DE1949168A1

DE1949168A1 - Cathode ray tube

Info

Publication number: DE1949168A1
Application number: DE19691949168
Authority: DE
Inventors: Kuniaki Ohara
Original assignee: Iwatsu Electric Co Ltd
Current assignee: Iwatsu Electric Co Ltd
Priority date: 1968-09-30
Filing date: 1969-09-29
Publication date: 1970-04-09
Also published as: NL6914577A; GB1214258A; DE1949168B2

Description

Iwatsu Bleotrio Company limited' >. 2 9. SEP. 1969Iwatsu Bleotrio Company limited '>. 2 9th SEP. 1969

Tokyo «Japan

Kathodenstrahlröhrecathode ray tube

Die Erfindimg betrifft Verbesserungen an Kathodenstrahlröhren und insbesondere eine neuartige Spreizeinrichtung für den abgelenkten Elektronenstrahl zur Verwendung bei einer Kathodenstrahlröhre.The invention relates to improvements in cathode ray tubes and in particular a novel deflecting electron beam spreader for use in a cathode ray tube.

In den Fig. 1 bis 5 sind derzeit bekannte Ablenkungssysteme für Kathodenstrahlröhren dargestellt. Pig. 1 zeigt ein herkömmliches Strahl-Ablenksystem für Kathodenstrahlröhren mit zwei Ablenkeinheiten, die im allgemeinen als X-Achsen- (Zeitachsen-) Ablenkeinheit 1 und Y-Achsen-Ablenkeinheit 2 bezeichnet werden (für die Beschreibung sei im folgenden angenommen, daß die X— und T-Achsen-Ablenkvorrichtungen entlang der Bewegungsrichtung eines Elektronenstrahls angeordnet sind), sowie einer zwischen diesen beiden Ablenkeinheiten zur elektrischen Abschirmung derselben eingeschalteten Elektrode 3· Bei dieser Anordnung wird der aus einem Strahlerzeugungssystem austretende Elektronenstrahl 4 proportional entweder zu dem an Ablenkplatten angelegten Potenial oder dem durch Ablenkspulen fließenden Strom abgelenkt. Bei dieser bekannten Vorrichtung sind keine Vorkehrungen zur Streuung des abgelenkten Strahls oder aur Bildspreizung getroffen. -1 through 5, presently known cathode ray tube deflection systems are shown. Pig. 1 shows a conventional beam deflection system for cathode-ray tubes with two deflection units, which are generally referred to as X-axis (time axis) deflection unit 1 and Y-axis deflection unit 2 (for the description, it is assumed in the following that the X and T-axis deflection devices are arranged along the direction of movement of an electron beam), and one between the two deflection units for electrical shielding of the same switched-on electrode 3 · in this arrangement, the exiting from a beam generation system electron beam 4 is proportional either to the voltage applied to deflection plates Potenial or by Deflection coils deflected flowing current. In this known device, no provisions are made for scattering the deflected beam or for image spreading. -

Gemäß Pig, 2 ist bei einer zur Verwendung bei einer Kathodenstrahlröhre bereits vorgeschlagenen Spreizeinrichtung mit nachgesohalteter Beschleunigungseinrichtung eine aus einem Metall-Haschensieb ο .dgl. bestehendeAccording to Pig, 2, one is for use with one Cathode ray tube already proposed spreading device with subsequent acceleration device one from a metal hash sieve ο .dgl. existing

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Elektrode 5 zwischen zwei herkömmliche Ablenkvorrichtungen und einen Leucht- bzw. Bildschirm 6 eingeschaltet, um das Beschleunigungsfeld an der letzten Stufe abzuschirmen bzw. abzuwandeln und auf diese Weise den abgelenkten Strahl noch weiter abzulenken. Der Prozentsatz dieser Ablenkung wird in Abhängigkeit von der Konfiguration und der Position der Maschen- bzw, SiebvElektrode und dem von der nachgeschalteten Stufe bewirkten Beschleunigungsverhältnis bestimmt, so daß sich dieser Prozentsatz nicht einfach elektrisch einstellen läßt.Electrode 5 switched between two conventional deflection devices and a luminous or screen 6, to shield or modify the acceleration field at the last stage and in this way the deflected To deflect beam even further. The percentage of this distraction will vary depending on the configuration and the position of the mesh or sieve electrode and the acceleration ratio brought about by the downstream stage determined, so that this percentage cannot easily be adjusted electrically.

