DE19648999C2 - Apparatus for cleaning, coating and / or activation of polymer surfaces - Google Patents

Apparatus for cleaning, coating and / or activation of polymer surfaces

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Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Reinigung, Beschichtung und/oder Aktivierung von Kunststoffoberflächen mittels Hochdruckplasma nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. The invention relates to a device for cleaning, coating and / or activation of polymer surfaces by means of high pressure plasma according to the preamble of claim 1.

Gattungsgemäße Vorrichtungen und Verfahren werden beispielsweise eingesetzt, um Oberflächen zu reinigen, zu beschichten oder, insbesondere Kunststoffoberflächen, zu aktivieren. Generic devices and methods are for example used to clean surfaces to be coated or, in particular to enable plastic surfaces. Entsprechende Vorrichtungen und Verfahren beschreiben die Zeit schriftenartikel "Pulsed barrier discharges for thin film production at atmospheric pressure"', von U. Reitz, JGH Salge und R. Schwarz, veröffentlicht in Surface and Coatings Technology, 59 (1993) 144-147 und "Atmospheric pressure gas discharges for surface treatment'" von K. Pochner, W. Neff und R. Lebert, erschienen in Surface & Coatings Technology, 74-75 (1995), 394-398. Corresponding devices and methods describe the time writing articles "Pulsed barrier discharges for thin film production at atmospheric pressure '", by U. Reitz, JGH algae and R. Schwarz, published in Surface and Coatings Technology, 59 (1993) 144-147 and " atmospheric pressure gas discharges for surface treatment '' by K. Pochner, W. Neff and R. Lebert, published in Surface & Coatings Technology, 74-75 (1995), 394-398. Insbesondere im letztgenannten Artikel wird eine Vorrichtung zur Erzeugung von Gasentladungen zum Zwecke der Oberflächenbehandlung beschrieben, welche bei Atmosphärendruck arbeitet, wobei Atmosphärendruck als Hochdruck bezeichnet wird, da die herkömmlichen Plasmaentladungen (Niederdruckplasmen) in Vakuumkammern bei sehr geringem Druck stattfinden. Particularly in the latter, an apparatus for producing gas discharges will be described for the purpose of surface treatment, which operates at atmospheric pressure, atmospheric pressure is referred to as high-pressure, since the conventional plasma discharge (low-pressure plasmas) take place in vacuum chambers at very low pressure. Für den industriellen Einsatz hat das bei Atmosphärendruck betriebene Hochdruckplasma den Vorteil, daß die zu behandelnden Oberflächen nicht von der Fertigungsstraße genommen, in die Vakuumkammer gebracht und nach der Behandlung wieder in den Fertigungsprozeß zurückgegeben werden müssen. For industrial use the system operated at atmospheric pressure high-pressure plasma has the advantage that the need not to be taken surfaces to be treated on the production line is brought into the vacuum chamber and returned to the manufacturing process after the treatment. Vielmehr kann die Hochdruckbehandlung im kontinuierlichen Verlauf des Fertigungsprozesses stattfinden. Rather, the high-pressure treatment may take place in a continuous course of the manufacturing process.

Die DE 34 26 410 A1 beschreibt einen Schweißbrenner für das Plasma-MIG-Schweißen, in welchem eine abschmelzende Drahtelektrode geführt ist, an der ein zum Werkstück reichender MIG-Lichtbogen ansetzt. The DE 34 26 410 A1 describes a welding torch for plasma-MIG welding in which a consumable wire electrode is guided, on the one reaching to the workpiece MIG arc attaches. Das Plasma hat hier allerdings nur die Funktion eines Schutzgases, welches den Lichtbogen einhüllt, um Zutritt von Sauerstoff zum Schmelzbad zu verhindern. The plasma was here but only the function of a protective gas which envelops the arc to prevent access of oxygen to the molten bath. Darüberhinaus ist diese Vorrichtung nicht gattungsgemäß, da der Schweißvorgang werkstückzerstörend ist und ein Schweißgerät nicht zur Behandlung von Kunststoffoberflächen, insbesondere zu deren Reinigung, Beschichtung und Aktivierung geeignet ist. Moreover, this device is not generically, since the welding operation is destructive workpiece and a welding device is not suitable for the treatment of plastic surfaces, in particular for their cleaning, coating and activation.

