DE19633016A1 - Rinsing and drying equipment for silicon discs etc. substrates - Google Patents

Rinsing and drying equipment for silicon discs etc. substrates

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    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays

Abstract

The equipment has a tightly closable processing chamber, retaining a disc etc. holding carrier (12) with an open ridge side. In the treatment position in the processing chamber it is fitted co-rotatingly in a carrier support rotating about an axis (A). The discs etc. are movable in the jet regions of nozzles. In the treatment position the open ridge side of the carrier, fitted radially to the axis, points to the latter and extends at a radial spacing (e) to it. Preferably the radial spacing (H) of the disc centre (Z) from the axis may correspond to the disc diameter.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Spülen und Trocknen von Siliziumscheiben oder dgl. Substraten mit einer dicht verschließbaren Prozeßkammer zur Aufnahme eines die Scheiben haltenden Trägers, der eine offene Firstseite aufweist sowie in Prozeßstellung in der Prozeßkammer in einer um eine Achse drehbaren Trägerhalterung mitdrehbar lagert, wobei die Scheiben im Strahlbereich von Düsen bewegbar sind. Zudem erfaßt die Erfindung ein Verfahren zum Spülen und Trocknen.The invention relates to a device for rinsing and Drying silicon wafers or the like a tightly closable process chamber for receiving a the carrier holding the panes, the one open ridge side has and in process position in the process chamber in a support bracket rotatable about an axis stores, the disks in the jet area of nozzles are movable. The invention also relates to a method for Rinse and dry.

Bei einem Verfahren nach DE-OS 39 08 753 werden mehrere Scheiben zum Reinigen und Trocknen in einen Träger eingesetzt, mit diesem in ein Bad getaucht und im Bad selbsttätig vom Träger entfernt, wonach die Scheiben in der durch den Träger vorgegebenen rage zueinander im Bad während des Arbeitsvorganges gehalten werden; der Träger gibt die Scheiben durch Absinken zum Badtiefsten frei, und die Scheiben werden von dem Träger in Sinkrichtung durchsetzenden und gegen die Sinkrichtung vom Boden des Behälters aufragenden Tragelementen aufgenommen.In a method according to DE-OS 39 08 753 several Washers for cleaning and drying in a carrier used, with this immersed in a bath and in the bath automatically removed from the carrier, after which the discs in the rage predetermined by the carrier to each other in the bathroom be held during the operation; the carrier releases the panes by sinking to the bath deepest, and the slices are descending from the carrier penetrating and against the sinking direction from the bottom of the Container supporting tower elements added.

Eine gattungsgemäße Vorrichtung zum verbesserten Bearbeiten von Siliziumscheiben offenbart die DE-OS 40 40 132 der Anmelderin. Der Träger ruht in Prozeßstellung an jener Achse, die Scheiben werden durch einen Niederhalter zeitweilig fixiert. Während der Rotation werden die Scheiben drehend besprüht und anschließend durch Rotation unter der Einwirkung der Zentrifugalkraft getrocknet. Die Antriebswelle für die Trägerhalterung ist außerhalb der Prozeßkammer einseitig gelagert, wobei zwischen deren Lager und der trommelartigen Prozeßkammer ein Ringraum mit einer nicht schleifenden Labyrinthdichtung liegt, der über einen tolerierten Ringspalt mit dem Innenraum der Prozeßkammer in Verbindung steht und von dem Anschlüsse zum Evakuieren, Quersprühen und Entwässern ausgehen, um gegebenenfalls eingedrungene Partikel, vor allem Lagerabrieb entfernen zu können.A generic device for improved editing of silicon wafers, DE-OS 40 40 132 discloses the Applicant. The carrier rests on that in the process position Axis, the discs are held down by a hold-down temporarily fixed. During the rotation, the Sprayed discs and then by rotation dried under the influence of centrifugal force. The Drive shaft for the carrier bracket is outside of the Process chamber stored on one side, being between their bearings and the drum-like process chamber an annulus with a non-abrasive labyrinth seal that lies over a tolerated annular gap with the interior of the process chamber in  Connected and from which connections for evacuation, Cross spray and drain to run out if necessary Penetrated particles, especially bearing abrasion, too can.

