DE1952553A1 - Photographic camera with focal plane shutter and exposure metering through the lens - Google Patents
Photographic camera with focal plane shutter and exposure metering through the lensInfo
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- G03B7/08—Control effected solely on the basis of the response, to the intensity of the light received by the camera, of a built-in light-sensitive device
- G03B7/099—Arrangement of photoelectric elements in or on the camera
- G03B7/0993—Arrangement of photoelectric elements in or on the camera in the camera
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- G03B7/09971—Through the lens [TTL] measuring in mirror-reflex cameras
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Description
Fotogratische Kamera mit Schlitsverschlub und mit Belichtungsmessung durch das Objektiv. Photographic camera with slide shutter and exposure metering through the lens.
Die Erfindung betrifft eine fotografische Kamera mit Schlitzverschluß und mit Belichtungsmesslmg durch das Objektiv, bei der der Fotowiderstand des elektrischen Belicht;ungsmessers im bildseitigen Objektivstrahlengang vor dem Schlitzverschluß angeordnet ist.The invention relates to a photographic camera with a focal plane shutter and with exposure metering through the lens, in which the photo resistance of the electrical Exposure meter in the lens beam path on the image side in front of the focal plane shutter is arranged.
Fotografische Kameras mit Belichtungsmessern der oben charakterisierten Art sind bekannt, und es ist auch bekannt, daß bei einer derartigen Anordnung des Fotowiderstandes letzterer vor jeder Aufnahme aus dem Objektivstrahlengang herausbewegt werden muß. Diese Bewegung kann entweder eine Schwenkbewegung oder auch eine Schiebebewegung sein, und zu ihrer DurchfUhrung werden vielfach Federn benutzt. In der Regel unterstützen die Federn die Bewegung des Fotowiderstandes aus dem Objektivstrahlengang heraus, jedoch gibt es auch Fälle, in denen dia Bewegung in den Strahlengang hinein von der Feder unterstützt wird, so daß die Heraus-Bewegung gegen die Kraft der Feder erfolgen muß.Photographic cameras with exposure meters of the ones characterized above Art are known, and it is also known that with such an arrangement of the The photoresistor of the latter is moved out of the lens beam path before each exposure must become. This movement can either be a pivoting movement or a sliding movement and springs are often used to carry them out. Usually support the springs move the photoresistor out of the lens beam path, however, there are also cases in which the movement into the beam path of the spring is supported, so that the out-movement against the force of the spring must be done.
in allen Fällen muß jedoch neben den Federn auch noch eine elektrische Verbindung zum Fotowiderstand hergestellt werden, die gewöhnlich aus zwei Drähten besteht, von denen jeder mit einer Elektrode leitend verbunden ist.In all cases, however, an electric spring must also be used in addition to the springs Connection to the photoresistor can be made, usually of two wires consists, each of which is conductively connected to an electrode.
Der vorliegenden erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, hier eine Vereinfachung der Bauelemente herbeizuführen, und diese Aufgabe ist dadurch gelöst, daß mindestens eine der zur Bewegung des Fotowiderstandes verwandten Federn gleichzeitig als elektrische Zuleitung zum Fotowiderstand ausgebildet ist.The present invention is based on the task here, one To bring about simplification of the components, and this task is solved by that at least one of the to move related to the photo resistor Springs is designed at the same time as an electrical lead to the photoresistor.
Ein wesentlich größerer Vorteil ergibt sich noch, wenn die Erfindung bei einer Kamera angewendet wird bei der als Schlitzverschluß ein Schieberverschluß verwendet wird und der Fotowiderstand fest auf dem das Bildfenster in Spannstellung des Verschlusses abdeckenden Schieber angeordnet ist, so daß der Fotowiderstand bei Verschlußablauf automatisch aus dem Strahlengang bewegt wird. In diesem speziellen Fall können zwei elektrische Zuleitungen zum Fotowiderstand geführt werden, die beide gleichzeitig als Kraftquelle zur Bewegung des Schiebers verwandt werden können, so daß eine besondere Kraftquelle für die Schieberbewegung entweder entfallen kann oder doch wenigstens durch die Federn wesentlich unterstützt wird.A much greater advantage arises when the invention In a camera, a slide shutter is used as a focal plane shutter is used and the photo resistor is fixed on the picture window in the tensioned position of the shutter covering slide is arranged, so that the photoresistor is automatically moved out of the beam path when the shutter expires. In this particular one Case, two electrical leads can be led to the photoresistor, the both can be used simultaneously as a source of power to move the slide, so that a special power source for the slide movement can either be omitted or at least is substantially supported by the springs.