Die weiter oben genannten bekannten Vorrichtungen weisen jedoch den Nachteil auf, daß die zu behandelnde Oberfläche durch den räumlichen Bereich geführt werden muß, in dem das Plasma erzeugt wird. However, the known devices mentioned above have the disadvantage that the surface has to be guided to be treated by the spatial region in which the plasma is generated. Je nach Gestaltung der Vorrichtung bildet die zu behandelnde Oberfläche sogar eine Elektrode der Plasmaerzeugungsvorrichtung. Depending on the design of the device, the surface to be treated even forms an electrode of the plasma generating device. Die Behandlung von Oberflächen, welche nicht in die Vorrichtung eingebaut oder durch sie geführt werden können, beispielsweise große, räumlich geformte Metallteile, ist in diesen Vorrichtungen nicht möglich. The treatment of surfaces, which can not be built into the device or out through it, for example, large, spatially shaped metal parts, is not possible in these devices.

Es besteht daher die Aufgabe, eine Vorrichtung zur Reinigung, Beschichtung und/oder Aktivierung von Kunststoffoberflächen mittels Hochdruckplasma so weiterzubilden, daß auch die Behandlung von großen und unförmigen Oberflächen möglich ist. It is therefore the object to provide a device for cleaning, coating and / or activation of polymer surfaces by means of high pressure plasma so further develop that the treatment of large and bulky surfaces is possible.

Gelöst wird diese Aufgabe mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruches 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind den Unteransprüchen entnehmbar. This object is achieved with the characterizing features of claim 1. Advantageous embodiments are the dependent claims.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert, welche einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung zeigt. An embodiment of the invention will be explained in more detail below with reference to the drawing, which shows a cross section through an inventive device.

Die Vorrichtung weist im wesentlichen ein zylindrisches Gehäuse 7 mit einem hinteren Ende 8 und einem vorderen Ende 9 auf. The device essentially comprises a cylindrical body 7 with a rear end 8 and a front end. 9 Entlang seiner Außenseite 19 ist dieses Gehäuse 7 mit peripher verlaufenden Kühlrippen 20 versehen. Along its outer side 19 of this housing is provided with peripherally extending cooling fins 20. 7 Das Gehäuse 7 besteht aus einem leitenden Material wie Metall, vorzugsweise Stahl oder ein Leichtmetall. The housing 7 is made of a conductive material such as metal, preferably steel or a light metal.

Im Bereich seines vorderen Endes 9 verjüngt sich das zylindrische Gehäuse 7 und weist im Bereich seiner Zylinderachse 10 eine als Gasauslaß 6 dienende Öffnung auf. In the area of its front end 9, the tapered cylindrical housing 7 and has a gas outlet 6 serving as opening in the area of its cylindrical axis 10th Diese Öffnung wird durch einen Stutzen 30 gebildet, an den auch ein Schlauch aufgesteckt werden kann. This opening is formed by a neck 30 to which a hose can be attached. Im Bereich seines hinteren Endes 8 trägt das Gehäuse 7 einen Flansch 22 , welcher Kanäle und Zuführungen aufweist, die weiter unten beschrieben werden. In the area of its rear end 8, the housing carries a flange 22 7, which comprises channels and additions that are further described below.