In Kenntnis dieses Standes der Technik hat sich der Erfinder das Ziel gesetzt, eine Vorrichtung der eingangs erwähnten Art in konstruktiv einfacher Weise so auszugestalten, daß eine besondere Befestigung des sich um die Achse drehenden Trägers für die Scheiben nicht mehr erforderlich ist; hierdurch wird sowohl die Handhabung erheblich verbessert als auch der mechanische Teil der Vorrichtung kostengünstig vereinfacht.Knowing this state of the art Inventor set the goal of a device of the beginning kind mentioned in a constructively simple manner to design that a special attachment of the the axis of the rotating carrier for the disks no longer is required; this will make both handling significantly improved as well as the mechanical part of the Device simplified inexpensively.

Zur Lösung dieser Aufgabe führt die Lehre des unabhängigen Anspruches; die Unteransprüche geben günstige Weiterbildungen an.The teaching of the independent leads to the solution of this task Claim; the subclaims give favorable Training courses.

Erfindungsgemäß ist die offene Firstseite des in Prozeßstellung radial zur Achse gelagerten Trägers zur Achse gerichtet und verläuft zu dieser in radialem Abstand. Dies bewirkt, daß von der Zentrifugalkraft sowohl die Scheiben in ihrem Träger gehalten als auch letzterer an die achsfernen Rundstäbe gepreßt wird. Ein Niederhalter od. dgl. Mechanik erübrigt sich.According to the open ridge side of the in Process position radial to the axis of the carrier Axis directed and runs at a radial distance from this. This causes both the centrifugal force Discs held in their carrier as well as the latter to the round rods removed from the axis. A hold-down or the like Mechanics are unnecessary.

Als günstig hat es sich erwiesen, den radialen Abstand des Scheibenzentrums von der Achse etwa dem Scheibendurchmesser anzupassen oder diesen Abstand so zu wählen, daß er zwischen 50% und 75% - bevorzugt etwa 65% - des Scheibendurchmessers beträgt.It has proven to be advantageous to adjust the radial distance of the Disc center from the axis about the disc diameter adjust or choose this distance so that he between 50% and 75% - preferably about 65% - of the Washer diameter.

Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung lagert die Welle beidseits außerhalb der Prozeßkammer und ist einends - über ein Getriebe - mit einem Servomotor verbunden. Dank des Servomotors kann eine die Schwerkraft bzw. das Gewicht der Scheiben und des Trägers aufhebende Zentrifugalbeschleunigung für die Trägerhalterung eingesteuert werden.According to a further feature of the invention, the shaft is supported on both sides outside the process chamber and is one-sided a gearbox - connected to a servo motor. thanks of the servo motor can be gravity or weight of the disks and the carrier  Centrifugal acceleration for the carrier holder be controlled.

Um die gewünschten Kraftverhältnisse zu verbessern, sind bei der - Stirnscheiben und diese verbindende Stäbe aufweisenden - Trägerhalterung die Stirnscheiben zentrisch zur Achse angeordnet und an einer Achsenseite durch die achsparallelen Stäbe verbunden; zudem sollen an den Stirnscheiben an der zu den Stäben anderen Achsenseite diametrale Gewichte zum Ausgleich der Last des Trägers und der Scheiben angebracht sein. Diese Ausgleichsgewichte sind verstellbar angeordnet und auch austauschbar.To improve the desired balance of power, are at the - end plates and rods connecting them having - support bracket the end plates centrically arranged to the axis and on one side of the axis through the axially parallel rods connected; in addition to the Face washers on the other side of the axis to the bars diametric weights to balance the load of the wearer and of the discs. These are counterweights adjustable and also interchangeable.

Im Rahmen der Erfindung ist das Anfahr- und Abbremsverhalten der Vorrichtung so definiert, daß zum einen die Drehung der Trägerhalterung aus einer unteren Grundstellung zumindest nach einer Winkelstrecke - um die Drehachse - von 180° mit einer Grunddrehzahl vonThe starting and braking behavior is within the scope of the invention the device so defined that one the rotation of the support bracket from a lower one Basic position at least after an angular distance - around the Rotation axis - of 180 ° with a basic speed of

durchgeführt wird; zum anderen soll diese Drehung aus jener Grundzahl innerhalb der Winkelstrecke von 180° - also aus dem Zenit in die untere Grundstellung. - auf die Drehzahl von 0 Umin-1 abgebremst werden.is carried out; on the other hand, this rotation should come from that basic number within the angular distance of 180 ° - ie from the zenith to the lower basic position. - are braked to the speed of 0 rpm -1 .

Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele sowie anhand der Zeichnung; diese zeigt inFurther advantages, features and details of the invention result from the following description more preferred Exemplary embodiments and with reference to the drawing; this shows in

Fig. 1 eine Schrägsicht auf einen Träger mit Scheiben aus Silizium; Figure 1 is an oblique view of a carrier with discs made of silicon.

Fig. 2 eine Schrägsicht auf eine Spül- und Trockenvorrichtung mit einem Be­ handlungsraum für die im Träger zu­ sammengefaßten Scheiben; Figure 2 is an oblique view of a rinsing and drying device with a loading treatment room for the disks summarized in the carrier.

Fig. 3 die transparente Rückenansicht zu Fig. 2; Fig. 3, the transparent back view of FIG. 2;

Fig. 4 eine transparente Seitenansicht zu Fig. 2; Fig. 4 is a transparent side view of Fig. 2;

Fig. 5 eine vergrößerte Seitenansicht von Einzelheiten einer Ausführung der Spül- und Trockenvorrichtung in Grundstellung; Figure 5 is an enlarged side view showing details of an embodiment of the rinsing and drying device in the basic position.

Fig. 6 einen Teil der Frontansicht zu Fig. 5. Fig. 6 shows a partial front view to Fig. 5.

Zum Spülen und Trocknen von Scheiben 10 aus Silizium, sog. Wafers, werden diese parallel zueinander in einem quer­ schnittlich etwa H-förmigen Träger 12 mit offener Firstseite zusammengefaßt. Dieser Träger 12 ist an den Innenflächen seiner Seitenwände 14 mit in der Zeichnung nicht erkennbaren Aufnahmenuten für die Scheiben 10 versehen, deren jeweiliger Umfang 11 sowohl zu jener Firstfläche als auch nach unten hin zwischen zwei Fußleisten 16 der Seitenwände 14 freiliegt. An den in einem Außenabstand a zueinander verlaufenden Fußleisten 16 setzen nach außen geneigte Schulterflächen 18 an, an welche in einem Abstand b zueinander jene Seitenflächen 14 angeformt sind.For washing and drying slices 10 made of silicon, so-called wafers, these are combined in parallel to one another in a cross-sectionally approximately H-shaped carrier 12 with an open ridge side. This carrier 12 is provided on the inner surfaces of its side walls 14 with not shown in the drawing grooves for the panes 10 , the respective circumference 11 of which is exposed both to that ridge surface and downwards between two baseboards 16 of the side walls 14 . On the baseboards 16 , which are at an external distance a from one another, there are outwardly inclined shoulder surfaces 18 , to which those side surfaces 14 are formed at a distance b from one another.

Der Träger 12 wird in Prozeßrichtung x einer Spül- bzw. Trocknungsvorrichtung 20 zugeführt und in einen von oben her zugänglichen Behandlungsraum eines Gehäuses 22 abge­ senkt, der von einer trommelartigen Prozeßkammer 24 - eines Innendurchmessers d von beispielsweise 560 mm und einer Innenbreite von 340 mm - gebildet und mittels eines im Trommelumfang der Prozeßkammer 24 liegenden gekrümmten Kammerdeckels 26 dicht verschließbar ist. Ein letzteren überspannender Gehäusedeckel 28 ist an das Gehäuse 22 so angelenkt, daß seine in Fig. 4 angedeutete Drehachse 30 parallel zur Prozeßrichtung x liegt; der Gehäusedeckel 28 behindert so den Prozeßablauf nichts.The carrier 12 is fed in the process direction x to a rinsing or drying device 20 and lowered abge into a treatment space of a housing 22 accessible from above, which has a drum-like process chamber 24 - an inner diameter d of, for example, 560 mm and an inner width of 340 mm - formed and can be sealed by means of a curved chamber cover 26 lying in the drum circumference of the process chamber 24 . A housing cover 28 spanning the latter is articulated to the housing 22 such that its axis of rotation 30 indicated in FIG. 4 is parallel to the process direction x; the housing cover 28 does not hinder the process flow.