In diesem Falle wird vorgeschlagen, die Federn als Zugfedern auszubilden und sie aus Bronze herzustellen.In this case it is proposed to design the springs as tension springs and make them out of bronze.
In der Figur ist die Erfindung am Ausführungsbeispiel einer Kamera mit Sohlitzverschluß in Form eines Sohieberverschlusses dargestellt. Der das Bildfenster abdeckende Schieber innerhalb des Gehäuses 1 ist in zwei Lamellen 2, 3 unterteilt, von denen die Lamelle 2 die sohlitzbildende Lamelle ist. Die Sohieber werden seitlich in bekannter Weise an Stangen 4, 5 geführt.In the figure, the invention is based on the embodiment of a camera shown with sole closure in the form of a sole closure. The picture window covering slide inside the housing 1 is divided into two slats 2, 3, of which the lamella 2 is the sole forming lamella. The slaps are sideways guided on rods 4, 5 in a known manner.
Auf der abdeckenden Lamelle 3 ist der Fotowiderstand 6 angeordnet, der nach oben in Pfeilrichtung A aus dem Objektivstrahlengang entfernt wird, wenn der Verschluß abläuft, nämlich zusammen mit der Lamelle 3.The photoresistor 6 is arranged on the covering lamella 3, which is removed from the lens beam path upwards in the direction of arrow A, if the closure expires, namely together with the lamella 3.
Die elektrischen Zuleitungen zu den Elektroden des Fotowiderstandes 6 sind als Zugfedern 7 und 8 ausgebildet. Sie sind in der Darstellung oben ortsfest am Gehäuse gelagert, während ihre unteren Enden amGehäuse des Fotowiderstandes angreifen.The electrical leads to the electrodes of the photo resistor 6th are designed as tension springs 7 and 8. They are stationary in the illustration above mounted on the housing, while their lower ends engage the housing of the photoresistor.
Die Federn sind aus Bronze hergestellt und im Fotowiderstand mit je einer Elektrode verbunden. Gleichzeitig stellen sie aber vermöge ihrer Federeigenschaften eine Kraftquelle dar.The springs are made of bronze and in photo resistor with each connected to an electrode. At the same time, however, they make due to their spring properties a source of strength.
Mittels dieser Kraftquelle alleine kann die Lamelle 3 aus dem Strahlengang bewegt werden, wenn der Verschluß zum Ablauf freigegeben wird. Es kann aber auch für die Lamelle eine besondere Kraftquelle vorgesehen sein, so daß die Federn 7, 8 lediglich unterstützend wirken. Auf alle Falle ergibt sich jedoch der wesentliche Vorteil, daß die elektrischen Zuleitungen für den Fotowiderstand gleichzeitig als Mittel für die Schieberbewegung ausgenutzt werden.By means of this power source alone, the lamella 3 can be removed from the beam path be moved when the shutter is released to drain. But it can also a special power source can be provided for the lamella, so that the springs 7, 8 only have a supportive effect. In any case, however, the essential one arises Advantage that the electrical leads for the photo resistor at the same time as Means are used for the slide movement.
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19691952553 DE1952553A1 (en) | 1969-10-18 | 1969-10-18 | Photographic camera with focal plane shutter and exposure metering through the lens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19691952553 DE1952553A1 (en) | 1969-10-18 | 1969-10-18 | Photographic camera with focal plane shutter and exposure metering through the lens |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1952553A1 true DE1952553A1 (en) | 1971-04-29 |
Family
ID=5748555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19691952553 Pending DE1952553A1 (en) | 1969-10-18 | 1969-10-18 | Photographic camera with focal plane shutter and exposure metering through the lens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1952553A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2535073A1 (en) * | 1982-10-26 | 1984-04-27 | Dainippon Screen Mfg | EXPOSURE CONTROL PHOTOGRAPHIC APPARATUS |
WO1986004427A1 (en) * | 1985-01-21 | 1986-07-31 | Philippe Vogt | Exposure metre element and device |
-
1969
- 1969-10-18 DE DE19691952553 patent/DE1952553A1/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2535073A1 (en) * | 1982-10-26 | 1984-04-27 | Dainippon Screen Mfg | EXPOSURE CONTROL PHOTOGRAPHIC APPARATUS |
US4582420A (en) * | 1982-10-26 | 1986-04-15 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Reproduction camera |
WO1986004427A1 (en) * | 1985-01-21 | 1986-07-31 | Philippe Vogt | Exposure metre element and device |
US4779116A (en) * | 1985-01-21 | 1988-10-18 | Philippe Vogt | Exposure-measuring element and device |
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