Im Inneren des Gehäuses 7 befindet sich ein zur Achse 10 axialsymmetrisch angeordnetes, einseitig im Bereich des Gasauslasses 6 geschlossenes Keramikrohr 11 . In the interior of the housing 7 is an axially symmetrical to the axis 10 is arranged, on one side in the area of the gas outlet 6 closed ceramic tube. 11 Der Außendurchmesser dieses Keramikrohrs 11 ist so gewählt, daß sich zur Innenseite 15 des Gehäuses 7 ein Ringspalt ergibt, der im folgenden als Plasmaerzeugungsbereich 2 bezeichnet wird. The outside diameter of the ceramic tube 11 is selected so that an annular gap results in the inside 15 of the housing 7, which is hereinafter referred to as plasma-generation region. 2 Die Innenseite des Keramikrohrs 11 ist mit Hilfe eines Leitsilberauftrags leitfähig beschichtet und bildet eine Elektrode 3 einer Plasmaerzeugungsvorrichtung. The inside of the ceramic tube 11 has a conductive coating with the aid of a Leitsilberauftrags and forms an electrode 3 of a plasma generating device. Die andere Elektrode 4 wird durch das elektrisch leitende Gehäuse 7 selbst gebildet. The other electrode 4 is formed by the electrically conductive housing 7 itself. Zwischen der als Innenbeschichtung ausgebildeten Elektrode 3 und der durch das Gehäuse 7 gebildeten Elektrode 4 befindet sich also das Keramikrohr 11 und der ringspaltförmige Plasmaerzeugungsbereich 2 . Between the inner coating formed as electrode 3 and the electrode 4 formed by the housing 7 is thus located the ceramic tube 11 and the annular gap plasma-generation region. 2

Im Inneren des Keramikrohrs 11 befindet sich ein weiteres Rohr 16 , welches ebenfalls axialsymmetrisch zur Zylinderachse 10 angeordnet, jedoch beidseitig offen ist. In the interior of the ceramic tube 11 is a further tube 16 which is also arranged axially symmetrically to the cylinder axis 10, but is open on both sides. Dieses weiteres Rohr 16 ist mit Hilfe einer sich gegen das geschlossene Ende 18 des Keramikrohrs 11 abstützenden Feder 21 im Bereich des vorderen Endes 9 des Gehäuses 7 innerhalb des Keramikrohrs 11 mit Abstand fixiert, so daß sich auch zwischen der Außenseite des weiteren Rohrs 16 und der leitfähig beschichteten Innenseite des Keramikrohrs 11 ein Ringspalt 17 befindet. This further pipe 16 is fixed by means of a which is supported against the closed end 18 of the ceramic tube 11 the spring 21 in the region of the front end 9 of the housing 7 within the ceramic tube 11 at a distance, so that between the outside of the other tube 16 and the conductively coated inside of the ceramic tube 11, an annular gap is 17th Die Feder 21 ist beispielsweise drei- oder vierflügelig ausgebildet und ermöglicht in jedem Fall einen ungehinderten Gasdurchtritt vom Innenraum des weiteren Rohrs 16 in den Ringspalt 17 . The spring 21 is, for example, three or four wings formed and allows in any case an unhindered passage of gas from the interior of the tube 16 further into the annular gap 17th

Die Feder 21 verbindet auch eine innerhalb des weiteren Rohrs 16 axialsymmetrisch angeordnete Hochspannungzuführung 13 mit der die eine Elektrode 3 bildenden elektrisch leitfähigen Beschichtung, wodurch dieser ein Wechselstrom zugeführt werden kann. The spring 21 also connects an axisymmetric within the further tube 16. High voltage supply 13 with the one electrode 3 forming electrically conductive coating, whereby an alternating current that can be supplied. Dagegen ist das die andere Elektrode 4 bildende Gehäuse 7 geerdet, so daß es mit der Hand berührt werden kann. In contrast, this is the other electrode 4 housing 7 forming grounded, so that it can be touched by hand.