Das Öffnen und Schließen des Gehäusedeckels 28 erfolgt in Fig. 3, 4 durch ein Kniegestänge 32 mit Druckzylinder 33 durch nicht wiedergegebene Steuereinrichtungen. Außerdem ist in Fig. 4 bei 46 ein Niederhalter für den Träger 12 bzw. dessen Scheiben 10 angedeutet.The opening and closing of the housing cover 28 takes place in Fig. 3, 4 by a knee linkage 32 with a pressure cylinder 33 by control devices not shown. In addition, a hold-down device for the carrier 12 or its disks 10 is indicated in FIG. 4 at 46 .

Den Träger 12 nimmt in der trommelartigen Prozeßkammer 24 eine Trägerhalterung 34 auf, welche zwei - der Frontseite 19 und der Rückseite 21 der Vorrichtung 20 zugeordnete - Rotor- oder Stirnplatten 35 und diese verbindende Rundstäbe 36 aufweist. Die als Drehkorb eingesetzte Trägerhalterung 34 ist an eine hohle Antriebswelle 38 angeschlossen, die gemäß Fig. 5 beidseits außerhalb der Prozeßkammer 24 in mit einer Absaugung ausgestalteten Lagerungen 40 ruht und über ein Planetengetriebe 42 an einen bürstenlosen Servomotor 44 angeschlossen ist. The carrier 12 receives a carrier holder 34 in the drum-like process chamber 24 , which has two rotor or end plates 35 - associated with the front side 19 and the rear side 21 of the device 20 - and round rods 36 connecting them. The carrier holder 34 used as a rotating basket is connected to a hollow drive shaft 38 which, according to FIG. 5, rests on both sides outside the process chamber 24 in bearings 40 designed with suction and is connected via a planetary gear 42 to a brushless servo motor 44 .

Die Trägerhalterung 34 bildet einen Rotor, in welcher der Träger 12 in Prozeßstellung mit seinen Schrägflächen 18 auf zwei Paaren von - mit einem PFA-Mantel 37 versehe­ nen - Rundstäben 36 der Trägerhalterung 34 ruht sowie mit ihr gedreht zu werden vermag.The support bracket 34 forms a rotor in which the support 12 in process position with its inclined surfaces 18 on two pairs of - provided with a PFA jacket 37 - round rods 36 of the support bracket 34 rests and can be rotated with it.

Die Prozeßkammer 24 ist aus VA-Stahl und enthält im unteren Bereich einen Ablaufschlitz, der sich zu einem Sammelkasten 48 hin öffnet. Aus diesem führt ein Anschlußstutzen zu einem Siphon. Zudem ist die Prozeßkammer 24 über Schwingungsdämpfer an einem Gestell festgelegt, welches seinerseits aufschwingungsdämpfenden Stellfüßen 50 steht.The process chamber 24 is made of VA steel and contains a drain slot in the lower area which opens to a collecting box 48 . From this a connecting piece leads to a siphon. In addition, the process chamber 24 is fixed to a frame via vibration dampers, which in turn stands on the vibration-damping adjustable feet 50 .

Während der Umdrehung der Trägerhalterung 34 durchfahren die Scheiben 10 Strahlen aus bei 52 angeordneten Düsen. Der Trommelinnenraum 25 der Prozeßkammer 24 kann sowohl mit DJ-Wasser beaufschlagt als auch über dieselben Sprühdüsen 52 unter Zwischenschaltung eines Filters mit Stickstoff geflutet werden. Um die dünnen Scheiben 10, deren Durchmesser i hier 200 mm beträgt, dann zu trocknen, sind in der Vorrichtung 20 - in der Zeichnung nicht dargestellte - Heizeinheiten vorgesehen.During the rotation of the carrier holder 34, the disks 10 pass through jets from nozzles arranged at 52 . The drum interior 25 of the process chamber 24 can be charged with DJ water or flooded with nitrogen through the same spray nozzles 52 with the interposition of a filter. In order to dry the thin disks 10 , whose diameter i here is 200 mm, heating units are provided in the device 20 - not shown in the drawing.