Selbst wenn bei diesem System der Prozentsatz der Spreizung durch Änderung des Beschleunigungsverhältnisses an der nachgeschalteten Stufe eingestellt wird, wird die Spreizung sowohl der X- als auch der Y-Aehen-Ablenkrichtung gleichzeitig variiert, so daß es unmöglich ist, die Beeinflussung in Y-Achsen-Richtung unabhängig von der in X-Achsen-Richtung zu variieren.Even if, in this system, the percentage of the spread is increased by changing the acceleration ratio the downstream stage is set, the Spreading of both the X and Y axis deflection directions varies at the same time, so that it is impossible to determine the Influencing in the Y-axis direction to vary independently of that in the X-axis direction.

Gemäß Pig. 3 verwendet ein anderes herkömmliches Ablenk-Streuungssystem eine aus vier Elektroden bestehende elektrostatische Linse 7, die zwischen die X-Achsen- und die Y-Achsen-Ablenkvorrichtung eingeschaltet ist, wobei die Feldverteilung dieser Anordnung in Fig. 4 veranschaulicht ist. Da bei diesem System das elektrische Feld der Tierelektroden-Linse auf den Elektronenstrahl in entgegengesetzten Richtungen längs der X-^und Y-Achse einwirkt, wird der Strahl 8 gemäß Fig. 5 elliptisch verzerrt, so daß zum Ausgleich dieser Verzerrung mindestens zwei^v Elektronenrohre vorgesehen sein müssen. Om außerdem einen" wirklich kreisförmigen Leuchtfleok auf-den Bildschirm zu bündeln, ist weiterhin eine sehr komplizierte Einstellung erforderlich.According to Pig. 3, another conventional deflection diffusion system employs a four-electrode electrostatic lens 7 interposed between the X-axis and Y-axis deflectors, the field distribution of this arrangement being illustrated in FIG. In this system, the electric field of animal electrode lens along the X ^ and Y-axis acts on the electron beam in opposite directions, the beam 8 is Fig mutandis. 5 elliptically distorted, so that, to compensate the distortion in at least two ^v vacuum tube provided must be. In order to also focus a “really circular light spot on the screen, a very complicated setting is still required.

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Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile des Bekannten zu vermeiden und mithin in erster Linie eine Vorrichtung zur Spreizung des abgelenkten Strahls insbesondere zur Erhßhung der Empfindlichkeit der Röhre zu schaffen· The object of the invention is to avoid the disadvantages of the known and therefore primarily to create a device for spreading the deflected beam, in particular to increase the sensitivity of the tube.

Dabei soll erfindungsgemäß insbesondere auch eine Einstellung des Prozentsatzes der Spreizung in der Y-Achsen-Richtung einfach auf elektrische Welse ermöglicht werden.According to the invention, a setting is also intended in particular the percentage of spread in the Y-axis direction can simply be made possible by electrical catfish.

Weiter eoll durch die Erfindung auch die'Einstellung des Leuohtflecks auf neue und einfachere Weise vorgenommen werden können«The invention also enables the setting of the Made credit marks in a new and simpler way can be «

Diese und andere Aufgaben werden erfindungsgemäß insbesondere durch Schaffung eines Ablenk-Spreizsystems zwi-" sehen zwei Elektronenstrahl-Ablenksystemen gelöst, welches eine aus einer Metallsieb-Elektrode bestehende Unipotential-Linse und zwei zu beiden Seiten der Metallsieb-Elektrode angeordnete Elektroden aufweist. Die Metallsieb Elektrode wird auf einem niedrigeren Potential gehalten als die beiden Elektroden.These and other objects are achieved according to the invention in particular by creating a deflection-spreading system between two electron beam deflection systems, which has a unipotential lens consisting of a metal screen electrode and two electrodes arranged on both sides of the metal screen electrode is held at a lower potential than the two electrodes.

Im folgenden ist die Erfindung in einem bevorzugten Ausführungsbeispiel anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zelgentThe following is the invention in a preferred embodiment explained in more detail with reference to the drawings. It shows

Fig. 6 eine sciiematische Darstellung der Elektrodenanordnung einer Strahlablenkungs-Spreizeinrichtuhg mit den Merkmalen der Erfindung und '6 shows a schematic representation of the electrode arrangement of a beam deflection spreading device with the features of the invention and '

Pig. 7 eine Darstellung der Feldverteilung einer Unipo-' tential-Linse sowie die dichtung des Elektronenstrahls in der Strahlablenkungs-Spreizeinrichtung gemäß Fig. 6.Pig. 7 a representation of the field distribution of a Unipo- ' potential lens and the seal of the electron beam in the beam deflection spreader according to FIG. 6.