Der Flansch 22 am hinteren Ende 8 des zylindrischen Gehäuses 7 dient im wesentlichen der Zuführung von Gas und Hochspannung sowie zur Erdung und zur Führung des Gasflusses durch die verschiedenen Spalte innerhalb des Gehäuses 7 . The flange 22 at the rear end 8 of the cylindrical casing 7 is substantially the supply of gas and high voltage and to ground and for guiding the gas flow through the different column within the housing. 7 Der zylindrische Flansch 22 ist mit Schrauben 23 , welche in den Außenbereich des zylindrischen Gehäuses 7 eingereifen, hieran befestigt. The cylindrical flange 22 is secured thereto with screws 23, which is mature to the outside of the cylindrical housing. 7 In seiner Mitte weist der Flansch 22 ein Isolierstück 24 auf, durch welches die Hochspannungselektrode 13 axial in das Gehäuse 7 geführt wird. In its center 22, the flange has an insulating piece 24, through which the high-voltage electrode 13 is guided axially in the housing. 7 Ferner weist der Flansch 22 einen Gaseinlaß 1 auf, der von einem äußeren Anschlußstück über einen Kanal 26 bis in den Innenbereich des weiteren Rohres 16 führt, die hintere Seite des weiteren Rohres 16 dichtet mit einem Dichtsteg 27 des Flansches 22 ab. Further, 22, the flange has a gas inlet 1 which leads from an outer connection piece via a passage 26 into the interior region of the further pipe 16, the rear side of the further tube 16 seals with a sealing web 27 of the flange 22nd

Weiterhin weist der Flansch 22 an seiner dem Gehäuse 7 zugewandten Seite eine ringförmige Nut 28 auf, deren Durchmesser so bemessen ist, daß sie den Ringspalt 17 zwischen weiterem Rohr 16 und Keramikrohr 11 mit dem Ringspalt des Plasmaerzeugungsbereiches 2 zwischen Keramikrohr 11 und Gehäuseinnenseite 15 abdichtend verbindet. Further, 22, the flange on its housing 7 side facing an annular groove 28 whose diameter is such that it lies between further tube 16 and ceramic tube 11 connects the annular gap 17 with the annular gap of the plasma-generation region 2 between the ceramic tube 11 and the housing inner side 15 sealingly ,

Die Vorrichtung arbeitet wie folgt. The device operates as follows.

Zunächst wird der Gaseinlaß 1 über einen Schlauch mit einer geeigneten Gasquelle verbunden, wobei die zur Plasmabehandlung bekannten Gase eingesetzt werden können. First, the gas inlet 1 is connected via a hose to a suitable gas source, with the known plasma processing gases may be used. Falls die Oberfläche nicht nur gereinigt, sondern beschichtet werden soll, können diesen Gasen Zusätze wie Silan beigegeben werden. If the surface is to be not only cleaned but coated, can these gases additives are added as silane. Daneben wird die Hochspannungszuführung 13 mit einer Hochspannungsquelle verbunden und das Gehäuse 7 , vorzugsweise ebenfalls über den Flansch 22 , geerdet. In addition, the high voltage supply 13 is connected to a high voltage source and the housing 7, also preferably over the flange 22, grounded. Die Vorrichtung ist somit betriebsbereit. The device is thus ready for use.

Zum Betrieb der Vorrichtung wird der Gaseinlaß 1 mit dem gewählten Gas beaufschlagt und zwischen die Hochspannungszuführung 13 und das Gehäuse 7 eine hochfrequente Hochspannung angelegt. The gas inlet 1 is pressurized with the selected gas and applying a high-frequency high voltage between the high voltage supply 13 and the housing 7 for operating the device. Die zu wählende Spannung und Frequenz hängen von der Art des Gases, der Geometrie der Anordnung, der Art der Oberflächenbehandlung und weiteren Faktoren ab und können vom Fachmann frei gewählt werden. To dial voltage and frequency will depend on the type of gas, the geometry of the arrangement, the type of surface treatment, and other factors and can be freely selected by the expert. Typisch sind Spannungen zwischen 5 bis 30 kV und Frequenzen zwischen 0,5 und 50 kHz. Typical are voltages between 5 to 30 kV and frequencies of between 0.5 and 50 kHz.