Im Ausführungsbeispiel der Fig. 5, 6 lagert der Träger 12 in der sog. Grund- oder Prozeßstellung - und in ihm die Reihe von Scheiben 10 - radial zur Achse A, und jene freie Firstfläche weist zu dieser Achse A hin. In der in Fig. 5, 6 gezeigten Ruhelage wird die Einheit aus Scheiben 10 und Träger 12 durch Schwerkraft in Position auf jenen Rundstäben 36 gehalten. Beim Drehen des Rotors bzw. der Trägerhalterung 34 wirkt dank des radialen Abstandes e jener Einheit Scheiben 10/Träger 12 von dem durch die Achse A der Antriebswelle 38 bestimmten Mittelpunkt M des Trommelinnenraumes 25 - bzw. wegen des Abstandes h von hier 130 mm zwischen Scheibenzentrum Z und jenem Mittelpunkt M - die Zentrifugalkraft und preßt die Scheiben 10 in ihren Träger 12 sowie letzteren gegen die Rundstäbe 36. In the embodiment of FIGS. 5, 6, the carrier 12 is mounted in the so-called basic or process position - and in it the row of disks 10 - radially to the axis A, and that free ridge surface points to this axis A. In the rest position shown in FIGS. 5, 6, the unit consisting of disks 10 and carrier 12 is held in position by gravity on those round bars 36 . When the rotor or the carrier holder 34 is rotated, thanks to the radial distance e of that unit, discs 10 / carrier 12 act from the center M of the drum interior 25 determined by the axis A of the drive shaft 38 - or because of the distance h from here, 130 mm between the disc center Z and that center M - the centrifugal force and presses the disks 10 in their carrier 12 and the latter against the round rods 36 .

Zur Kompensation von Unwuchten erzeugenden Kräften sind an den beiden Rotor- oder Stirnplatten 35 in radialem Abstand r von der Achse A einstellbare Ausgleichsgewichte 54 angeordnet. Zur Vergleichmäßigung ist beim Anfahren der Prozeßkammer 24 eine höhere Geschwindigkeit erforderlich als beim verbleibenden Reinigungsvorgang.To compensate for unbalance-generating forces, adjustable balancing weights 54 are arranged on the two rotor or end plates 35 at a radial distance r from the axis A. A higher speed is required for starting up the process chamber 24 than for the remaining cleaning process.

Beim Betrieb der Vorrichtung 20 darf eine Grunddrehzahl n nicht unterschritten werden; diese ergibt sich aus folgender BeziehungDuring operation of the device 20 , a basic speed n must not be undercut; this results from the following relationship

F Zentrifugal F Gewicht
m·e·w² m·g [mit w = 2 n]F centrifugal F weight
m · e · w² m · g [with w = 2 n]

Die Grunddrehzahl n muß beim Start aus der Grundstellung - also aus der Be- bzw. Entladeposition - schon nach einer Winkelstrecke ihrer Drehbewegung von 180° erreicht werden.The basic speed n must start from the basic position - that is from the loading or unloading position - after just one Angular distance of their rotary movement of 180 ° can be achieved.

In einer Stopphase kann von der Schleuderdrehzahl (etwa 400 bis 800 U/Min) ohne Schwierigkeiten auf die Grunddrehzahl n abgebremst werden. Das Abbremsen aus der Grunddrehzahl n muß so erfolgen, daß - in oberer Lage beginnend - innerhalb einer Winkelstrecke t von 180° die Drehzahl 0 U/Min erreicht wird.In a stop phase, the spin speed (approx 400 to 800 rpm) without difficulty on the Basic speed n are braked. Braking from the The basic speed n must be such that - in the upper position starting - within an angular distance t of 180 ° Speed 0 rpm is reached.

Claims (9)

