur Herstellung von optischen Strukturen auch andere Materialien verwendet
werden.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer Strukturen mittels
eines photolithographischen Prozesses, dadurch gekennzeichnet,
- - daß durch einen Lithographieschritt Strukturgräben mit angrenzenden Vorratswannen für planare optische Strukturen auf einem Substrat Material gebildet werden,
- - daß die Strukturgräben mit flüssigem Photopolymermaterial aus Vorrats wannen gefüllt werden, und
- - daß das Photopolymermaterial ausgehärtet wird und durch eine Mantel schicht umgeben wird.
2. Verfahren zur Herstellung planarer optischer Strukturen nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß auf eine Substratoberfläche eine Schicht mit
geringerem Brechungsindex als das Photopolymermaterial aufgebracht wird.
3. Verfahren zur Herstellung planarer optischer Strukturen nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß im Lithographieschritt eine ein- oder mehrlagige
Lackschicht verwendet wird.
4. Verfahren zur Herstellung planarer optischer Strukturen nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß flüssiges Photopolymermaterial durch
Kapillarkräfte aus Vorratswannen in die Strukturgräben einfließt.
5. Verfahren zur Herstellung planarer optischer Strukturen nach Anspruch 1
und 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Lack zur Bildung der Strukturgräben
verwendet wird, der ein Überlaufen des Photopolymers verhindert.
6. Verfahren zur Herstellung planarer optischer Strukturen nach Anspruch 1
und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Mantelschicht eine geringere Brechzahl
aufweist als das Photopolymermaterial.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997107093 DE19707093A1 (de) | 1997-02-24 | 1997-02-24 | Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer Strukturen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1997107093 DE19707093A1 (de) | 1997-02-24 | 1997-02-24 | Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer Strukturen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19707093A1 true DE19707093A1 (de) | 1998-09-03 |
Family
ID=7821156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1997107093 Withdrawn DE19707093A1 (de) | 1997-02-24 | 1997-02-24 | Verfahren zur Herstellung integrierter planarer optischer Strukturen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19707093A1 (de) |
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