Das Gas gelangt vom Gaseinlaß 1 in das Innere des weiteres Rohrs 16 , durchströmt dieses weitere Rohr 16 bis zur Feder 21 , tritt in den Bereich zwischen Feder 21 und geschlossenem Ende des Keramikrohrs 11 und wieder nach unten in den Ringspalt 17 zwischen Keramikrohr 11 und weiterem Rohr 16 . The gas passes from the gas inlet 1 in the interior of the further pipe 16, this additional tube 16 flows through to the spring 21, enters 21 and closed end of the ceramic tube 11 and in the region between the spring back down into the annular gap 17 between the ceramic tube 11 and further tube sixteenth Das Gas gelangt dann wieder zum Flansch 22 in dessen Ringnut 28 und wird abermals, diesmal nach oben, umgelenkt in den den Plasmaerzeugungsbereich 2 bildenden Ringspalt zwischen Außenseite des Keramikrohrs 11 und Innenseite des Gehäuses 7 . The gas then passes back to the flange 22 in the annular groove 28 and is again, this time upwards, deflected in the plasma-generation region 2 forming the annular gap between the outside of the ceramic tube 11 and inside of the housing. 7 Nach Durchströmung dieses Plasmaerzeugungsbereichs gelangt das Gas in den Bereich des Gasauslasses 6 und verläßt dort die Vorrichtung in den Behandlungsbereich 5 , wo sich die zu behandelnden Gegenstände befinden. After flowing through this plasma generation region, the gas passes into the region of the gas outlet 6 and there leaves the device in the treatment area 5 where the items are to be treated.

Da die leitfähige Beschichtung des Keramikrohrs 11 auf gleichem elektrischem Potential liegt wie die Hochspannungszuführung 13 , bleibt das Gas sowohl innerhalb des weiteren Rohrs 16 als auch im Ringspalt 17 elektrisch unbeeinflußt. Since the conductive coating of the ceramic tube 11 is at the same electrical potential as the high voltage supply 13, the gas remains unaffected electrically both within the further tube 16 and in the annular gap 17th Die Umleitung des Gases durch das weitere Rohr 16 und den Ringspalt 17 erfolgt im wesentlichen zum Zwecke der Innenkühlung der Vorrichtung. The diversion of the gas through the other tube 16 and the annular gap 17 is essentially for the purpose of internal cooling of the device. Das Arbeitsgas wirkt somit gleichzeitig als Kühlgas, wodurch man sich eine weitere Innenkühlung ersparen kann. The working gas thus simultaneously acts as a cooling gas, so you can save yourself a more internal cooling.

Erst im Plasmaerzeugungsbereich 2 befindet sich das Gas zwischen den Elektroden 3 , gebildet durch die leitfähige Beschichtung des Keramikrohrs 11 und 4 , gebildet durch das Gehäuse 7 , und wird durch die angelegte hochfrequente Hochspannung teilweise ionisiert, also in den zur Oberflächenbehandlung erwünschten Plasmazustand versetzt. Is only in the plasma generating portion 2, the gas between the electrodes 3, formed by the conductive coating of the ceramic tube 11 and 4, formed by the housing 7, and is partially ionized by the applied high-frequency high voltage, that is set to the desired surface treatment plasma state. Beim Betrieb der Vorrichtung ist die Durchströmungsgeschwindigkeit so hoch zu wählen, daß der Plasmazustand auch nach Austritt des Plasmagases durch den Gasauslaß 6 erhalten bleibt. In operation of the apparatus, the flow velocity is to be selected so high that the plasma state is maintained through the gas outlet 6 even after the exit of the plasma gas.