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Gemäß Fig. 6, welche eine Elektrodenanordnung mit den Merkmalen der Erfindung veranschaulicht, ist zwischen ein X-Achsen-Ablenksystem 1 und ein Y—Achsen-Ablenksystem 2 eine negativ vorgespannte Unipotential-Linse geschaltet, die aus einer Elektrode 9 aus einem Metallmaschen—Sieb o.dgl. und zwei zu beiden Seiten der Elektrode 9 angeordneten Elektroden 10 besteht. An die Elektrode 9 ist ein niedrigeres Potenial. angelegt als an die Elektroden 10, Diese negative Linse bewirkt ein Divergieren bzw. eine Spreizung der abgelenkten Elektronenstrahlen.According to FIG. 6, which illustrates an electrode arrangement with the features of the invention, is between an X-axis deflection system 1 and a Y-axis deflection system 2 a negatively biased unipotential lens connected, which consists of an electrode 9 from a metal mesh screen or the like. and two electrodes 10 arranged on both sides of the electrode 9. To the electrode 9 is a lower potential. than applied to the electrodes 10, this negative lens causes a divergence or a Spreading of the deflected electron beams.

Fig. 7 zeigt die Feldverteilung der Linse und den Elektronenstrahl. Der Prozentsatz der Spreizung in Richtung der Y-Achse kann ohne weiteres und unabhängig von demjenigen in Richtung der X-Achse durch .Änderung des Potentials der Elektrode 9 eingestellt werden. Infolge der symmetrischen Anordnung der Uhipotential-Linse, welche den abgelenkten Strahl streut, kann eine elliptische Verzerrung des defokussierten Leuchtflecks infolge der Divergenz bzw. Streuung ausgeschaltet werden, welche' insbesondere einen hervorstechenden liachteil des herkömmlichen Ablenk-Spreizsystems beispielsweise der in Fig. 5 dargestellten Art darstellt. Der Leuchtfleck kann mithin nach üblicher Praxis durch einfache Einstellung der Hauptlinse scharf eingestellt und fokussiert werden.Fig. 7 shows the field distribution of the lens and the electron beam. The percentage of spreading in the direction of the Y-axis can easily and independently of that in the direction of the X-axis by changing the potential of the electrode 9. As a result of the symmetrical Arrangement of the Uhipotential lens, which the deflected If the beam scatters, an elliptical distortion of the defocused light spot as a result of the divergence or scattering can be eliminated, which in particular is a prominent one The disadvantage of the conventional deflection spreading system, for example of the type shown in FIG. 5 represents. The light spot can therefore, according to normal practice, be sharp by simply setting the main lens adjusted and focused.

Zusammenfassend schafft die Erfindung mithin eine Kathodenstrahlröhre mit zwei Elektronenstrahl-Ablenksystemen, bei welcher eine aus einer Metallsieb-Elektrode bestehende Unipotential-Linse sowie zwei zu beiden Seiten der Metallsieb-Elektrode angeordnete Elektroden zwischen die beiden Elektronenstrahl-Ablenksysteme eingebracht sind, um den abgelenkten Elektronenstrahl gleichmäßig zu divergieren bzw. zu spreizen.In summary, the invention thus creates a cathode ray tube with two electron beam deflection systems, in which one consists of a metal sieve electrode Unipotential lens as well as two electrodes arranged on both sides of the metal sieve electrode between the two Electron beam deflection systems are introduced to the deflected electron beam to diverge evenly or to spread.

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Obgleich die Erfindung vorstehend in einer bevorzugten Ausführungsform dargestellt und beschrieben iat» sind dem Fachmann selbstverständlich zahlreiche Änderungen und Abwandlungen sowie Kombinationen und Unterkombinationen aller Merlanale der Erfindung möglich, ohne daß der Rahmen und der Grundgedanke der Erfindung verlassen werden.»Although the invention is shown and described above in a preferred embodiment » Of course, numerous changes and modifications as well as combinations and subcombinations are possible for the person skilled in the art all Merlanale of the invention possible without the framework and the basic idea of the invention are left. "

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Claims

P at en t to 3 checks

Cathode ray tube with two electron beam deflection systems, characterized in that a deflection-spreading system with a unipotential lens between the two deflection systems is arranged / and the lens has a metal sieve electrode as well as "two has electrodes arranged on both sides thereof.

2. Cathode ray tube according to claim 1, characterized in that that the metal screen electrode is at a lower potential than that to both of them Electrodes arranged on the sides.

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