DE1955018C3 - Method for producing a mother hologram - Google Patents
Method for producing a mother hologramInfo
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Description
1515th
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Mutterhologramms, das zur Vervielfältigung nach dem Preßverfahren geeignet ist, wobei das holografische Bild als Relief in der Oberfläche einer Hologrammaufzeichnungsplatte erzeugt wird.The present invention relates to a method for producing a mother hologram which is used for duplication after the pressing process is suitable, the holographic image as a relief in the surface of a Hologram recording disk is produced.
Verfahren zur Vervielfältigung von Hologrammen nach dem Preßverfahren, wobei notwendigerweise das Mutterhologramm ein Oberflächenrelief aufweisen muß, sind an und für sich bekannt. Um nun eine Vielzahl von Tochterhologrammen hoher Qualität, ausgehend von einem Mutterhologramm, zu erzeugen, muß dieses mechanisch stabil sein und eine Vielzahl von Preßvorgängen ohne Abnutzung über sich ergehen lassen können.Process for duplicating holograms by the pressing process, with necessarily the Mother hologram must have a surface relief are known per se. To now a multitude of high quality daughter holograms, starting from a mother hologram, must this be mechanically stable and can endure a large number of pressing processes without wear be able.
Aus der Zeitschrift »Optics Communications« 1. April 1969, S. 5, ist es nun bekannt, auf einer ebenen Glasfläche eine dünne Fotoschicht aufzubringen, in dieser holografisch ein Beugungsgitter zu erzeugen und nach geeigneter Entwicklung und Ablösung der Fotoschichtstellen das übrigbleibende holografische Gitter mit einei Aluminiumschicht zu metallisieren.From the magazine "Optics Communications" April 1, 1969, p. 5, it is now known on a plane To apply a thin photo layer to the glass surface, to create a diffraction grating in this holographically and after suitable development and removal of the photo layers, the remaining holographic grating to be metallized with an aluminum layer.
Dieses holografische Muttergitter weist jedoch noch den Nachteil auf, bei Vervielfältigungen nach dem Preßverfahren seine mechanische Stabilität rasch zu verlieren.However, this holographic parent grid still has the disadvantage of being reproduced after Pressing process to lose its mechanical stability quickly.
Aus der GB-PS 8 74 462 ist es bekannt, die Oberfläche eines Glasblocks mit einer Silberschicht zu überzie-From GB-PS 8 74 462 it is known the surface of a glass block with a layer of silver
018018
hen, in der mittels des Fotoätzverfahrens ein Beugungsgitter erzeugt wird. Silber ist aber erstens ein sehr teures Material und zweitens in seiner mechanischen Widerstandsfähigkeit keineswegs optimalhen, in which a diffraction grating by means of the photo etching process is produced. But silver is firstly a very expensive material and secondly in its mechanical Resilience by no means optimal
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung eines Mutterhologramms anzugeben» das zur Vervielfältigung nach dem Preßverfahren geeignet ist and das sowohl mechanisch stabil als auch einfach und billig herzustellen ist.The object of the present invention is to provide a method for producing a mother hologram » that is suitable for reproduction by the pressing process and that is both mechanically stable and is also easy and cheap to manufacture.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird vorgeschlagen, daß eine Trägerplatte mit einer metallischen Schicht aus Chrom bedampft wird und daß das Relief in der Chron-.schicht mittels des an sich bekannten Fotoätzverfahrens eingeätzt wird.To solve this problem it is proposed that a carrier plate with a metallic layer Chromium is vaporized and that the relief in the chron-.schicht by means of the photo-etching process known per se is etched.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, einwandfreie Hologrammabdruckkopien hoher Qualität in beliebiger Anzahl zu erzeugen. Des weiteren weist das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil auf, daß die Schichtdicke des Reliefs, in diesem Fall die Dicke der aufgedampften Chromschicht, gegenüber einer Schicht aus Fotolack mit wesentlich verringerter Toleranz ausgebildet werden kann.With the method according to the invention it is possible to produce flawless hologram print copies of high Produce quality in any number. The method according to the invention also has the advantage on that the layer thickness of the relief, in this case the thickness of the vapor-deposited chrome layer, opposite a layer of photoresist can be formed with a significantly reduced tolerance.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich ausgezeichnet zur Herstellung von Tochterhoiogrammen aus thermoplastischem Material nach dem Preßverfahren und dtm Kontaktkopierverfahren.The method according to the invention is excellently suited for the production of daughter hiograms from thermoplastic material after the pressing process and the contact copying process.
Im folgenden wird die Erfindung an Hand der Zeichnung beispielsweise erläutert, in der die F i g. la bis Id üchematisch die Herstellung eines Mutterhologramms •/eigen.In the following the invention is based on the drawing for example explained in which the F i g. la to id üchematically the production of a mother hologram • / own.
In F i g. la ist die Glasplatte 2 mit einer aufgedampften Schicht 5 aus Chrom und einer darüber angeordneten Schicht aus Fotolack I versehen. Diese Platte wird dem Interferenzfeld der von einem Objekt reflektierten Objektwelle 3 und der Referenzwelle 4 ausgesetzt. Die belichteten Stellen des Fotolacks werden abgelöst, wodurch das in Fig. Ib dargestellte Relief des Fotolacks entsteht. Anschließend werden in einem Ätzbad die freigelegten Flächen der Chromschicht 5 abgeätzt. Es entsteht die in Fig. Ic dargestellte Platte. Anschließend wird der restliche Fotolack entfernt, und das holografische Bild ist, wie F i g. Id zeigt, in der reliefartigen Ausbildung der Chromschicht 5 festgehalten.In Fig. la is the glass plate 2 with a vapor-deposited Layer 5 made of chromium and a layer of photoresist I arranged above it. This record will exposed to the interference field of the object wave 3 reflected from an object and the reference wave 4. the exposed areas of the photoresist are peeled off, whereby the relief of the photoresist shown in Fig. Ib arises. The exposed areas of the chromium layer 5 are then etched away in an etching bath. It creates the plate shown in Fig. Ic. Then the remaining photoresist is removed and the holographic one Picture is how f i g. Id shows, held in the relief-like formation of the chrome layer 5.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19691955018 DE1955018C3 (en) | 1969-10-31 | Method for producing a mother hologram |
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Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
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| DE1955018A1 DE1955018A1 (en) | 1971-05-06 |
| DE1955018B2 DE1955018B2 (en) | 1975-10-02 |
| DE1955018C3 true DE1955018C3 (en) | 1976-05-13 |
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