Die zu behandelnde Oberfläche wird in den Behandlungsbereich 5 außerhalb der Vorrichtung 7 gebracht. The surface to be treated is placed in the treatment area 5 outside the device. 7 Dies kann entweder durch Bewegung der Oberfläche oder durch Bewegung der Vorrichtung erfolgen. This can be done either by moving the surface or by movement of the device. Beispielsweise kann die Vorrichtung entlang einer Fertigungsstraße angebracht werden, wobei die zu behandelnden Oberflächen so an der Vorrichtung vorbeigeführt werden, daß sie sich im Behandlungsbereich 5 des austretenden Plasmagases befinden. For example, the device can be attached along a production line, wherein the surfaces to be treated are guided past so on of the apparatus that they are in the treatment area 5 of the emerging plasma gas. Alternativ hierzu kann die Vorrichtung in die Hand genommen werden und feststehende Oberflächen können damit plasmabehandelt werden. Alternatively, the device can be taken in hand and stationary surfaces can thus be plasma treated. Der sehr kleine Gasauslaß 6 ermöglicht eine punktgenaue Behandlung von Oberflächen. The very small gas outlet 6 enables precise treatment of surfaces. Jedoch kann dieser Gasauslaß 6 bei größerer Gesamtdimensionierung der Vorrichtung auch so groß werden, daß größere Oberflächenbereiche gleichzeitig behandelt werden können. However, this gas outlet 6 may also be such that larger surface areas can be treated at the same time with greater overall dimensions of the device.

Weitere Anwendungsmöglichkeiten der Vorrichtung liegen beispielsweise im Laborbereich bei der Untersuchung und Modifizierung von Oberflächen. Other possible applications of the device are, for example, in laboratories for the study and modification of surfaces.

Claims (5)

1. Vorrichtung zur Reinigung, Beschichtung und/oder Aktivierung von Kunststoffoberflächen mittels Hochdruckplasma, mit einem Gehäuse ( 7 ), an dessen einem Ende ( 8 ) sich ein Gaseinlaß ( 1 ) und an dessen anderem Ende ( 9 ) sich ein Gasauslaß ( 6 ) befindet, einem dazwischen liegenden Plasmaerzeugungsbereich ( 2 ) mit mindestens zwei mit einer hochfrequenten Hochspannung beaufschlagten Elektroden ( 3 , 4 ), zwischen denen das Plasma erzeugt wird, und einem Behandlungsbereich ( 5 ), dadurch gekennzeichnet , daß das Gehäuse ( 7 ) handhabbar ausgebildet ist und der Behandlungsbereich ( 5 ) räumlich getrennt vom Plasmaerzeugungsbereich ( 2 ) nach dem Gasauslaß ( 6 ) außerhalb des Gehäuses ( 7 ) angeordnet ist. 1. A device for cleaning, coating and / or activation of polymer surfaces by means of high pressure plasma, comprising a housing (7) at one end (8), a gas inlet (1) and at the other end (9), a gas outlet (6) is, an intervening plasma-generation region (2) having at least two charged with a high-frequency high-voltage electrodes (3, 4) between which the plasma is generated, and in that the housing (7) is designed to handle a treatment area (5), characterized and the treatment area (5) is arranged spatially separated from the plasma generation region (2) to the gas outlet (6) outside the housing (7).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse ( 7 ) im wesentlichen zylindrisch ausgebildet ist und in seinem Inneren mindestens ein axialsymmetrisch angeordnetes, einseitig im Bereich des Gasauslasses ( 6 ) geschlossenes Keramikrohr ( 11 ) aufweist, welches an seiner Innenseite ( 12 ) zur Bildung der einen Elektrode ( 3 ) mindestens teilweise elektrisch leitfähig beschichtet ist und in elektrischem Kontakt mit einer im wesentlichen axial verlaufenden Hochspannungszuführung ( 13 ) steht, wobei die andere, geerdete Elektrode ( 4 ) durch das Gehäuse ( 7 ) gebildet wird, wodurch sich der Plasmaerzeugungsbereich ( 2 ) zwischen der Außenseite ( 14 ) des Keramikrohrs ( 11 ) und der Innenseite ( 15 ) des Gehäuses ( 7 ) befindet. 2. Device according to claim 1, characterized in that the housing (7) is substantially cylindrical and has in its interior at least one axially symmetrically disposed, closed at one end in the region of the gas outlet (6) ceramic tube (11) which on its inside ( 12) is at least partially coated to form the one electrode (3) electrically conductive and) is in electrical contact with a substantially axially extending high-voltage lead (13 wherein the other, grounded electrode is formed (4) through the housing (7), whereby the plasma generation region (2) of the ceramic tube (11) and the inside (15) of the housing (7) between the outside (14).
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb des Keramikrohrs ( 11 ) ein weiteres Rohr ( 16 ) aus nichtleitendem Material unter Bildung eines Ringspalts ( 17 ) angeordnet ist, welches im Bereich des geschlossenen Endes ( 18 ) des Keramikrohrs ( 11 ) offen ist und somit das Innere dieses weiteren Rohrs ( 16 ) mit dem Ringspalt ( 17 ) in Verbindung steht, und der Ringspalt ( 17 ) an der dem Behandlungsbereich ( 5 ) abgewandten Seite ( 8 ) des Gehäuses ( 7 ) in Verbindung mit dem den Plasmaerzeugungsbereich ( 2 ) bildenden Spalt zwischen Keramikrohr ( 11 ) und Gehäuse ( 7 ) steht. 3. Device according to claim 2, characterized in that a further tube is arranged (16) of non-conductive material to form an annular gap (17) inside the ceramic tube (11) which in the region of the closed end (18) of the ceramic tube (11) is open and therefore the interior of said further pipe (16) communicates with the annular gap (17), and the annular gap (17) at the treatment area (5) facing away side (8) of the housing (7) in connection with the plasma generation region (2) forming the gap between the ceramic tube (11) and housing (7) stands.
4. Vorrichtung nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse ( 7 ) an seiner Außenseite ( 19 ) Kühlrippen ( 20 ) aufweist. In that the housing (7) 4. A device according to any one of the preceding claims, characterized in that on its outer side (19) cooling ribs (20).
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß das weitere Rohr ( 16 ) innerhalb des Keramikrohrs ( 11 ) an der dem Behandlungsbereich ( 5 ) zugewandten Seite ( 21 ) fixiert ist. 5. Device according to one of claims 3 or 4, characterized in that the further tube (16) is fixed inside the ceramic tube (11) at the treatment area (5) facing side (21).
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202008013560U1 (en) 2008-10-15 2010-03-04 Raantec Verpachtungen Gmbh & Co. Kg Apparatus for generating a plasma jet