1. Vorrichtung zum Spülen und Trocknen von Siliziumscheiben od. dgl. Substraten mit einer dicht verschließbaren Prozeßkammer zur Aufnahme eines die Scheiben haltenden Trägers, der eine offene Firstseite aufweist sowie in Prozeßstellung in der Prozeßkammer in einer um eine Achse drehbaren Trägerhalterung mitdrehbar lagert, wobei die Scheiben im Strahlbereich von Düsen bewegbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß die offene Firstseite des in Prozeßstellung radial zur Achse (A) gelagerten Trägers (12) zur Achse gerichtet ist sowie zu dieser in radialem Abstand (e) verläuft.1.Device for rinsing and drying silicon wafers or the like. Substrates with a tightly sealable process chamber for receiving a carrier holding the wafers, which has an open ridge side and in the process position in the process chamber in a rotatable support holder rotatable, the Disks can be moved in the jet area of nozzles, characterized in that the open ridge side of the support ( 12 ) mounted radially to the axis (A) in the process position is directed to the axis and runs at a radial distance (e) from it. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der radiale Abstand (h) des Scheibenzentrums (Z) von der Achse (A) etwa dem Scheibendurchmesser (i) entspricht.2. Device according to claim 1, characterized in that that the radial distance (h) of the disc center (Z) from the axis (A) approximately the disc diameter (i) corresponds. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der radiale Abstand (h) des Scheibenzentrums (Z) von der Achse (A) zwischen 50% und 75%, bevorzugt etwa 65%, des Scheibendurchmessers (i) beträgt.3. Device according to claim 1, characterized in that the radial distance (h) of the disc center (Z) from axis (A) between 50% and 75%, preferred about 65% of the disk diameter (i). 4. Vorrichtung mit einer in der Achse verlaufenden, bevorzugt hohlen Welle für die Trägerhalterung, dadurch gekennzeichnet, daß die Welle (40) beidseits außerhalb der Prozeßkammer (24) gelagert und einends über ein Getriebe (42) mit einem Servomotor (44) verbunden ist. 4. A device with an axially extending, preferably hollow shaft for the carrier holder, characterized in that the shaft ( 40 ) is mounted on both sides outside the process chamber ( 24 ) and one end is connected via a gear ( 42 ) to a servo motor ( 44 ) . 5. Vorrichtung gekennzeichnet durch einen Servomotor (44), mit dem eine die Schwerkraft bzw. das Gewicht der Scheiben (10) und des Trägers (12) aufhebende Zentrifugalbeschleunigung für die Trägerhalterung einsteuerbar ist.5. The device is characterized by a servo motor ( 44 ) with which a centrifugal acceleration which cancels the gravity or the weight of the disks ( 10 ) and the carrier ( 12 ) can be controlled for the carrier holder. 6. Vorrichtung mit Stirnscheiben und diese verbindende Stäbe aufweisender Trägerhalterung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Stirnscheiben (35) zentrisch zur Achse (A) angeordnet und an einer Achsenseite durch die achsparallelen Stäbe (36) verbunden sind, wobei an den Stirnscheiben an der anderen Achsenseite zu den Stäben diametrale Gewichte (54) zum Ausgleich der Last des Trägers (12) und der Scheiben (10) angebracht sind.6. Device with end disks and these connecting rods having support bracket according to one of claims 1 to 5, characterized in that the end disks ( 35 ) are arranged centrally to the axis (A) and are connected on one axis side by the axially parallel rods ( 36 ), wherein diametrical weights ( 54 ) for balancing the load of the carrier ( 12 ) and the disks ( 10 ) are attached to the end disks on the other axis side to the rods. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausgleichsgewichte (54) verstellbar angeordnet sind.7. The device according to claim 6, characterized in that the counterweights ( 54 ) are arranged adjustable. 8. Verfahren zum Spülen und Trocknen von Siliziumscheiben od. dgl. Substraten mit einer Vorrichtung nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehung der Trägerhalterung aus einer Grundstellung zumindest nach einer Winkelstrecke von 180° mit einer Grunddrehzahl (n) von durchgeführt wird.8. A method for rinsing and drying silicon wafers or the like. Substrates with a device according to at least one of claims 1 to 7, characterized in that the rotation of the carrier holder from a basic position at least after an angular distance of 180 ° with a basic speed (s) from is carried out. 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Drehung der Trägerhalterung aus der Grunddrehzahl (n) innerhalb einer Winkelstrecke (t) von 180° auf die Drehzahl von 0 Umin-1 in die Grundstellung abgebremst wird.9. The device according to claim 8, characterized in that the rotation of the carrier holder is braked from the basic speed (n) within an angular distance (t) of 180 ° to the speed of 0 Umin -1 in the basic position.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108917298A (en) * 2018-08-29 2018-11-30 欧阳小泉 A kind of silicon wafer drying machine shutdown shaft Self-resetting mechanism

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