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1170066A1 (en) 2000-07-05 2002-01-09 Christian Buske Process and apparatus for cleaning rollers and bands
DE10219723B4 (en) 2002-05-02 2005-06-09 Uhde Gmbh Process for the preparation of unsaturated halogen-containing hydrocarbons and device suitable therefor
DE10319810A1 (en) * 2003-04-30 2004-11-18 Uhde Gmbh Reactor for free-radical gas-phase reactions
DE10319811A1 (en) 2003-04-30 2004-11-18 Uhde Gmbh Device comprising for coupling electromagnetic radiation into a reactor and the reactor this device
EP2574446B1 (en) 2011-09-30 2014-06-11 Softal Corona & Plasma GmbH Method and Device for Manipulating Surface Characteristics of Plastic Films or Metal Foils

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3426410A1 (en) * 1984-07-18 1986-01-23 Sueddeutsche Kuehler Behr Welding torch for plasma-mig-welding
US4871580A (en) * 1987-06-30 1989-10-03 Faculty Of Physics Eidhoven University Of Technology Method of treating surfaces of substrates with the aid of a plasma

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3426410A1 (en) * 1984-07-18 1986-01-23 Sueddeutsche Kuehler Behr Welding torch for plasma-mig-welding
US4871580A (en) * 1987-06-30 1989-10-03 Faculty Of Physics Eidhoven University Of Technology Method of treating surfaces of substrates with the aid of a plasma

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
POCHNER, K., NEFF, W. u. LEBERT, R.: "Atmos- pheric pressure gas discharges for surface treat- ment", in: Surface and Coatings Technology, 74-75 (1995), 394-398 *
REITZ, U., SALGE, J.G.H. u. SCHWARZ, R.: "Pulsed barrier discharges for thin film production at atmospheric pressure" in: Surface and Coatings Technology, 59 (1993) 144-147 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE202008013560U1 (en) 2008-10-15 2010-03-04 Raantec Verpachtungen Gmbh & Co. Kg Apparatus for generating a plasma jet

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